JPS5821222A - 双眼実体顕微鏡 - Google Patents
双眼実体顕微鏡Info
- Publication number
- JPS5821222A JPS5821222A JP56119262A JP11926281A JPS5821222A JP S5821222 A JPS5821222 A JP S5821222A JP 56119262 A JP56119262 A JP 56119262A JP 11926281 A JP11926281 A JP 11926281A JP S5821222 A JPS5821222 A JP S5821222A
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- JP
- Japan
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- light
- mask
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- photodetector
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/18—Arrangements with more than one light path, e.g. for comparing two specimens
- G02B21/20—Binocular arrangements
- G02B21/22—Stereoscopic arrangements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/24—Base structure
- G02B21/241—Devices for focusing
- G02B21/245—Devices for focusing using auxiliary sources, detectors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
- Focusing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ピント検出機構を有する双眼実体顕微鏡に関
する。
する。
一般に双眼実体顕微鏡は、双眼のため立体視ができるこ
と被写界深度が深いこと等により精密作業または微細部
位の外科手術等に使用されているが、これらの作業対象
となる被観察物体は概して凹凸が多く、特に手術の場合
には被観察物体が生体であるために呼吸、脈動等により
ピントずれが生じ易いので、次゛の作業に移るときや作
業の途中でピント合わせを再度行なわなければならなか
った。従って作業等が中断せしめられるために、非常に
不便であった。さらに人の眼には調節作用があり且つ双
眼実体顕微鏡の被写゛界深度が深いことから、ピント合
わせの精度が悪く写真撮影を行なう場合には特に不便で
あった。
と被写界深度が深いこと等により精密作業または微細部
位の外科手術等に使用されているが、これらの作業対象
となる被観察物体は概して凹凸が多く、特に手術の場合
には被観察物体が生体であるために呼吸、脈動等により
ピントずれが生じ易いので、次゛の作業に移るときや作
業の途中でピント合わせを再度行なわなければならなか
った。従って作業等が中断せしめられるために、非常に
不便であった。さらに人の眼には調節作用があり且つ双
眼実体顕微鏡の被写゛界深度が深いことから、ピント合
わせの精度が悪く写真撮影を行なう場合には特に不便で
あった。
このため本発明は、簡単な構成によりピントを検出し得
るよう如した双眼実体顕微鏡を提供せんとするものであ
り、以下に第１図乃至第３図に示した一実施例につきこ
れを説明すれば、第１図は本発明による双眼実体顕微鏡
の光学系を図式的に示しており、１．ＩＩは接眼レンズ
、２．２’は正立プリズム、３．３’は対物レンズ、４
は被観察物体で、対物レン、ｅ３．３’により正立プリ
ズム２，２′を介して４１．４１の如く結像される。以
上が一般の双眼実体顕微鏡の光学系である。５は光源、
６は指標、７は指標儒♂−ムスプリツター、８は受光素
子側のビームスシリツタ−１９は受光素子用マスク、１
０は受光素子で、これらと対物レンズ３゜３１及び被観
察物体４によりピント検出機構を構成している。指標６
及び受光素子用マスク９は各々対物レンｉ３及び３Ｉに
対して被観察物体４と共役な位置に配設されている。さ
らに指標６は第２図に示されたような金属にスリット状
の孔を設けたもの又は第３図に示されたような光を十分
に透過せしめ得るガラス板にクロム々との光を透過させ
ない物質で遮光部を設けたものであり、受光素子用マス
タ９韓指標６とはネガ・ポジの関係になるよう構成され
ている。また受光素子ｌＯは受光素子用マスク９の透明
部がより十分大きい受光面を有している。
るよう如した双眼実体顕微鏡を提供せんとするものであ
り、以下に第１図乃至第３図に示した一実施例につきこ
れを説明すれば、第１図は本発明による双眼実体顕微鏡
の光学系を図式的に示しており、１．ＩＩは接眼レンズ
、２．２’は正立プリズム、３．３’は対物レンズ、４
は被観察物体で、対物レン、ｅ３．３’により正立プリ
ズム２，２′を介して４１．４１の如く結像される。以
上が一般の双眼実体顕微鏡の光学系である。５は光源、
６は指標、７は指標儒♂−ムスプリツター、８は受光素
子側のビームスシリツタ−１９は受光素子用マスク、１
０は受光素子で、これらと対物レンズ３゜３１及び被観
察物体４によりピント検出機構を構成している。指標６
及び受光素子用マスク９は各々対物レンｉ３及び３Ｉに
対して被観察物体４と共役な位置に配設されている。さ
らに指標６は第２図に示されたような金属にスリット状
の孔を設けたもの又は第３図に示されたような光を十分
に透過せしめ得るガラス板にクロム々との光を透過させ
ない物質で遮光部を設けたものであり、受光素子用マス
タ９韓指標６とはネガ・ポジの関係になるよう構成され
ている。また受光素子ｌＯは受光素子用マスク９の透明
部がより十分大きい受光面を有している。
以上のように構成された本発明による双眼実体顕黴傭社
次の如く作用する。ピントが被観察物体に合っている場
合には、指標６は被観察物体４上に結像され、さら（受
光素子用マスク９上に結像される。このとき、指標６と
受光素子用マスク９とはその形状がネガ・ポジの関係に
あるから、指標６の透過部分の像がちょうど受光素子用
マスク９の遮光部と完全に重なり合い、そのため光源５
からの光は受光素子用マスク９の遮光部に遮断され受光
素子１０へは全く入射しない、ところが、ピントがずれ
ると、指標６．受光素子用マスク９と被観察物体４との
対物レンズ３，３′に関する共役関係が成立しなくなり
、指標６が受光素子用マスク９上に結像されない即ち受
光素子用マスク９上では指標６の像がヂケてしまうので
、光源５からの光は一部・が受光素子用マスク９の透明
部を通過して受光素子１０に入射する。従って受光素子
１０の出力）め最小を検出するようにすればこのときが
合焦となり、電気的に正確にピント合わせを行なうこと
ができる。
次の如く作用する。ピントが被観察物体に合っている場
合には、指標６は被観察物体４上に結像され、さら（受
光素子用マスク９上に結像される。このとき、指標６と
受光素子用マスク９とはその形状がネガ・ポジの関係に
あるから、指標６の透過部分の像がちょうど受光素子用
マスク９の遮光部と完全に重なり合い、そのため光源５
からの光は受光素子用マスク９の遮光部に遮断され受光
素子１０へは全く入射しない、ところが、ピントがずれ
ると、指標６．受光素子用マスク９と被観察物体４との
対物レンズ３，３′に関する共役関係が成立しなくなり
、指標６が受光素子用マスク９上に結像されない即ち受
光素子用マスク９上では指標６の像がヂケてしまうので
、光源５からの光は一部・が受光素子用マスク９の透明
部を通過して受光素子１０に入射する。従って受光素子
１０の出力）め最小を検出するようにすればこのときが
合焦となり、電気的に正確にピント合わせを行なうこと
ができる。
また、指標６および受光素子用マスク９としてネガ・ポ
ジの関係ではなく同一のものを使用した場合には、上記
の説明から明らかな如く、受光素子ｌＯの出力の最大を
検出するようにすればこのときが合焦となって、この場
合も電気的に正確にピント合わせを行なうことができる
。指標６．受光素子用マスク９の形状は、第２図及び第
３図のものに限らず例えば第４図（Ａ）ｔ（Ｂ）に示さ
れているような形状でもよいが、その透明部は受光素子
の受光面より十分小さくなければならない。
ジの関係ではなく同一のものを使用した場合には、上記
の説明から明らかな如く、受光素子ｌＯの出力の最大を
検出するようにすればこのときが合焦となって、この場
合も電気的に正確にピント合わせを行なうことができる
。指標６．受光素子用マスク９の形状は、第２図及び第
３図のものに限らず例えば第４図（Ａ）ｔ（Ｂ）に示さ
れているような形状でもよいが、その透明部は受光素子
の受光面より十分小さくなければならない。
第１図の実施例では、ビームスシリツタ−７゜８に入射
光の一部を反射する半透膜をはさんで構成したプリズム
を用いているが、半透鏡を用いることも可能である。。
光の一部を反射する半透膜をはさんで構成したプリズム
を用いているが、半透鏡を用いることも可能である。。
観察時に被観察物体４上に結像された指標６の像が邪魔
になることもあるので、光源６として赤外光等の不可視
光を発する光源を使用゛したり、光源６の指標６側に不
可視光のみを透過せしめるフィルターを挿入したりして
、−力受光素子１０として上記不可視光に対して高感度
のものを用いれば、観察の邪魔にならず非常に便利であ
る。また゛上記フィルターを挿入する代りに指標７の透
明部が不可視光のみを透過せしめるフィルターにより構
成されていてもよい。観察光学系にビームスプリッタ−
または半透鏡が挿入されると観察光学系が暗くなってし
まうので、ビームスプリッタ−または半透鏡に特定の波
長のみを反射する所謂グイクロイツクミ・ラーを前述の
不可視光の場合に使用すれば、観察光学系の光量低下が
なくなるから好ましい。
になることもあるので、光源６として赤外光等の不可視
光を発する光源を使用゛したり、光源６の指標６側に不
可視光のみを透過せしめるフィルターを挿入したりして
、−力受光素子１０として上記不可視光に対して高感度
のものを用いれば、観察の邪魔にならず非常に便利であ
る。また゛上記フィルターを挿入する代りに指標７の透
明部が不可視光のみを透過せしめるフィルターにより構
成されていてもよい。観察光学系にビームスプリッタ−
または半透鏡が挿入されると観察光学系が暗くなってし
まうので、ビームスプリッタ−または半透鏡に特定の波
長のみを反射する所謂グイクロイツクミ・ラーを前述の
不可視光の場合に使用すれば、観察光学系の光量低下が
なくなるから好ましい。
光源として可視光を発する光源を使用する場合には、観
察光学系にフレアーが発生することが考えられるが、ビ
ームスシリツタ−７，８の各接合面に高屈折率の薄膜コ
ートを施して偏光子として構成することによって、光源
５からの光の第１図にて紙面に、垂直な成分のみが反射
され、平行な成分が透過するようにしてフレアーが発生
しないようにすることも可能である。またこの偏光子の
代りに、第５図に示したように三ケ所に偏光板１１゜１
２．１３を挿入することによりフレアーの発生を抑える
こともできる。この場合、偏光板１３が８偏光を透過せ
しめるものであるときは偏光板１１．１２はＳ偏光を遮
断してＰ偏光を透過せしめるもの、偏光板１３がＰ偏光
を透過せしめるものであると６は偏光板１１．１２はＰ
偏光を遮断してＳ偏光を透過せしめるものを使用すれば
よい。
察光学系にフレアーが発生することが考えられるが、ビ
ームスシリツタ−７，８の各接合面に高屈折率の薄膜コ
ートを施して偏光子として構成することによって、光源
５からの光の第１図にて紙面に、垂直な成分のみが反射
され、平行な成分が透過するようにしてフレアーが発生
しないようにすることも可能である。またこの偏光子の
代りに、第５図に示したように三ケ所に偏光板１１゜１
２．１３を挿入することによりフレアーの発生を抑える
こともできる。この場合、偏光板１３が８偏光を透過せ
しめるものであるときは偏光板１１．１２はＳ偏光を遮
断してＰ偏光を透過せしめるもの、偏光板１３がＰ偏光
を透過せしめるものであると６は偏光板１１．１２はＰ
偏光を遮断してＳ偏光を透過せしめるものを使用すれば
よい。
受光素子用マスク９．受光素子１０の代りに、第６図に
示すような指標６のスリット幅と同じ大きさａを有する
複数の受光素子１４ａを一直線上に並べた受光部材１４
を使用すれば、合焦時には光軸上にある中央の一つの受
光素子のみに光が入射し他の受光素子には光が入射しな
いので、前記一つの受光素子のみが電気信号を出力する
。（第６図（Ａ）参照）。他方、ピントがずれた場合に
は、受光素子上における指標６の像６′がゼケると共に
偉位置が移動しその移動方向は前ピンか後ピンかによっ
て決まるので、各受光素子の出力からピントがずれてい
ること及びピントのずれの方向も判定できる（第６図（
Ｂ）参照゛）。従つソ、この場合には各受光素子の出力
分布に基づいて自動合焦装置に利用することもできる。
示すような指標６のスリット幅と同じ大きさａを有する
複数の受光素子１４ａを一直線上に並べた受光部材１４
を使用すれば、合焦時には光軸上にある中央の一つの受
光素子のみに光が入射し他の受光素子には光が入射しな
いので、前記一つの受光素子のみが電気信号を出力する
。（第６図（Ａ）参照）。他方、ピントがずれた場合に
は、受光素子上における指標６の像６′がゼケると共に
偉位置が移動しその移動方向は前ピンか後ピンかによっ
て決まるので、各受光素子の出力からピントがずれてい
ること及びピントのずれの方向も判定できる（第６図（
Ｂ）参照゛）。従つソ、この場合には各受光素子の出力
分布に基づいて自動合焦装置に利用することもできる。
上述の如く本発明によれば、双眼実体顕微鏡の一対の観
察光学系を利用して簡単な光学素子を付加するだけでピ
ント検出を可能にし、而も不可視光または偏光によりピ
ント検出を行なう場合には、ピント検出用の光が観察の
邪魔にならず、また観 ・整光学系におけるフレアーの
発生が抑えられるので、非常に効果的である。さらに、
受光部材１４を用いて自動合焦装置を構成すれば、双眼
実体顕微鏡により両手で作業しているときにピントずれ
が生じても自動的にピント合わせが行なわれるので、便
利である。
察光学系を利用して簡単な光学素子を付加するだけでピ
ント検出を可能にし、而も不可視光または偏光によりピ
ント検出を行なう場合には、ピント検出用の光が観察の
邪魔にならず、また観 ・整光学系におけるフレアーの
発生が抑えられるので、非常に効果的である。さらに、
受光部材１４を用いて自動合焦装置を構成すれば、双眼
実体顕微鏡により両手で作業しているときにピントずれ
が生じても自動的にピント合わせが行なわれるので、便
利である。
第１図は本発明によるピント検出機構を有する双眼実体
顕微鏡の一実施例を図式的に示す図、第２図及び第３図
は指標及び受光素子用マスクの形状を示す図、第４ノ図
は指標及び受光素子用マスクの他の形状を示す図、第５
図は第１図による双眼実体顕微鏡の変形例を示す図゛、
第６図はピント検出機構に用いる受光素子の他の形態を
示す図である。 １．１′・・・接眼レンズ、２．２’・・・正立プリズ
ム、−３，３’・・・対物レンズ、４・・・被観察物体
、５・・・光源、６・・・指標、７，８・・・ビームス
シリツタ−１９・・・受光素子用マスク、１０，１４８
・・・受光素子、１１゜１２．１３・・・偏光板、１４
・・・受光部材。 第１、図 第２図、 第３図 第４図 （Ａ） （Ｂ）第６図 第５図
顕微鏡の一実施例を図式的に示す図、第２図及び第３図
は指標及び受光素子用マスクの形状を示す図、第４ノ図
は指標及び受光素子用マスクの他の形状を示す図、第５
図は第１図による双眼実体顕微鏡の変形例を示す図゛、
第６図はピント検出機構に用いる受光素子の他の形態を
示す図である。 １．１′・・・接眼レンズ、２．２’・・・正立プリズ
ム、−３，３’・・・対物レンズ、４・・・被観察物体
、５・・・光源、６・・・指標、７，８・・・ビームス
シリツタ−１９・・・受光素子用マスク、１０，１４８
・・・受光素子、１１゜１２．１３・・・偏光板、１４
・・・受光部材。 第１、図 第２図、 第３図 第４図 （Ａ） （Ｂ）第６図 第５図
Claims (1)
- 左右一対の観察光学系を有する双眼実体顕微鏡において
、各観察光学系の対物レンズと接眼レンズとの間に挿入
された半透鏡等の光を分割せしめる第−及び第二の光学
素子と、該第−の光学素子を介して合焦°時には対物レ
ンズに関して被観察物体と共役な位置に配置せしめられ
た指標と、該第二の光学素子を介して合焦時には対物レ
ンズに関して被観察物体と共役な位置に配置せしめられ
た光電素子または光電素子上のマスクとを含んでいて、
肢指標を被観察物体での反射により該光電素子またはマ
スク上に結像させることによりピントを検出し得るよう
にしたことを特徴とする、双眼実体顕微鏡。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56119262A JPS5821222A (ja) | 1981-07-31 | 1981-07-31 | 双眼実体顕微鏡 |
| US06/392,350 US4516840A (en) | 1981-07-31 | 1982-06-25 | In-focus detector for a binocular stereomicroscope |
| DE3228609A DE3228609C2 (de) | 1981-07-31 | 1982-07-30 | Einrichtung zum Feststellen der Scharfeinstellung eines zweiäugigen Stereomikroskops |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56119262A JPS5821222A (ja) | 1981-07-31 | 1981-07-31 | 双眼実体顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5821222A true JPS5821222A (ja) | 1983-02-08 |
Family
ID=14756975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56119262A Pending JPS5821222A (ja) | 1981-07-31 | 1981-07-31 | 双眼実体顕微鏡 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4516840A (ja) |
| JP (1) | JPS5821222A (ja) |
| DE (1) | DE3228609C2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5572361A (en) * | 1991-10-17 | 1996-11-05 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Binocular system with automatic diopter power adjustment |
| KR100481154B1 (ko) * | 2002-07-25 | 2005-04-07 | 부원광학주식회사 | 편광자를 구비한 2광로 관찰장치 |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3339970A1 (de) * | 1983-11-04 | 1985-05-15 | Karl Süss KG, Präzisionsgeräte für Wissenschaft und Industrie GmbH & Co, 8046 Garching | Einrichtung zum automatischen fokussieren von optischen geraeten |
| JPS6214111A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-22 | Canon Inc | 実体顕微鏡 |
| DD245060A1 (de) * | 1985-12-23 | 1987-04-22 | Zeiss Jena Veb Carl | Aktive opto-elektronische anordnung zur automatischen fokussierung |
| DD253688A1 (de) * | 1986-11-06 | 1988-01-27 | Zeiss Jena Veb Carl | Optische anordnung und verfahren zur lichtelektrischen entfernungseinstellung |
| DE4131737C2 (de) * | 1991-09-24 | 1997-05-07 | Zeiss Carl Fa | Autofokus-Anordnung für ein Stereomikroskop |
| US5266791A (en) * | 1991-10-17 | 1993-11-30 | Fuji Photo Optical Co., Ltd. | Autofocus binocular stereomicroscope |
| DE10101624A1 (de) * | 2001-01-16 | 2002-07-18 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Anordnung zur Scharfeinstellung für Mikroskope |
| US6643070B2 (en) * | 2001-02-23 | 2003-11-04 | Leica Microsystems (Schweiz) Ag | Viewing tube for an optical device |
| DE10125971A1 (de) * | 2001-05-29 | 2002-12-05 | Leica Mikroskopie Systeme Ag H | Verfahren zur Entfernungsmessung ausgedehnter Objekte in Verbindung mit einer optischen Betrachtungseinrichtung und Mikroskop zur Durchführung desselben |
| US20040090667A1 (en) * | 2002-03-22 | 2004-05-13 | Carl-Zeiss-Stiftung Trading As Carl Zeiss | Microscopy system |
| DE10353961B4 (de) * | 2003-11-19 | 2005-09-22 | Carl Zeiss | Mikroskopiesystem und Verfahren zum Steuern eines Mikroskopiesystems |
| US20080041495A1 (en) * | 2006-08-18 | 2008-02-21 | George Vondriska | Tenon cutting router bit |
| DE102015116452A1 (de) | 2015-09-29 | 2017-03-30 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Mikroskop |
| US10151962B2 (en) | 2016-09-29 | 2018-12-11 | Mitutoyo Corporation | Variable focal length lens system with focus monitoring and control |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1083065B (de) * | 1955-01-14 | 1960-06-09 | Zeiss Carl Fa | Einrichtung zur wahlweisen Erzielung einer Durch- und Auflichtbelichtung eines Objektes |
| US3405990A (en) * | 1965-06-25 | 1968-10-15 | Bausch & Lomb | Coaxial illuminator for stereomicroscope |
| DE2102922C3 (de) * | 1971-01-22 | 1978-08-24 | Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar | Anordnung zum selbsttätigen Fokussieren auf in optischen Geräten zu betrachtende Objekte |
| DE2423136C3 (de) * | 1974-05-13 | 1982-07-29 | Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim | Vorrichtung zur automatischen Fokussierung von Stereomikroskopen |
| JPS589923B2 (ja) * | 1976-07-20 | 1983-02-23 | オリンパス光学工業株式会社 | 内視鏡における自動焦点装置 |
| JPS5466854A (en) * | 1977-11-08 | 1979-05-29 | Olympus Optical Co Ltd | Polarized lighting system of binocular stereo microscope |
| DE2933077A1 (de) * | 1978-09-04 | 1980-03-13 | Hauser Raimund | Fokussiereinrichtung |
-
1981
- 1981-07-31 JP JP56119262A patent/JPS5821222A/ja active Pending
-
1982
- 1982-06-25 US US06/392,350 patent/US4516840A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-07-30 DE DE3228609A patent/DE3228609C2/de not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3228609C2 (de) | 1985-04-04 |
| US4516840A (en) | 1985-05-14 |
| DE3228609A1 (de) | 1983-02-17 |
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