JP3462610B2 - 疎水性メタチタン酸微粒子及びその製造方法 - Google Patents
疎水性メタチタン酸微粒子及びその製造方法Info
- Publication number
- JP3462610B2 JP3462610B2 JP07491195A JP7491195A JP3462610B2 JP 3462610 B2 JP3462610 B2 JP 3462610B2 JP 07491195 A JP07491195 A JP 07491195A JP 7491195 A JP7491195 A JP 7491195A JP 3462610 B2 JP3462610 B2 JP 3462610B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metatitanic acid
- fine particles
- hydrophobic
- acid
- same
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、疎水性及び分散性に優
れ、塗料、プラスチック、繊維などの紫外線吸収剤や、
電子写真用トナーの帯電調整剤、流動化剤に用いられる
メタチタン酸微粒子に関する。
れ、塗料、プラスチック、繊維などの紫外線吸収剤や、
電子写真用トナーの帯電調整剤、流動化剤に用いられる
メタチタン酸微粒子に関する。
【０００２】
【従来の技術】酸化チタンの超微粒子は紫外線カットの
目的で化粧品、塗料、インキ、プラスチック等に使用さ
れる他、電子写真用トナーの帯電調整剤、流動化剤等に
も広く使用されている。これらの用途には、分散性の向
上や吸湿性の防止のために、表面を疎水化処理された酸
化チタンが使用されている。
目的で化粧品、塗料、インキ、プラスチック等に使用さ
れる他、電子写真用トナーの帯電調整剤、流動化剤等に
も広く使用されている。これらの用途には、分散性の向
上や吸湿性の防止のために、表面を疎水化処理された酸
化チタンが使用されている。
【０００３】従来、ベースとなる微粒子としては、四塩
化チタンやチタンアルコキシドの気相酸化により合成さ
れた酸化チタンや、硫酸法で脱水焼成された酸化チタン
であり、これらに気相中で（特開平１−１５３５２９号
公報）あるいは水溶液中で（特開平５−１９５２８号公
報、特開平２−２１６４４０号公報）シランカップリン
グ剤の処理を行うものであったが、メタチタン酸を被覆
対象とするものはなかった。又、チタンアルコキシドの
気相酸化により合成された酸化チタンにシランカップリ
ング剤の処理を行ったものは、疎水化度、比表面積が高
く、分散性も良好であるが高価である。一方、四塩化チ
タンの気相酸化により合成された酸化チタンや硫酸法で
脱水焼成された酸化チタンにシランカップリング剤の処
理を行ったものは比較的安価に製造できるが、比表面積
が小さく、分散性も劣るものであった。
化チタンやチタンアルコキシドの気相酸化により合成さ
れた酸化チタンや、硫酸法で脱水焼成された酸化チタン
であり、これらに気相中で（特開平１−１５３５２９号
公報）あるいは水溶液中で（特開平５−１９５２８号公
報、特開平２−２１６４４０号公報）シランカップリン
グ剤の処理を行うものであったが、メタチタン酸を被覆
対象とするものはなかった。又、チタンアルコキシドの
気相酸化により合成された酸化チタンにシランカップリ
ング剤の処理を行ったものは、疎水化度、比表面積が高
く、分散性も良好であるが高価である。一方、四塩化チ
タンの気相酸化により合成された酸化チタンや硫酸法で
脱水焼成された酸化チタンにシランカップリング剤の処
理を行ったものは比較的安価に製造できるが、比表面積
が小さく、分散性も劣るものであった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、疎水
化度、比表面積が高く、分散性の良好な微粒子を比較的
容易にしかも安価に提供するものであり、具体的には、
高価であるチタンアルコキシドを使用せず、又、四塩化
チタンの気相法や硫酸法で得られる従来の酸化チタンよ
り高比表面積で、かつ、分散性の良い微粒子を製造する
ことを課題とした。
化度、比表面積が高く、分散性の良好な微粒子を比較的
容易にしかも安価に提供するものであり、具体的には、
高価であるチタンアルコキシドを使用せず、又、四塩化
チタンの気相法や硫酸法で得られる従来の酸化チタンよ
り高比表面積で、かつ、分散性の良い微粒子を製造する
ことを課題とした。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、疎水化
度、比表面積及び良好な分散性を保持した微粒子を開発
するため鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成させたも
のである。
度、比表面積及び良好な分散性を保持した微粒子を開発
するため鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成させたも
のである。
【０００６】すなわち、本発明は、硫酸法加水分解反応
により合成されたメタチタン酸の塩酸解膠により得られ
た非凝集性スラリーに、水系でアルコキシシランを処理
することを特徴とする疎水性メタチタン酸微粒子を提供
するものである。
により合成されたメタチタン酸の塩酸解膠により得られ
た非凝集性スラリーに、水系でアルコキシシランを処理
することを特徴とする疎水性メタチタン酸微粒子を提供
するものである。
【０００７】本発明にかかる疎水性メタチタン酸微粒子
は、基体であるメタチタン酸に対して、アルコキシシラ
ンとして１０〜１００重量％被覆させ、１００〜１９０
℃にて乾燥することにより得られる。
は、基体であるメタチタン酸に対して、アルコキシシラ
ンとして１０〜１００重量％被覆させ、１００〜１９０
℃にて乾燥することにより得られる。
【０００８】本発明の基体となるメタチタン酸は、硫酸
法加水分解反応により得られるもので、電子顕微鏡写真
による一次粒径が０．０１〜０．１μｍのものであれば
良い。
法加水分解反応により得られるもので、電子顕微鏡写真
による一次粒径が０．０１〜０．１μｍのものであれば
良い。
【０００９】次に本発明による疎水性メタチタン酸微粒
子を完成させた経過について説明を行う。
子を完成させた経過について説明を行う。
【００１０】疎水性微粒子を得るために、メタチタン酸
を乾燥・焼成した粉末を粉砕・分散することで単分散化
をはかり、水系でアルコキシシランを処理する方法を検
討したが、この方法では、特にメタチタン酸の粒径が細
かくなるとメタチタン酸の乾燥・焼成時に強い凝集を起
こした。そのため、疎水化度を高くすることはできた
が、比表面積が小さく、分散性の劣るものであり、従来
からある超微粒子酸化チタンと大差ないものとなった。
そこで、この問題を解決するための検討を続けた結果、
メタチタン酸を塩酸解膠し、非凝集性のスラリーとした
状態でアルコキシシランを添加し被覆処理を行うことに
より、含水物であるメタチタン酸であるにもかかわら
ず、固液分離し、乾燥した粉末は高い疎水化度を有し、
しかも高い比表面積を有しており乾燥後も非凝集性を維
持した分散性の良好な微粒子であることが判明し本発明
を完成するに至った。
を乾燥・焼成した粉末を粉砕・分散することで単分散化
をはかり、水系でアルコキシシランを処理する方法を検
討したが、この方法では、特にメタチタン酸の粒径が細
かくなるとメタチタン酸の乾燥・焼成時に強い凝集を起
こした。そのため、疎水化度を高くすることはできた
が、比表面積が小さく、分散性の劣るものであり、従来
からある超微粒子酸化チタンと大差ないものとなった。
そこで、この問題を解決するための検討を続けた結果、
メタチタン酸を塩酸解膠し、非凝集性のスラリーとした
状態でアルコキシシランを添加し被覆処理を行うことに
より、含水物であるメタチタン酸であるにもかかわら
ず、固液分離し、乾燥した粉末は高い疎水化度を有し、
しかも高い比表面積を有しており乾燥後も非凝集性を維
持した分散性の良好な微粒子であることが判明し本発明
を完成するに至った。
【００１１】本発明における製造方法の詳細な説明を引
き続き行う。
き続き行う。
【００１２】原料となるメタチタン酸の粒径の範囲の下
限は、好ましくは０．０１μｍ、さらに好ましくは０．
０２μｍであり、小さすぎるとアルコキシシランを処理
しても凝集を十分におさえきれない。一方、粒径の上限
は、好ましくは０．０７μｍ、さらに好ましくは０．０
５μｍである。大きすぎると解膠速度が非常に遅くなり
実用的ではないからである。
限は、好ましくは０．０１μｍ、さらに好ましくは０．
０２μｍであり、小さすぎるとアルコキシシランを処理
しても凝集を十分におさえきれない。一方、粒径の上限
は、好ましくは０．０７μｍ、さらに好ましくは０．０
５μｍである。大きすぎると解膠速度が非常に遅くなり
実用的ではないからである。
【００１３】メタチタン酸の解膠処理方法として、いく
つかの方法がある。例えば、凝集メタチタン酸のスラリ
ーにアンモニアや苛性アルカリを加え、中和後、ろ過、
水洗して残存している硫酸根を除去し、引き続き塩酸、
硝酸、トリクロル酢酸などの強塩基性一塩基酸を加えて
ｐＨ３以下、好ましくはｐＨ０．９〜２．０にする方法
がある。又、脱硫酸根の処理を行うことなく、凝集メタ
チタン酸のスラリーに、硫酸根と反応して不溶性の硫酸
塩を形成すると同時に一塩基酸を形成するような塩、例
えば塩化バリウムを添加する方法等がある。異物質の混
入がなく、又、アルコキシシランを溶解し、反応し易い
状態とするには、前者の方法、特に塩酸を使用して解膠
する方法がより適している。
つかの方法がある。例えば、凝集メタチタン酸のスラリ
ーにアンモニアや苛性アルカリを加え、中和後、ろ過、
水洗して残存している硫酸根を除去し、引き続き塩酸、
硝酸、トリクロル酢酸などの強塩基性一塩基酸を加えて
ｐＨ３以下、好ましくはｐＨ０．９〜２．０にする方法
がある。又、脱硫酸根の処理を行うことなく、凝集メタ
チタン酸のスラリーに、硫酸根と反応して不溶性の硫酸
塩を形成すると同時に一塩基酸を形成するような塩、例
えば塩化バリウムを添加する方法等がある。異物質の混
入がなく、又、アルコキシシランを溶解し、反応し易い
状態とするには、前者の方法、特に塩酸を使用して解膠
する方法がより適している。
【００１４】アルコキシシランを添加するときは、好ま
しくはｐＨ３．０以下、さらに好ましくはｐＨ２．０以
下で行う。ｐＨを上記値以下にすることによって、メタ
チタン酸の再凝集がさらに上首尾に阻止できる。また、
アルコキシシランを添加するときは、好ましくはｐＨ
０．９以上で行う。ｐＨを上記値以上にすることによっ
て、アルコキシシランの被覆処理を均一に促進できる。
又、撹拌保持した後、加水分解反応を促進する目的で、
アルカリを用いて好ましくはｐＨ４〜９、さらに好まし
くは５〜７になるように中和を行う。又、反応スラリー
の温度を、好ましくは２０〜１００℃、さらに好ましく
は３０〜７０℃に加温する。
しくはｐＨ３．０以下、さらに好ましくはｐＨ２．０以
下で行う。ｐＨを上記値以下にすることによって、メタ
チタン酸の再凝集がさらに上首尾に阻止できる。また、
アルコキシシランを添加するときは、好ましくはｐＨ
０．９以上で行う。ｐＨを上記値以上にすることによっ
て、アルコキシシランの被覆処理を均一に促進できる。
又、撹拌保持した後、加水分解反応を促進する目的で、
アルカリを用いて好ましくはｐＨ４〜９、さらに好まし
くは５〜７になるように中和を行う。又、反応スラリー
の温度を、好ましくは２０〜１００℃、さらに好ましく
は３０〜７０℃に加温する。
【００１５】アルコキシシランとしては、 一般式
ＲｎＳｉＲ'ｍ Ｒ ：アルキル基、フェニル基、ビニル基、グリドキシ
基、メルカプト基、メタクリル基を含む炭化水素基 ｎ ：１〜３の整数 Ｒ'：アルコキシ基 ｍ ：１〜３の整数 ｎ＋ｍ＝４ で表されるものであり、例えば、ビニルトリメトキシシ
ラン、プロピルトリメトキシシラン、ｉ−ブチルトリメ
トキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘ
キシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシ
シラン、ｎ−ドデシルトリエトキシシラン、フェニルト
リメトキシシラン、３−グリドキシプロピルトリメトキ
シシラン等を挙げることができ、炭化水素基Ｒの炭素の
数が２〜１０のものが好ましい。炭素数が１のものは分
子鎖長が短いため疎水化度が低く、又、乾燥時に粒子間
が十分に離れないため凝集が起こり分散性が低下する。
一方、炭素数が１１以上のものは分子鎖長が長過ぎて分
子鎖が絡み凝集を起こすとともに、比表面積の低下が大
きく好ましくない。又、疎水化度を上げるためには、ポ
リジメチルシロキサン等シリコーンオイルのエマルジョ
ンやチタネート系のカップリング剤も有効であるが、分
子鎖が長いため、同様の理由で好ましくない。
ＲｎＳｉＲ'ｍ Ｒ ：アルキル基、フェニル基、ビニル基、グリドキシ
基、メルカプト基、メタクリル基を含む炭化水素基 ｎ ：１〜３の整数 Ｒ'：アルコキシ基 ｍ ：１〜３の整数 ｎ＋ｍ＝４ で表されるものであり、例えば、ビニルトリメトキシシ
ラン、プロピルトリメトキシシラン、ｉ−ブチルトリメ
トキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘ
キシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシ
シラン、ｎ−ドデシルトリエトキシシラン、フェニルト
リメトキシシラン、３−グリドキシプロピルトリメトキ
シシラン等を挙げることができ、炭化水素基Ｒの炭素の
数が２〜１０のものが好ましい。炭素数が１のものは分
子鎖長が短いため疎水化度が低く、又、乾燥時に粒子間
が十分に離れないため凝集が起こり分散性が低下する。
一方、炭素数が１１以上のものは分子鎖長が長過ぎて分
子鎖が絡み凝集を起こすとともに、比表面積の低下が大
きく好ましくない。又、疎水化度を上げるためには、ポ
リジメチルシロキサン等シリコーンオイルのエマルジョ
ンやチタネート系のカップリング剤も有効であるが、分
子鎖が長いため、同様の理由で好ましくない。
【００１６】アルコキシシランの被覆量は、基体のメタ
チタン酸に対して１０〜１００重量％好ましくは、２０
〜８０％、さらに好ましくは、２５〜５０％である。少
な過ぎると疎水化度が低くなり、多過ぎると凝集が起こ
るとともに、比表面積も低下する。なお、アルコキシシ
ランは２種以上を併用して用いることもできる。
チタン酸に対して１０〜１００重量％好ましくは、２０
〜８０％、さらに好ましくは、２５〜５０％である。少
な過ぎると疎水化度が低くなり、多過ぎると凝集が起こ
るとともに、比表面積も低下する。なお、アルコキシシ
ランは２種以上を併用して用いることもできる。
【００１７】中和に用いるアルカリとしては、例えば、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、アンモニア水、アン
モニアガス等を使用することができる。
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、アンモニア水、アン
モニアガス等を使用することができる。
【００１８】水洗後の乾燥温度は１００℃〜１９０℃、
好ましくは１１０℃〜１７０℃である。低過ぎると乾燥
効率が悪く、疎水化度が低くなる。高過ぎると、炭化水
素基の熱分解が起り、変色と疎水化度の低下が起こる。
好ましくは１１０℃〜１７０℃である。低過ぎると乾燥
効率が悪く、疎水化度が低くなる。高過ぎると、炭化水
素基の熱分解が起り、変色と疎水化度の低下が起こる。
【００１９】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明する。以下の実施例は単に例示のために記すもので
あり、発明の範囲がこれらによって制限されるものでは
ない。
説明する。以下の実施例は単に例示のために記すもので
あり、発明の範囲がこれらによって制限されるものでは
ない。
【００２０】［実施例１］粒径が０．０３μｍのメタチ
タン酸スラリーに撹拌しながら４Ｎ水酸化ナトリウム水
溶液を加えｐＨ９．０として１時間撹拌保持後、６Ｎ塩
酸にてｐＨ５．５まで中和し、ろ過、水洗を行った。洗
浄済ケーキに水を加え再びスラリーとし、撹拌をしなが
ら６Ｎ塩酸を加えｐＨ１．２とし２時間撹拌保持し、解
膠処理を行った。この解膠スラリーからメタチタン酸と
して１００ｇ分を分取し、３５℃に加温保持し撹拌しな
がら、エチルトリメトキシシラン４０ｇ（４０重量％）
を添加し３０分間撹拌保持後８Ｎ水酸化ナトリウム水溶
液を加えｐＨ６．５まで中和し、ろ過、水洗を行った。
タン酸スラリーに撹拌しながら４Ｎ水酸化ナトリウム水
溶液を加えｐＨ９．０として１時間撹拌保持後、６Ｎ塩
酸にてｐＨ５．５まで中和し、ろ過、水洗を行った。洗
浄済ケーキに水を加え再びスラリーとし、撹拌をしなが
ら６Ｎ塩酸を加えｐＨ１．２とし２時間撹拌保持し、解
膠処理を行った。この解膠スラリーからメタチタン酸と
して１００ｇ分を分取し、３５℃に加温保持し撹拌しな
がら、エチルトリメトキシシラン４０ｇ（４０重量％）
を添加し３０分間撹拌保持後８Ｎ水酸化ナトリウム水溶
液を加えｐＨ６．５まで中和し、ろ過、水洗を行った。
【００２１】ろ過、水洗済ケーキは１５０℃で乾燥した
後、エアジェット方式による微粉砕機で微粉砕し、目的
とする疎水性メタチタン酸微粒子を得た。
後、エアジェット方式による微粉砕機で微粉砕し、目的
とする疎水性メタチタン酸微粒子を得た。
【００２２】［実施例２］ 実施例１において、エチル
トリメトキシシランをｎ−プロピルトリメトキシシラン
としたほかは、同例の場合と同様に処理して、目的とす
る疎水性メタチタン酸微粒子を得た。
トリメトキシシランをｎ−プロピルトリメトキシシラン
としたほかは、同例の場合と同様に処理して、目的とす
る疎水性メタチタン酸微粒子を得た。
【００２３】［実施例３］ 実施例１において、エチル
トリメトキシシランをｎ−ブチルトリメトキシシランと
し、乾燥温度１５０℃を１７０℃としたほかは、同例の
場合と同様に処理して、目的とする疎水性メタチタン酸
微粒子を得た。
トリメトキシシランをｎ−ブチルトリメトキシシランと
し、乾燥温度１５０℃を１７０℃としたほかは、同例の
場合と同様に処理して、目的とする疎水性メタチタン酸
微粒子を得た。
【００２４】［実施例４］ 実施例１において、エチル
トリメトキシシランをｉ−ブチルトリメトキシシランと
し、乾燥温度１５０℃を１７０℃としたほかは、同例の
場合と同様に処理して、目的とする疎水性メタチタン酸
微粒子を得た。
トリメトキシシランをｉ−ブチルトリメトキシシランと
し、乾燥温度１５０℃を１７０℃としたほかは、同例の
場合と同様に処理して、目的とする疎水性メタチタン酸
微粒子を得た。
【００２５】［実施例５］ 実施例１において、エチル
トリメトキシシランをｎ−ヘキシルトリメトキシシラン
としたほかは、同例の場合と同様に処理して、目的とす
る疎水性メタチタン酸微粒子を得た。
トリメトキシシランをｎ−ヘキシルトリメトキシシラン
としたほかは、同例の場合と同様に処理して、目的とす
る疎水性メタチタン酸微粒子を得た。
【００２６】［実施例６］ 実施例１において、エチル
トリメトキシシラン４０ｇをｎ−デシルトリメトキシシ
ラン３０ｇ（３０重量％）としたほかは、同例の場合と
同様に処理して、目的とする疎水性メタチタン酸微粒子
を得た。
トリメトキシシラン４０ｇをｎ−デシルトリメトキシシ
ラン３０ｇ（３０重量％）としたほかは、同例の場合と
同様に処理して、目的とする疎水性メタチタン酸微粒子
を得た。
【００２７】［実施例７］ 実施例１において、エチル
トリメトキシシラン４０ｇをｎ−ブチルトリメトキシシ
ラン５０ｇ（５０重量％）とし、乾燥温度１５０℃を１
７０℃としたほかは、同例の場合と同様に処理して、目
的とする疎水性メタチタン酸微粒子を得た。
トリメトキシシラン４０ｇをｎ−ブチルトリメトキシシ
ラン５０ｇ（５０重量％）とし、乾燥温度１５０℃を１
７０℃としたほかは、同例の場合と同様に処理して、目
的とする疎水性メタチタン酸微粒子を得た。
【００２８】［実施例８］ 実施例１において、粒径が
０．０３μｍのメタチタン酸の代わりに粒径が０．０２
μｍのメタチタン酸を用い、エチルトリメトキシシラン
４０ｇをｎ−ブチルトリメトキシシラン４０ｇ（４０重
量％）とし乾燥温度１５０℃を１７０℃としたほかは、
同例の場合と同様に処理して、目的とする疎水性メタチ
タン酸微粒子を得た。
０．０３μｍのメタチタン酸の代わりに粒径が０．０２
μｍのメタチタン酸を用い、エチルトリメトキシシラン
４０ｇをｎ−ブチルトリメトキシシラン４０ｇ（４０重
量％）とし乾燥温度１５０℃を１７０℃としたほかは、
同例の場合と同様に処理して、目的とする疎水性メタチ
タン酸微粒子を得た。
【００２９】［実施例９］ 実施例１において、粒径が
０．０３μｍのメタチタン酸の代わりに粒径が０．０２
μｍのメタチタン酸を用い、エチルトリメトキシシラン
をｉ−ブチルトリメトキシシランとし、乾燥温度１５０
℃を１７０℃としたほかは、同例の場合と同様に処理し
て、目的とする疎水性メタチタン酸微粒子を得た。
０．０３μｍのメタチタン酸の代わりに粒径が０．０２
μｍのメタチタン酸を用い、エチルトリメトキシシラン
をｉ−ブチルトリメトキシシランとし、乾燥温度１５０
℃を１７０℃としたほかは、同例の場合と同様に処理し
て、目的とする疎水性メタチタン酸微粒子を得た。
【００３０】［実施例１０］ 実施例１において、粒径
が０．０３μｍのメタチタン酸の代わりに粒径が０．０
４μｍのメタチタン酸を用い、エチルトリメトキシシラ
ンをｎ−ブチルトリメトキシシランとし、乾燥温度１５
０℃を１７０℃としたほかは、同例の場合と同様に処理
して、目的とする疎水性メタチタン酸微粒子を得た。
が０．０３μｍのメタチタン酸の代わりに粒径が０．０
４μｍのメタチタン酸を用い、エチルトリメトキシシラ
ンをｎ−ブチルトリメトキシシランとし、乾燥温度１５
０℃を１７０℃としたほかは、同例の場合と同様に処理
して、目的とする疎水性メタチタン酸微粒子を得た。
【００３１】［実施例１１］ 実施例１において、粒径
が０．０３μｍのメタチタン酸の代わりに粒径が０．０
４μｍのメタチタン酸を用い、エチルトリメトキシシラ
ン４０ｇをｎ−ブチルトリメトキシシラン３０ｇ（３０
重量％）とし、乾燥温度１５０℃を１７０℃としたほか
は、同例の場合と同様に処理して、目的とする疎水性メ
タチタン酸微粒子を得た。
が０．０３μｍのメタチタン酸の代わりに粒径が０．０
４μｍのメタチタン酸を用い、エチルトリメトキシシラ
ン４０ｇをｎ−ブチルトリメトキシシラン３０ｇ（３０
重量％）とし、乾燥温度１５０℃を１７０℃としたほか
は、同例の場合と同様に処理して、目的とする疎水性メ
タチタン酸微粒子を得た。
【００３２】［実施例１２］ 実施例１において、粒径
が０．０３μｍのメタチタン酸の代わりに粒径が０．０
５μｍのメタチタン酸を用い、エチルトリメトキシシラ
ン４０ｇをｎ−ブチルトリメトキシシラン３０ｇ（３０
重量％）とし、乾燥温度１５０℃を１７０℃としたほか
は、同例の場合と同様に処理して、目的とする疎水性メ
タチタン酸微粒子を得た。
が０．０３μｍのメタチタン酸の代わりに粒径が０．０
５μｍのメタチタン酸を用い、エチルトリメトキシシラ
ン４０ｇをｎ−ブチルトリメトキシシラン３０ｇ（３０
重量％）とし、乾燥温度１５０℃を１７０℃としたほか
は、同例の場合と同様に処理して、目的とする疎水性メ
タチタン酸微粒子を得た。
【００３３】［実施例１３］ 実施例１において、粒径
が０．０３μｍのメタチタン酸の代わりに粒径が０．０
７μｍのメタチタン酸を用い、エチルトリメトキシシラ
ン４０ｇをｎ−ブチルトリメトキシシラン２０ｇ（２０
重量％）とし、乾燥温度１５０℃を１７０℃としたほか
は、同例の場合と同様に処理して、目的とする疎水性メ
タチタン酸微粒子を得た。
が０．０３μｍのメタチタン酸の代わりに粒径が０．０
７μｍのメタチタン酸を用い、エチルトリメトキシシラ
ン４０ｇをｎ−ブチルトリメトキシシラン２０ｇ（２０
重量％）とし、乾燥温度１５０℃を１７０℃としたほか
は、同例の場合と同様に処理して、目的とする疎水性メ
タチタン酸微粒子を得た。
【００３４】［実施例１４］ 実施例３において、乾燥
温度１５０℃を１１０℃としたほかは、同例の場合と同
様に処理して、目的とする疎水性メタチタン酸微粒子を
得た。
温度１５０℃を１１０℃としたほかは、同例の場合と同
様に処理して、目的とする疎水性メタチタン酸微粒子を
得た。
【００３５】［比較例１］ 実施例１の粒径が０．０３
μｍのメタチタン酸解膠スラリーに４Ｎ水酸化ナトリウ
ム水溶液を加えｐＨ６．０とした後、ろ過、水洗した。
１１０℃で乾燥後３００℃で加熱脱水処理して得られた
親水性二酸化チタン粉末を水もどしし、湿式ボールミル
を用いて微粉砕スラリー化を行った。引き続き、この中
からＴｉＯ2として１００ｇ分のスラリーを分取し、撹
拌しながら６Ｎ塩酸を添加してｐＨを１．２とした。次
いで、３５℃に加温保持し、撹拌しながらｎ−ブチルト
リメトキシシラン２５ｇを添加し、３０分間撹拌保持後
８Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加え、ｐＨ６．５まで中
和し、ろ過、水洗を行った。
μｍのメタチタン酸解膠スラリーに４Ｎ水酸化ナトリウ
ム水溶液を加えｐＨ６．０とした後、ろ過、水洗した。
１１０℃で乾燥後３００℃で加熱脱水処理して得られた
親水性二酸化チタン粉末を水もどしし、湿式ボールミル
を用いて微粉砕スラリー化を行った。引き続き、この中
からＴｉＯ2として１００ｇ分のスラリーを分取し、撹
拌しながら６Ｎ塩酸を添加してｐＨを１．２とした。次
いで、３５℃に加温保持し、撹拌しながらｎ−ブチルト
リメトキシシラン２５ｇを添加し、３０分間撹拌保持後
８Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加え、ｐＨ６．５まで中
和し、ろ過、水洗を行った。
【００３６】ろ過、水洗済ケーキは１７０℃で乾燥した
後エアジェット方式による微粉砕機で微粉砕し、疎水性
酸化チタン微粒子を得た。
後エアジェット方式による微粉砕機で微粉砕し、疎水性
酸化チタン微粒子を得た。
【００３７】［比較例２］ 実施例１４の粒径が０．０
５μｍのメタチタン酸を用い、比較例１と同様に処理し
て疎水性酸化チタン微粒子を得た。
５μｍのメタチタン酸を用い、比較例１と同様に処理し
て疎水性酸化チタン微粒子を得た。
【００３８】［比較例３］ 実施例１の粒径が０．０３
μｍのメタチタン酸で、水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ
９．０とする脱硫酸根処理を行わず、そのまま６Ｎ塩酸
を加えｐＨ１．２とし２時間保持した。
μｍのメタチタン酸で、水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ
９．０とする脱硫酸根処理を行わず、そのまま６Ｎ塩酸
を加えｐＨ１．２とし２時間保持した。
【００３９】このメタチタン酸スラリーは硫酸根が残存
するため、解膠は起こらなかった。実施例１において、
解膠スラリーの代わりに未解膠スラリーを用い、エチル
トリメトキシシランをｎ−ブチルトリメトキシシラン、
乾燥温度１５０℃を１７０℃としたほかは、同例の場合
と同様に処理して疎水性メタチタン酸微粒子を得た。 ［比較例４］ 実施例１において、エチルトリメトキシ
シラン（Ｒの炭素数２）をメチルトリメトキシシラン
（炭素数１）としたほかは、同例の場合と同様に処理し
て、疎水性メタチタン酸微粒子を得た。
するため、解膠は起こらなかった。実施例１において、
解膠スラリーの代わりに未解膠スラリーを用い、エチル
トリメトキシシランをｎ−ブチルトリメトキシシラン、
乾燥温度１５０℃を１７０℃としたほかは、同例の場合
と同様に処理して疎水性メタチタン酸微粒子を得た。 ［比較例４］ 実施例１において、エチルトリメトキシ
シラン（Ｒの炭素数２）をメチルトリメトキシシラン
（炭素数１）としたほかは、同例の場合と同様に処理し
て、疎水性メタチタン酸微粒子を得た。
【００４０】［比較例５］ 実施例１において、エチル
トリメトキシシラン４０重量％をポリジメチルシロキサ
ンエマルジョン（東レ・ダウコーニング・シリコーン
（株）製ＳＭ−７０６０）有効成分として２５重量％と
したほかは、同例の場合と同様に処理して疎水性メタチ
タン酸微粒子を得た。
トリメトキシシラン４０重量％をポリジメチルシロキサ
ンエマルジョン（東レ・ダウコーニング・シリコーン
（株）製ＳＭ−７０６０）有効成分として２５重量％と
したほかは、同例の場合と同様に処理して疎水性メタチ
タン酸微粒子を得た。
【００４１】以上、実施例１〜１４、比較例１〜５で得
られた試料の測定結果を表１に示す。これらの測定値
は、下記の要領で測定した値である。
られた試料の測定結果を表１に示す。これらの測定値
は、下記の要領で測定した値である。
【００４２】（１）比表面積
ドイツ、シュトレーライン社製エリアメーターを用い、
ＢＥＴ法にて測定した。
ＢＥＴ法にて測定した。
【００４３】（２）疎水化度
２．５重量％毎のメタノールを含む水溶液を試験管に用
意しておき、少量の微粉末を投入し、沈降の有無を確認
した。疎水化度としては、沈降無重量％〜沈降有重量％
を疎水化度（％）として表示した。
意しておき、少量の微粉末を投入し、沈降の有無を確認
した。疎水化度としては、沈降無重量％〜沈降有重量％
を疎水化度（％）として表示した。
【００４４】（３）分散性
５０ミリリットルのガラスビーカーにメタノール４０ミ
リリットルと微粒子約１０ｍｇを採取し、日本エマソン
（株）製超音波洗浄器Ｂ１２００Ｊ１を用い５分間分散
した。
リリットルと微粒子約１０ｍｇを採取し、日本エマソン
（株）製超音波洗浄器Ｂ１２００Ｊ１を用い５分間分散
した。
【００４５】分散液は、日本分光（株）製Ｕｂｅｓｔ５
０を用い、３００ｎｍの透過率が１７．５％となる様メ
タノールで希釈調整した液の５５０ｎｍの値を測定し
た。５５０ｎｍの値が高く透明なものの方が大粒子が少
なく、分散性良好と判断した。
０を用い、３００ｎｍの透過率が１７．５％となる様メ
タノールで希釈調整した液の５５０ｎｍの値を測定し
た。５５０ｎｍの値が高く透明なものの方が大粒子が少
なく、分散性良好と判断した。
【００４６】
【表１】
＊１） ３００℃で加熱し、メタチタン酸を二酸化チタ
ンとしたもの。
ンとしたもの。
【００４７】＊２） 解膠処理を行っていない凝集性の
メタチタン酸。
メタチタン酸。
【００４８】
【発明の効果】本発明は、種々の分野に利用できる疎水
性及び比表面積が高く、分散性に優れた微粒子を比較的
容易にしかも安価に製造するものであり、工業的に高い
利点がある。
性及び比表面積が高く、分散性に優れた微粒子を比較的
容易にしかも安価に製造するものであり、工業的に高い
利点がある。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平７−70469（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−70470（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−53910（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−177070（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−186221（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−42811（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−194063（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−215520（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−144106（ＪＰ，Ａ)
特開 昭58−95614（ＪＰ，Ａ)
特開 昭57−67681（ＪＰ，Ａ)
特公 昭46−11085（ＪＰ，Ｂ１)
特公 昭45−18370（ＪＰ，Ｂ１)
特許141888（ＪＰ，Ｂ２)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C09C 1/36
C09C 3/12
Claims (3)
- 【請求項１】 基体であるメタチタン酸に対して、一般
式ＲｎＳｉＲ’ｍ（Ｒ：炭素数が２〜１０である炭化水
素基、Ｒ’：アルコキシ基、ｎ＝１〜３の整数、ｍ＝１
〜３の整数、ｎ＋ｍ＝４）で表されるアルコキシシラン
を１０〜１００重量％被覆処理して得られる疎水性メタ
チタン酸微粒子であって、粒径が０．０１〜０．１μ
ｍ、比表面積が１００〜３００ｍ2／ｇ、かつ、当該微
粒子をメタノール中に分散させて該分散液を３００ｎｍ
の透過率％が１７．５％となるよう調製した場合におい
て、その５５０ｎｍでの透過率が７０％以上を示す疎水
性メタチタン酸微粒子。 - 【請求項２】 疎水化度が２０〜７０％であることを特
徴とする請求項１記載の疎水性メタチタン酸微粒子。 - 【請求項３】 硫酸法加水分解反応により合成されたメ
タチタン酸を解膠処理し、基体であるメタチタン酸に対
してアルコキシシランを１０〜１００重量％処理した
後、アルカリで中和し、ろ過、洗浄後、１００〜１９０
℃で乾燥することを特徴とする請求項１又は２記載の疎
水性メタチタン酸微粒子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07491195A JP3462610B2 (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 疎水性メタチタン酸微粒子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07491195A JP3462610B2 (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 疎水性メタチタン酸微粒子及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08269359A JPH08269359A (ja) | 1996-10-15 |
| JP3462610B2 true JP3462610B2 (ja) | 2003-11-05 |
Family
ID=13561051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07491195A Expired - Lifetime JP3462610B2 (ja) | 1995-03-31 | 1995-03-31 | 疎水性メタチタン酸微粒子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3462610B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5965312A (en) * | 1996-05-16 | 1999-10-12 | Fuji Xerox Co., Ltd. | One-component developer |
| JP3327120B2 (ja) * | 1996-05-16 | 2002-09-24 | 富士ゼロックス株式会社 | 一成分系現像剤及び画像形成方法 |
| JP3327125B2 (ja) * | 1996-06-17 | 2002-09-24 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電潜像現像剤及び画像形成方法 |
| JP3451852B2 (ja) * | 1996-10-18 | 2003-09-29 | 富士ゼロックス株式会社 | 一成分系現像剤および画像形成方法 |
| US5891600A (en) * | 1996-10-14 | 1999-04-06 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Mono-component developer, method of forming image and method of forming multi-color image |
| JP3774956B2 (ja) * | 1996-10-31 | 2006-05-17 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成方法 |
| JP3525662B2 (ja) * | 1996-12-24 | 2004-05-10 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真用トナー組成物及び画像形成方法 |
| JP3575203B2 (ja) * | 1996-12-26 | 2004-10-13 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電荷像現像剤、画像形成方法及び画像形成装置 |
| JP4698637B2 (ja) * | 1997-03-27 | 2011-06-08 | 石原産業株式会社 | 二酸化チタン顔料の製造方法 |
| JP6876908B2 (ja) | 2016-12-12 | 2021-05-26 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 酸化チタン粒子及びその製造方法、光触媒形成用組成物、光触媒、並びに、構造体 |
| JP6961931B2 (ja) * | 2016-12-12 | 2021-11-05 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | メタチタン酸粒子及びその製造方法、光触媒形成用組成物、光触媒、並びに、構造体 |
| JP6939055B2 (ja) | 2017-04-26 | 2021-09-22 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | メタチタン酸粒子及びその製造方法、光触媒形成用組成物、光触媒、並びに構造体 |
| JP6939056B2 (ja) | 2017-04-26 | 2021-09-22 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 酸化チタン粒子及びその製造方法、光触媒形成用組成物、光触媒、並びに構造体 |
-
1995
- 1995-03-31 JP JP07491195A patent/JP3462610B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08269359A (ja) | 1996-10-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3462610B2 (ja) | 疎水性メタチタン酸微粒子及びその製造方法 | |
| JP2844405B2 (ja) | 疎水性酸化チタン微粒子の製造方法 | |
| DE602005003192T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines hydrophoben Kieselsäurepulvers | |
| EP0444798B1 (en) | Method for the preparation of titanium dioxide | |
| AU2006202179B2 (en) | Lower-energy process for preparing passivated inorganic nanoparticles | |
| JP3696993B2 (ja) | 二酸化チタン顔料の製造方法 | |
| CN107149943B (zh) | 偏钛酸粒子及其制造方法 | |
| EP0748362B1 (en) | PROCESS FOR PREPARING SILANIZED TiO 2 PIGMENTS USING A MEDIA MILL | |
| US3146119A (en) | Pigment treatment | |
| JP3571277B2 (ja) | 表面変性され熱分解的に製造された二酸化チタン、その製造方法およびその使用 | |
| JP2009517309A (ja) | 酸化亜鉛ナノ粒子 | |
| TW200536900A (en) | Surface-modified non-metal/metal oxides coated with silicon dioxide | |
| CN101796144A (zh) | 经环状物处理的金属氧化物 | |
| JP2007039323A (ja) | 疎水性シリカ粉末の製造法 | |
| JP2000053421A (ja) | 酸化チタンゾルおよびその製造方法 | |
| JP4495801B2 (ja) | ルチル型超微粒子二酸化チタンの製造方法 | |
| JPH11189416A (ja) | 無水アンチモン酸亜鉛の製造方法 | |
| WO2012067590A1 (en) | Coating of tio2 rutile nanoparticles in a suspension with hydrated sio2 and ai2o3 | |
| JPH1111948A (ja) | 安定なアナターゼ型二酸化チタン | |
| JP2008150232A (ja) | 光触媒酸化チタン原料用メタチタン酸スラリー及びその製造方法 | |
| JP2002523539A (ja) | ゴム組成物における抗−ｕｖ薬剤としての二酸化チタンの使用 | |
| JPS6411572B2 (ja) | ||
| JP2751000B2 (ja) | 表面改質酸化チタン微粒子の製造法 | |
| JP3732265B2 (ja) | 紡錘状微粒子二酸化チタン及びその製造方法 | |
| JPH101621A (ja) | 疎水性メタチタン酸微粒子及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080815 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090815 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100815 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100815 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110815 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120815 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120815 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130815 Year of fee payment: 10 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |