JPS5898822A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS5898822A JPS5898822A JP19676081A JP19676081A JPS5898822A JP S5898822 A JPS5898822 A JP S5898822A JP 19676081 A JP19676081 A JP 19676081A JP 19676081 A JP19676081 A JP 19676081A JP S5898822 A JPS5898822 A JP S5898822A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- organic resin
- insulating layer
- interlayer insulating
- depth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
不発明は導体コイルを２層有する薄膜磁気ヘッドに関し
、特に耐クラッシュ性寂よび磁気ギヤノブ深さ′！＊度
を改善するための改良に関する。
、特に耐クラッシュ性寂よび磁気ギヤノブ深さ′！＊度
を改善するための改良に関する。
従来の２１−コイル型薄膜磁気ヘッドは、磁気ヘッド衆
さ加工すると、有機樹脂のノー間絶縁ノーがトラック面
に４出しやすい構造であった。有機樹脂の層がトランク
面に蕗出した場合、周囲の温湿Ｉ膨変化によって有機樹
脂の格出面が膨出し、薄膜磁気ヘッドの耐クラツシユ性
を低下させる原因になるという問題がある。また、従来
は有機樹脂の層間絶縁１−の前端（＝よって、ｇｉｉギ
ャップ深さが０の位置を決めＣいる。しかし、厚みの大
きな有機樹脂層のエツチングはそれ程高い精度で行なう
ことができないため、磁気ギャップ深さ鞘畷忙十分に高
めるのは容易でなかった。
さ加工すると、有機樹脂のノー間絶縁ノーがトラック面
に４出しやすい構造であった。有機樹脂の層がトランク
面に蕗出した場合、周囲の温湿Ｉ膨変化によって有機樹
脂の格出面が膨出し、薄膜磁気ヘッドの耐クラツシユ性
を低下させる原因になるという問題がある。また、従来
は有機樹脂の層間絶縁１−の前端（＝よって、ｇｉｉギ
ャップ深さが０の位置を決めＣいる。しかし、厚みの大
きな有機樹脂層のエツチングはそれ程高い精度で行なう
ことができないため、磁気ギャップ深さ鞘畷忙十分に高
めるのは容易でなかった。
本発明の目的は、従来よりも劇クラッシュ１生および磁
気ギヤノブ深さ精度を向上さ２ぎることの芥易な構造の
２層コイル型の薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
気ギヤノブ深さ精度を向上さ２ぎることの芥易な構造の
２層コイル型の薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
しかして本発明による薄膜磁気ヘッドの特徴は、基板上
に、磁性体、導体コイル、有機樹脂の１１田絶縁噛、無
機材料のギャップ材層、導体コイル、有機樹脂の眉間絶
縁層、磁性体を順次積１輌し、各ｒｍ層間絶縁層磁気ギ
ャップ深さＯの位置より後退させた構造にある。
に、磁性体、導体コイル、有機樹脂の１１田絶縁噛、無
機材料のギャップ材層、導体コイル、有機樹脂の眉間絶
縁層、磁性体を順次積１輌し、各ｒｍ層間絶縁層磁気ギ
ャップ深さＯの位置より後退させた構造にある。
以下、添付図面によ一つＣ本発明の一央相例を詳細に説
明する。
明する。
！＄１図は本発明にか＼る２層コイル型薄膜磁気ヘッド
の一例を示す断面図であり、七の′ノロントギャップ部
の拡大断面図を第２図に示す。
の一例を示す断面図であり、七の′ノロントギャップ部
の拡大断面図を第２図に示す。
第１図において、１０はセラミックなどの基板であり、
この上に１つまたは２つ以−Ｌの薄膜磁気ヘッドが形成
される。
この上に１つまたは２つ以−Ｌの薄膜磁気ヘッドが形成
される。
すなわら、基板１０の上に、アルミナなどの土地膜９を
形成したのらに下部磁性体７、有機樹脂の絶縁層６、下
ノー導体コイル３、有機樹脂の層１出納縁層２が順次堆
積される。有機樹脂の層間絶ｆ＃、ｒｇ２をエンチング
によりパターンニングしたのら、その−ヒーアルミカな
どの無菌材料から成る比較的薄いギャップ材層１が堆積
される。この上（皿上！−導体コイル４、有機樹脂の層
間絶縁層５が形成される。この有イ燻１σ１脂のノー間
絶線層５をエツチングしＣパターンユング後、上部磁性
体８を形成する。
形成したのらに下部磁性体７、有機樹脂の絶縁層６、下
ノー導体コイル３、有機樹脂の層１出納縁層２が順次堆
積される。有機樹脂の層間絶ｆ＃、ｒｇ２をエンチング
によりパターンニングしたのら、その−ヒーアルミカな
どの無菌材料から成る比較的薄いギャップ材層１が堆積
される。この上（皿上！−導体コイル４、有機樹脂の層
間絶縁層５が形成される。この有イ燻１σ１脂のノー間
絶線層５をエツチングしＣパターンユング後、上部磁性
体８を形成する。
有機樹脂の１−間絶縁層５は、七の前端（第１図、第２
図では左１＋１１１の端）カー４２ 、＝ｚ３ ＋−示
すようにギャップ材層１の上にくるまでエツチングする
。この際、ギャップ材層１がエノチングストッパートナ
リ、下の有機１吋１１旨の層間絶線層２までもエツチン
グする心配はない。
図では左１＋１１１の端）カー４２ 、＝ｚ３ ＋−示
すようにギャップ材層１の上にくるまでエツチングする
。この際、ギャップ材層１がエノチングストッパートナ
リ、下の有機１吋１１旨の層間絶線層２までもエツチン
グする心配はない。
（３）
さて、従来の２１−コイルｆｉｉ；ＩＩ薄膜；磁気ヘッ
ドでは、ギャップ材層（１）を下層導体コイル（３）の
下に形成し、層間絶縁層＋２１ 、１５１を一度でエツ
チングしＣノくターンニングしていた。そしで、下層の
１傭間絶ｍ １４ ｔ２１の前端によって磁気ギャップ
深て０の位置を決めていた。このような）阜い有機叫η
旨のｊ輌はエツチング精度が悪く、したがって磁気ギャ
ンプ深さＯの位置のバラツキが大きかった。しかも、磁
気ギヤノブ深さ加工を矢印Ｃの方向から行なうと、トラ
ンク面に有［幾園脂の１輌が繕出しやすく、耐クラッシ
ュ性の低下を招いＣいた。
ドでは、ギャップ材層（１）を下層導体コイル（３）の
下に形成し、層間絶縁層＋２１ 、１５１を一度でエツ
チングしＣノくターンニングしていた。そしで、下層の
１傭間絶ｍ １４ ｔ２１の前端によって磁気ギャップ
深て０の位置を決めていた。このような）阜い有機叫η
旨のｊ輌はエツチング精度が悪く、したがって磁気ギャ
ンプ深さＯの位置のバラツキが大きかった。しかも、磁
気ギヤノブ深さ加工を矢印Ｃの方向から行なうと、トラ
ンク面に有［幾園脂の１輌が繕出しやすく、耐クラッシ
ュ性の低下を招いＣいた。
これ（二対し、第１図および第２図に示すように、層間
絶、縁＋ｄ２．５を有（幾材利のギヤノブ材層１で分離
し、それぞれを独立しＣエツチングできるような構造と
すると、エツチング層の厚さが従来の半分になるため、
谷嗜２，５ともエツチング層度が向上する。七し〔、Ｉ
−聞納縁）＠２の十に堆積したギャップ材）−１によっ
て（ぬ気ギャンブ深さ０の位ｉｌｆ＆を決めるから、当
該位置Ｎのバラツキを従来よりも小さくすることができ
る。さらに、ｍｌｉ、ｄ（４） 絶縁層５の前端を位置Ｎより十分後退させれば、矢印Ｃ
の方向より磁気ギャップ深さ加工したとき、磁気ギャッ
プ深さ０まで加工し“Ｃもトラック面に有機園脂部分か
４出する心配はなく、訓クラッシュ性を向上することが
できる。
絶、縁＋ｄ２．５を有（幾材利のギヤノブ材層１で分離
し、それぞれを独立しＣエツチングできるような構造と
すると、エツチング層の厚さが従来の半分になるため、
谷嗜２，５ともエツチング層度が向上する。七し〔、Ｉ
−聞納縁）＠２の十に堆積したギャップ材）−１によっ
て（ぬ気ギャンブ深さ０の位ｉｌｆ＆を決めるから、当
該位置Ｎのバラツキを従来よりも小さくすることができ
る。さらに、ｍｌｉ、ｄ（４） 絶縁層５の前端を位置Ｎより十分後退させれば、矢印Ｃ
の方向より磁気ギャップ深さ加工したとき、磁気ギャッ
プ深さ０まで加工し“Ｃもトラック面に有機園脂部分か
４出する心配はなく、訓クラッシュ性を向上することが
できる。
第３図は不発明の他の−、４！：施汐りを示す断面図で
ある。
ある。
この実施１列は、Ａｉｌ英施例の壇機耐脂の絶縁ｌす６
の代りにアルミナなどのもう１つのギヤノブ材層１１を
形成したもので、これ以外は前実施例と同様である。本
災施１り１］も前夷姐例と同様の利点が侍られることは
明らかである。
の代りにアルミナなどのもう１つのギヤノブ材層１１を
形成したもので、これ以外は前実施例と同様である。本
災施１り１］も前夷姐例と同様の利点が侍られることは
明らかである。
本発明は以上に詳述したように、従来よりも耐クラツシ
ユ性および１６気ギャップ深さ精度を向上した２虐コイ
ル型薄膜磁気−＼ラドを容易に芙現でき、その効果は大
きい。
ユ性および１６気ギャップ深さ精度を向上した２虐コイ
ル型薄膜磁気−＼ラドを容易に芙現でき、その効果は大
きい。
第１図は本発明の一実施クリを示す断面図、第２図は同
士、実施例のフロントギャップ部の拡大断面図、第３図
は不発明の他の一実施例を示す断面図である。 １．１１・・・ギャップ材層、２．訃・・層間絶縁層、
３・・・下１−導体コイル、４・・・−ヒ層２厚体コイ
ル、７・・・下部磁性体、８・・・上部磁性体、１０・
・・基慎。
士、実施例のフロントギャップ部の拡大断面図、第３図
は不発明の他の一実施例を示す断面図である。 １．１１・・・ギャップ材層、２．訃・・層間絶縁層、
３・・・下１−導体コイル、４・・・−ヒ層２厚体コイ
ル、７・・・下部磁性体、８・・・上部磁性体、１０・
・・基慎。
Claims (1)
- １、基板上に、磁性体、導体コイル、有機樹脂の層間絶
縁１ｍ、無機材料のギャップ材層、導体コイル、有機樹
脂の層間絶縁層、磁性体を順次積層し、上記各層間絶縁
Ｉ−は磁気ギャップ深さが０の位置よりも後退させで成
ることを特徴とする薄嘆磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19676081A JPS5898822A (ja) | 1981-12-09 | 1981-12-09 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19676081A JPS5898822A (ja) | 1981-12-09 | 1981-12-09 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5898822A true JPS5898822A (ja) | 1983-06-11 |
Family
ID=16363159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19676081A Pending JPS5898822A (ja) | 1981-12-09 | 1981-12-09 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5898822A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4749439A (en) * | 1984-07-25 | 1988-06-07 | Hitachi, Ltd. | Method for manufacturing thin film magnetic head |
| US6181514B1 (en) * | 1998-12-04 | 2001-01-30 | International Business Machines Corporation | Scaled write head with high recording density and high data rate |
-
1981
- 1981-12-09 JP JP19676081A patent/JPS5898822A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4749439A (en) * | 1984-07-25 | 1988-06-07 | Hitachi, Ltd. | Method for manufacturing thin film magnetic head |
| US5045961A (en) * | 1984-07-25 | 1991-09-03 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head |
| US6181514B1 (en) * | 1998-12-04 | 2001-01-30 | International Business Machines Corporation | Scaled write head with high recording density and high data rate |
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