JPS5861629A - ビツトパタ−ン発生装置 - Google Patents

ビツトパタ−ン発生装置

Info

Publication number
JPS5861629A
JPS5861629A JP56160173A JP16017381A JPS5861629A JP S5861629 A JPS5861629 A JP S5861629A JP 56160173 A JP56160173 A JP 56160173A JP 16017381 A JP16017381 A JP 16017381A JP S5861629 A JPS5861629 A JP S5861629A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
bit pattern
bit
generator
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP56160173A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6246036B2 (ja
Inventor
Mitsuzo Nakahata
仲畑 光蔵
Ikuo Kawaguchi
川口 郁夫
Kazuo Yamaguchi
和夫 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP56160173A priority Critical patent/JPS5861629A/ja
Priority to DE8282109329T priority patent/DE3278862D1/de
Priority to EP82109329A priority patent/EP0077045B1/en
Priority to US06/433,405 priority patent/US4528634A/en
Publication of JPS5861629A publication Critical patent/JPS5861629A/ja
Publication of JPS6246036B2 publication Critical patent/JPS6246036B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F1/00Details not covered by groups G06F3/00 - G06F13/00 and G06F21/00
    • G06F1/02Digital function generators
    • G06F1/03Digital function generators working, at least partly, by table look-up
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09GARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G5/00Control arrangements or circuits for visual indicators common to cathode-ray tube indicators and other visual indicators
    • G09G5/42Control arrangements or circuits for visual indicators common to cathode-ray tube indicators and other visual indicators characterised by the display of patterns using a display memory without fixed position correspondence between the display memory contents and the display position on the screen

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Image Analysis (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Image Generation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明FiIc@LSI等の半導体製造に使用されるウ
ェハへのパターン焼付は原版となるマスク上のパターン
欠陥の有無を設計データ値と比較し検査するマスクパタ
ーン検fv装置に関するもので、特に設計データ値から
自動的にビットパターンを発生する製置に関する。
第1図は設計データ値との比較によシバターンの欠陥検
査を行なうマスクパターン検査装置のブロック図であシ
、図において1は設計データを蓄積したメモリ、2は演
算回路、5はビットパターン発生器、4は欠陥判定回路
、5Fiパターン検出センサ、6は2@化回路、7はク
ロック発生回路、8は供試マスクである。本図でパター
ン検出センサ5の出力を2@化する2I[化回路6から
は、第3図の例に示すように、マスクパターン像に対す
る検出センサの走査に対応 し、   t=0  ; 
 ノ°=Q、  1. 2.  ち   ・・・・・・
  n1=1:   ノ゛=0. 1゜2、5・・・・
・・ルの順序で、順次2値化データが得られる。ビット
パターン発生器5は、第2図に示すようにメモリ1内に
蓄えられた各パターンの頂点座標データから、演算によ
り各走査ライン毎にパターンの存在座標jの始点、終点
アドレス”31°”U t ’SR@’11 t ””
” ’111& @ 3:g@ を算出し。
このデータに基づきビットパターン発生器3により検出
センサ5からの2僅データ出力クロツクと同期して基準
パターンを発生させるもので−ある。
従来このビットパターン発生器には、第4図に示すよう
にJJe&−のラッチ回路10.it及びこのラッチデ
ータと走査アドレスカウンタとの大小判定を行なうコン
パレータ回FIl?12.1Mを有するパターン発生回
路At 〜Sat、’11 ”U s ’aXむ、・・
・・・・’Lm @x−の存在し得る個数′だけ用い、
走査クロックと同期して20[のビットパターンを実時
間で発生させる方法が用いられて来た。
しかし近年のIC,LSIの高ffi度化に伴なってマ
スクパターンの密度が増大し、従ってビットパターン発
生器で処理すべきJJPII s:、の数が増大する事
となった。この為パターン発生器を多数個(200〜3
00回路以上)要する事となシ、回路規模が膨大化する
結果となった。ま九配線長も長くならざるを得す、信号
伝播時間が問題となシ、パターン検出センナと同期して
高速でビットパターンを発生させる事が因龜となった。
本発明・は上記した従来技術の欠点を無くシ。
高密度なマスクパターンに対しても、高速で安定なビッ
トパターンを発生させる・事を可能としたビットパター
ン発生装置を提供するにある。
本発明は次のように構成したことを特徴とする。
設計データから作成する1走作ライン分のビットパター
ンを格納する為のメモリを2回路用意し、一方のメモリ
に対しては、順次出力される検出センナの走査よ〕1ラ
イン先行したパターンデータZ 5t・’11 s ”
M・xll、・・曲ZzJZz、に基づき2値化ビツト
パターンを順次作成し格納する。同時に、他方のメモリ
からは、前走査時間内に作成し、格納が完了した2値ビ
ツトパターンを、検出センサ・2値化回路の出力2@1
化データと同期して順次読み出し発生させる。このよう
にして、検出センサ0走査ラインに対して1走査ライン
先行したビットパターンを作成しながら同時に実時間で
ビットパターンを出力するもので、ライン走査の進行に
従りて、11次。
ビットパターン作成用メモリとパターン出力用メモリを
切シ換えながら演算を実行する。
2値化ビツトパターンの作成は、1走査ラインに含まれ
るビット数を一定のビット長単位のバイトに分割し、各
バイト毎にljA次論理演算を行ない、3:51・:t
jtと比較し予めROM内に記述されたバイト単位のビ
ットパターンのモデルの中から適するものを選択・読み
出し、バイト単位のパターンとして発生させピッドパ゛
ターン作成用メモリに格納する。これを全バイトに実行
し。
1つのデータx11・JmlK対するビットパターンの
作成を完了させる0次に”sl * ”jiに対して同
様にバイト単位でビットパターンデータを発生させ、既
に格納されたビットパターンとの論理和を実行しながら
同一メモリ内に再記憶させる。
このようにして18・x軸、・・・・・・”Ivh s
:amに対するビットパターンを順次格納し1走査分の
ビットパターンを完成させるものである; このビットパターンの発生に際し一足のビット長(バイ
ト)に分割し演算するのは、−走査ライン分の生ビット
を同時に演算実行する方法では演算速I[は短縮される
が、膨大なハードウェアを要する事とがる。この1バイ
トtS成するビット数は、システムに要求される演算速
度を考慮し、許容出来る範囲で少くすれにハードウェア
を細索化が出来、笑用上望ましい為である。
以下図面に示した一実九例によって、本発明の詳細な説
明する。
本発明の具体例を、1走査ラインが10241tの給水
で構成され、これを161を単位でビットパターンを発
生させる場合について示したものが第5図である。ここ
でパターンの始点・終点ビットアドレスを表わす’5r
−1は、  10bitの2進数で与えられるものとす
る。このアドレス10bitのうち上位6bitは、1
走査ライン1024b*tを16bit (1バイト)
で分割した時の、小さい方からの分割位置(バイト・ア
ドレス) ’CWTを示す事とな9、これを各xSI 
* ’XNとし、下位4ハtを各’SL * ’JIL
  とする、ビットパターンは1lsxからs:xHの
間のバイトに含まれ、他の部分には存在しない為、演算
も時間組幅の為このXSX≦I:csr≦’uについて
のみ行なう、パターンデータの作成は、先ずRAMβ】
51内の全ハtに「0」を入力記憶する0次に与えられ
た”31 ’Qlをラッチ回路LS、 L、 21.2
2に各入力すると共に演算開始のバイトアドレスとなる
JJt  の上位4 b L t Z5Hを、演算実行
バイトアドレスを管理するバイトアドレスカウンタ25
へも入力する。
アドレスカウンタ25の出力ZCNTと、2gの上位6
4 L t ZsI、 8Hの上位6ハtJeur’k
、各々コンパレータA、B25,24で比較する。この
時’sx < 号prr <xxIの条件が成立するバ
イトにつめては、全ビットがビットパターンとなる為R
UM27を介さずORゲート29により全ビット「1」
を発生させるが、七NY=勺I 又はQxr = xy
  のバイトは、この一部がビットパターンとなる為%
 :cS*’Xの下位4bit :tzl ZIL で
決定されるパターンの終点ビットアドレス、始点ビット
アドレス々、ALを、終点・始点ビットアドレス演算i
!S26より出力し。
RC)R27に対するアドレス信号とし、必要なパター
ンを発生させる。
RC)R27上には、第6図(α)@(”)に示す16
bit単位のモデルパターンを予め記憶させておき、ア
ドレス信号に対応した内容を読み出し、16bitパタ
ーンとして出力すると伴に、R/iM(ト)51内の同
一バイトアドレスxcirrで示される領域内のデータ
をIhtラッチ回路54へ出力し、両者の論理和演算を
実行し、同一領域内へ再入力する。この時six ” 
rcyの条件が満足される場合は、zl。
21、に対する演算を終了するが、これ以外の場合は、
演算を継続する為、シーケンスコントロール回路28に
よシバイトアドレスカウンタ25をカウントアツプする
なお第6図(αL Cb+において、?!機は使用せず
メモリ内容は全て16進コードで示すものとする。
また、4. B、c、D、E、FFi、それぞれ10゜
11、12.15.14.15(但し10進コード)で
ある。
コンパレータA、B25,24の出力で、 l:m >
 Qptr> Zsxの条件成立時は、ROM27を介
さず、「1」入力用のORゲート29によp 16bL
t全て「1」のノくターンを作成し、7?−41Mβ)
31の−rcNTで示されるアドレス領域に格納し、更
にアドレスカウンタ25をカウントアツプする@ ”I
N =ZCNT又はQir = 七prrの条件成立時
は、R1)R27の内容をALs ’Iで読み出し、2
CNTで示されるRJiMβ)51の領域内のデータと
論理和演算を実行し、結果を同一領域内へ再入力し、’
31 を釦 に対する演算を実行する。
@7図はこの時作成されたビットパターンの作成結果例
を示したもので JI:5 、町で示されるアドレス間
に全て「1」のデータが入力される事となる。
次に与えられた”11 + ’Hz  を同様にラッチ
回路Ls、L、 21.22 K入力し、上記と同様の
演@を実行する。これらを1走査パタ一ン作成に要する
全ての’J s Qに対してmJ)返し実行し、2値ビ
ツトパターンの作成を行なうものである。
既に発明の要点で記述したように、RAMβ151によ
りビットパターンを作成している期間は。
L俵(Asoから既に作成されたビットパターンを出力
し1次の走査期間ではRAM斡)51からビットパター
ンを出力し、RAM(AsOに対してビットノ(ターン
を作成、格納する動作を繰夛返し実行し、実時間でビッ
トパターンを発生させるもので、この切替をパターン作
成・出力切替回路52.55で行なう。
ビットパターンの出力は、出力コントロール回路s6に
よシ、出力用として切替えられた膿(50,!i1)内
から既に完成しているビットパターンt14b*t I
I#位で、シフトレジスタ55にIj次移しながら、外
部から与えられる同期クロックに対応して、シフトレジ
スタ35よl) 1bitずつ出力するものである。
以上絆しく説明したように、本発明によれば。
高密度化されたマスクパターンに対シテ、小規模な回路
構成で高速なビットパターンを実時間で発生出来る事と
なシ、従来技耐に比べ経済性。
高速性、性能O安定性と云う点で秀れた結果が得られる
ものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の対象とされるべきマスクパターン検査
装置の全体概要図、第2図はマスクパターン検査装置に
与えられる予め準備されたバメーンの設計データ例の図
、第5図はビットパターン発生器よシ出力されるビット
パターンの一例図、第4図は従来のビットパターン発生
器のブロック図、第5図は本発明の具一体的な一*mf
Ilt−示すブロック図、第6図(G)及び(勾は本発
明に適要されるRCJM内に記述されるべきモデルパタ
ーンの例を示す図、第7図は本発明の演算処理過程を示
す説明図である。 21:始点アドレスラッチ回路 22:終点アドレスラッチ回路 25.24:コンパレータ 25:バイトアドレスカウンメ 26:終点e始点ビットアドレス演算器27:モデルパ
ターン格納用ROM 28ニジ−ケンスコントクール回路 29:ORゲート 30:RAM(イ) 31: RAM(ロ) 52.55:パターン作成出力切替回路34:ビットパ
ターンラッチ回路 35:パターン出力用シフトレジスタ 36:パターン出力用コントロール回路代理人弁理士 
薄 1)利 辛 第 1 口 第2図 筆4園 グ0・ンク 芸    へ1・ 二

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 11走査ツインに含まれる各絵素に対して与えた一連の
    アドレスを用いて示されたパターンの存在位置ρ始点・
    終点を表わすアドレス”51 ” ”11 * Jj*
     ” :vIh + ””・・’S? 11 ”asか
    ら1走査ライン分のビットパターンを作成するようにな
    したビットパターン発生装置において設計データから作
    成した1走査ライン分のビットパターンを格納する第1
    及び第2のメモリであって、一方のメモリに対しては順
    次出力される検出センナの走査より1ライン先行し九パ
    ターンデータ:I:s1・’11 、 x@ @ 21
    2 、 mm 21.@ 51゜に基づきビットパター
    ンを順次作成して格納し、同時に他方のメモリからは前
    走査時間内に作成し格納が完了してbるビットパターン
    を検出センサの出力データと同期′して順次読み出し発
    生せしめるようになした第1及び第2のメモリと、ライ
    ン走査の進行に従って交互に上記メモリを切シ換えなが
    ら、検出センナ出力と同期してビットパターンを発生さ
    せる切換手段を設けた事を特徴とするビットパターン発
    生装置。
JP56160173A 1981-10-09 1981-10-09 ビツトパタ−ン発生装置 Granted JPS5861629A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56160173A JPS5861629A (ja) 1981-10-09 1981-10-09 ビツトパタ−ン発生装置
DE8282109329T DE3278862D1 (en) 1981-10-09 1982-10-08 Bit pattern generator
EP82109329A EP0077045B1 (en) 1981-10-09 1982-10-08 Bit pattern generator
US06/433,405 US4528634A (en) 1981-10-09 1982-10-08 Bit pattern generator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56160173A JPS5861629A (ja) 1981-10-09 1981-10-09 ビツトパタ−ン発生装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5861629A true JPS5861629A (ja) 1983-04-12
JPS6246036B2 JPS6246036B2 (ja) 1987-09-30

Family

ID=15709423

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56160173A Granted JPS5861629A (ja) 1981-10-09 1981-10-09 ビツトパタ−ン発生装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4528634A (ja)
EP (1) EP0077045B1 (ja)
JP (1) JPS5861629A (ja)
DE (1) DE3278862D1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60143704A (ja) * 1983-12-29 1985-07-30 Nippon Jido Seigyo Kk パタ−ンの欠陥検査方法
JPS61265521A (ja) * 1985-05-20 1986-11-25 Meteoola Syst Kk 図形形状の自動計測装置

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0641966B2 (ja) * 1984-02-15 1994-06-01 株式会社アドバンテスト パタ−ン発生装置
EP0186874B1 (en) * 1984-12-26 1994-06-08 Hitachi, Ltd. Method of and apparatus for checking geometry of multi-layer patterns for IC structures
JP2569303B2 (ja) * 1985-07-05 1997-01-08 日本電装株式会社 画像デ−タの累積加算を行う画像処理装置
US5142621A (en) * 1985-12-03 1992-08-25 Texas Instruments Incorporated Graphics processing apparatus having instruction which operates separately on X and Y coordinates of pixel location registers
US4837447A (en) * 1986-05-06 1989-06-06 Research Triangle Institute, Inc. Rasterization system for converting polygonal pattern data into a bit-map
JPH0622195B2 (ja) * 1987-02-26 1994-03-23 東芝機械株式会社 荷電ビ−ム描画装置
JP2810660B2 (ja) * 1987-03-06 1998-10-15 株式会社日立製作所 粒子画像の解析装置
US5348558A (en) * 1992-04-23 1994-09-20 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Layout pattern generating apparatus
US5541942A (en) * 1994-06-14 1996-07-30 Microsoft Corporation Method and system for testing memory utilizing specific bit patterns
US6330667B1 (en) * 1998-06-05 2001-12-11 Micron Technology, Inc. System for read only memory shadowing circuit for copying a quantity of rom data to the ram prior to initialization of the computer system
US6216224B1 (en) 1998-06-05 2001-04-10 Micron Technology Inc. Method for read only memory shadowing
JP4435915B2 (ja) * 1999-11-26 2010-03-24 株式会社アドバンテスト パターン発生方法・パターン発生器・メモリ試験装置
US20050083095A1 (en) * 2003-10-16 2005-04-21 Tsvika Kurts Adaptive input/output buffer and methods thereof
JP2008501126A (ja) * 2004-05-25 2008-01-17 新世代株式会社 データ処理装置、描画装置及びピクセルパッカ

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3781829A (en) * 1972-06-16 1973-12-25 Ibm Test pattern generator
US3891982A (en) * 1973-05-23 1975-06-24 Adage Inc Computer display terminal
US4218142A (en) * 1978-03-08 1980-08-19 Aerodyne Research, Inc. Mask analysis
US4280186A (en) * 1978-07-07 1981-07-21 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Exposure apparatus using electron beams
US4377849A (en) * 1980-12-29 1983-03-22 International Business Machines Corporation Macro assembler process for automated circuit design
US4433384A (en) * 1981-10-05 1984-02-21 Varian Associates, Inc. Pattern data handling system for an electron beam exposure system
US4482810A (en) * 1982-09-30 1984-11-13 Storage Technology Partners Electron beam exposure system

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60143704A (ja) * 1983-12-29 1985-07-30 Nippon Jido Seigyo Kk パタ−ンの欠陥検査方法
JPH041846B2 (ja) * 1983-12-29 1992-01-14 Reezaa Tetsuku Kk
JPS61265521A (ja) * 1985-05-20 1986-11-25 Meteoola Syst Kk 図形形状の自動計測装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0077045A2 (en) 1983-04-20
US4528634A (en) 1985-07-09
EP0077045B1 (en) 1988-08-03
EP0077045A3 (en) 1986-01-29
DE3278862D1 (en) 1988-09-08
JPS6246036B2 (ja) 1987-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS5861629A (ja) ビツトパタ−ン発生装置
JP3626514B2 (ja) 画像処理回路
US4334274A (en) Method of determining whether or not a region in a picture is within a closed boundary, and an apparatus therefor
JPS5951135B2 (ja) 物体検査装置
CN115423796A (zh) 一种基于TensorRT加速推理的芯片缺陷检测方法及系统
JPH0743429A (ja) 物理アドレス変換回路
JPH06110655A (ja) ソート処理装置
CN112181354B (zh) 一种移位饱和同步处理的方法及其应用
JP2000293690A (ja) ウェーハ検査装置
JPH0795345B2 (ja) 画像処理方法
JPS60201630A (ja) 検査パタ−ンの生成方法
JPS60101643A (ja) デ−タ処理装置
JPS61210390A (ja) パタ−ン発生装置
JPS62286188A (ja) パタン検査装置
JPH0736149B2 (ja) シフトフラグ生成回路
JP2658857B2 (ja) 等価故障抽出方法及び装置
JPH0388081A (ja) 斜影生成用記憶装置
JPS61141081A (ja) 関心領域認識装置
JPS61105640A (ja) 並列補数回路
JPS63239526A (ja) プライオリテイ・エンコ−ダ
JPS6265181A (ja) 画像処理による欠け検査方法
JPH04125916A (ja) データ変換処理装置
JP3098746B1 (ja) 1回転データ処理方法及び装置
JPH0397079A (ja) 重心検出装置
JP2010044786A (ja) 半導体集積回路装置