JPS58211317A - 磁気ヘツド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘツド及びその製造方法Info
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- JPS58211317A JPS58211317A JP58084287A JP8428783A JPS58211317A JP S58211317 A JPS58211317 A JP S58211317A JP 58084287 A JP58084287 A JP 58084287A JP 8428783 A JP8428783 A JP 8428783A JP S58211317 A JPS58211317 A JP S58211317A
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- sputtering
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/235—Selection of material for gap filler
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
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- Y10T29/49055—Fabricating head structure or component thereof with bond/laminating preformed parts, at least two magnetic
- Y10T29/49057—Using glass bonding material
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
成する区域における非磁性接着材料層とを有し、このコ
ア部品と非磁性材料層との間懇初裾に拡散障壁を設けた
磁気ヘッドに関Ｃるものである。ざらにそのような磁気
ヘッドを製造する方法に関するものである。
ア部品と非磁性材料層との間懇初裾に拡散障壁を設けた
磁気ヘッドに関Ｃるものである。ざらにそのような磁気
ヘッドを製造する方法に関するものである。
磁気ヘッドは、磁気情報を記録し、再生及び／又は消去
するのに役立つ。磁気ヘッドは、例えば、オーディオ情
報又はビデオ情報全記録及び／又は再生ずるためのテー
プレコーダーに用いられる。
するのに役立つ。磁気ヘッドは、例えば、オーディオ情
報又はビデオ情報全記録及び／又は再生ずるためのテー
プレコーダーに用いられる。
特に磁気ヘッドがビデオ情報を記録及び／又は再生ずる
ためのテープレコーダー（いわゆるビデオレコーダー）
に用いられる場合には、その磁気ヘッドを（単結晶）フ
ェライトから製造するのが曹血である。
ためのテープレコーダー（いわゆるビデオレコーダー）
に用いられる場合には、その磁気ヘッドを（単結晶）フ
ェライトから製造するのが曹血である。
ビデオレコーダー用磁気ヘッドの隙間は、低融点ガラス
のスパッターしたフィルムによって２個の（ Ｊｌ’＋
結晶）フェライトの部品を互いに接合すること（こよっ
て形成される。約７００°Ｃにおける接着中にガラスが
フェライトを腐食しないようにするため、ガラスを透過
させず拡散障壁すなわちディフュージョンバリアとしは
しは称せられる層でフェライトを先ず被諏「る。英国特
ｄ′ｒ第１，３１７，６３４号明細書は、拡￥Ｉｉ障明
用材料として、非磁性金属、金属酸化物、硼化物、窒化
物、酸什珪素、及び室温で非磁性すなわち磁化しないフ
ェライトを（ノー案するけれども、スパッターしたＳ１
０□層がこれまでは実際に拡散障壁として用いられてき
た。ガラスがその接着工程の加熱相においてだんだん粘
稠でなくなる。ガラスが十分に高いτ黒度で加熱される
と、接着剤として働く。しかしながら、リ，えられたあ
る一定温度を越えるとＳｉＯ２層はこのガラスに溶解す
る。この結果、このガラスは一層粘四になるため接璃削
としてのガラスの価値が減少する。ヘッドの製造に際し
、良好な接着を得るには７００＋５°Ｃまでに加熱する
のを急速に（約１０分間に）行なわなければならない。
のスパッターしたフィルムによって２個の（ Ｊｌ’＋
結晶）フェライトの部品を互いに接合すること（こよっ
て形成される。約７００°Ｃにおける接着中にガラスが
フェライトを腐食しないようにするため、ガラスを透過
させず拡散障壁すなわちディフュージョンバリアとしは
しは称せられる層でフェライトを先ず被諏「る。英国特
ｄ′ｒ第１，３１７，６３４号明細書は、拡￥Ｉｉ障明
用材料として、非磁性金属、金属酸化物、硼化物、窒化
物、酸什珪素、及び室温で非磁性すなわち磁化しないフ
ェライトを（ノー案するけれども、スパッターしたＳ１
０□層がこれまでは実際に拡散障壁として用いられてき
た。ガラスがその接着工程の加熱相においてだんだん粘
稠でなくなる。ガラスが十分に高いτ黒度で加熱される
と、接着剤として働く。しかしながら、リ，えられたあ
る一定温度を越えるとＳｉＯ２層はこのガラスに溶解す
る。この結果、このガラスは一層粘四になるため接璃削
としてのガラスの価値が減少する。ヘッドの製造に際し
、良好な接着を得るには７００＋５°Ｃまでに加熱する
のを急速に（約１０分間に）行なわなければならない。
１５°Ｃのこの狭い公差を維持するのが内盤なことが見
出された。
出された。
それ故この探求は、より自由な温度調節を許（拡散障壁
を求めるものである。１． ０．技術からある一定の環
境でガラスを透過しないことが知られている特に窒化珪
素が、好適であろうと期待された。窒化珪素障壁（すな
わちバリア）とガラスで接着したフェライトヘッドは、
ドイツ特許公開第２、３４１，６４９号公報に提案され
ている。
を求めるものである。１． ０．技術からある一定の環
境でガラスを透過しないことが知られている特に窒化珪
素が、好適であろうと期待された。窒化珪素障壁（すな
わちバリア）とガラスで接着したフェライトヘッドは、
ドイツ特許公開第２、３４１，６４９号公報に提案され
ている。
しかしながら、基板としてフェライトをイｆするＳｉ８
Ｎ４の薄層が、接着工程の温度サイクルが終った後、損
傷されることが見出された。ガラスが、形成されたＳｉ
．Ｎ，の薄層の割れ目を通して侵入し、８１ ａＮ ４
の下方を流れてフェライトを腐食する。
Ｎ４の薄層が、接着工程の温度サイクルが終った後、損
傷されることが見出された。ガラスが、形成されたＳｉ
．Ｎ，の薄層の割れ目を通して侵入し、８１ ａＮ ４
の下方を流れてフェライトを腐食する。
８１８Ｎ，層に対するこの損傷は多分、Ｓｉ８Ｎ，−フ
エライト界面つまり共通領域における高い弾性応力の結
果である。この応力は大部分、８土，Ｎ，の比較的低い
弾性に起因する。
エライト界面つまり共通領域における高い弾性応力の結
果である。この応力は大部分、８土，Ｎ，の比較的低い
弾性に起因する。
本発明の目的は、接着工程中の比較的自由な温度調節を
、接着工程中に生ずる温度不感性（つまり温度に影響を
受けないこと）と関連させた間１ｆｌＮを形成する区域
における拡散障壁を有する冒頭の段落に記載した種類・
／）磁気ヘッドを提供することである。
、接着工程中に生ずる温度不感性（つまり温度に影響を
受けないこと）と関連させた間１ｆｌＮを形成する区域
における拡散障壁を有する冒頭の段落に記載した種類・
／）磁気ヘッドを提供することである。
この目的のため本発明による磁気ヘッドは、各拡１枚障
壁を、非磁性接着層に防接する窒化珪素層と、さら（こ
酸化珪素層とから構成することを特徴とする。
壁を、非磁性接着層に防接する窒化珪素層と、さら（こ
酸化珪素層とから構成することを特徴とする。
間隙を形成する区域において一系統のＳｉｎ２−Ｓｉ３
Ｎ，−ガラス−Ｓｉ８Ｎ４− Ｓｉ０２層を有するフェ
ライトヘッドにおいては、７００°Ｃまで加熱し室温ま
で冷却した後もこの系統の層が全く損傷を受けないま＼
であり、その結果一方ではこのガラスがフェライトと反
１ｉｉＬｌする能力がなく能力ではこのＳｉｎ２がこの
ガラスに溶解する能力がないことが見出された。従って
、前記系統の層は課せられた要求を満足させる。
Ｎ，−ガラス−Ｓｉ８Ｎ４− Ｓｉ０２層を有するフェ
ライトヘッドにおいては、７００°Ｃまで加熱し室温ま
で冷却した後もこの系統の層が全く損傷を受けないま＼
であり、その結果一方ではこのガラスがフェライトと反
１ｉｉＬｌする能力がなく能力ではこのＳｉｎ２がこの
ガラスに溶解する能力がないことが見出された。従って
、前記系統の層は課せられた要求を満足させる。
酸化珪素−窒化珪素二重層の拡ｔＩ！！．障壁として良
好に作ノ１１するため、ｊ川原を形成する区域において
、コアｊｆｌｓ品を接着する際の温度制御が臨界的でな
い一方、それにも拘らず非磁性の間隙区域の正確に画成
された部分つまり割り１１１１が得られる。ずべてこれ
は、本発明によって著しく改良されたガラスで接着した
フェライトヘッドの製造の効率をもたらす。
好に作ノ１１するため、ｊ川原を形成する区域において
、コアｊｆｌｓ品を接着する際の温度制御が臨界的でな
い一方、それにも拘らず非磁性の間隙区域の正確に画成
された部分つまり割り１１１１が得られる。ずべてこれ
は、本発明によって著しく改良されたガラスで接着した
フェライトヘッドの製造の効率をもたらす。
本発明は父、上述の構造を有する磁気ヘッドを製造する
方法に関するものである。この方法は次の工程から成る
。ｒなわち、磁性材料の第１コア部品と第２コア部品と
を形成すること蓼前記のコア部品の各々の面が間隙を形
成する而として役立つように機械加工すること＋間隙を
形成するｌ￥ｒｉの各々に接して抗拡散材料１９すすな
わち拡散障壁材料層を設けること事抗拡散材料層の少な
くとも１個に接して接着材料層を設けること！設けられ
たこれらの接養材料層を間にして２１固のコア部品を互
いに対向させて配置すること；さらに熱処理によって永
久的接合を形成すること；から代るものである。しかし
て、本発明方法は、抗拡散材料層が、所望のｊ９さを有
する５１０２層を、第１ターゲツトから、スパッタリン
グすることによって、次いで所望０厚さを有するＳ”２
８Ｎ４層を７バ７′リグすることによって設けられるこ
とを特徴とする。
方法に関するものである。この方法は次の工程から成る
。ｒなわち、磁性材料の第１コア部品と第２コア部品と
を形成すること蓼前記のコア部品の各々の面が間隙を形
成する而として役立つように機械加工すること＋間隙を
形成するｌ￥ｒｉの各々に接して抗拡散材料１９すすな
わち拡散障壁材料層を設けること事抗拡散材料層の少な
くとも１個に接して接着材料層を設けること！設けられ
たこれらの接養材料層を間にして２１固のコア部品を互
いに対向させて配置すること；さらに熱処理によって永
久的接合を形成すること；から代るものである。しかし
て、本発明方法は、抗拡散材料層が、所望のｊ９さを有
する５１０２層を、第１ターゲツトから、スパッタリン
グすることによって、次いで所望０厚さを有するＳ”２
８Ｎ４層を７バ７′リグすることによって設けられるこ
とを特徴とする。
５ｉ８Ｎ、層は、５ｉ８Ｎ、ターゲットからスパンター
されるか、又はさらに容易には、窒素を含む気体雰囲気
で珪素ターゲットからスパンターされる。この後ｎの場
合には珪素ターゲットを５ｉ（Ｊ２層をスパッターする
のにも文相いることができる。この目的のためには、酸
素を含む雰囲気でスパッタリングを実１商ずべきである
。所望の厚さを有する５ｉｏ２層を設けた俵、雰囲気中
の酸素を窒素によって、スパッタリング中に徐々に置換
することによって、酸化珪素層を徐々に窒化珪素層に変
化させることかできる。
されるか、又はさらに容易には、窒素を含む気体雰囲気
で珪素ターゲットからスパンターされる。この後ｎの場
合には珪素ターゲットを５ｉ（Ｊ２層をスパッターする
のにも文相いることができる。この目的のためには、酸
素を含む雰囲気でスパッタリングを実１商ずべきである
。所望の厚さを有する５ｉｏ２層を設けた俵、雰囲気中
の酸素を窒素によって、スパッタリング中に徐々に置換
することによって、酸化珪素層を徐々に窒化珪素層に変
化させることかできる。
本発明の実施例をさらにｄ）を細に図面について説明す
る。
る。
第１図は昌発祠料ブロックを、第２図は機械加工したコ
ア部品を示し、第８ａ図及び第３ｂ図は拡散障壁を形成
するためのもので、２個のコア部品上に設けられた層を
示す。第４ａ図及び第４ｂ図は防府層を設けた後の＠３
ａ図及び第３ｂ図の〕γ部品を示す。第５図は圧力下で
互いに接着させた２個のコア部品の組立を示し、第６に
はテープ接触面を設けた後の第５図の組ｑを示し、第７
ａ図及び第７ｂ図は最終の磁気ヘッドを示す。
ア部品を示し、第８ａ図及び第３ｂ図は拡散障壁を形成
するためのもので、２個のコア部品上に設けられた層を
示す。第４ａ図及び第４ｂ図は防府層を設けた後の＠３
ａ図及び第３ｂ図の〕γ部品を示す。第５図は圧力下で
互いに接着させた２個のコア部品の組立を示し、第６に
はテープ接触面を設けた後の第５図の組ｑを示し、第７
ａ図及び第７ｂ図は最終の磁気ヘッドを示す。
多結晶（焼結された）又は、特に単結晶７丁ライト（第
１図）から作られた飼料ブロック１（）は、通′窮の技
術によって第２図に示す形状を与えられる。第２図に示
すように、２個の溝１４及Ｏζ１６がこのブロックＩＯ
に設けられ、表面１８，２０及び２２がギャンプ境界面
として役立つようにみがかれる。
１図）から作られた飼料ブロック１（）は、通′窮の技
術によって第２図に示す形状を与えられる。第２図に示
すように、２個の溝１４及Ｏζ１６がこのブロックＩＯ
に設けられ、表面１８，２０及び２２がギャンプ境界面
として役立つようにみがかれる。
既知の堆積法を用いること（こよって、第１層２４ カ
コ７ ｒ％晶１０及び１０′（第３ａ図、第３ｂ図）の
表面１８ 、２ （１、２２の上に、設けられる。これ
らの第１層２４（ま、フェライト、この場合には酸化珪
素と全く反応しないか、又は精々極く僅かしか反１ｉｊ
ｉ シない非（み性材料から性成される。これは、スパ
ッタリング法によって容易に設けることができ、それを
設けた「麦のその可成り高い弾性にもとづき、フェライ
トとの接触領域において比帽的低い弾性応力を示す。
コ７ ｒ％晶１０及び１０′（第３ａ図、第３ｂ図）の
表面１８ 、２ （１、２２の上に、設けられる。これ
らの第１層２４（ま、フェライト、この場合には酸化珪
素と全く反応しないか、又は精々極く僅かしか反１ｉｊ
ｉ シない非（み性材料から性成される。これは、スパ
ッタリング法によって容易に設けることができ、それを
設けた「麦のその可成り高い弾性にもとづき、フェライ
トとの接触領域において比帽的低い弾性応力を示す。
５ｉｎ２の薄層を設けるこれに代わる方法は、いわゆる
化学反応による蒸漕の方法である。この方法においては
、５ｉＥ−１２と０２との混合物が、約４・００ °Ｃ
の温度に保たれ、中にポールピースすなわち（勇片が存
在する炉に入れられる。
化学反応による蒸漕の方法である。この方法においては
、５ｉＥ−１２と０２との混合物が、約４・００ °Ｃ
の温度に保たれ、中にポールピースすなわち（勇片が存
在する炉に入れられる。
ＳｉＯ２の均質層がコア部品上に形成されることが見出
された。
された。
第２層２６を第１７韓２４・ヒに設ける。この第２層２
６は５ｉ３Ｎ、から成る。これらの層２４及び２６に対
しては１００人と１０ ＋１０人と９０間の厚さが考え
られ、２００人は特徴ある厚さである。
６は５ｉ３Ｎ、から成る。これらの層２４及び２６に対
しては１００人と１０ ＋１０人と９０間の厚さが考え
られ、２００人は特徴ある厚さである。
５ｉｏ２層の８１ ｓ Ｎ ４層への化学組成の保々の
変化を達成するためにｃ−ｔ、５１０２−ターゲットか
らの代わりに８１−ターゲット（酸素中の）から５ｉｏ
２をスパッタし、次いでスパッタリング中の雰Ｉ’ｌｌ
気を窒素によって徐々に置換え、その結果最後のスパッ
ターされた材料が５ｉ８Ｎ、になる。
変化を達成するためにｃ−ｔ、５１０２−ターゲットか
らの代わりに８１−ターゲット（酸素中の）から５ｉｏ
２をスパッタし、次いでスパッタリング中の雰Ｉ’ｌｌ
気を窒素によって徐々に置換え、その結果最後のスパッ
ターされた材料が５ｉ８Ｎ、になる。
第１７曽２４といっしょに拡散１・・、テ壁（第４ａ図
、第４ｂ図）を形成する第２層２６上に接着層（第３層
）２８が設けられる。これらの第３層（接渣層）２８は
ガラスから成り、このガラスは１２−２０１０のＡ１□
０８．４０＝４８ＪＪｔｂＪ：％のＢ２０．及びさらに
１棟又は２種以上の酸化物ＢａＯ、ＯａＯ又はＳｒＯの
分は前を含む。好適のガラスは、例えば、１５モル％の
Ａ１□０８．６０モル％のＢ２Ｏ３役び２５モル％のＢ
ａＯ又はＳｒＯを含む。スパッタリングによってこのガ
ラスに一定のままである組成を設けることができ第１層
第２層２４．２６と同じスノぐツタリング装置にガラス
ターゲットからこのガラスを設けることができる。
、第４ｂ図）を形成する第２層２６上に接着層（第３層
）２８が設けられる。これらの第３層（接渣層）２８は
ガラスから成り、このガラスは１２−２０１０のＡ１□
０８．４０＝４８ＪＪｔｂＪ：％のＢ２０．及びさらに
１棟又は２種以上の酸化物ＢａＯ、ＯａＯ又はＳｒＯの
分は前を含む。好適のガラスは、例えば、１５モル％の
Ａ１□０８．６０モル％のＢ２Ｏ３役び２５モル％のＢ
ａＯ又はＳｒＯを含む。スパッタリングによってこのガ
ラスに一定のままである組成を設けることができ第１層
第２層２４．２６と同じスノぐツタリング装置にガラス
ターゲットからこのガラスを設けることができる。
これらの層２４．２６及び２８のＩ’Ｈさの統計が、こ
の磁気ヘッドの最終的の間隙の長さを決定する。
の磁気ヘッドの最終的の間隙の長さを決定する。
次いでコア部品１０ 、１ （１’をこれらのガラス層
を用いて互いに位置づけしく第５図）、このガラス層を
軟化させるのに十分な高温（例えば、約６５０°Ｃ）に
おいて炉で加熱し、コア部品１０．１０’を２０〜７
Ｑ ｋｇ ／ ｃｍ２の圧力で互いに押圧する。冷却後
、コア部品１０ 、１０’は堅く互いに連結され１次い
でさらに処理加工されて噺家形状の磁気ヘッドが得られ
る。例えば、間Ｉ餡の高さｈを同時に調節し−て、テー
プ接触面２９を有する第６図に示す構造が形成されるよ
うにこの組立を処理別」二する。
を用いて互いに位置づけしく第５図）、このガラス層を
軟化させるのに十分な高温（例えば、約６５０°Ｃ）に
おいて炉で加熱し、コア部品１０．１０’を２０〜７
Ｑ ｋｇ ／ ｃｍ２の圧力で互いに押圧する。冷却後
、コア部品１０ 、１０’は堅く互いに連結され１次い
でさらに処理加工されて噺家形状の磁気ヘッドが得られ
る。例えば、間Ｉ餡の高さｈを同時に調節し−て、テー
プ接触面２９を有する第６図に示す構造が形成されるよ
うにこの組立を処理別」二する。
第７ａ図に示すように、この構造を再び個々の磁気コア
（）３片３０に分割してこれらに電気巻線３１を設けた
後、磁気ヘッド３２を形成する。
（）３片３０に分割してこれらに電気巻線３１を設けた
後、磁気ヘッド３２を形成する。
第７ｂ図は、第７ａ図の磁気ヘッド３２の間隙−を形成
する区域を拡大して、（フェライト）コア部品１ ｆ＋
と１０’との間の間隙を形成する区域の得られる層構造
を示す。酸化珪素の層２４と窒化珪素の層２６とが、各
コア部品１０ 、１０”の上に設けられる。この組立を
ガラス層２８を経ていっしょに接合する。
する区域を拡大して、（フェライト）コア部品１ ｆ＋
と１０’との間の間隙を形成する区域の得られる層構造
を示す。酸化珪素の層２４と窒化珪素の層２６とが、各
コア部品１０ 、１０”の上に設けられる。この組立を
ガラス層２８を経ていっしょに接合する。
以上要するに本発明においては、磁気ヘッド（３２）は
、フェライトの磁気コア（３０）と、この磁気コア（３
０）の間隙を形１茂する区域におけるガラスからＩＪ（
る接着材料層（２８）とを有する。一方においてフェラ
イトが接着工程中にガラスによって腐食されず、かつ）
［１１方において接着工程中の温度１１＋１節が余り臨
界的でないことを保証するため、接着材ｒ１層（２８）
と、コア１■り品（■０）及び（ｌ Ｏ’）との間にそ
れぞれ二重の拡助障壁層を設け、これらの障壁を、接着
ｊ〜＝；、（２８）の側面の窒化珪素層（２６）と、コ
ア＞ｇｓ品（１０）及び（１０’）の側面の酸化珪累層
（２４）と（こよってそれぞれ形成する。
、フェライトの磁気コア（３０）と、この磁気コア（３
０）の間隙を形１茂する区域におけるガラスからＩＪ（
る接着材料層（２８）とを有する。一方においてフェラ
イトが接着工程中にガラスによって腐食されず、かつ）
［１１方において接着工程中の温度１１＋１節が余り臨
界的でないことを保証するため、接着材ｒ１層（２８）
と、コア１■り品（■０）及び（ｌ Ｏ’）との間にそ
れぞれ二重の拡助障壁層を設け、これらの障壁を、接着
ｊ〜＝；、（２８）の側面の窒化珪素層（２６）と、コ
ア＞ｇｓ品（１０）及び（１０’）の側面の酸化珪累層
（２４）と（こよってそれぞれ形成する。
第１図は出発材料のブロックを示し、第２図は機械加工
したコア部品を示し、 第３ａ図及び第８ｂ図は、拡散障壁を形成するためのも
ので２個のコア部品−ヒに設けられた層を示し、 第４ａ図及び第４ｂ図は、接着層を設けた後の第３ａ図
及び第３ｂ図のコア部品を・１クシ、第５図は圧力の下
で生いに接着された２個のコア部品の組立を示し、 第６図はチー７接触面を設けた後の第５図の組立を示し
、さらに 第７ａＩＡ及び第７ｂ図は最終の磁気へノドを示す。 １０ 、 ’１０’・・・ＩＡ判ジブロックコア部品）
１４．１６・・・構 １８．２０．２２・・・表
面２４・・・第１１曽 ２６・・・、′Ａ２第２
層・・・接着層（第３ｉｎ） ２９・・テープ唆触面 ３０・・・個々の磁気フγ切
Ｌ３１・・・′電気巻線 ８２・・・磁気ヘッド
。 θコ 第１頁の続き ０発 明 者 へエイスベルタス・デ・ライスオランダ
国５６２１ベーアー・アイ ンドーフエン・フルーネヴアウ ツウエツハ１
したコア部品を示し、 第３ａ図及び第８ｂ図は、拡散障壁を形成するためのも
ので２個のコア部品−ヒに設けられた層を示し、 第４ａ図及び第４ｂ図は、接着層を設けた後の第３ａ図
及び第３ｂ図のコア部品を・１クシ、第５図は圧力の下
で生いに接着された２個のコア部品の組立を示し、 第６図はチー７接触面を設けた後の第５図の組立を示し
、さらに 第７ａＩＡ及び第７ｂ図は最終の磁気へノドを示す。 １０ 、 ’１０’・・・ＩＡ判ジブロックコア部品）
１４．１６・・・構 １８．２０．２２・・・表
面２４・・・第１１曽 ２６・・・、′Ａ２第２
層・・・接着層（第３ｉｎ） ２９・・テープ唆触面 ３０・・・個々の磁気フγ切
Ｌ３１・・・′電気巻線 ８２・・・磁気ヘッド
。 θコ 第１頁の続き ０発 明 者 へエイスベルタス・デ・ライスオランダ
国５６２１ベーアー・アイ ンドーフエン・フルーネヴアウ ツウエツハ１
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｔ 磁気コアと、この磁気コアの間隙を形成するＩＫ域
における非磁性接着材料層とを有し、このコア部品と非
磁性材料層との間に拡散障壁を設けた磁気ヘッドにおい
て、 各拡散障壁を、非磁性接着層に隣接する窒化（圭素層と
、酸化珪素層とから構成することを特徴とする磁気ヘッ
ド。 ス 各拡＠障囃が、酸化珪素、臀を窒化珪素層（こ徐々
に変える構造を有することを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の磁気ヘッド。 氏 磁性材料の第１コア部品及び第２コア部品を形成す
る工程と、該コア部品の各々の而が間隙を形成する而と
して役立つように機械加工する工程と、間隙を形成する
而の各々の上に接して抗拡散材料層を設ける工程と、該
抗拡散材料層の少なくとも１閘の上に接して接着材料層
を設ける工程と、設けられたこれらの接養材料層を間に
して２個のコア部品を互いに対向させて配置する工程と
、さらに熱処理によって永久的接合を形成する工程とか
ら成る磁気ヘッドの製造方法において、 抗拡赦材料層が、所望の厚さを有する５ｉｏ２層を第１
ターゲツトからスパッタリングすることによって、次い
で所望の厚さをイｆ１−る５１８Ｎ４層をスパッタリン
グすることによって設けられることを特徴とする磁気ヘ
ッドの製造方法。 ４ ８ｉ０．の層をＳｉｎ！！ターゲットからスパッタ
ーすることを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の方
法。 ’ Ｓ ｘ ａＮ ４の層を５ｉ８Ｎ、ターゲットか
らスパンターすることを特徴とする特ｄＴ梢求の範囲第
３項記載の方法。 α ５１８Ｎ、の層を窒素を含む気体雰囲気中でＳｉタ
ーゲットからスパッターすることを特徴とする特ＦＦ請
求の範囲第３項記載の方法。 ７、 酸素を含む気体９￥囲気でＳｉターゲットからＳ
ｉＯ２層をスパッターすることと、所望の厚さを有する
８１０２層を設けた後、前記の気体雰囲気中の酸素を、
スパッタリング中に窒素によって除々に置換しかつ所望
の厚さのＳｉ３Ｎ４層が形成されるまで窒素を含む気体
雰囲気でスパッタリングを継続することとを特徴とする
特許ｄ〜求の範囲第８項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8202059A NL8202059A (nl) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | Glas gekitte magneetkop en werkwijze voor zijn vervaardiging. |
| NL8202059 | 1982-05-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58211317A true JPS58211317A (ja) | 1983-12-08 |
Family
ID=19839756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58084287A Pending JPS58211317A (ja) | 1982-05-19 | 1983-05-16 | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4600957A (ja) |
| EP (1) | EP0094708B1 (ja) |
| JP (1) | JPS58211317A (ja) |
| AT (1) | ATE21293T1 (ja) |
| DE (1) | DE3365098D1 (ja) |
| NL (1) | NL8202059A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
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- 1983-05-06 DE DE8383200650T patent/DE3365098D1/de not_active Expired
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-
1986
- 1986-04-07 US US06/849,239 patent/US4665612A/en not_active Expired - Fee Related
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| JPH0244509A (ja) * | 1988-08-03 | 1990-02-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0094708B1 (en) | 1986-08-06 |
| EP0094708A1 (en) | 1983-11-23 |
| NL8202059A (nl) | 1983-12-16 |
| US4600957A (en) | 1986-07-15 |
| DE3365098D1 (en) | 1986-09-11 |
| US4665612A (en) | 1987-05-19 |
| ATE21293T1 (de) | 1986-08-15 |
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