JPS58213698A - 炭化珪素の製造方法 - Google Patents

炭化珪素の製造方法

Info

Publication number
JPS58213698A
JPS58213698A JP57096791A JP9679182A JPS58213698A JP S58213698 A JPS58213698 A JP S58213698A JP 57096791 A JP57096791 A JP 57096791A JP 9679182 A JP9679182 A JP 9679182A JP S58213698 A JPS58213698 A JP S58213698A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
raw material
gas
temperature
silicon carbide
voids
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP57096791A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6052120B2 (ja
Inventor
Minoru Tanaka
稔 田中
Tadashi Kawabe
河辺 正
Masabumi Ofune
正文 小舟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tateho Chemical Industries Co Ltd
Original Assignee
Tateho Chemical Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tateho Chemical Industries Co Ltd filed Critical Tateho Chemical Industries Co Ltd
Priority to JP57096791A priority Critical patent/JPS6052120B2/ja
Priority to US06/476,199 priority patent/US4504453A/en
Publication of JPS58213698A publication Critical patent/JPS58213698A/ja
Priority to US06/689,469 priority patent/US4591492A/en
Publication of JPS6052120B2 publication Critical patent/JPS6052120B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B15/00Fluidised-bed furnaces; Other furnaces using or treating finely-divided materials in dispersion
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/90Carbides
    • C01B32/914Carbides of single elements
    • C01B32/956Silicon carbide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/90Carbides
    • C01B32/914Carbides of single elements
    • C01B32/956Silicon carbide
    • C01B32/963Preparation from compounds containing silicon
    • C01B32/97Preparation from SiO or SiO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B25/00Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
    • C30B25/005Growth of whiskers or needles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/36Carbides
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/14Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment
    • F27B9/20Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace
    • F27B9/26Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace on or in trucks, sleds, or containers
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/30Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
    • F27B9/36Arrangements of heating devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/10Particle morphology extending in one dimension, e.g. needle-like
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/61Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/04Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity adapted for treating the charge in vacuum or special atmosphere
    • F27B9/045Furnaces with controlled atmosphere
    • F27B9/047Furnaces with controlled atmosphere the atmosphere consisting of protective gases
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/06Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity heated without contact between combustion gases and charge; electrically heated
    • F27B9/10Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity heated without contact between combustion gases and charge; electrically heated heated by hot air or gas

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は炭化珪素の製造方法、特に炭化珪素ウィスカー
の製造方法に関する。
ウィスカーはひげ状結晶とも呼ばれ、単結晶で転移及び
格子欠陥などの構造上の欠陥が少ないので同一素材の塊
状結晶に比べ、格段に機械的強度が大きいので、他の物
質に混入して機械的強度が高い複合材料を得るための強
化物質として注目されている。中でも炭化珪素ウィスカ
ーは結晶構造がダイヤモンドの置換型構造であるために
強度及び弾性率が特に優れているほか、耐熱性、熱伝導
率及び化学安定性が大で、高温耐酸化性が優れている等
の多くの長所を有するので、特に注目されている。
従来の炭化珪素ウィスカーの製造法としてはいは炭素及
び珪素の双方を含有する有機珪素ガスを熱分解する純気
相反応法や、炭素及び珪素を含む固体原料を用いこれを
キャリヤーガスを流通させて、原料から離れた位置に炭
化珪素ウィスカーを成長させる固体原料法などが存在す
る。しかしながら、これらはいずれも炭化珪素ウィスカ
ーの収率が低いものであり、両者の方法を比べると、後
者は前者よりも原料価格ならびに原料確保の点で格段と
有利であるが、原料の大部分が塊状炭化珪素となるため
、ウィスカーの収率はきわめて低いものであった。
本発明は、上述の問題点#C鑑み、成されたもので固体
原料を使用しながらも原料から離れた位置ではなく、原
料の内外面にきわめて高収率で炭化珪素ウィスカーを生
成成長せしめる方法を提供することを目的とする。
以下1本発明の構成について具体的に詳述する。本発明
の基本的構成は、 炭素及び珪素を含有し、薄肉でかつウィスカ、−の成長
に十分な空隙を保有する形状の原料をガス流通性を保有
できる状部にしてトレーに装填し、これを非酸化性雰囲
気の炉内で上記原料の空隙に窒素系ガスを除く非酸化性
ガスを流通させつつ、約400℃から約1,800℃ま
で段階的に昇温する温度域を高温部方向へ間欠的に移動
させながら不純物成分を除去せしめたのち、約1,85
0℃から約1,450℃まで段階的に、!+温する温度
域を高温部方向へ間欠的に移動させて炭化せしめること
から成り、好ましくはトレーに装填する前の原料にホウ
素化合物、ランタン化合物の1種又は2種以上の混合物
を付着せしめておくことから成っている。
次に具体的に各事項を詳述すると、 まず、珪素及び炭素を含有し、薄肉でかつウィスカーの
成長に十分な空隙を保有する形状の原料であるがそのま
ますぐに原料に供し得る天然の好適材としては炭化させ
たlIJ、殻が挙げられる。
籾殻は稲作農業で多量に副生ずるにもかかわらず、目立
った用途に供されていないが有機物以外にSin!をl
 B 〜22 vrt%、MgOを0.02〜0.05
wt%、Cll0を0.10〜0.16 wt%、Kz
Oを0.8−0.4 wt%、PIOSを0.05〜0
.10wt%含有しており、空気を遮断して仮焼すると
籾殻の全重量の60 wt%を占める有機物が飛散し、
炭素分と珪酸分との比率は7二8〜6:6となる。
このうちの炭素分は窒化工程中、籾殻がその形状を維持
するのに貢献し、ウィスカーの生成に使われる。残余の
不純物のうち、K、O及びP、0゜は籾殻の仮焼及び窒
化工程中に飛散し、MgO及びCaOは後処理をこよっ
て除去することがで診る。又、炭化珪素の主成分である
珪素は、上述の籾殻以外にたとえば次のようなかたちで
原料として供給できる。
珪素分については、無水珪酸の形のものが安価に入手で
き、代表的な無水硅酸原料である珪石、珪砂のほか、V
ガスと呼ばれる南九州地方に広く分布している火山噴出
物(その埋蔵量は900億トンといわれ、現在、目立つ
ような用途に供されていない。その化学組成を第1表に
示す。)や板ガラス研摩廃船(これはガッスエ業におい
て板ガッヌ研摩工程で多量に副生ずるが、超微粉である
こと、及び鉄分が多くてガラス原料としての再使用が困
難なことから利用されないまま放置しているのが現状で
ある。その化学組成は第2表に示す。)も使用できる。
第  2  表 特にシラス及び板ガフス研摩廃船は各々を単独で用いる
よりも混合して用いるほうが好ましい。これはシラスが
かなり低い温度でガラス化して表面積が激減し、珪素含
有蒸気を発生しにくくなるため、融点が高い板ガラス研
摩廃船に支持させることにより所要温度で長時間にわた
り珪素含有蒸気を発生しやすくするためである。
また、板ガラス研摩廃船に不純物として含まれている酸
化鉄はウィスカーの成長を促進する効果を有しているの
で、この混合原料はこの効果を利用することもできる。
一方、炭素原料であるがこれは純粋なものが工業的に多
量に供給されるのでこれを利用する。そして上述のよう
な珪素原料と炭素原料は微粉末の状態でつなぎ剤として
メチルセルロース液を少量加えて混練して、たとえば小
寸法の中空短管状、撚れたフレーク状、波板状、もつれ
合った糸状等、薄肉でそれが多量集積された際に相互間
にウィスカーが成長するのに十分な空隙を生じやすい形
状に成形される。
特に、前述の炭化させた籾殻のごとくそれ自体に内部空
隙を保有しているもので、中空短管状のものが望ましい
更にまた、ろ紙のような高純度のセルロース質に珪酸あ
るいはシリコン樹脂を含浸し乾燥させたものを、たとえ
ば波板形状に成形して相互間に十分な空隙が出来るよう
にし、原料として用いてもよい。
次に、このような炭化させた籾殻等の原料のトレーへの
装填は原料がその形状を崩さずに各原料相互間にガスが
流通しやすいように空隙を保有させておこなうこ占が必
要である。又、好ましくはトレーに装填する前の原料に
結晶成長促進剤としてホウ素化合物又はフンタン化合物
の1種あるいは2種以上の混合物、この結1促進剤は液
状として噴霧するか、粉末として付着せしめておく。付
着量は経験的に原料の引重量に対してホウ素化合物もし
くはランタン化合物またはこれら両者の混合物として1
〜40wt%、好ましくは6〜20 wt%、最も好ま
しくは7〜15W【%とする。そして原料が装填された
トレーを常法により非酸化性雰囲気とした炉内に導く。
炉内は約400℃から約1,450℃まで段階的に昇温
する温度域、たとえば400℃、500℃、600’C
,700℃、900℃、1,100℃、1,200℃、
1,800’C,1,850℃、1,450℃と段階的
に昇温する温度域に区分されており各温度域では下方か
ら上方向へ窓素系ガスを除く非酸化性ガスが常に流通せ
しめられている。
なお、1,800℃までの比較的低温域ではアルゴンガ
スが用いられるとより一層好ましい。
トレーは上記各温度域を低温部から高温部域へ所定時間
をおいて間欠的に移動せられ、この間にトレー中の原料
は加熱され、不純物成分を飛散せしめられたのち原料中
の珪素成分は炭化されF懲ヨテ れる6トレーが比較的低温部から高温部方向へ一間欠的
に移動され不純物を飛散させるための所要時間)!40
0℃、500’C,600℃−,700℃、900’C
,1,100℃、1,200℃、1,800℃の各温度
域で1〜24時間、好ましくは5〜24時間が適当であ
り、1,850℃〜1,450℃の温度域で原料中の珪
素成分が炭化する時間は2〜10時間、好ましくは4〜
10時間が適当である。この際、非酸化性ガスの流量、
流速、ガス温度は炉の内容積、原料の炉内への仕込み置
部の条件により異なるがガス温度は極端に低いものを送
入しないように注意を要する。
かくて上述のごとき条件下で処理された原料にはその内
外面ならびに各原料相互間の空隙にさらに炉天井部に綿
状ないしは羽毛状に炭化珪素ウィスカーが成長生成する
次いで、このように原料の内外面に成長生成した炭化珪
素ウィスカーは上述のウィスカー分離捕集法により単結
晶として回収する。
具体的に説明するに、炉内から取出したトレー中の原料
はその内外面に炭化珪素ウィスカーがからみ合って互い
に結合しているので、これを水中に入れ、ウィスカーが
損傷しないように静かに攪拌する。攪拌は機械的方法の
ほかにエアーレーションや超音波などの方法で行う。
原料がほぐれたならば、これに疎水性の有機質液体、経
済的なものとしては灯油を加えるとともに適量の塩酸を
加え、40〜50℃に加熱して静かに攪拌してからしば
らく静置する。すると、水と灯油とが分離した際にウィ
スカーは下部の水層側に、ウィスカーが除かれた原料は
上部の灯油側に移動している。尚、塩酸の添加によりウ
ィスカーは親水性を増し、沈降し、沈降速度は速く、分
離はほぼ完全におこなわれる。
次いで水層側に分離捕集されたウィスカーは市販洗剤、
金属石けんなどを用いて浮遊選鉱技術で精選すると不純
物を効率よく除去できるが、単に水洗をくり返すだけで
もかなりの不純物を除去でき、炭化珪素ウィスカ瓢−の
みを得ることができる。
又、灯油ならびに塩酸は最初から水に加えておいてもよ
く原料がよく解きほぐされるように水に分散効果を示1
−助剤を添加してもよいが有機質液体を乳化させないも
のを選ぶことが必要である。なお、炭化珪素ウィスカー
が成長生成せしめられた原料は上述の液体による分離に
供する前に機械的に解きほぐしてもよいがこの場合は多
少のウィスカーの損傷は避けられない。
一方、灯油側で捕集した原料はウィスカーと同成分の粉
体を含んでいるのでこれを1.0()0℃以下の酸化零
囲気内で焼成することにより、炭素分を除いて炭化珪素
粉だけを取出し、これを研摩剤や廃業原料として利用で
きる。
次に本発明を工業的に実施する際に使用する製造炉の一
例を図面にもとづいて説明する。
図面は外部構造ならびに内部仕切醇が耐熱材料でつくら
れた製造炉の断面を示し、両端に入口ガス置換室11)
と、出口ガス置換室(2)を有し、その間に上下二段に
区分され、下側には上部が開放され下部にガス吹込口(
4)のある小室(8)が多数、設けられ(図面は中央部
を省略)、その中に適量のカーボンペレットff1lが
収容されており、上側には上部が底部に原料がこぼれ落
ちない程度の細孔(6)が多数穿孔されたトレー(7)
が前記小室の上に小室と同数分、配設されている。
なお、トレーの材質はシリカ−アルミナ系のものでもよ
いが黒鉛製のものとすると、高低温部への移動の際の熱
衝撃抵抗が強いので、より望ましい材質である。
ところで本発明製造方法のプロセスを上述の図面に添っ
て説明すると、 まず、籾殻等の原料(8)を入れたトレー(7)を非酸
化性ガスが送給されるガス入口置換室+11内に搬送し
て非酸化性雰囲気下におく。
次いで、扉(9)を引き上げて段階的に温度が高くなる
ように設定しである炉本体内のもつとも低温部(図面で
は一番左側)である小室(3)の上へ移動させる。小室
(8)には適量のカーボンベレットが収容されており、
抵抗発熱体(10)が設置されて所定の温度(たとえば
400℃)に維持できるようになっており、しかもガス
吹込口(4)から上方へ窒素系ガスを除(非酸化性ガス
(たとえばアルゴンガス)が所定流速で所定量、吹込ま
れているので、トレー(7)内の原料(8)は同トレー
の底部に設けた細孔(6)から流入する加熱された非酸
化性ガスにより徐々にあたためられることになる。(1
1)はガス出口である。小室1B)は、図面上でその一
部を省略したがたとえば総数20ぐらいあり400℃か
ら1,200℃ぐらいまで100℃毎に温度が上がる小
室を各1〜2ずつ連続して設け1,800℃の小室が8
室、1,850℃ならびに1,450℃の小室が各4室
ぐらいずつ設けられており、これらの小室の真上にはト
レー1ケース分が収容できる移動空間が設けられている
。400〜1.450℃までの各所定温度で所定時間、
各小室上にトレーの移動空間に間欠的に移動せしめられ
たトレー内の原料は400〜1,800℃の間に充分に
予熱さilて1,850〜1.450℃の間で原料中の
珪素が炭化反応せしめられることになり、次に常温下で
冷却せしめられることを口なる。ここで、トレーが炉本
体内を移動中に炭化珪素の構成成分である元素以外のN
a、CI、に、B輸、AI等の不純物元素(特に原料が
籾殻の場合には有機物と不純物元素)は徐々に飛散し、
炉天井部分に結晶物として析出除去されるので、1゜8
50〜1.450℃で原料中の珪素含有蒸気と炭素含有
蒸気の炭化反応により原料の内外面に生成する炭化珪素
ウィスカーならびに同粉体の純度は飛躍的に向上する。
次に、原料中の不純物元素が炉内の温度域において温度
が高くなるにしたがい減少する、つまり原料を所定温度
で炭化して炭化珪素を生成せしめる場合に炭化珪素の純
度が高くなることを!l!IEする実°験データを第8
表として掲げる。
、7〜′ −2−2/ −・□・A −e:Z−、−’、、’、−−−−− 第  8  表 上記実験データは原料中の不純物元素を700℃におい
て100とした場合に各温度で2時間1、保持したとき
に原料中に残存する元素の量を示したものであり、1,
400℃ではかなりの量の不純物元素が飛散して原料中
に占める割合が減少しているので、同温度で原料が炭化
せしめられて生成する炭化珪素ウィスカーの純度は上述
のように原料中の不純物元素の減少分だけ高くなる。
又、第4表は第8表の実験データから明らかなように原
料中から飛散した元素が炉天井部に於て化合再結晶した
ものを捕集し、同析出結晶物中の不純物元素量を蛍光X
線分析により測定したデータである。
第  4  表 上記実験データから炉内入口部の原料の予熱開始段階(
400〜650℃)では原料から比較的多く、不純物元
素が飛散し、炉天井部に析出結晶として付着し、700
℃、1,000℃、1,800℃、 1,400℃と温
度が高くなるにしたがい、一般的に不純物元素の飛散量
が減少することにともない、炉天井部に付着する析出結
晶中の不純物元素量は減少する傾向がみられ、冷却部(
常温)では逆に析出結晶中の不純物元素量が増加し、出
口部においてもほぼ同様の傾向がみられる。考察するに
、不純物元素はその種類と温度により飛散状態は異なる
が入口部から出口部に至るまで不純物元素は炉天井部に
於て、化合再結晶として析出するので結局、出口部にお
けるトレー中の原料の内外面に生成する炭化珪素ウィス
カーならびに炭化珪素粉体の純度が飛躍的に向上するも
のと考えられる。又、冷却部ならびに出口部においては
一般にt析出結晶中の不純物元素量が法化反応温度(1
,850−1,450℃)より多いのは温度の急激低下
により飛散状態にある不純物元素が凝縮するためと考え
られる。
ところで、本発明製造方法においてその原料に、結晶成
長促進剤としてホウ素化合物、ランタン化合物の1糎又
は2種以上の混合物を付着せしめた場合の効果を示す比
較実験データを第6表として掲げる。
上記表の比較実験データから明らかなように原料に結晶
成長促進剤としてHI Boxを添加すればS1094
7g−の収率は84.6%、 LaC15の添加の場合
の収率は61.2%と、結晶成長促進剤を全く添加しな
い場合の85,0%に比べ、きわめて良好な収率で製造
できることが判明した。又、本発明製造方法において用
いる原料をトレーに装填し゛C炉内で仮焼、炭化度広に
供する前に予め、酸処理を施しておけば原料中の不純物
成分や有機物がかなり除去できて爾後処理がより一層効
果的におこなえる。ここで原料として籾殻を用い、これ
を酸処理する場合を例として掲げる。
すなわち、籾殻の酸処理はたとえば生籾殻を5N−HC
Iに加えて0.6〜1時間煮沸することによりおこなう
。これにより生籾殻の生抜を形成する七μロースが還元
作用をうけ炭水化物から酸素がぬけて黒色化するが、籾
殻中のタンパク質は分解してアミノ酸となり、高分子化
合物である七μロースは低分子化合物に変わって溶出す
るので籾殻の多孔質化が計られ、爾後の籾殻からゐ不純
物成分の飛散、珪素と炭素との反応、ひいては炭化珪素
ウィスカーの成長を容易にすることとなる。また、この
籾殻の酸処理tこより減少する生籾膜中の含有元素量に
ついて比較実験データを示せば第6表のとおりであるO
第  6  表 (注) 生籾膜の酸処理後の含有元素量は生籾膜を5N
−HCI溶液中に浸漬し、煮沸後、水洗いしたものを蛍
光X線分析したもので、生籾膜(未処理)中の含有元素
量を100とした場合の存在量を示し同じく、参考値と
して掲げたデータは生m殻を仮焼後、同様の酸処理をほ
どこした際の含有元素の存在量を示すものとする。
上記表に掲げた実験データ結果から明らかなことは生m
殻の酸処理により炭化珪素の構成成分であるSl以外の
含有元素はその量が100%減少するか、もしくはかな
りの減少率を示しており、いわゆる不純物構成元素の減
少により、爾後処理により生成しうる炭化珪素ウィスカ
ー、ならびに同粉体の純度の向上に資することが理解で
きうる。
又、工業的製造炉としては図示のもののほかに一端から
スクリューフィーダにより原料を間欠的に挿入して、炉
内の予熱温度域から炭化反応温度域を所定時間をおいて
降下移動させながら、炭化反応せしめて、他端から反応
を終った原料を排出させる縦型構造のものを使用するこ
ともでき、この場合にはトレーが不要となる。
然して、炉内で所定処理を経て炭化珪素ウィスカーなら
びに同粉体を生成せしめられた原料は前述のごとく、灯
油などの疎水性有機質液体と水と塩酸の混合液による分
離により炭化珪素ウィスカーのみを水層側に分離捕集し
精選する。以上、述べてきたとおり本発明は構成されて
おり、従来の製造方法のように原料から離れた位置では
なく原料の内外面に炭化珪素ウィスカーを生成せしめる
ものであるから、炭化反応後の原料を灯油等の疎水性有
機質液体と水と塩酸の混合液による分離捕集法により、
きわめて高い収率で炭化珪素ウィスカーを得ることが可
能で、しかも原料中の珪素成分のほとんどすべてを炭化
珪素に変換できる。
また、本発明方法によって炉内のトレーから取出した原
料の内外面に生成せしめたウィスカーを分離の工程な経
ずにそのまま炭化珪素粉体−炭化珪素ウィスカー−炭素
の混合物、あるいは炭素を焼失せしめて、炭化珪素−炭
化珪素ウィスカーの混合物とし、工業材料として利用も
できる。
更に、原料は炭化させた籾殻や無水珪酸原料である珪石
、珪砂のほかにVフスや板ガブス朔摩廃船など、きわめ
て安価で、多量i入手できるものであるから製造コスト
的にみてきわめて経済的である。
以下、本発明の詳細な説明する。
実施例1 化学分析値1g、Lo@s : 79.61%、 St
O,二17.55%、 AhCh : 0.04%% 
FezO1: 0−O1%、 CaO: 0.04%、
 MgO: 0.16%の籾殻80gを空気遮断して9
00℃で仮焼し、これを、底部に多数の小孔を穿設した
黒鉛製トレーに入れ蓋なせずに、添付図面に示すような
構造のアルミナ製マツフル炉にカーボンベレットを厚さ
5 (”an程充填した上に置きアルゴンガスを0.5
 /ilnで炉底部より上部に流しつつ昇温し、800
℃で8時間、1,000℃で8時間、1,200℃で8
時間、保持した。このあと8′c/frIin  の昇
温率で1゜400℃になるまでアルゴンガスを流しつつ
昇温し、1,400℃に達した時点でアルゴンガス流量
を5 j/mln  に増加して8時間、保持したのち
、ガス流量を0.61/minとして1,000℃まで
降温し、次いでガスの送給を止めて密閉冷却した。次に
、トレー内の処理済原料を灯油:水(水道水)=8ニア
の混合液中に投入し1時間、静かに攪拌後、静置した。
すると、下側に水、上側に灯油と、二液分離するととも
に水側へは炭化珪素ウィスカーが、灯油側へは炭化物が
分離捕集された。水中をこ含まれる炭化珪素ウィスカー
は浮遊選鉱技術により処理し、同ウィスカーを2.9g
得た。このウィスカーを電子顕微鏡で観察した結果、そ
の形状は直径約0.2pm、長さ約60μmのもので制
限視野電子線回折によればα−3ICの単結晶であると
認められた。
また、灯油側で捕集された炭化物を900℃の酸化雰囲
気中で2時間焼成して灰白色の粉体18gを得たが、前
記電子線回折によるとこの成分の大部分がn−5ICで
あると認められた。
実施例2 実施例1と同様の原料80gにH,BO,(純度99.
6%)を1.69 gを添加し、実施例1と同様に反応
させて分離を行なったところ、7.4gのα−3iCウ
イスカーが得られた。
実施例8 実施例1と同様の原料80gにLaC1* 1gを添加
し、一実施例1と同様に反応させ分離を行なったところ
、5.87gのα−5iCウイスカーが得られた。
実施例4 200メツシユ以下に粒度14整シたシラス(鹿児島系
鹿屋市西部の古江産の火山噴出物で、無水珪酸16〜7
6%を含有)粉砕物を40wt%、825メツシユ以下
に調整したガラス研摩廃物を20wt%、200メツシ
ユ以下に調整した炭素粉を40wt% の割合で混合し
、メチルセルロース液を少量加えて混練し、押出原料と
した。この原料を自然乾燥後、実施例1と同じ炉を用い
、同様の条件・方法で焼成し、灯油/水/塩酸の混合液
による分離捕集によりウィスカー状物20wt%、なら
びに粉状物gOwt%の割合で得た。
電子顕微鏡観察によれば、ウィスカー状物は直径2−前
後、長さ100μm前後ありX線回折によれば、完全な
α−8ICの単結晶であり、粉状物はα−5iCに若干
の不純物が混在していることが認められた。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明製造方法を工業的に実施する際に使用する
製造炉の一例を示す一部切欠断面図である。 fll・・入口ガス置換室、(2)・・出口ガス置換室
、1l11会小室、(4)・・ガス吹込口、tti)―
・カーボンペレット、(6)・・細孔、(7)・・)L
/−、ス出口。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)珪素および炭素を含有し、薄肉でかつウィスカー
    の成長に十分な空隙を保有する形状の原料を、ガス流通
    性を保有できる状I!Iにしてトレーに装填し、これを
    非酸化性雰囲気の炉内で、上記原料の空隙に、窒素系ガ
    スを除く非酸化性ガスを流通させつつ、約400℃から
    約1,800℃まで段階的に昇温する温度域を高温部方
    向へ間欠的に移動させながら不純物成分を飛散除去せし
    めたのち、約1,850℃から約1,450℃まで段階
    的に昇温する温度域を高温部方向へ間欠的に移動させて
    原料中の珪素を炭化反応せしめることを特徴とする炭化
    珪素の製造方法。
  2. (2)珪素および炭素を含有し薄肉でかつウィスカーの
    成長に十分な空隙を保有する形状の原料に、結晶成長促
    進剤としてホウ素化合物、ランタン化合物の中から選ば
    れた1種又は2種以上の混合物を添加し、これをガス流
    通性を保有できる状態にしてトレーに装填し、これを非
    酸化性雰囲気の炉内で上記原料の空隙をこ窒素系ガスを
    除く非酸化性ガスを流通させつつ、約400℃から約1
    ,800℃まで段階的tこ昇温する温度域を間欠的に移
    動させながら不純物成分を飛散除去せしめたのち約1.
    ss6℃から約1,460℃まで段階的に昇温する温度
    域を間欠的に移動させて原料中の珪素を炭化反応せしめ
    ることを特徴とする炭化珪素の製造方法。
  3. (3)珪素および炭素を含有し、薄肉でかつウィスカー
    の成長に十分な空隙を保有する形状の原料に、酸処理を
    施してのち、これをガス流通性を保有で會る状態にして
    トレーに装填し、これを非酸化性雰囲気の炉内で上記原
    料の空隙に窒素系ガスを除く非酸化性ガスを流通させつ
    つ、約400℃から約1,800℃まで段階的に昇温す
    る温度域を高温部方向へ間欠的に移動させながら不純物
    成分を飛散せしめたのち、約1,850℃から約1,4
    50℃まで段階的に昇温する温度域を高温部方向へ間欠
    的に移動させて原料中の珪素を炭化度広せしめることを
    特徴とする炭化珪素の製造方法。
JP57096791A 1982-06-04 1982-06-04 炭化珪素の製造方法 Expired JPS6052120B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57096791A JPS6052120B2 (ja) 1982-06-04 1982-06-04 炭化珪素の製造方法
US06/476,199 US4504453A (en) 1982-06-04 1983-03-17 Method of manufacturing crystalline silicon carbide
US06/689,469 US4591492A (en) 1982-06-04 1985-01-07 Method of manufacturing crystalline silicon carbide employing acid pretreated rice husks

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57096791A JPS6052120B2 (ja) 1982-06-04 1982-06-04 炭化珪素の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58213698A true JPS58213698A (ja) 1983-12-12
JPS6052120B2 JPS6052120B2 (ja) 1985-11-18

Family

ID=14174455

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57096791A Expired JPS6052120B2 (ja) 1982-06-04 1982-06-04 炭化珪素の製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (2) US4504453A (ja)
JP (1) JPS6052120B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5039501A (en) * 1990-04-12 1991-08-13 General Motors Corporation Method for growing silicon carbide whiskers
JP2014122131A (ja) * 2012-12-21 2014-07-03 Taiheiyo Cement Corp 高純度炭化珪素粉末の製造方法
JP6389349B1 (ja) * 2018-05-21 2018-09-12 株式会社M.I.T 多室型自燃式シリカ製造装置

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8220497A (nl) * 1981-12-16 1983-11-01 Atlantic Richfield Co Continue siliciumcarbidewhiskerproductie.
JPS6052120B2 (ja) * 1982-06-04 1985-11-18 タテホ化学工業株式会社 炭化珪素の製造方法
JPS61146797A (ja) * 1984-12-14 1986-07-04 Tateho Kagaku Kogyo Kk 窒化珪素ならびに炭化珪素の連続的製造方法
US4702900A (en) * 1985-04-08 1987-10-27 Bridgestone Corporation Method of producing silicon carbide
US4789537A (en) * 1985-12-30 1988-12-06 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Prealloyed catalyst for growing silicon carbide whiskers
US4702901A (en) * 1986-03-12 1987-10-27 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Process for growing silicon carbide whiskers by undercooling
US4789536A (en) * 1987-01-20 1988-12-06 J. M. Huber Corporation Process for producing silicon carbide whiskers
US4873069A (en) * 1987-03-09 1989-10-10 American Matrix, Inc. Method for the preparation of silicon carbide whiskers
US5021230A (en) * 1987-04-22 1991-06-04 Krstic Vladimir D Method of making silicon carbide
US4963286A (en) * 1987-05-15 1990-10-16 Union Oil Company Of California Dispersions of silica in carbon and a method of making such dispersions
US4839150A (en) * 1987-05-15 1989-06-13 Union Oil Company Of California Production of silicon carbide
US4892693A (en) * 1987-07-24 1990-01-09 Aluminum Company Of America Method of making filament growth composite
US4915924A (en) * 1987-08-12 1990-04-10 Alcan International Limited Method of preparing whiskers of silicon carbide and other materials
CA1269404A (en) * 1987-11-03 1990-05-22 Mukesh K. Jain Porous membrane of sinterable refractory metal oxides or silica
EP0330899B1 (de) * 1988-02-26 1992-07-15 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung einer Schicht aus einem metalloxidischen Supraleitermaterial mit hoher Sprungtemperatur und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
WO1989008609A2 (en) * 1988-03-11 1989-09-21 Deere & Company Production of silicon carbide, manganese carbide and ferrous alloys
US5037626A (en) * 1988-11-22 1991-08-06 Union Oil Company Of California Process for producing silicon carbide whiskers using seeding agent
US5080879A (en) * 1988-12-01 1992-01-14 Alcan International Limited Process for producing silicon carbide platelets and the platelets so produced
US5404836A (en) * 1989-02-03 1995-04-11 Milewski; John V. Method and apparatus for continuous controlled production of single crystal whiskers
FR2649421A1 (fr) * 1989-07-06 1991-01-11 Atochem Fibres monocristallines de carbure de silicium et leur procede de fabrication
US5176893A (en) * 1989-10-02 1993-01-05 Phillips Petroleum Company Silicon nitride products and method for their production
US5165916A (en) * 1989-10-02 1992-11-24 Phillips Petroleum Company Method for producing carbide products
US5108729A (en) * 1989-10-02 1992-04-28 Phillips Petroleum Company Production of carbide products
US5067999A (en) * 1990-08-10 1991-11-26 General Atomics Method for providing a silicon carbide matrix in carbon-fiber reinforced composites
US5221526A (en) * 1991-05-24 1993-06-22 Advanced Industrial Materials Production of silicon carbide whiskers using a seeding component to determine shape and size of whiskers
FR2716208B1 (fr) * 1994-02-17 1996-06-07 Aerospatiale Procédé de production de trichites ou wiskers fibreux, longs de carbure de silicium.
JP3042297B2 (ja) * 1994-04-12 2000-05-15 王子製紙株式会社 炭化珪素材料の製造方法
EP1054784B1 (en) * 1998-02-17 2002-10-02 Cosma International Inc. Vehicle frame member having a shock absorbing mounting portion and a method for making the same
JP3650727B2 (ja) * 2000-08-10 2005-05-25 Hoya株式会社 炭化珪素製造方法
US8470279B2 (en) * 2004-04-13 2013-06-25 Si Options, Llc High purity silicon-containing products and method of manufacture
US7638108B2 (en) * 2004-04-13 2009-12-29 Si Options, Llc High purity silicon-containing products
US7588745B2 (en) * 2004-04-13 2009-09-15 Si Options, Llc Silicon-containing products
JP4618308B2 (ja) * 2007-04-04 2011-01-26 ソニー株式会社 多孔質炭素材料及びその製造方法、並びに、吸着剤、マスク、吸着シート及び担持体
CN101639319B (zh) * 2009-05-04 2011-04-13 李观德 制炭炭窑的构建方法及矩阵隧道式炭窑
GB2578517B (en) * 2018-05-22 2020-11-04 Univ Northeastern Method and equipment for extracting carbon materials from plastics
CN108394889B (zh) * 2018-05-22 2022-05-27 东北大学 一种从塑料中提取碳材料的方法及设备
CN111517793A (zh) * 2020-04-30 2020-08-11 武汉科技大学 一种石墨化炭化稻壳泡沫光热材料及其制备方法
CN112626538A (zh) * 2020-11-24 2021-04-09 东南大学 一种基于生物质氮掺杂的过渡金属复合材料及其制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4932719A (ja) * 1972-07-27 1974-03-26
JPS5016760A (ja) * 1973-06-14 1975-02-21

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE758530A (fr) * 1969-11-05 1971-05-05 Kempten Elektroschmelz Gmbh Procede de preparation de carbure de silicium a l'etat de fibres
US3754076A (en) * 1970-10-30 1973-08-21 Univ Utah Production of silicon carbide from rice hulls
US3855395A (en) * 1972-09-06 1974-12-17 Univ Utah Production of silicon nitride from rice hulls
US4049464A (en) * 1974-04-04 1977-09-20 Refratechnik Gmbh Method of producing low-carbon, white husk ash
JPS5528779A (en) * 1978-08-23 1980-02-29 Yuasa Battery Co Ltd Separating device
US4214920A (en) * 1979-03-23 1980-07-29 Exxon Research & Engineering Co. Method for producing solar cell-grade silicon from rice hulls
US4293099A (en) * 1979-07-02 1981-10-06 Silag, Inc. Recovery of silicon carbide whiskers from coked, converted rice hulls by froth flotation
US4256571A (en) * 1979-10-09 1981-03-17 Silag, Inc. Recovery of silicon carbide whiskers from coked, converted rice hulls by selective flocculation-liquid extraction
US4284612A (en) * 1980-01-28 1981-08-18 Great Lakes Carbon Corporation Preparation of SiC whiskers
US4283375A (en) * 1980-01-28 1981-08-11 Great Lakes Carbon Corporation Production of SiC whiskers
US4248844A (en) * 1980-01-28 1981-02-03 Great Lakes Carbon Corporation Production of SiC from rice hulls and silica
JPS58143864A (ja) * 1982-02-22 1983-08-26 Nissan Motor Co Ltd 粘性流体塗布装置の塗布経路監視装置
JPS6052120B2 (ja) * 1982-06-04 1985-11-18 タテホ化学工業株式会社 炭化珪素の製造方法
JPS5935009A (ja) * 1982-08-19 1984-02-25 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 窒化珪素の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4932719A (ja) * 1972-07-27 1974-03-26
JPS5016760A (ja) * 1973-06-14 1975-02-21

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5039501A (en) * 1990-04-12 1991-08-13 General Motors Corporation Method for growing silicon carbide whiskers
JP2014122131A (ja) * 2012-12-21 2014-07-03 Taiheiyo Cement Corp 高純度炭化珪素粉末の製造方法
JP6389349B1 (ja) * 2018-05-21 2018-09-12 株式会社M.I.T 多室型自燃式シリカ製造装置

Also Published As

Publication number Publication date
US4504453A (en) 1985-03-12
JPS6052120B2 (ja) 1985-11-18
US4591492A (en) 1986-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS58213698A (ja) 炭化珪素の製造方法
US4283375A (en) Production of SiC whiskers
US4525335A (en) Method of manufacturing crystalline silicon nitride and method of separation thereof
US4619905A (en) Process for the synthesis of silicon nitride
US4346068A (en) Process for preparing high-purity α-type silicon nitride
Soltys et al. Synthesis and Properties of Silicon Carbide
JP2721678B2 (ja) β−炭化珪素成形体及びその製造法
JPS5820799A (ja) 炭化珪素ウイスカ−の製造法
EP0371770B1 (en) Process for producing silicon carbide platelets and the platelets so-produced
GB2168333A (en) Production of Si3N4 and SiC whiskers
JPS59128300A (ja) 窒化珪素ウイスカ−を回収後、炭化珪素ウイスカ−を製造する方法
JPH03187998A (ja) 窒化アルミニウムウィスカーの製造方法
JPH02180710A (ja) 微粉状αまたはβ炭化ケイ素の製造方法
JPS6037079B2 (ja) 原料内の空隙に成長したウイスカ−の分離法
JPH05221799A (ja) SiCウイスカーの改質処理方法
EP0179670A2 (en) Production of silicon carbide cobweb whiskers
JPS6037078B2 (ja) 窒化珪素ウイスカ−の製造方法
JP2649813B2 (ja) もみ殻を原料とする窒化ケイ素ウィスカーの製造方法
JPS6362450B2 (ja)
JPH02111700A (ja) 炭化珪素ウィスカーの製造方法
CN114751730A (zh) 一种多孔莫来石陶瓷及其制备方法
JP2004107159A (ja) セラミック複合材料、及びその製造方法
JPH07138100A (ja) セラミックス複合強化用SiCウイスカー
JPS6259599A (ja) 窒化ケイ素と酸窒化ケイ素よりなる繊維状集合体の製造法
CA2004280A1 (en) Process for producing silicon carbide platelets and the platelets so-produced