JPS5869064A - インクジエツト印写装置用ノズルの製法 - Google Patents
インクジエツト印写装置用ノズルの製法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、インクジェット印写装置用ノズルの製法に係
り、特に、ノズル径に一致した外径の線材を中子とする
Ni電鋳インクジェット印写装置用ノズルの製法におい
て、ノズル部及びその周囲をN1−P又はN1−B合金
系の非晶質金属とするとともに、その周囲を純Ni系の
部材で構成し、もって、耐薬品性に優れ、かつ、安定し
たインク噴射性能を有するインクジェット印写装置用ノ
ズルの製法を提供しようとするものである。
り、特に、ノズル径に一致した外径の線材を中子とする
Ni電鋳インクジェット印写装置用ノズルの製法におい
て、ノズル部及びその周囲をN1−P又はN1−B合金
系の非晶質金属とするとともに、その周囲を純Ni系の
部材で構成し、もって、耐薬品性に優れ、かつ、安定し
たインク噴射性能を有するインクジェット印写装置用ノ
ズルの製法を提供しようとするものである。
インクジェット印写装置用ノズルの製法は、既に、種々
提案されているが、その代表的なものを挙げると、 (1)、同一組成浴で電着する方法で、(a) 、スル
ファミン酸三ツケル浴、ワット浴として知られているN
iめつき液を用い、゛電着条件例えばpH1温度、陰極
電流密度等を変えることにより、ノズル部及びその周囲
と外周部との物性例えば硬度を変えた中子法におけるN
iノズル素材の製法。及び、 (b)、前記(a)と同様、同一組成浴で、定電流密度
で電着し、ノズル部及びその周囲との物性を同一にする
ようにしたノズル用Ni素材の形成法。
提案されているが、その代表的なものを挙げると、 (1)、同一組成浴で電着する方法で、(a) 、スル
ファミン酸三ツケル浴、ワット浴として知られているN
iめつき液を用い、゛電着条件例えばpH1温度、陰極
電流密度等を変えることにより、ノズル部及びその周囲
と外周部との物性例えば硬度を変えた中子法におけるN
iノズル素材の製法。及び、 (b)、前記(a)と同様、同一組成浴で、定電流密度
で電着し、ノズル部及びその周囲との物性を同一にする
ようにしたノズル用Ni素材の形成法。
(2)、N1−P又はN1−Bめつきによる方法で、ノ
ズル基材を全てこの方法によって製造する方法。
ズル基材を全てこの方法によって製造する方法。
(3)、Niでノズル基材を形成し、機械加工して1箇
のノズルとして完成させた後、高耐蝕性金属例えばAu
、 Pt、、Ti等をめっきし、若しくは、蒸着、スパ
ッタリング、イオンブレーティングする製法。
のノズルとして完成させた後、高耐蝕性金属例えばAu
、 Pt、、Ti等をめっきし、若しくは、蒸着、スパ
ッタリング、イオンブレーティングする製法。
等が提案されている0
而して、前記(1)の方法は、例えば、中心に線材を含
んだ棒を0.5 mmの板厚に切断した後、一方の面を
カップ形状に切削し、その後、両面をラップ、ポリッシ
ュして中心に埋った線材の断面形状を鮮明に出し、所望
のカップ底厚(ノズル長さ)にしてノズル金完成させる
ものであるが、このラップ、ポリッシュはノズルの品質
を決定するうえで重要な工程であるにもかかわらず、ス
ルフアミノ酸ニッケル浴、ワット浴等から電着されるN
iが結晶性ニッケルであるため、ラップ、ポリッシュ性
が必ずしもよくなく、また、純Niでしなやかで、変形
層や塗シ潰された層が出やすく、後に、その変形層が脱
落したシ、腐蝕したシする虞れがあシ、加工性(ラップ
、ポリッシュ)、耐薬品性等に劣る欠点があった。また
、前記(2)の方法は、析出スピードが著しく遅<、0
.03inφの中子線材にめっきして約1〜3 mmの
棒を安定した品質で製作することは実際上困難であり、
液が老化してくると、析出が粗雑な粉状析出となりゃす
く、また、ビット、ピンホールを生じやすい等の欠点が
あった。
んだ棒を0.5 mmの板厚に切断した後、一方の面を
カップ形状に切削し、その後、両面をラップ、ポリッシ
ュして中心に埋った線材の断面形状を鮮明に出し、所望
のカップ底厚(ノズル長さ)にしてノズル金完成させる
ものであるが、このラップ、ポリッシュはノズルの品質
を決定するうえで重要な工程であるにもかかわらず、ス
ルフアミノ酸ニッケル浴、ワット浴等から電着されるN
iが結晶性ニッケルであるため、ラップ、ポリッシュ性
が必ずしもよくなく、また、純Niでしなやかで、変形
層や塗シ潰された層が出やすく、後に、その変形層が脱
落したシ、腐蝕したシする虞れがあシ、加工性(ラップ
、ポリッシュ)、耐薬品性等に劣る欠点があった。また
、前記(2)の方法は、析出スピードが著しく遅<、0
.03inφの中子線材にめっきして約1〜3 mmの
棒を安定した品質で製作することは実際上困難であり、
液が老化してくると、析出が粗雑な粉状析出となりゃす
く、また、ビット、ピンホールを生じやすい等の欠点が
あった。
更に、前記731のように高耐蝕性の金属で被覆する方
法は、微小孔(0,03snφ)の内面まで均一に核種
することができない等の欠点があった。
法は、微小孔(0,03snφ)の内面まで均一に核種
することができない等の欠点があった。
本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされたもので、
特に、インクジェット印写装置用ノズルとして、耐薬品
性をより向上させ、安定した噴射性能を有するノズルの
製法を提供し、或いは、ノズル径に一致した外径の線材
を中子とするNi電鋳によるノズルの製法において、ノ
ズ〜ルの長さ、ノズルの真円度等の寸法的品質と、ラッ
プ、ポリッシュ加工時の研磨だれ、変形層等のよシ少な
い所謂う、ツブ、ポリッシュ加工性のよいノズル製作用
素材を提供しようとするものである。
特に、インクジェット印写装置用ノズルとして、耐薬品
性をより向上させ、安定した噴射性能を有するノズルの
製法を提供し、或いは、ノズル径に一致した外径の線材
を中子とするNi電鋳によるノズルの製法において、ノ
ズ〜ルの長さ、ノズルの真円度等の寸法的品質と、ラッ
プ、ポリッシュ加工時の研磨だれ、変形層等のよシ少な
い所謂う、ツブ、ポリッシュ加工性のよいノズル製作用
素材を提供しようとするものである。
以下に、本発明の実施例について説明する。が、本発明
を実施するには、まず、所望のすなわち製作しようとす
るノズル径と一致した外径の線材を準備する。この線材
は、ノズルの外形等の形状的品質を決定する上で重要な
ものであり、該線材としては、後で化学的に溶解除去で
きる材質のものが使用される。以下に説明する本発明の
実施例においては、ノズルの材質をNi、 N1−PX
Ni−Bとしたので、この中子線材としては銅を使用す
るとよく、実際には、外径0.031+1φの硬銅線を
使用した。なお、銅は、アンモ°ニウム塩とアンモニア
水でアルカリ側に調整した液を用いて、ノズル基材のN
iを溶解することなく、銅のみ選択的に除去−できる。
を実施するには、まず、所望のすなわち製作しようとす
るノズル径と一致した外径の線材を準備する。この線材
は、ノズルの外形等の形状的品質を決定する上で重要な
ものであり、該線材としては、後で化学的に溶解除去で
きる材質のものが使用される。以下に説明する本発明の
実施例においては、ノズルの材質をNi、 N1−PX
Ni−Bとしたので、この中子線材としては銅を使用す
るとよく、実際には、外径0.031+1φの硬銅線を
使用した。なお、銅は、アンモ°ニウム塩とアンモニア
水でアルカリ側に調整した液を用いて、ノズル基材のN
iを溶解することなく、銅のみ選択的に除去−できる。
第1図は、本発明の実施に使用する電鋳用治具の一例を
示す図で、図中、1は絶縁又は絶縁処理をした枠体、2
は通電用リード線、3は展張用スプリング、4は枠体固
定用フック、5は中子線材で、図示のように、例えば、
0.03φの硬銅線(中子線材)5を枠体1に展張して
固定する。このように、中子線材5を枠体1に展張して
固定したま\脱脂、酸洗、水洗等の通常のめつき処理と
同様の前処理を施して該中子線材5をより清浄にした後
に、N1−P又はN1−Bめつきをする。なお、これら
のめつきは、従来より無電界ニッケルめっきとして知ら
れているもので、電気工業の分野で多用′されるが、こ
の無電界めっきは、周知のように、溶液中の金属イオン
を化学薬品によって還元析出させる化学還元めっきであ
る。この化学還元めっきは、電気めっきと比較して均一
な厚みを得ることができ、また、耐蝕性が良く、硬さに
ついても、めっき皮膜中にリン、ホウ素を含むものは、
400℃で熱処理することにより、ビッカース硬さで1
000以上となって硬質クロームに匹敵し、耐摩耗性で
優れた性質を持っている。
示す図で、図中、1は絶縁又は絶縁処理をした枠体、2
は通電用リード線、3は展張用スプリング、4は枠体固
定用フック、5は中子線材で、図示のように、例えば、
0.03φの硬銅線(中子線材)5を枠体1に展張して
固定する。このように、中子線材5を枠体1に展張して
固定したま\脱脂、酸洗、水洗等の通常のめつき処理と
同様の前処理を施して該中子線材5をより清浄にした後
に、N1−P又はN1−Bめつきをする。なお、これら
のめつきは、従来より無電界ニッケルめっきとして知ら
れているもので、電気工業の分野で多用′されるが、こ
の無電界めっきは、周知のように、溶液中の金属イオン
を化学薬品によって還元析出させる化学還元めっきであ
る。この化学還元めっきは、電気めっきと比較して均一
な厚みを得ることができ、また、耐蝕性が良く、硬さに
ついても、めっき皮膜中にリン、ホウ素を含むものは、
400℃で熱処理することにより、ビッカース硬さで1
000以上となって硬質クロームに匹敵し、耐摩耗性で
優れた性質を持っている。
前述のように、本実施例では、外径0.031+1φの
硬銅線にN1−P又はN1−Bめっきして外径的Q、
l amφにした後、スルファミン酸ニッケル浴、ワッ
ト浴等で知られている浴組成の電気めっきによる手段で
約3關φの棒になるまでめっきし、その後、外周切削、
切断、研磨等の機械力貝工を施して、゛例えば、第2図
に斜視図1第3図に断面図で示すような形状のノズルに
仕上げる。なお、第2図及び第3図において、1oは純
ニッケルのノズル基材、11はカップ部、12はノズル
孔、13はat界ニッケルめっきによるNf−P若しく
はNf −Bめつき層である。
硬銅線にN1−P又はN1−Bめっきして外径的Q、
l amφにした後、スルファミン酸ニッケル浴、ワッ
ト浴等で知られている浴組成の電気めっきによる手段で
約3關φの棒になるまでめっきし、その後、外周切削、
切断、研磨等の機械力貝工を施して、゛例えば、第2図
に斜視図1第3図に断面図で示すような形状のノズルに
仕上げる。なお、第2図及び第3図において、1oは純
ニッケルのノズル基材、11はカップ部、12はノズル
孔、13はat界ニッケルめっきによるNf−P若しく
はNf −Bめつき層である。
上述のように、本実施例によると、ノズル孔の周囲をN
1−Pめつき、若しくは、N1−Bめっきしたことによ
シ、 (1)、Nf −P、 Ni −Bは非晶質金属で、ラ
ップ加工性が純ニッケルよシ優れ、ノズルの入口側、出
口側双方とも、中子線材を忠実に反転したものが得られ
る。なお、ノズル部のパリ等の発生は、インク滴の発生
に悪影響を与えるもので、カップ内面、その反対側のイ
ンク出8口側の面のラップ加工は非常に大事なものであ
る。
1−Pめつき、若しくは、N1−Bめっきしたことによ
シ、 (1)、Nf −P、 Ni −Bは非晶質金属で、ラ
ップ加工性が純ニッケルよシ優れ、ノズルの入口側、出
口側双方とも、中子線材を忠実に反転したものが得られ
る。なお、ノズル部のパリ等の発生は、インク滴の発生
に悪影響を与えるもので、カップ内面、その反対側のイ
ンク出8口側の面のラップ加工は非常に大事なものであ
る。
(2) 、 Nf −P又は、N1−Bは、2着しくは
B濃度のいかんで純ニッケルよシは電位が貴の方にあシ
、耐蝕性が優れている。
B濃度のいかんで純ニッケルよシは電位が貴の方にあシ
、耐蝕性が優れている。
(3)、400℃で約1#間加熱処理すると、硬さがビ
ッカース硬さで1000近くになシ、耐摩耗性が大幅に
向上し、ノズルのメインテナンス(洗浄)時の傷の防止
に有利である。
ッカース硬さで1000近くになシ、耐摩耗性が大幅に
向上し、ノズルのメインテナンス(洗浄)時の傷の防止
に有利である。
等の利点がある。
以上に、本発明の一実施例としてN1−P又はNf−B
を無電界めっきしてノズルを製作する方法について説明
したが、次に、ノズル部周囲をNi−・Pで電気めっき
してノズル製作する実施例について説明する。
を無電界めっきしてノズルを製作する方法について説明
したが、次に、ノズル部周囲をNi−・Pで電気めっき
してノズル製作する実施例について説明する。
無電界ニッケルめっきの特徴は前述の通シであるが、め
つ6液の寿命が短いため、浴の更新、排水処理等の費用
がかさむ(無電界めっきは建浴当初はよいが、液が老化
してくると析出が粗雑な粉状析出となシやすく、また、
10μ以上の厚み付けになるとピットを生じゃすい)。
つ6液の寿命が短いため、浴の更新、排水処理等の費用
がかさむ(無電界めっきは建浴当初はよいが、液が老化
してくると析出が粗雑な粉状析出となシやすく、また、
10μ以上の厚み付けになるとピットを生じゃすい)。
このような液管理上若しくは処理費用等の問題、及び、
ノズルの耐蝕性、耐薬品性等を更に向上させること等を
考慮して本実施例ではN1−P電気めっきを用いた。
ノズルの耐蝕性、耐薬品性等を更に向上させること等を
考慮して本実施例ではN1−P電気めっきを用いた。
本実施例においても、前記無電界めっきの実施例の場合
と同様、0.03tmφの硬銅線を電鋳用治具に展張し
つつNf−Pの電気めっきをする。なお、本実施例では
、0.03mmφの硬銅線にNi −P電気めっきして
約O0l酊φの線にしたが、この寸法は任意であシ、め
っき時間と電流を変えることによシ任意の寸法にするこ
とができる。外径がQ、l amφになったところでス
ルファミン酸ニッケル浴等により、純ニッケルを析出さ
せ、約3・1111φの棒にする。第4図は、上述のよ
うにして作成した棒の断面図で、図中、加は純ニッケル
のノズル基材となる部分、21は硬銅線中子、乙はNi
−P電気めっき層で、この棒を前記実施例と同様、切
断、研磨等の機械加工をしてノズルに仕上げる。
と同様、0.03tmφの硬銅線を電鋳用治具に展張し
つつNf−Pの電気めっきをする。なお、本実施例では
、0.03mmφの硬銅線にNi −P電気めっきして
約O0l酊φの線にしたが、この寸法は任意であシ、め
っき時間と電流を変えることによシ任意の寸法にするこ
とができる。外径がQ、l amφになったところでス
ルファミン酸ニッケル浴等により、純ニッケルを析出さ
せ、約3・1111φの棒にする。第4図は、上述のよ
うにして作成した棒の断面図で、図中、加は純ニッケル
のノズル基材となる部分、21は硬銅線中子、乙はNi
−P電気めっき層で、この棒を前記実施例と同様、切
断、研磨等の機械加工をしてノズルに仕上げる。
従って、本実施例によると、ノズル部周囲を電気めっき
によるNf−Pから成る部材としたので、(I)、耐薬
品性(%に耐酸化性)が向上し、インクジェット印写装
置用ノズルとして、金、白金等の貴金属を使用すること
なく、イ′ンクとの適合性を広げることができる。
によるNf−Pから成る部材としたので、(I)、耐薬
品性(%に耐酸化性)が向上し、インクジェット印写装
置用ノズルとして、金、白金等の貴金属を使用すること
なく、イ′ンクとの適合性を広げることができる。
(2)、耐蝕性が向上した。すなわち、塩水噴霧、キャ
ス、コロードコート、SO2ガス、アンモニア等の耐蝕
性試験において、無電界Niに比して耐蝕性が優れてい
ることが認められた。
ス、コロードコート、SO2ガス、アンモニア等の耐蝕
性試験において、無電界Niに比して耐蝕性が優れてい
ることが認められた。
(3)、その他、液管理上では、定期的に薬剤を補充す
れば連続的に使用できるので、コストの面で有利である
。
れば連続的に使用できるので、コストの面で有利である
。
等の利点を有する。
以上の説明から明らかなように、本発□明によると、耐
薬品性に優れ、かつ、安定したインク噴り性・能を有す
るインクジェット印写装置用ノズルを製作することがで
きる。
薬品性に優れ、かつ、安定したインク噴り性・能を有す
るインクジェット印写装置用ノズルを製作することがで
きる。
第1図は、本発明の実施に使用する電鋳用治具の一例を
示す図、第2図は、本発明によって製作されたノズルの
一例を示す斜視図、第3図は、その側断面図、第4図は
、本発明の一実施例を実施する途中において製作される
ノズル用素材の一例を示す断面図である0 10・・・ノズル基材、11・・・カップ部、12・・
・ノズル孔、13・・・N1−P又は、N1−Bめつき
層、加・・・ノズル基材部分、21・・・中子線材、n
・・・N1−P電気めっき層。
示す図、第2図は、本発明によって製作されたノズルの
一例を示す斜視図、第3図は、その側断面図、第4図は
、本発明の一実施例を実施する途中において製作される
ノズル用素材の一例を示す断面図である0 10・・・ノズル基材、11・・・カップ部、12・・
・ノズル孔、13・・・N1−P又は、N1−Bめつき
層、加・・・ノズル基材部分、21・・・中子線材、n
・・・N1−P電気めっき層。
Claims (1)
- 所望のノズル径に相当する外径を有する線材に電鋳して
中心に該線材を含んだ電鋳棒を形成し、該電鋳棒を前記
線材と直交する方向に所定の厚さに切断して研磨した後
、前記線材を化学的に除去して前記線材の外径と一致し
た径のノズルを形成するインクジェット印写装置用ノズ
ルの製法において、ノズル部及びその周囲をN1−P又
はN1−B合金系の非晶質金属とし、更に、その周囲を
純Ni系の部材で構成したことを特徴とするインクジェ
ット印写装置用ノズルの製法0
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16920281A JPS5869064A (ja) | 1981-10-22 | 1981-10-22 | インクジエツト印写装置用ノズルの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16920281A JPS5869064A (ja) | 1981-10-22 | 1981-10-22 | インクジエツト印写装置用ノズルの製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5869064A true JPS5869064A (ja) | 1983-04-25 |
Family
ID=15882093
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16920281A Pending JPS5869064A (ja) | 1981-10-22 | 1981-10-22 | インクジエツト印写装置用ノズルの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5869064A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012246526A (ja) * | 2011-05-26 | 2012-12-13 | Optnics Precision Co Ltd | 電鋳金属材、ノズル、液体吐出ヘッド、噴霧器、ステント、篩 |
-
1981
- 1981-10-22 JP JP16920281A patent/JPS5869064A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012246526A (ja) * | 2011-05-26 | 2012-12-13 | Optnics Precision Co Ltd | 電鋳金属材、ノズル、液体吐出ヘッド、噴霧器、ステント、篩 |
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