JPH0721523A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0721523A JPH0721523A JP18940993A JP18940993A JPH0721523A JP H0721523 A JPH0721523 A JP H0721523A JP 18940993 A JP18940993 A JP 18940993A JP 18940993 A JP18940993 A JP 18940993A JP H0721523 A JPH0721523 A JP H0721523A
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- Japan
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- film
- magnetic
- insulating
- insulating film
- magnetic head
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄膜磁気ヘッドの磁性膜と導体コイル膜との
間に十分な絶縁性を確保して、磁極コイル間の絶縁破壊
電圧を高くし、信頼性の向上を図る。 【構成】 基板の上に形成された磁性膜の上に有機絶縁
膜を形成し、かつその上に無機絶縁膜を積層する。これ
ら有機絶縁膜及び無機絶縁膜の上に導体コイル膜を形成
する。
間に十分な絶縁性を確保して、磁極コイル間の絶縁破壊
電圧を高くし、信頼性の向上を図る。 【構成】 基板の上に形成された磁性膜の上に有機絶縁
膜を形成し、かつその上に無機絶縁膜を積層する。これ
ら有機絶縁膜及び無機絶縁膜の上に導体コイル膜を形成
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば磁気ディスク装
置、その他の磁気記録再生装置に使用される薄膜磁気ヘ
ッドに関する。
置、その他の磁気記録再生装置に使用される薄膜磁気ヘ
ッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、磁気ディスク装置の高性能化
に伴い、記録密度及び情報転送速度の向上を図るために
薄膜磁気ヘッドが採用されている。一般に、薄膜磁気ヘ
ッドの製造は、電気メッキ、スパッタリング等の堆積技
術、及びホトリソグラフィによる微細加工技術を用いて
行われる。
に伴い、記録密度及び情報転送速度の向上を図るために
薄膜磁気ヘッドが採用されている。一般に、薄膜磁気ヘ
ッドの製造は、電気メッキ、スパッタリング等の堆積技
術、及びホトリソグラフィによる微細加工技術を用いて
行われる。
【０００３】図６及び図７には、従来から周知の面内記
録再生用薄膜磁気ヘッドの構造が概略的に示されてい
る。Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ系のセラミック材料等からなる基
板１には、アルミナ等の絶縁膜２が被着され、その上に
下部磁極を構成する下部磁性膜３が形成されている。下
部磁性膜３の上には、アルミナ等からなるギャップ膜４
が形成され、その上にノボラック樹脂等の有機絶縁樹脂
材料からなる絶縁膜５、６、７、Ｃｕ等からなる渦巻状
の導体コイル８、９、及び上部磁性膜１０が順次積層さ
れている。更に上部磁性膜１０の上には、アルミナ等の
保護膜１１がスパッタリング等によって形成されてい
る。このように形成された薄膜磁気ヘッド素子を基板か
ら切り出し、個々のスライダに搭載して薄膜磁気ヘッド
として使用する。
録再生用薄膜磁気ヘッドの構造が概略的に示されてい
る。Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ系のセラミック材料等からなる基
板１には、アルミナ等の絶縁膜２が被着され、その上に
下部磁極を構成する下部磁性膜３が形成されている。下
部磁性膜３の上には、アルミナ等からなるギャップ膜４
が形成され、その上にノボラック樹脂等の有機絶縁樹脂
材料からなる絶縁膜５、６、７、Ｃｕ等からなる渦巻状
の導体コイル８、９、及び上部磁性膜１０が順次積層さ
れている。更に上部磁性膜１０の上には、アルミナ等の
保護膜１１がスパッタリング等によって形成されてい
る。このように形成された薄膜磁気ヘッド素子を基板か
ら切り出し、個々のスライダに搭載して薄膜磁気ヘッド
として使用する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来技術によれば、前
記絶縁膜は通例、例えばノボラック樹脂を塗布してソフ
トベークし、フォトマスクを当てて露光し、現像し、熱
処理して硬化させることにより形成される。ノボラック
樹脂は熱による流動性を有しかつベークすることによっ
て収縮するから、第１絶縁膜５は、図８に示されるよう
に、下部磁性膜３と基板１との段差によって、特に下部
磁性膜３の縁端付近の厚さが非常に薄くなる。図９は、
絶縁膜５の厚さが最も薄くなる下部磁性膜３の上端と導
体コイル８との距離Ｄと絶縁膜の耐電圧との関係を、実
験結果に基づいて線図に表したものである。同図から、
この実験では距離Ｄが１μｍ以下になると、耐電圧が急
激に低下したことが容易に理解される。このように、第
１絶縁膜５の上に形成された第１導体コイル８と下部磁
性膜３とがその縁端部分で接近し過ぎると、十分な絶縁
性が維持されずに磁極コイル間の絶縁抵抗や絶縁破壊電
圧が低下し、薄膜ヘッドによる情報の記録再生が正常に
行われない虞があるという問題があった。
記絶縁膜は通例、例えばノボラック樹脂を塗布してソフ
トベークし、フォトマスクを当てて露光し、現像し、熱
処理して硬化させることにより形成される。ノボラック
樹脂は熱による流動性を有しかつベークすることによっ
て収縮するから、第１絶縁膜５は、図８に示されるよう
に、下部磁性膜３と基板１との段差によって、特に下部
磁性膜３の縁端付近の厚さが非常に薄くなる。図９は、
絶縁膜５の厚さが最も薄くなる下部磁性膜３の上端と導
体コイル８との距離Ｄと絶縁膜の耐電圧との関係を、実
験結果に基づいて線図に表したものである。同図から、
この実験では距離Ｄが１μｍ以下になると、耐電圧が急
激に低下したことが容易に理解される。このように、第
１絶縁膜５の上に形成された第１導体コイル８と下部磁
性膜３とがその縁端部分で接近し過ぎると、十分な絶縁
性が維持されずに磁極コイル間の絶縁抵抗や絶縁破壊電
圧が低下し、薄膜ヘッドによる情報の記録再生が正常に
行われない虞があるという問題があった。
【０００５】また、第１絶縁膜５全体をより厚く形成す
れば、下部磁性膜３の周縁付近における第１絶縁膜５の
膜厚を十分に確保できるが、上部磁性膜１０の先端部分
の立ち上がり角度が非常に急になるため、その上に形成
される保護層１１の内部応力が大きくなってクラック等
が発生し、信頼性を低下させる虞れがあった。
れば、下部磁性膜３の周縁付近における第１絶縁膜５の
膜厚を十分に確保できるが、上部磁性膜１０の先端部分
の立ち上がり角度が非常に急になるため、その上に形成
される保護層１１の内部応力が大きくなってクラック等
が発生し、信頼性を低下させる虞れがあった。
【０００６】そこで、請求項１記載の薄膜磁気ヘッド
は、上述した従来技術の問題点に鑑みてなされたもので
あり、その目的とするところは、比較的簡単な構造によ
り、基板の上に形成される磁性膜の縁端部分に於いて、
導体コイル膜との間に十分な絶縁性を確保して、磁極コ
イル間の絶縁破壊電圧を高くして、信頼性を向上させた
薄膜磁気ヘッドを提供しようとするものである。
は、上述した従来技術の問題点に鑑みてなされたもので
あり、その目的とするところは、比較的簡単な構造によ
り、基板の上に形成される磁性膜の縁端部分に於いて、
導体コイル膜との間に十分な絶縁性を確保して、磁極コ
イル間の絶縁破壊電圧を高くして、信頼性を向上させた
薄膜磁気ヘッドを提供しようとするものである。
【０００７】また、請求項２記載の薄膜磁気ヘッドは、
下部磁性膜と上部磁性膜とを有する面内記録再生用薄膜
磁気ヘッドに於いて、上述した請求項１に関する目的を
達成しようとするものである。
下部磁性膜と上部磁性膜とを有する面内記録再生用薄膜
磁気ヘッドに於いて、上述した請求項１に関する目的を
達成しようとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述した目的
を達成するためのものであり、請求項１記載の薄膜磁気
ヘッドは、基板の上に形成された磁性膜と、その上に絶
縁膜を介して形成された導体コイル膜とからなる磁気回
路を有し、磁性膜の上に形成される有機絶縁膜とその上
に形成される無機絶縁膜とによって、絶縁膜が形成され
ていることを特徴とする。
を達成するためのものであり、請求項１記載の薄膜磁気
ヘッドは、基板の上に形成された磁性膜と、その上に絶
縁膜を介して形成された導体コイル膜とからなる磁気回
路を有し、磁性膜の上に形成される有機絶縁膜とその上
に形成される無機絶縁膜とによって、絶縁膜が形成され
ていることを特徴とする。
【０００９】これに加えて、請求項２記載の薄膜磁気ヘ
ッドは、磁性膜が基板の上に形成される下部磁性膜とそ
の上に形成される上部磁性膜とからなり、下部磁性膜と
上部磁性膜との間のギャップが、有機絶縁膜の上に形成
される無機絶縁膜によって形成されることを特徴とす
る。
ッドは、磁性膜が基板の上に形成される下部磁性膜とそ
の上に形成される上部磁性膜とからなり、下部磁性膜と
上部磁性膜との間のギャップが、有機絶縁膜の上に形成
される無機絶縁膜によって形成されることを特徴とす
る。
【００１０】
【作用】従って、請求項１記載の薄膜磁気ヘッドによれ
ば、磁性膜と基板との段差が有機絶縁膜によって緩やか
になり、その上に無機絶縁膜を設けることによって、磁
性膜の縁端部分に於いても十分な膜厚の絶縁層を形成
し、導体コイルとの絶縁性を十分に確保することができ
る。
ば、磁性膜と基板との段差が有機絶縁膜によって緩やか
になり、その上に無機絶縁膜を設けることによって、磁
性膜の縁端部分に於いても十分な膜厚の絶縁層を形成
し、導体コイルとの絶縁性を十分に確保することができ
る。
【００１１】また、請求項１記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、下部磁性膜と上部磁性膜とを有する面内記録再生
用薄膜磁気ヘッドに於いて、下部磁性膜と基板との段差
を緩和し、導体コイルとの間に十分な膜厚の絶縁層を形
成することができる。
れば、下部磁性膜と上部磁性膜とを有する面内記録再生
用薄膜磁気ヘッドに於いて、下部磁性膜と基板との段差
を緩和し、導体コイルとの間に十分な膜厚の絶縁層を形
成することができる。
【００１２】
【実施例】以下に、本発明について添付図面を参照しつ
つ実施例を用いて説明する。
つ実施例を用いて説明する。
【００１３】図１には、本発明の第１実施例による面内
記録再生用薄膜磁気ヘッドの構造が示されている。従来
の薄膜磁気ヘッドと同様に、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ基板１に
は、アルミナ等の絶縁膜２が被着され、その上にＮｉ−
Ｆｅ合金、コバルト合金等の軟磁性材料からなる下部磁
性膜３がパターン形成されている。下部磁性膜３の上に
は、アルミナ等のギャップ膜４がスパッタリングにより
形成され、かつノボラック樹脂等からなる有機絶縁膜５
が設けられている。有機絶縁膜５は、成膜時の熱処理に
よって収縮するため、下部磁性膜３の縁端部付近の膜厚
が薄くなっている。
記録再生用薄膜磁気ヘッドの構造が示されている。従来
の薄膜磁気ヘッドと同様に、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ基板１に
は、アルミナ等の絶縁膜２が被着され、その上にＮｉ−
Ｆｅ合金、コバルト合金等の軟磁性材料からなる下部磁
性膜３がパターン形成されている。下部磁性膜３の上に
は、アルミナ等のギャップ膜４がスパッタリングにより
形成され、かつノボラック樹脂等からなる有機絶縁膜５
が設けられている。有機絶縁膜５は、成膜時の熱処理に
よって収縮するため、下部磁性膜３の縁端部付近の膜厚
が薄くなっている。
【００１４】そして、有機絶縁膜５の上に無機絶縁膜１
２が積層されている。無機絶縁膜１２は、アルミナ等の
無機物をスパッタリングすることによって形成される。
別の実施例では、無機絶縁膜１２は水ガラスによって形
成される。この場合には、水ガラスを有機絶縁膜５の上
にスピンコーティングすることによって塗布し、例えば
２００℃の温度で約１時間アニーリングすることによっ
て、ＳiＯ2膜が形成される。
２が積層されている。無機絶縁膜１２は、アルミナ等の
無機物をスパッタリングすることによって形成される。
別の実施例では、無機絶縁膜１２は水ガラスによって形
成される。この場合には、水ガラスを有機絶縁膜５の上
にスピンコーティングすることによって塗布し、例えば
２００℃の温度で約１時間アニーリングすることによっ
て、ＳiＯ2膜が形成される。
【００１５】次に、通常のホトリソグラフィ技術を用い
ることにより、無機絶縁膜１２の上にＣｕの第１導体コ
イル８を形成する。有機絶縁膜５と無機絶縁膜１２との
積層構造によって、下部磁性膜３の縁端部付近に於いて
も十分な厚さを有する絶縁層が得られるので、下部磁性
膜３と第１導体コイル８との間に必要かつ十分な絶縁性
を容易に確保することができる。更に、ノボラック樹脂
の層間絶縁膜６、７、第２導体コイル９、上部磁性膜１
０、及び保護層１１を順次形成することによって、薄膜
磁気ヘッドが完成する。
ることにより、無機絶縁膜１２の上にＣｕの第１導体コ
イル８を形成する。有機絶縁膜５と無機絶縁膜１２との
積層構造によって、下部磁性膜３の縁端部付近に於いて
も十分な厚さを有する絶縁層が得られるので、下部磁性
膜３と第１導体コイル８との間に必要かつ十分な絶縁性
を容易に確保することができる。更に、ノボラック樹脂
の層間絶縁膜６、７、第２導体コイル９、上部磁性膜１
０、及び保護層１１を順次形成することによって、薄膜
磁気ヘッドが完成する。
【００１６】図３には、上記第１実施例を変形した本発
明の第２実施例が示されている。本実施例では、無機絶
縁膜１２が、有機絶縁層５の上にだけでなく、ギャップ
膜４を有する下部磁性膜３の先端部分まで延長してい
る。従って、上部磁性膜１０と下部磁性膜３とのギャッ
プが、ギャップ膜４と無機絶縁膜１２との膜厚の合計に
よって決定される。即ち、無機絶縁膜１２の膜厚を適当
に調整することによって所望のギャップが得られる。ま
た、無機絶縁膜１２を幾分厚めに形成し、かつエッチン
グを施す等により膜厚を調整することによっても、所望
のギャップを得ることができる。
明の第２実施例が示されている。本実施例では、無機絶
縁膜１２が、有機絶縁層５の上にだけでなく、ギャップ
膜４を有する下部磁性膜３の先端部分まで延長してい
る。従って、上部磁性膜１０と下部磁性膜３とのギャッ
プが、ギャップ膜４と無機絶縁膜１２との膜厚の合計に
よって決定される。即ち、無機絶縁膜１２の膜厚を適当
に調整することによって所望のギャップが得られる。ま
た、無機絶縁膜１２を幾分厚めに形成し、かつエッチン
グを施す等により膜厚を調整することによっても、所望
のギャップを得ることができる。
【００１７】図４及び図５には、本発明の更に別の実施
例が示されている。この第３実施例では、上部磁性膜１
０と下部磁性膜３とのギャップが、ギャップ膜４ではな
く無機絶縁膜１２によって画定される。即ち、基板１の
上に下部磁性体３を形成した後、その上にギャップ膜４
ではなくノボラック樹脂等の有機絶縁膜５を直接形成す
る。そして、有機絶縁膜５の上に、上記第１実施例と同
様にアルミナや水ガラスを用いた無機絶縁膜１２を形成
する。このとき無機絶縁膜１２は、上記第２実施例と同
様に、有機絶縁層５だけでなく下部磁性膜３の先端部分
まで含むように形成される。
例が示されている。この第３実施例では、上部磁性膜１
０と下部磁性膜３とのギャップが、ギャップ膜４ではな
く無機絶縁膜１２によって画定される。即ち、基板１の
上に下部磁性体３を形成した後、その上にギャップ膜４
ではなくノボラック樹脂等の有機絶縁膜５を直接形成す
る。そして、有機絶縁膜５の上に、上記第１実施例と同
様にアルミナや水ガラスを用いた無機絶縁膜１２を形成
する。このとき無機絶縁膜１２は、上記第２実施例と同
様に、有機絶縁層５だけでなく下部磁性膜３の先端部分
まで含むように形成される。
【００１８】本発明は上記実施例に限定されるものでは
なく、その技術的範囲内に於いて様々な変形・変更を加
えて実施することができる。例えば、本発明は、面内記
録再生用薄膜磁気ヘッドだけでなく、垂直記録再生用薄
膜磁気ヘッドについても同様に適用することができる。
なく、その技術的範囲内に於いて様々な変形・変更を加
えて実施することができる。例えば、本発明は、面内記
録再生用薄膜磁気ヘッドだけでなく、垂直記録再生用薄
膜磁気ヘッドについても同様に適用することができる。
【００１９】
【発明の効果】本発明は、以上のように構成されている
ので、以下に記載されるような効果を奏する。
ので、以下に記載されるような効果を奏する。
【００２０】請求項１記載の薄膜磁気ヘッドによれば、
磁性膜と導体コイルとの間に、有機絶縁膜とその上に無
機絶縁膜とを積層してなる絶縁層が設けられことによっ
て、磁性膜の縁端部分に於いても絶縁層の膜厚が十分に
確保されて絶縁性が向上するので、磁極コイル間の絶縁
破壊電圧を高くすることができ、信頼性を向上させた薄
膜磁気ヘッドを得ることができる。
磁性膜と導体コイルとの間に、有機絶縁膜とその上に無
機絶縁膜とを積層してなる絶縁層が設けられことによっ
て、磁性膜の縁端部分に於いても絶縁層の膜厚が十分に
確保されて絶縁性が向上するので、磁極コイル間の絶縁
破壊電圧を高くすることができ、信頼性を向上させた薄
膜磁気ヘッドを得ることができる。
【００２１】また、請求項２記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、下部磁性膜と導体コイルとの間に十分な絶縁性が
確保され、同様に磁極コイル間の絶縁破壊電圧を高くし
て信頼性を向上させた面内記録再生用薄膜磁気ヘッドを
得ることができる。
れば、下部磁性膜と導体コイルとの間に十分な絶縁性が
確保され、同様に磁極コイル間の絶縁破壊電圧を高くし
て信頼性を向上させた面内記録再生用薄膜磁気ヘッドを
得ることができる。
【図１】本発明の第１実施例による薄膜磁気ヘッドの構
造を示す縦断面図である。
造を示す縦断面図である。
【図２】図１のII−II線に於ける断面図である。
【図３】本発明の第２実施例による薄膜磁気ヘッドの縦
断面図である。
断面図である。
【図４】本発明の第３実施例による薄膜磁気ヘッドの縦
断面図である。
断面図である。
【図５】図４のＶ−Ｖ線に於ける断面図である。
【図６】従来の薄膜磁気ヘッドの構造を示す概略斜視図
である。
である。
【図７】図６に示す薄膜磁気ヘッドの縦断面図である。
【図８】図６のVIII−VIII線に於ける断面図である。
【図９】下部磁性膜の上端と導体コイル間の距離Ｄと絶
縁膜の耐電圧との関係を表す線図である。
縁膜の耐電圧との関係を表す線図である。
１ 基板 ２ 絶縁膜 ３ 下部磁性膜 ４ ギャップ膜 ５、６、７ 絶縁膜 ８、９ 導体コイル １０ 上部磁性膜 １１ 保護層 １２ 無機絶縁膜
Claims (2)
- 【請求項１】 基板の上に形成された磁性膜と、その上
に絶縁膜を介して形成された導体コイル膜とからなる磁
気回路を有する薄膜磁気ヘッドであって、 前記絶縁膜が、前記磁性膜の上に形成される有機絶縁材
料からなる有機絶縁膜と、前記有機絶縁膜の上に形成さ
れる無機絶縁材料からなる無機絶縁膜とによって形成さ
れることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】 前記磁性膜が基板の上に形成される下部
磁性膜と、その上に形成される上部磁性膜とからなり、
前記無機絶縁膜によって、前記下部磁性膜と前記上部磁
性膜との間のギャップが形成されることを特徴とする請
求項１記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18940993A JPH0721523A (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18940993A JPH0721523A (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0721523A true JPH0721523A (ja) | 1995-01-24 |
Family
ID=16240794
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18940993A Pending JPH0721523A (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0721523A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7111387B2 (en) | 2000-01-24 | 2006-09-26 | Alps Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing a thin film magnetic head comprising an insulating layer provided between a core and coil |
-
1993
- 1993-06-30 JP JP18940993A patent/JPH0721523A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7111387B2 (en) | 2000-01-24 | 2006-09-26 | Alps Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing a thin film magnetic head comprising an insulating layer provided between a core and coil |
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