JPS58208124A - 疎水性沈殿珪酸およびその製造方法 - Google Patents
疎水性沈殿珪酸およびその製造方法Info
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- JPS58208124A JPS58208124A JP8987482A JP8987482A JPS58208124A JP S58208124 A JPS58208124 A JP S58208124A JP 8987482 A JP8987482 A JP 8987482A JP 8987482 A JP8987482 A JP 8987482A JP S58208124 A JPS58208124 A JP S58208124A
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- silicic acid
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- precipitated silicic
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
に関するものであり、本発明によ゛り得られた疎水性沈
殿珪酸は各種消泡剤,グリース,抱液剤等の基体とし.
て、又、各種エラストマー,@h旨および塗料などの充
填材として好適に使用し得るものである。
殿珪酸は各種消泡剤,グリース,抱液剤等の基体とし.
て、又、各種エラストマー,@h旨および塗料などの充
填材として好適に使用し得るものである。
従来、沈殿珪酸はその表面に多数のシラノール基を有し
、上記の如き各紳工業的用途に1史用される場合、その
シラノール基に起因する兜水性,反応性のため、爵に各
種エラストマーや樹脂鴇の元増材として使用する場合、
その加工温度が100℃以上の場合が多く、このような
7IOipされた温度ではシラノール基に@理吸着した
水分はもとより、シラソール基同士の縮合1こよp発生
する水分のため、発泡.ゲル化あるいは白濁ヲ生じその
用途は限定されたものであった。
、上記の如き各紳工業的用途に1史用される場合、その
シラノール基に起因する兜水性,反応性のため、爵に各
種エラストマーや樹脂鴇の元増材として使用する場合、
その加工温度が100℃以上の場合が多く、このような
7IOipされた温度ではシラノール基に@理吸着した
水分はもとより、シラソール基同士の縮合1こよp発生
する水分のため、発泡.ゲル化あるいは白濁ヲ生じその
用途は限定されたものであった。
このため、沈殿珪酸のシラノール&’t m坤的,化学
的方法により処理し上記欠点金改良すべく多くの提案が
なされているが、それらの多く(1シラノール基に有機
珪素化8m?反応めるいに吸漸寧せコ、轡水件沈殻珪#
を蝕水1生沈殿珪配に改質するものである。
的方法により処理し上記欠点金改良すべく多くの提案が
なされているが、それらの多く(1シラノール基に有機
珪素化8m?反応めるいに吸漸寧せコ、轡水件沈殻珪#
を蝕水1生沈殿珪配に改質するものである。
電呻であX。
即ち、その表面処理剤の主たるものとしては、トリアル
キルモノノ・ロゲン化シラン.ジアル・キルジハロゲン
化7ランで代表をれるノ・ロゲン化シランイC、ヘキサ
メチルジシラザンで代表される含金チシラン化合物ある
いハ線状オルガノポリシロキサンからなる各種シリコー
ン油等が用いられている3、この紳状オルガノボリシロ
キサンを使用した例に特公昭42−26179号公報が
あり、50センチストークス(aS)の粘度ヲもったジ
メtルポリシロキサン油を用いて疎水性の沈降シリカを
傅でいる。しかしながら、この例で示される疎水性の沈
硅シリカの製法は、単にジメチルボリンロキサン油を沈
降シリカに4椹し、250〜350℃の温度で約1/2
〜2時間加熱するのみであって、得られる疎水性の沈降
シリカの撥水賢については言及していない。一方、粉体
の吸着性能を示すジブチルアミン(DBA)吸着量が1
0以下に調整づれfc中水性沈殿珪酸を得ることに非常
に困龜である。即ち、DBA吸着量と疎水化の種度は相
関1関係にあり、DBA吸着前の数値が少ない程良好な
る疎大化処理が施されていることを示すものである。
キルモノノ・ロゲン化シラン.ジアル・キルジハロゲン
化7ランで代表をれるノ・ロゲン化シランイC、ヘキサ
メチルジシラザンで代表される含金チシラン化合物ある
いハ線状オルガノポリシロキサンからなる各種シリコー
ン油等が用いられている3、この紳状オルガノボリシロ
キサンを使用した例に特公昭42−26179号公報が
あり、50センチストークス(aS)の粘度ヲもったジ
メtルポリシロキサン油を用いて疎水性の沈降シリカを
傅でいる。しかしながら、この例で示される疎水性の沈
硅シリカの製法は、単にジメチルボリンロキサン油を沈
降シリカに4椹し、250〜350℃の温度で約1/2
〜2時間加熱するのみであって、得られる疎水性の沈降
シリカの撥水賢については言及していない。一方、粉体
の吸着性能を示すジブチルアミン(DBA)吸着量が1
0以下に調整づれfc中水性沈殿珪酸を得ることに非常
に困龜である。即ち、DBA吸着量と疎水化の種度は相
関1関係にあり、DBA吸着前の数値が少ない程良好な
る疎大化処理が施されていることを示すものである。
従来、^吸の疎水性沈殿珪epを侍るべく、上記処理に
関し沈殿珪酸においてQ媒咋用を肩するものが提案され
ている,例えば、特公昭57ー2641号公報では種々
の弛水化剤と沈殿珪酸全混合処理する際、アンモニア,
アミン等を添加したり、又、特開昭47−12770号
公報では沈殿珪酸にアルカリ金属の水酸化物等を加え、
触媒として利用する方法が知られている。又、従来の方
法でにアルカリ金属珪酸塩と鉱酸とを反応させて珪酸を
沈殿させ、濾過水洗後スラリー化し、スプレー乾燥する
前にアルカリ金属水酸化物ケ加えpHおよびNa,O含
有市を調整したものを用いている。
関し沈殿珪酸においてQ媒咋用を肩するものが提案され
ている,例えば、特公昭57ー2641号公報では種々
の弛水化剤と沈殿珪酸全混合処理する際、アンモニア,
アミン等を添加したり、又、特開昭47−12770号
公報では沈殿珪酸にアルカリ金属の水酸化物等を加え、
触媒として利用する方法が知られている。又、従来の方
法でにアルカリ金属珪酸塩と鉱酸とを反応させて珪酸を
沈殿させ、濾過水洗後スラリー化し、スプレー乾燥する
前にアルカリ金属水酸化物ケ加えpHおよびNa,O含
有市を調整したものを用いている。
しかしながら、この方法でにスラリー中の沈殿珪酸2次
凝集粒子表面上にアルカリ雀娠イオ斥恐することは可能
であるが、2次粒子を構成している1次粒子表面上への
処:I!i!に、1次粒子同士のtifl賄へのアルカ
リ金属イオンのζ′@fIが律速となることが予想され
困難となる。従って、2次凝集粒子表面上に適当に疎水
化処理されても、後の過程、例えは、粉砕して製品ケ得
る場合、あるいは加工充填される際に強いKi’+!@
力を受ける場合などのように、2次凝集粒子が破砕分散
される時、適当に叫水化きれていない表面が露出される
ことになり満足できる方法とにいい難い。
凝集粒子表面上にアルカリ雀娠イオ斥恐することは可能
であるが、2次粒子を構成している1次粒子表面上への
処:I!i!に、1次粒子同士のtifl賄へのアルカ
リ金属イオンのζ′@fIが律速となることが予想され
困難となる。従って、2次凝集粒子表面上に適当に疎水
化処理されても、後の過程、例えは、粉砕して製品ケ得
る場合、あるいは加工充填される際に強いKi’+!@
力を受ける場合などのように、2次凝集粒子が破砕分散
される時、適当に叫水化きれていない表面が露出される
ことになり満足できる方法とにいい難い。
本発明者らは、こtしらの欠点を改善するため鋭意研究
金型ねた結果、セ3度に分散づれた低いDBA吸着量お
よび亮い撥水性能を有する疎水性沈殿珪酸およびその製
造方法を見い出し本発明を完成した。
金型ねた結果、セ3度に分散づれた低いDBA吸着量お
よび亮い撥水性能を有する疎水性沈殿珪酸およびその製
造方法を見い出し本発明を完成した。
即ち、本発明は
BET法による比表面積
50〜15om”/7
電子顕微ψ耳」による1次粒子の平均粒度15〜25m
μ 光透過式粒度分布測定(tミ媒;エタノール)による2
次粒子の平均粒度 5μ以下 および2次粒子の最大粒子径 15μ以下 熱重量分析による室温〜150℃における減量
3.0%以下 および室温〜350℃における@骨 40%以下 4%g濁スラスラリ−/エタノール=1/1)のpH9
,0〜 12,0 DBhrJ/j、Nr量 saN?−mo1/Kp
以下撥水性能 30 min・以上なる疎水性
沈殿珪酸およびアルカリ金属珪?I?塩と鉱酸とを反応
させて得られた 光透過式粒度分布測定による2次粒子の平均@度
5μ以下 105℃1時間後の乾燥減量 4.0%以上 Na2O含有星0.5〜3.0% なる沈殿性!9100部と25℃で50〜500 C!
Si肩するンリコーン油5@以上の混、什物ケ100〜
150℃の篇呟で30分+=1以上乾燥処理し、?にい
で200〜350℃の温健で30分間以上焼き付は処理
することにより BET法による比表面積 50〜1’ 50 m’ /? 電子顕微−写真による1次粒子の平均粒吸15〜25m
μ 光透過式粒度分布測定(溶媒1エタノール)による2次
粒子の平均粒度 5μ以下 および2次粒子の最大粒子径 15μ以下 熱重量分析による室温〜150℃における減t
3.0%以下 および室温〜350℃における減量 40%以下 4チ懸濁スラリー(水/エタノール=1/L)のpH9
0〜12.0 DBA吸着輩5T!に?−mo1/Kv以下撥水性能
30 ncin以上なる疎水性沈殿珪酸の製造
方法を提供するものである。
μ 光透過式粒度分布測定(tミ媒;エタノール)による2
次粒子の平均粒度 5μ以下 および2次粒子の最大粒子径 15μ以下 熱重量分析による室温〜150℃における減量
3.0%以下 および室温〜350℃における@骨 40%以下 4%g濁スラスラリ−/エタノール=1/1)のpH9
,0〜 12,0 DBhrJ/j、Nr量 saN?−mo1/Kp
以下撥水性能 30 min・以上なる疎水性
沈殿珪酸およびアルカリ金属珪?I?塩と鉱酸とを反応
させて得られた 光透過式粒度分布測定による2次粒子の平均@度
5μ以下 105℃1時間後の乾燥減量 4.0%以上 Na2O含有星0.5〜3.0% なる沈殿性!9100部と25℃で50〜500 C!
Si肩するンリコーン油5@以上の混、什物ケ100〜
150℃の篇呟で30分+=1以上乾燥処理し、?にい
で200〜350℃の温健で30分間以上焼き付は処理
することにより BET法による比表面積 50〜1’ 50 m’ /? 電子顕微−写真による1次粒子の平均粒吸15〜25m
μ 光透過式粒度分布測定(溶媒1エタノール)による2次
粒子の平均粒度 5μ以下 および2次粒子の最大粒子径 15μ以下 熱重量分析による室温〜150℃における減t
3.0%以下 および室温〜350℃における減量 40%以下 4チ懸濁スラリー(水/エタノール=1/L)のpH9
0〜12.0 DBA吸着輩5T!に?−mo1/Kv以下撥水性能
30 ncin以上なる疎水性沈殿珪酸の製造
方法を提供するものである。
以下本発明をさらに詳細に説明する。
不発明の疎水性沈殿珪酸は
BET法による比表面積
50〜150m2/9
電子顕微−写真による1次粒子の平均粒重15〜25
mμ 光透過式粒度分布測定(溶媒;エタノール)による2次
粒子の平均粒度 5μ以下 および2次粒子の最大粒子径 15μ以下 熱1量分析による室温〜150℃における減量
五〇チ以下 および室温〜350℃にお灯る減量 4.0%以下 4%懸濁スラリー(水/エタノール=1/1)のpH9
,0〜 12.0 ’DBA吸、y−y 5 ma−mol/ky以
下撥水江亜 30 min以上 の′@理理化化学的性質有するものである。
mμ 光透過式粒度分布測定(溶媒;エタノール)による2次
粒子の平均粒度 5μ以下 および2次粒子の最大粒子径 15μ以下 熱1量分析による室温〜150℃における減量
五〇チ以下 および室温〜350℃にお灯る減量 4.0%以下 4%懸濁スラリー(水/エタノール=1/1)のpH9
,0〜 12.0 ’DBA吸、y−y 5 ma−mol/ky以
下撥水江亜 30 min以上 の′@理理化化学的性質有するものである。
本発明の疎水性沈殿珪酸の撥水性は非常に^く、DBA
吸着量の値が5■−m01A9以下であ、ることがら容
易に想像できるように、シリコーン油とシリカ粒子表面
のシラノール基とが反応あるいは強力に焼き付けられ、
シリコーン油の有@基がシリカ粒子の外殻を完全に覆い
、DB八へ子の吸着し得るシラノール基部分がシリカ粒
子表面上にないこと。さらに熱N量分析による室温から
150℃までの減量が3.0%以下および室650℃ま
での減量が4.0%以下と低いものであυ、酸水性沈殿
珪酸粒子表面上に吸着されている水分の量が通常市販の
未処理沈殿珪酸微粉末に比較して極めて少なく、疎水性
沈殿珪酸粒子表面上のシラノール基がシリコーン油によ
って効果的に被覆され、再水利ができないこと。父、室
温から350℃までの減量が4.0%以下と非常に低い
ためゆ水性沈殿珪酸を各種充填材として加工便用する場
・合、その減量に起因する水分等の部数による発泡、ゲ
ル化あるいは白濁等の問題が生じ斡いこと、等の特性奮
有しその用途を大きく拡張するものでめる。
吸着量の値が5■−m01A9以下であ、ることがら容
易に想像できるように、シリコーン油とシリカ粒子表面
のシラノール基とが反応あるいは強力に焼き付けられ、
シリコーン油の有@基がシリカ粒子の外殻を完全に覆い
、DB八へ子の吸着し得るシラノール基部分がシリカ粒
子表面上にないこと。さらに熱N量分析による室温から
150℃までの減量が3.0%以下および室650℃ま
での減量が4.0%以下と低いものであυ、酸水性沈殿
珪酸粒子表面上に吸着されている水分の量が通常市販の
未処理沈殿珪酸微粉末に比較して極めて少なく、疎水性
沈殿珪酸粒子表面上のシラノール基がシリコーン油によ
って効果的に被覆され、再水利ができないこと。父、室
温から350℃までの減量が4.0%以下と非常に低い
ためゆ水性沈殿珪酸を各種充填材として加工便用する場
・合、その減量に起因する水分等の部数による発泡、ゲ
ル化あるいは白濁等の問題が生じ斡いこと、等の特性奮
有しその用途を大きく拡張するものでめる。
上記に示された特定の物理的化学的憔1mゲ有する疎水
性沈殿珪酸は、アル刀り金属珪酸堵と鉱酸と全反応させ
て侍らIした 光透硝式脅度分石測宏によ02次粒子の平均粒度
5μ以下 105℃1時間後の乾燥減量 40%以上 Na、 O含肩輩[15〜l C1% 好ましくは、 光透過弐粒呟分布測定による2次粒子の平均粒#
3μ以下 105℃1時間後の乾燥諏、量 40〜10.0% Nap O宝有t 1.0〜2. b %なる沈
殿珪酸100部と、25℃で50〜500C8,好まし
くは50〜100C8を肩するシリコーン柚5部以上、
好ましくは5〜15郁のテ1台mtoo 〜150℃、
好’i L<t’J120〜150でで30分間以上、
好ましく1−(3[i〜60分間V燗処理し、次いで2
00〜350℃、好ましくは250〜300℃の温間で
30分間以上、好Rしくな30〜120分同焼き付は処
理することにより製造でれるものである。
性沈殿珪酸は、アル刀り金属珪酸堵と鉱酸と全反応させ
て侍らIした 光透硝式脅度分石測宏によ02次粒子の平均粒度
5μ以下 105℃1時間後の乾燥減量 40%以上 Na、 O含肩輩[15〜l C1% 好ましくは、 光透過弐粒呟分布測定による2次粒子の平均粒#
3μ以下 105℃1時間後の乾燥諏、量 40〜10.0% Nap O宝有t 1.0〜2. b %なる沈
殿珪酸100部と、25℃で50〜500C8,好まし
くは50〜100C8を肩するシリコーン柚5部以上、
好ましくは5〜15郁のテ1台mtoo 〜150℃、
好’i L<t’J120〜150でで30分間以上、
好ましく1−(3[i〜60分間V燗処理し、次いで2
00〜350℃、好ましくは250〜300℃の温間で
30分間以上、好Rしくな30〜120分同焼き付は処
理することにより製造でれるものである。
本発明において哨いられる沈殿y:”!は、アルカリ金
挑珪酸地を鉱酸を用いて中和し、珪酸粒子を沈殿生成さ
せ、常法により沖過、乾燥を行い、粉砕し組成が調整さ
れたものであればどのような沈殿珪酸も使用し得るが、
アルカリ金属イオンによって促進されると考えられるシ
リコーン油の開裂。
挑珪酸地を鉱酸を用いて中和し、珪酸粒子を沈殿生成さ
せ、常法により沖過、乾燥を行い、粉砕し組成が調整さ
れたものであればどのような沈殿珪酸も使用し得るが、
アルカリ金属イオンによって促進されると考えられるシ
リコーン油の開裂。
沈殿珪酸表面上のシラノール基とシリコーン油との反応
およびシリコーン油同士によるゲル化等が沈$珪酸の2
次凝集粒の表面だけでなく、1次粒子表面上へも効果的
に浸透処理されるために、沈殿珪酸の2次粒子にもとよ
り、1次粒子表面上も完全にアルカリ金属イオンが吸着
している沈殿珪酸が得られるよう、珪酸の沈殿粒子をア
ルカリ域のpHて゛生成させ、そのままあるいに一部を
千オ0処理したものを濾過、水洗、乾燥する方法が好ま
しい。
およびシリコーン油同士によるゲル化等が沈$珪酸の2
次凝集粒の表面だけでなく、1次粒子表面上へも効果的
に浸透処理されるために、沈殿珪酸の2次粒子にもとよ
り、1次粒子表面上も完全にアルカリ金属イオンが吸着
している沈殿珪酸が得られるよう、珪酸の沈殿粒子をア
ルカリ域のpHて゛生成させ、そのままあるいに一部を
千オ0処理したものを濾過、水洗、乾燥する方法が好ま
しい。
光透過式粒度分布?jI’j足による2次粒子の平均粒
変ズノ二5μを櫻えると、効果的な1次杓子表面上への
処理ができ難く、侍られる疎水性沈殿珪酸の撥水性能も
低いものとなるので、2次粒子の平均粒度は6μ以下の
ものがより好ましい。
変ズノ二5μを櫻えると、効果的な1次杓子表面上への
処理ができ難く、侍られる疎水性沈殿珪酸の撥水性能も
低いものとなるので、2次粒子の平均粒度は6μ以下の
ものがより好ましい。
105℃、1時間後の乾燥減量に40%未満でU撥水性
の亮いものが傅鮎くなる。又、乾燥i量が4.0%以上
であればいくらでもかまわないが、乾燥処理する時のエ
ネルギー損失を考慮し、40〜10.0%に乾燥された
ものが好ましい。
の亮いものが傅鮎くなる。又、乾燥i量が4.0%以上
であればいくらでもかまわないが、乾燥処理する時のエ
ネルギー損失を考慮し、40〜10.0%に乾燥された
ものが好ましい。
Na2O含有量が[15%未満では堺式法沈絨珪酸の特
徴である鉱酸成分(例えはso4’−文Vict−)の
影響が生じて均一な処理が出来難くなり、ム0%奮越え
ると湿式法沈殿珪酸としての袖時安定性を害すると同時
に、沈殿珪酸粒子の微粉砕が困難となり、侍られる疎水
性沈殿珪酸″の2次粒子の平均粒(および最大粒径が太
きくなり撥水性能も低くなる。
徴である鉱酸成分(例えはso4’−文Vict−)の
影響が生じて均一な処理が出来難くなり、ム0%奮越え
ると湿式法沈殿珪酸としての袖時安定性を害すると同時
に、沈殿珪酸粒子の微粉砕が困難となり、侍られる疎水
性沈殿珪酸″の2次粒子の平均粒(および最大粒径が太
きくなり撥水性能も低くなる。
未発明におけるンリコーン伍と(J、、25℃でso〜
5oocs、好ましくi’E5’0〜100C8のジメ
チルシリコ」?由、メチルフェニルンリコ=72由、メ
チルハイドロジエンシリコーン油、メチルビニルフェニ
ルシリコーン油等ヲ菟ケるこトカできるが、特にジメチ
ルシリコーン沖が好ましい。
5oocs、好ましくi’E5’0〜100C8のジメ
チルシリコ」?由、メチルフェニルンリコ=72由、メ
チルハイドロジエンシリコーン油、メチルビニルフェニ
ルシリコーン油等ヲ菟ケるこトカできるが、特にジメチ
ルシリコーン沖が好ましい。
粘度が100S未満では揮発分が多くなり、又、100
00S’i−越えると粘度が高くなるため、沈殿珪酸粒
子表面上に均一に分散付着沁せることが困詐となり、い
ずれも良好な撥水性ヲ有する疎水性沈Ig′、珪酸が得
難い。又、シリコーン油の混合割合が5部未満では沈殿
珪酸の比表面積との関係より、充分なる単分子膜吸着が
できず、15部を越えるとシリコーン油の量が過大とな
り伺ら有意性がみられない。
00S’i−越えると粘度が高くなるため、沈殿珪酸粒
子表面上に均一に分散付着沁せることが困詐となり、い
ずれも良好な撥水性ヲ有する疎水性沈Ig′、珪酸が得
難い。又、シリコーン油の混合割合が5部未満では沈殿
珪酸の比表面積との関係より、充分なる単分子膜吸着が
できず、15部を越えるとシリコーン油の量が過大とな
り伺ら有意性がみられない。
法服珪酸とシリコーン油との混合処理は、通常の混合機
であればどのような型式のものを用いても良いが、上記
のような微粉と液体とを混合する場合、液体の付着力に
よる#集粉が生じないような混合装置音用いるのが好ま
しい。とのような装着として、ボールミルあるい(グ流
動式混合枦等金案けることができる。
であればどのような型式のものを用いても良いが、上記
のような微粉と液体とを混合する場合、液体の付着力に
よる#集粉が生じないような混合装置音用いるのが好ま
しい。とのような装着として、ボールミルあるい(グ流
動式混合枦等金案けることができる。
乾燥処理とは、特定の物理的化学的性it有する沈殿、
珪酸と/リコーン油との混合?I)i100〜150℃
、好ましくは120〜150℃の温硬で30分以上、好
ましくは60〜60分間攪拌しながら乾燥処理を行うの
であるが、この際′I@度が100℃未満、あるいは乾
燥処理時間が60分未満では、水分の蒸発揮散が充分に
起こらず、水分とシリコーン油との置侑が不充分なため
、均一々表面処理が困畔となり、150℃を越えると水
分の揮散が急激に起こるため、シリコーン油との置換が
良好に行なわれなくなり、均一な表面処理ができず、い
ずれも艮好な撥水性能金持った製品が得難くなる。又、
攪拌時1d1が60分以上であればいくらでもかまわな
いが、水分の蒸発揮散が完了した後のエネルギー損失を
考慮すれば、50〜60分間の乾燥処理が好ましい。
珪酸と/リコーン油との混合?I)i100〜150℃
、好ましくは120〜150℃の温硬で30分以上、好
ましくは60〜60分間攪拌しながら乾燥処理を行うの
であるが、この際′I@度が100℃未満、あるいは乾
燥処理時間が60分未満では、水分の蒸発揮散が充分に
起こらず、水分とシリコーン油との置侑が不充分なため
、均一々表面処理が困畔となり、150℃を越えると水
分の揮散が急激に起こるため、シリコーン油との置換が
良好に行なわれなくなり、均一な表面処理ができず、い
ずれも艮好な撥水性能金持った製品が得難くなる。又、
攪拌時1d1が60分以上であればいくらでもかまわな
いが、水分の蒸発揮散が完了した後のエネルギー損失を
考慮すれば、50〜60分間の乾燥処理が好ましい。
次いで本発明は200〜650℃、好ましく(1250
〜300℃の温式で30分以上、好貰しくに30〜12
0分焼き付は処理するものであるが、焼き付(′T処理
に、粉体同士の響集が起こらない程度に攪拌され、全粉
体が均一に所定の温度に維持づれる反応槽が使用される
。このような反応器としては、外部加熱槽型反応炉ある
いは外部加熱回転炉等がある。いずれの反応器において
も未反応シリコーン油9分解副生有機物あるいは水分等
が良好に排出されるように、常圧開放系で処理を行うの
が良い。この際温度が200℃未満で11、シリコーン
油とシリカ表面上のシラノール基あるいはシリコーン油
同士の結合が完全に行なわれず撥水性の尚いものが得難
くなり、650℃を越えるとシリコーン油の分解が急速
に起こりはじめ、シリコーン油のロスとなり撥水性も低
下する。又、焼き付は時M1が50分未満では温段が2
00℃未満の時と同僚に効果的な処理が行なえない。又
、焼き付は時間は30分以上であればいくらでもかまわ
ないが、エネルギーおよびシリコーン油叫の類失を考慮
すれば30〜120分の焼き付は処理が好ましい。
〜300℃の温式で30分以上、好貰しくに30〜12
0分焼き付は処理するものであるが、焼き付(′T処理
に、粉体同士の響集が起こらない程度に攪拌され、全粉
体が均一に所定の温度に維持づれる反応槽が使用される
。このような反応器としては、外部加熱槽型反応炉ある
いは外部加熱回転炉等がある。いずれの反応器において
も未反応シリコーン油9分解副生有機物あるいは水分等
が良好に排出されるように、常圧開放系で処理を行うの
が良い。この際温度が200℃未満で11、シリコーン
油とシリカ表面上のシラノール基あるいはシリコーン油
同士の結合が完全に行なわれず撥水性の尚いものが得難
くなり、650℃を越えるとシリコーン油の分解が急速
に起こりはじめ、シリコーン油のロスとなり撥水性も低
下する。又、焼き付は時M1が50分未満では温段が2
00℃未満の時と同僚に効果的な処理が行なえない。又
、焼き付は時間は30分以上であればいくらでもかまわ
ないが、エネルギーおよびシリコーン油叫の類失を考慮
すれば30〜120分の焼き付は処理が好ましい。
′X発明においてに、肌1段1@とじて100〜150
℃、好1しくに120〜150℃の温度で30分間以上
、好筐しくv′i60〜60分Iビ1乾燥処理いれ1、
次いで第2段i階として200〜350℃、好捷しくに
250〜300℃のン′晶度で60分百以上、好ましく
は30〜120分焼き付は処理するものであるが、シリ
コーン油と混合後急智に200〜350℃に加熱すると
、不発明で得ら几るような撥水性の高い製品が得られな
いため、第1段階の昇温恢必らず、60分1i+j以上
の乾燥処理時間の曲、100〜150℃の温度を維持し
、次いで第2段階の200〜350℃への昇温を行う必
要がある。この場合、第1段階への昇温および第1段階
か、ら第2段階への昇温は、いずれも通常の昇温速吸5
〜10℃/minで良く、又、第1段階あ・よひ第2段
階の各工椎は、同一の反応器あるいに別の反応器を用い
ることもできな。
℃、好1しくに120〜150℃の温度で30分間以上
、好筐しくv′i60〜60分Iビ1乾燥処理いれ1、
次いで第2段i階として200〜350℃、好捷しくに
250〜300℃のン′晶度で60分百以上、好ましく
は30〜120分焼き付は処理するものであるが、シリ
コーン油と混合後急智に200〜350℃に加熱すると
、不発明で得ら几るような撥水性の高い製品が得られな
いため、第1段階の昇温恢必らず、60分1i+j以上
の乾燥処理時間の曲、100〜150℃の温度を維持し
、次いで第2段階の200〜350℃への昇温を行う必
要がある。この場合、第1段階への昇温および第1段階
か、ら第2段階への昇温は、いずれも通常の昇温速吸5
〜10℃/minで良く、又、第1段階あ・よひ第2段
階の各工椎は、同一の反応器あるいに別の反応器を用い
ることもできな。
この原因に関しては禾だ明確で(1ないブバ、本発明者
らi4次のように考えている。
らi4次のように考えている。
即ち、原料沈殿珪酸精子表面上eこは被1理鍔着した水
分子の鳴があり、シリコーン油との混合の段階で水分子
の層の上に疎水・肛のシリコーン油が均−に分散付着し
、第1段階の100〜150℃の副頃で乾燥処理される
間に水分子と疎水化剤分子との間で置換が起こり、沈殿
珪酸粒子表面上に充分なる密着処理ができ、第2段階の
200〜550℃の一度での焼き付は処理が効果的に行
なわれるものと考えられる。即ち、!@、智に200〜
350℃の高温に加熱すると、疎水化剤であるシリコー
ン油が充分に沈殿珪酸粒子表面上に密着処理される前に
、低分子化したシリコーン油分子が飛散したり、あるい
(はゲル化し、疎水化肛の高い製品が借られなくなるも
のと考えられる。又、水分の効果は、7リコーン油の分
子鎖の開裂および沈に珪酸粒子表面上におけなシリコー
ン油分子間の架橋ゲル化反応に触媒的な作用があるもの
と考えられる。
分子の鳴があり、シリコーン油との混合の段階で水分子
の層の上に疎水・肛のシリコーン油が均−に分散付着し
、第1段階の100〜150℃の副頃で乾燥処理される
間に水分子と疎水化剤分子との間で置換が起こり、沈殿
珪酸粒子表面上に充分なる密着処理ができ、第2段階の
200〜550℃の一度での焼き付は処理が効果的に行
なわれるものと考えられる。即ち、!@、智に200〜
350℃の高温に加熱すると、疎水化剤であるシリコー
ン油が充分に沈殿珪酸粒子表面上に密着処理される前に
、低分子化したシリコーン油分子が飛散したり、あるい
(はゲル化し、疎水化肛の高い製品が借られなくなるも
のと考えられる。又、水分の効果は、7リコーン油の分
子鎖の開裂および沈に珪酸粒子表面上におけなシリコー
ン油分子間の架橋ゲル化反応に触媒的な作用があるもの
と考えられる。
以上のとおり、本発明は完全に#集粉のない、父、粉砕
等の後処理を必要としない、高(に分散きれ、父、商い
撥水性を有する陸水性”沈殿珪酸を容易、迅速かつ&り
て効率艮〈侍ることができる製]告方法である。
等の後処理を必要としない、高(に分散きれ、父、商い
撥水性を有する陸水性”沈殿珪酸を容易、迅速かつ&り
て効率艮〈侍ることができる製]告方法である。
そして、侍られた疎水性沈殿珪酸は、通常の沈殿珪酸を
充填材として便用する堝せに比較して、盃父倍の耐水性
1Mアルカリ性を有する5L形相等が得られ、又、2次
粒子の平泊粒磨が5μ以下、最大粒子径が15.μ以下
と高度に分計されていることから、各種消泡剤、グリー
ス、抱液剤等の用途にも好適に使用し得るものである。
充填材として便用する堝せに比較して、盃父倍の耐水性
1Mアルカリ性を有する5L形相等が得られ、又、2次
粒子の平泊粒磨が5μ以下、最大粒子径が15.μ以下
と高度に分計されていることから、各種消泡剤、グリー
ス、抱液剤等の用途にも好適に使用し得るものである。
以下、本発明を実軸例および比較例により説明する。な
お、各種物性の測定は以下の装置あるいは測定法により
測定した。
お、各種物性の測定は以下の装置あるいは測定法により
測定した。
平均粒度および最大粒子径の測定
沈殿珪酸および疎水性沈殿珪酸の平均粒重および最大粒
子径は、光透過弐粒咽分布測定器(抹式会仕セイシン企
業社製 ミクロン・フォトサイザー、5KN−1000
)を用いて掴(定した。
子径は、光透過弐粒咽分布測定器(抹式会仕セイシン企
業社製 ミクロン・フォトサイザー、5KN−1000
)を用いて掴(定した。
ジブチルアミン< DBA )吸青量
105℃1時間抜の乾燥試呻2系011)l/ゲ100
mf共栓付三角フラスコに精秤し、これに50m1の) N1500−n・ジブナルアミン喀液(石油ベンジン溶
媒〕をピペットで加え、しばしば振υながら20℃で約
2時開放量する。この上#冴25−をピペットで注意し
ながら吸い上げ、三角クラス5コに移しクロロホルム5
rn/、指示薬(クリスタルバイオレット’を無水酢酸
に溶解してQ、1%としたもの)2〜3簡を加え、紫色
が青色に変るまでN/100−過塩素酸溶液(無水酢酸
溶媒)で滴足する。
mf共栓付三角フラスコに精秤し、これに50m1の) N1500−n・ジブナルアミン喀液(石油ベンジン溶
媒〕をピペットで加え、しばしば振υながら20℃で約
2時開放量する。この上#冴25−をピペットで注意し
ながら吸い上げ、三角クラス5コに移しクロロホルム5
rn/、指示薬(クリスタルバイオレット’を無水酢酸
に溶解してQ、1%としたもの)2〜3簡を加え、紫色
が青色に変るまでN/100−過塩素酸溶液(無水酢酸
溶媒)で滴足する。
この滴定値をA−とする。
別にN1500−n・ジブチルアミン25−についてブ
ランクを行い、ブランクの滴定値’jH]3t/!とじ
、次式によってDBA吸着貴を算出する。
ランクを行い、ブランクの滴定値’jH]3t/!とじ
、次式によってDBA吸着貴を算出する。
DBA吸着!(”f−mO1^)=80X(B−A)X
/ただし、fはN/100−過塩素酸溶液の力価である
。
/ただし、fはN/100−過塩素酸溶液の力価である
。
熱重量分析測定
20℃、70%相対湿髪雰囲気下に数日間放置し、完全
に平衡水分に達した試料50〜を石英製ルツボに精秤し
、熱分析装置(DT−30B’)おまひ熱重量測定装置
(TGA−jl)(いずれも株式会社島津製作所製)を
用い熱重量分析を行う。
に平衡水分に達した試料50〜を石英製ルツボに精秤し
、熱分析装置(DT−30B’)おまひ熱重量測定装置
(TGA−jl)(いずれも株式会社島津製作所製)を
用い熱重量分析を行う。
雰囲気は空気中とし、昇堪速睨に10℃/minで実施
する。
する。
撥水性の測定
共栓付き1001Rt三角フラスコに試料059゜蒸留
水50tttlVを採取し、これを振とう機(株式会社
イワキ製 イワキラボシェーカーvS型)全弔い、振幅
42−5鰭、振動数3001m i n 、で振動させ
る。この際水相に白ff1t生ずるにいたる経寺時間
fmin、 )をもって試験値とする。従って、数値の
大きいものほど撥水性が高いものである。
水50tttlVを採取し、これを振とう機(株式会社
イワキ製 イワキラボシェーカーvS型)全弔い、振幅
42−5鰭、振動数3001m i n 、で振動させ
る。この際水相に白ff1t生ずるにいたる経寺時間
fmin、 )をもって試験値とする。従って、数値の
大きいものほど撥水性が高いものである。
実施例1
沈#珪酸の製造
全容量200tの攪拌V−幾付き、蒸気吹き込与加熱型
反応槽に102tの温水あ・よひSin、濃呟が29、
Owt%の市販3号珪酸ナトリウム水泊液25.5t
2仕込む。次いで希釈珪酸す) IJウム水@液の温度
ケ95℃まで昇温し、S硲や214tを全反応待間10
0分の間連続して添刀IIした。この間反厄、液1d9
3〜96℃に維持され、同時に醇しく攪拌された。この
時反応液中の未反応アルカリ9(反応液100CC金1
N−塩酸で滴定した蒔の塩酸消費量で示す)は6−であ
った。40分間の熟成の後、得られた沈殿珪酸スラリー
を濾過し、水洗により塩類の不純物を除去し、再乳化の
後スプレー乾燥を行った。
反応槽に102tの温水あ・よひSin、濃呟が29、
Owt%の市販3号珪酸ナトリウム水泊液25.5t
2仕込む。次いで希釈珪酸す) IJウム水@液の温度
ケ95℃まで昇温し、S硲や214tを全反応待間10
0分の間連続して添刀IIした。この間反厄、液1d9
3〜96℃に維持され、同時に醇しく攪拌された。この
時反応液中の未反応アルカリ9(反応液100CC金1
N−塩酸で滴定した蒔の塩酸消費量で示す)は6−であ
った。40分間の熟成の後、得られた沈殿珪酸スラリー
を濾過し、水洗により塩類の不純物を除去し、再乳化の
後スプレー乾燥を行った。
得られた粒状沈殿珪酸を流体エネルギーミル(フリュー
ドエナジー社製 ジェットオーマイザーミル 0202
型)を用いて粉砕9粒度を調整し沈殿珪酸微粉末を得た
。
ドエナジー社製 ジェットオーマイザーミル 0202
型)を用いて粉砕9粒度を調整し沈殿珪酸微粉末を得た
。
この沈殿珪酸の物理的化学的物性は次のようでめった。
光透過式粒度分布測定による2次粒子の平均粒度
1.6μ m05℃1時間後の乾燥減量 6.7% Na2O含有9′X 1.69% なお、第1図にこの沈殿珪酸の熱重量分析曲線を(2)
として示す。
1.6μ m05℃1時間後の乾燥減量 6.7% Na2O含有9′X 1.69% なお、第1図にこの沈殿珪酸の熱重量分析曲線を(2)
として示す。
疎水性沈殿珪酸の製造
得られた沈殿珪酸5 Kfを流動式混合e(株式会社三
井三池製作所製 ヘンシェルミキサー)に仕込み、粉体
止部よりジメチルシリコーン油(信越化学工業株式会社
IR商品名K T’ −96−50CE+)s、o o
c’r投入し5分間光分に混合攪拌する。侍られた混
合粉体を外部電熱儲および攪拌翼を有する加熱槽内に投
入し、120±10℃の温度で50分間ゆっくシ攪拌し
なから力り熱乾燥する。この時発生する水分は吸引ファ
ンを用いて槽外に取り除いた。加熱乾燥の50分間の維
持の後、同一の反応槽を用いて10℃7m1nの昇温運
髪で250℃の温暖まで昇温し60分曲焼き付は処理を
した。
井三池製作所製 ヘンシェルミキサー)に仕込み、粉体
止部よりジメチルシリコーン油(信越化学工業株式会社
IR商品名K T’ −96−50CE+)s、o o
c’r投入し5分間光分に混合攪拌する。侍られた混
合粉体を外部電熱儲および攪拌翼を有する加熱槽内に投
入し、120±10℃の温度で50分間ゆっくシ攪拌し
なから力り熱乾燥する。この時発生する水分は吸引ファ
ンを用いて槽外に取り除いた。加熱乾燥の50分間の維
持の後、同一の反応槽を用いて10℃7m1nの昇温運
髪で250℃の温暖まで昇温し60分曲焼き付は処理を
した。
この間ケ体が均一に加熱されるよう攪拌は袖続された。
次いで冷却後、得られた粉体を取り出し、物性の測定を
行ったところ次のようであった。
行ったところ次のようであった。
BRT法はよる比表面積
73m”/r
電子顕微鏡写真による1次粒子の平均粒度21mμ
光透過式粒度分布測定(溶媒;エタノール)による2次
粒子の平均粒度 1.2μ あ・よび2次粒子の最大粒子径 8μ 熱重量分析による室温〜150℃における減量
23% および室温〜350℃における減量 A5% 4チ縣濁スラリー(水/エタノール=1/1.)の’p
H11,7 DBA吸着忙0. D mg −moユ/Kp撥水性能
50 min なお、第1図にこの疎水性沈殿珪酸と市販未処理沈殿珪
酸微粉末との熱重希分析曲響をそれぞれ(])と+31
. f4+として示す。なお+31. +41−市販未
処理沈殿珪酸微粉末のうち、減量が大きいものと小さい
ものとの代表例211−楯げたものである。
粒子の平均粒度 1.2μ あ・よび2次粒子の最大粒子径 8μ 熱重量分析による室温〜150℃における減量
23% および室温〜350℃における減量 A5% 4チ縣濁スラリー(水/エタノール=1/1.)の’p
H11,7 DBA吸着忙0. D mg −moユ/Kp撥水性能
50 min なお、第1図にこの疎水性沈殿珪酸と市販未処理沈殿珪
酸微粉末との熱重希分析曲響をそれぞれ(])と+31
. f4+として示す。なお+31. +41−市販未
処理沈殿珪酸微粉末のうち、減量が大きいものと小さい
ものとの代表例211−楯げたものである。
第1図で150℃付近の変曲点1での減員が沈殿珪酸に
、物理吸着した水分全表わし、この温暖以上での減量は
沈殿珪酸のシラノール蹟に水素納会した水分およびシラ
ノール基同士の縮合(でより発生する水分に起因する減
量と考えられる。
、物理吸着した水分全表わし、この温暖以上での減量は
沈殿珪酸のシラノール蹟に水素納会した水分およびシラ
ノール基同士の縮合(でより発生する水分に起因する減
量と考えられる。
本図より未処理沈殿珪酸に比較して、本発明の疎水性沈
殿珪酸は水分の吸着量が極めて少ないことがわかる。な
お、曲#(1)における400〜500℃の減量は、沈
殿珪酸表面に処理場れでいたジメチルシリコーン油の焼
失によるものである。
殿珪酸は水分の吸着量が極めて少ないことがわかる。な
お、曲#(1)における400〜500℃の減量は、沈
殿珪酸表面に処理場れでいたジメチルシリコーン油の焼
失によるものである。
実施例2〜3.比較例1〜4
実施例1に用いた沈殿F1″夕″あ・よびジメチルシリ
コーン油を用い温暖条件を変えた以外に同じ方法(でよ
って1押水性沈殿珪酸を得た。
コーン油を用い温暖条件を変えた以外に同じ方法(でよ
って1押水性沈殿珪酸を得た。
結果を表1に示す。
表 1
※)黒く変色したため以下の分析は省略実施例4〜7.
比較例5〜7 実施向1に用いた沈殿珪酸と各種粘(を有するジメチル
ポリシロキサン油(KF96シリーズ)を用いた以外は
爽8例1と同様な処理を行った。
比較例5〜7 実施向1に用いた沈殿珪酸と各種粘(を有するジメチル
ポリシロキサン油(KF96シリーズ)を用いた以外は
爽8例1と同様な処理を行った。
又、ジメチルポリシロキサン油の変量も行った。
結果全表2に示す。
表2
実権例8〜9.比較例8〜9
奥M+’>+;1に用いた沈殿珪酸全各種水分に調整し
た以外は実施列1と同じ処決により疎水性沈殿畦面を得
た。結果ケ表6に示す。
た以外は実施列1と同じ処決により疎水性沈殿畦面を得
た。結果ケ表6に示す。
表 6
実施例10〜11.比較例10〜12
実施例1における沈殿珪酸の製造と同様の方法により、
アルカリ竹反応スラリー液を得た後、適宜キ硫酸を少量
ずつ加え未反応アルカリ量を変動させたスラリー液とし
、以下同様の方法により、Na2O含肩量の異なった微
粉沈殿珪酸を得た。得られた沈殿珪酸から実迦例1と同
僚の方法により疎水性沈殿珪酸金得た。
アルカリ竹反応スラリー液を得た後、適宜キ硫酸を少量
ずつ加え未反応アルカリ量を変動させたスラリー液とし
、以下同様の方法により、Na2O含肩量の異なった微
粉沈殿珪酸を得た。得られた沈殿珪酸から実迦例1と同
僚の方法により疎水性沈殿珪酸金得た。
結果ケ表4に示す。
表4
※1) 微粉砕できず2次粒子の最大粒子径が25μで
あった。
あった。
※2) 実施例10に用いた粉体ケスプレー乾燥たけで
未粉枠のまま使用、最大粒子径(グ約500μであった
。
未粉枠のまま使用、最大粒子径(グ約500μであった
。
第1必は熱1世分析によるn度と減量の関係牙示す熱重
量分析TllTl鞭である。 曲%!H1); 本発明による実施例1で得られる疎
水性沈殿f+酸 曲醜(2): 不発明の実施例1で得られた原料沈毅
珪酸 曲紳+3+ 、 f41 ; 市販沈殿珪酸微粉末手
続補正書(方式) 昭和57年?月27日 特許庁長官 着 杉 和 夫 殿 1事件の表示 昭和57年特許願第89874号 2発明の名称 疎水性沈殿珪酸およびその製造方法 3−M正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 日本シリカニ業株式会社4補正命令の日
付 昭和57年8月13日 (発送日 昭和57年8月31日) 5補正の対象 「図面」 6@正の内容 (1)図面 「別紙のとおり」 図面の浄書(内容に変更なし) 7添付書類の目録 (1)適正な図面 1通
量分析TllTl鞭である。 曲%!H1); 本発明による実施例1で得られる疎
水性沈殿f+酸 曲醜(2): 不発明の実施例1で得られた原料沈毅
珪酸 曲紳+3+ 、 f41 ; 市販沈殿珪酸微粉末手
続補正書(方式) 昭和57年?月27日 特許庁長官 着 杉 和 夫 殿 1事件の表示 昭和57年特許願第89874号 2発明の名称 疎水性沈殿珪酸およびその製造方法 3−M正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 日本シリカニ業株式会社4補正命令の日
付 昭和57年8月13日 (発送日 昭和57年8月31日) 5補正の対象 「図面」 6@正の内容 (1)図面 「別紙のとおり」 図面の浄書(内容に変更なし) 7添付書類の目録 (1)適正な図面 1通
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、BET法による比表面積 50〜150が/2 電子顕微鏡写真による1次粒子の平均粒度15〜25m
μ 光透過式粒度分布測定(溶媒;エタノール)による2次
粒子の平均粒度 5μ以下 および2次粒子の最大粒子径 15μ以下 #毒素分析による室温〜150℃における減i′
50%以下 および室温〜350℃における汲置 4.0%以下 4%U渇スラスラリ−/工゛タノール=1/1)のpH
9,0〜120 、ジブチルアミン吸着量 5+q+−mol/Kf以下 撥水性能 30 min以上 なることを特徴とする疎水性沈殿珪酸。 2 アルカリ金属珪酸塩と鉱酸とを反応させて得られた
光透過式粒度分布測定による2次粒子の平均粒v
5μ以下 105℃1時間後の乾燥減量 4.0%以上 Nano含有量 0.5−40% なる沈殿珪酸100部と、25℃で50〜500センチ
ストークスを有するシリコーン佃5部以上の混合物−’
a−100〜150℃の温度で60分間以上乾燥処理し
、次いで200〜350℃の温度で30分間以上焼き付
は処理することをt#f徴とする BET法による比表面倒 50〜150m’/り 紙子櫓微蹄丸興による1次校子の平均生7明15〜25
mμ 光透過式粒度分布測足(溶媒;エタノール)による2次
粒子の平均粒度 5μ以下 および2次粒子の最大粒子径 15μ以下 熱重量分析による室温〜150℃における減量
50%以下 および室温〜650℃における減量 4.0%以下 4%懸濁スラリー(水/エタノール=171)のpH9
−0〜12.0 ジプチルアミン吸着竜 5■−mol乃以下 撥水性能 50 min、以上 なる疎水性沈殿珪酸の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8987482A JPS58208124A (ja) | 1982-05-28 | 1982-05-28 | 疎水性沈殿珪酸およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8987482A JPS58208124A (ja) | 1982-05-28 | 1982-05-28 | 疎水性沈殿珪酸およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58208124A true JPS58208124A (ja) | 1983-12-03 |
Family
ID=13982908
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8987482A Pending JPS58208124A (ja) | 1982-05-28 | 1982-05-28 | 疎水性沈殿珪酸およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58208124A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998038855A1 (en) * | 1997-03-05 | 1998-09-11 | Engelhard Corporation | Aqueous dispersion of hydrophobic particles and films produced thereby |
JP2000319513A (ja) * | 1999-05-12 | 2000-11-21 | Nippon Silica Ind Co Ltd | シリコーンゴム補強充填剤 |
WO2016093221A1 (ja) * | 2014-12-10 | 2016-06-16 | 東ソー・シリカ株式会社 | 疎水性シリカ及びその製造方法 |
JP2016124714A (ja) * | 2014-12-26 | 2016-07-11 | 三菱マテリアル株式会社 | シリカゾル分散液及びシリカ多孔質膜形成用組成物並びにシリカ多孔質膜 |
JP2021527734A (ja) * | 2018-06-15 | 2021-10-14 | ダブリュー・アール・グレース・アンド・カンパニー−コーンW R Grace & Co−Conn | 消泡剤活性物質、その製造方法、及び消泡配合物 |
-
1982
- 1982-05-28 JP JP8987482A patent/JPS58208124A/ja active Pending
Cited By (9)
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