JP4495801B2 - ルチル型超微粒子二酸化チタンの製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、化粧料、塗料、インキ、プラスチックス等の紫外線遮蔽剤として使用されるシランカップリング剤で被覆した低活性のルチル形超微粒子二酸化チタンの製造方法に関する。さらに、この製造方法で得られたものはトナー、各種充填剤等の粉体の流動化剤、帯電量調整剤としても有用である。
【0002】
【従来の技術】
平均一次粒子径が0.1μm以下の二酸化チタンは超微粒子二酸化チタンと呼ばれ、可視光に対して透明性を有し、紫外線に対しては遮蔽能を有するため、この特性を利用して日焼け止め化粧料や紫外線遮蔽塗料として利用されている。
【0003】
超微粒子酸化チタンを製造する方法としては、従来より硫酸チタニル水溶液を加水分解してメタチタン酸を得、これをアルカリで処理し、さらに塩酸中で熟成して微小チタニアゾルを生成した後、乾燥または焼成する方法が知られているが、工程が複雑で工業的に有利ではなかった。
【0004】
四塩化チタンを気相にて加水分解して超微粒子二酸化チタンを製造する方法も知られているが、腐食性の強い四塩化チタンを高温下で反応させるため、製造装置がひじょうに高価となる。
【0005】
特開昭55−10428号公報にはチタンアルコキシドを水中で加水分解する超微粒子ニ酸化チタンの製造方法が、特開平1−145306号公報には気相でチタンアルコキシドと、水蒸気とを接触させ、加水分解する方法が開示されているが、これらは出発物質のチタンアルコキシドが高価であるため経済的ではない。
【0006】
また、一般的に超微粒子二酸化チタンは耐光性が低く、媒体である樹脂や油脂などの有機成分の劣化を紫外線下で著しく促進してしまうという問題があった。上記の四塩化チタンの気相加水分解で得られる超微粒子二酸化チタンは、アナタ−ゼ型が混合した結晶形であるため耐光性が劣り、硫酸チタニルからメタチタン酸を経て微小チタニアゾルを生成する方法ではルチル型結晶のものが得られ、超微粒子二酸化チタンの中では比較的耐光性が優れているものの、未だ十分ではなかった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、以上に述べた従来技術の問題点を克服し、工業的、経済的に有利で、耐光性が高く、化粧料や塗料中の有機系成分の劣化を促進することのない超微粒子二酸化チタンの製造方法を提供するためになされたものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、これらの問題を解決すべく鋭意検討した結果、四塩化チタン水溶液を加水分解してルチル核を有する微小チタニアゾルを調製し、これを分別した後、熱処理し、次いでアルコキシシラン化合物および/またはアミノアルコキシシラン化合物を表面被覆処理することによって耐光性が優れたルチル型超微粒子二酸化チタンが工業的、経済的に有利に得られることを見い出し本発明を完成した。
【0009】
すなわち、(1)四塩化チタン水溶液を5〜30℃に保持しながら、アルカリ溶液で中和加水分解してコロイド状の非晶質水酸化チタンを析出させ、これを60〜80℃の温度で1〜10時間熟成して平均結晶子径が5〜13nmである微小チタニアゾルを得る、四塩化チタン水溶液を加水分解する工程と、(2)前記の加水分解生成物を水中に分散させたスラリーに、攪拌しながらアルコキシシラン化合物および/またはアミノアルコキシシラン化合物を添加して、該加水分解生成物の表面にアルコキシシラン化合物および/またはアミノアルコキシシラン化合物を被覆処理する工程からなることを特徴とする電子写真用トナーの流動化剤または帯電量調整剤に用いるルチル型超微粒子二酸化チタンの製造方法である。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明では先ず、四塩化チタン水溶液を加水分解してルチル核を有する微小チタニアゾルを調製する。本発明においてルチル核を有する微小チタニアゾルを調製するには例えば、(1)TiO2として150〜200g/リットルの四塩化チタン水溶液を85℃〜沸点の温度で2〜10時間加熱して加水分解したり、(2)該四塩化チタン水溶液を5〜30℃に保持しながら、水酸化ナトリウムなどのアルカリ溶液で中和加水分解してコロイド状の非晶質水酸化チタンを析出させ、これを60〜80℃の温度で1〜10時間熟成する方法が挙げられる。
【0011】
本発明の製造方法ではこのように四塩化チタンを溶液中で加水分解反応を行うので、高価な出発原料を用いず、特別な製造装置も必要とせず、経済的に有利である。また、硫酸チタニル水溶液を出発物質とする方法では、硫酸チタニルを加水分解してメタチタン酸を得、これをアルカリで処理し、さらに塩酸中で熟成して微小チタニアゾルを得ていたが、本発明では微小チタニアゾルを得るまでの工程を大幅に短縮することができる。
【0012】
ルチル核を有する微小チタニアゾルとは、X線回折法による測定でルチル型結晶のピークを示す微小水和酸化チタンの水分散物のことであり、この水和酸化チタンは、一般に水酸化チタンと呼ばれる非晶質のメタチタン酸やオルトチタン酸などは異なるものである。その平均結晶子径は5〜13nmのものが好ましい。尚、ここでいう平均結晶子径とは(110)面のX線回折ピークよりシェラーの公式を用いて算出した値を用いている。
シェラ−の公式:DHKL=K*λ/βcosθ
DHKL:平均結晶子径(Å)
λ :X線の波長
β :回折ピークの半価幅
θ :Bragg‘s角
K :定数
【0013】
本発明では四塩化チタン水溶液の加水分解で得られるルチル核を有する微小チタニアゾルに後述の被覆処理をすることができ、また該チタニアゾルを100〜600℃の温度で熱処理してルチル型超微粒子二酸化チタンとした後、同様の被覆処理をすることもできる。例えば、上記のチタニアゾルを分別、洗浄し、平均一次粒子径が0.03μm以下、好ましくは0.005〜0.03μmとなるように100〜600℃の温度で熱処理してルチル型超微粒子二酸化チタンを製造することができる。熱処理には、分別、洗浄後の脱水ケーキを用いても、脱水ケーキを乾燥した粉体を用いてもよい。また、熱処理の雰囲気は、大気中等で行う酸化性雰囲気であっても、また窒素等の不活性ガスでパージして行う非酸化性雰囲気でもよいが、大気中で行うのが簡便であり好ましい。
【0014】
また、得られた二酸化チタン粒子を、必要に応じて公知の方法により湿式粉砕、整粒を行っても良く、その後さらに従来の顔料用二酸化チタンや超微粒子二酸化チタンで通常行われているのと同様にして、粒子表面をアルミニウム、ケイ素、ジルコニウム、スズ、チタニウム、亜鉛から成る群より選ばれた少なくとも1種の含水酸化物および/または酸化物で被覆しても良い。
【0015】
しかる後、超微粒子二酸化チタン粒子の表面に、アルコキシシラン化合物および/またはアミノアルコキシシラン化合物を被覆処理し、耐光性を付与する。アルコキシシラン化合物および/またはアミノアルコキシシラン化合物の被覆処理量としては、基体の超微粒子二酸化チタンに対して全量で1〜50重量%、好ましくは5〜30重量%である。被覆処理量が1重量%未満と少なすぎると所望の耐光性などの効果が得られず、逆に被覆処理量が50重量%を超えるように多すぎると凝集が生じるばかりでなく、経済的にも不利である。なお、アルコキシシラン化合物および/またはアミノアルコキシシラン化合物は用途、目的に応じて2種類以上を併用してもよい。
【0016】
本発明に用いるアルコキシシラン化合物としては、次の一般式(1)で表すことができる。
【化1】
[一般式(1)中のRはアルキル基、フェニル基、ビニル基、グリシドキシ基、メルカプト基、メタクリル基を有し、炭素数が1〜10である炭化水素を、R´はアルコキシ基を、nおよびmは(m+n=4)で、且つ1〜3の整数をそれぞれ表す。]
【0017】
アルコキシシラン化合物の例としては、ビニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、i―ブチルトリメトキシシラン、n―ブチルトリメトキシシラン、 n―ヘキシルトリメトキシシラン、 n―デシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等を挙げることができる。一般式(1)中のRで表される炭化水素の炭素数が11以上のものは、分子鎖長が長すぎて凝集が起こりやすく好ましくない。
【0018】
また、アミノアルコキシシラン化合物としては、下記の一般式(2)で表すことができる。
【化2】
[一般式(2)中のR1はアミノ基を有する飽和直鎖状炭化水素基を、R2は飽和直鎖状炭化水素基を、R´はアルコキシ基を、nおよびmは(m+n=3)で、且つ1〜2の整数をそれぞれ表す。]
【0019】
アミノアルコキシシラン化合物の例としてγ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ―アミノプロピルトリエトキシシラン、N―β(アミノエチル)γ―アミノプロピルトリメトキシシラン等を挙げることが出来る。
【0020】
アルコキシシラン化合物、アミノアルコキシシラン化合物を超微粒子二酸化チタンに被覆するには、例えば(1)超微粒子二酸化チタンをヘンシェルミキサーなどの高速攪拌機に入れて攪拌しながら、アルコキシシラン化合物および/またはアミノアルコキシシラン化合物、またはこれらの水あるいはアルコール溶液を滴下、あるいはスプレーにより添加し、均一になるように攪拌した後、乾燥する乾式法、(2)超微粒子酸化チタンを水中に分散させたスラリーに、攪拌しながらアルコキシシラン化合物および/またはアミノアルコキシシラン化合物、またはこれらの水あるいはアルコール溶液を添加し、充分に攪拌した後、濾過、洗浄、乾燥する湿式方法、のいずれを用いることができる。
【0021】
本発明では耐光性の優れたルチル型超微粒子二酸化チタンを工業的、経済的に有利に製造することができ、この方法で得られた超微粒子二酸化チタンは、化粧料や、塗料、インキ、プラスチックなどの紫外線遮蔽剤として有用である。
【0022】
また、この製造方法によって得られた超微粒子二酸化チタンは耐光性に優れるばかりでなく、優れた流動性を有しており、さらにはアルコキシシラン化合物を被覆すると弱マイナス帯電を、アミノアルコキシシラン化合物を被覆するとプラス帯電を呈することから、これらのシラン化合物の配合比を適宜変更することで所望の帯電量を得ることができるので、意外にもトナー、各種充填剤等の粉体、特に電子写真用トナーの流動化剤、帯電量調整剤としても有用である。
【0023】
【実施例】
以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0024】
実施例1
TiO2として200g/リットルの四塩化チタン水溶液を室温に保持しながら、200g/リットルの濃度の水酸化ナトリウム水溶液を添加し、pHを7.0に調整してコロイド状の非晶質水酸化チタンを析出させ、引き続き65℃の温度で4時間熟成してルチル核を有する微小チタニアゾルとした。これを50g/リットルの濃度のルチル核を有する微小チタニアゾルとし、このもの1リットルを硫酸でpH3とした後、n−ヘキシルトリメトキシシランを添加し、1時間かけて温度を60℃に昇温することにより、二酸化チタン表面にn−ヘキシルトリメトキシシランを、TiO2に対し8.0重量%被覆した。この後、濾過、洗浄して、得られた湿ケーキを120℃で一昼夜熱処理し、粉砕して本発明のルチル形の超微粒子二酸化チタン(試料A)を得た。
【0025】
尚、上記微小チタニアゾルの一部を採取し、これを分別、洗浄した後、120℃の温度で熱処理して微小水和酸化チタンを得、これの平均結晶子径を測定したところ12nmであった。また、このものをさらに大気中で120℃の温度で3時間熱処理してルチル型超微粒子二酸化チタンを得たところ、この平均一次粒子径は0.010μmであった。
【0026】
実施例2
実施例1のルチル核を有する微小チタニアゾルを分別、洗浄した後、電気炉で300℃の温度で3時間熱処理して平均一次粒子径0.020μmのルチル型超微粒子酸化チタンを得た。このものを50g/リットルの濃度の水性スラリーとし、以降実施例1と同様に処理してn−ヘキシルトリメトキシシランを被覆して、ルチル形超微粒子二酸化チタン(試料B)を得た。
【0027】
実施例3
実施例2の300℃で熱処理したルチル型超微粒子酸化チタン粉末を、高速攪拌機に入れて攪拌しながら、n−ヘキシルトリメトキシシランを添加し、均一になるように攪拌した。なお、表面処理量は、TiO2に対し8.0重量%とした。この後、120℃で一昼夜熱処理し、粉砕してルチル形超微粒子二酸化チタン(試料C)を得た。
【0028】
実施例4
実施例2のn−ヘキシルトリメトキシシランをγ−アミノプロピルトリメトキシシランに変更したこと以外は実施例2と同様の方法でルチル形超微粒子二酸化チタン(試料D)を得た。
【0029】
比較例1
実施例1のn−ヘキシルトリメトキシシラン被覆を省いたこと以外は実施例1と同様の方法でルチル形の酸化チタン(試料E)を得た。
【0030】
比較例2
実施例2のn−ヘキシルトリメトキシシラン被覆を省いたこと以外は実施例2と同様の方法でルチル形超微粒子二酸化チタン(試料F)を得た。
【0031】
評価1
試料A〜Eについて、結晶形をX線回折装置(株式会社リガク製)を用いて測定した。
【0032】
評価2
試料A〜E各0.5gを、石川式攪拌らい潰機(株式会社石川工場製)にて10分間粉砕した後、透過型電子顕微鏡写真を撮影する。その写真から、平均一次粒子径をパーティクル アナライザー(カールツァイス株式会社製)にて測定し、算出された重量平均径をもって平均一次粒子径とした。
【0033】
評価3
試料A〜E各0.5gを、ひまし油1.0gと充分混合した後、ガラス板に厚み0.1mmとなるように塗布し、もう1枚のガラス板で挟んだ。これに紫外線(5mW/cm)を1時間照射し、変色を下式に従いΔEとして算出した。
ΔE={(ΔL)2+(Δa)2+(Δb)2}1/2
ΔL=(紫外線照射後のL値)−(紫外線照射前のL値)
Δa=(紫外線照射後のa値)−(紫外線照射前のa値)
Δb=(紫外線照射後のb値)−(紫外線照射前のb値)
【0034】
評価4
試料A〜E各1.0gを電子写真用トナー[東芝ケミカル(株)製 K−30]100gと充分混合した後、上から各々の目開き♯60、♯100、♯200メッシュの篩をセットした振動篩機で篩分けを行った。しかる後、各々の篩上の残量を計測し、百分率を下式に従って計算を行った。
残分(%)=[各篩上の残量(g)/初期の仕込み量(g)]×100
【0035】
評価5
試料A〜E各々と電子写真用トナー[東芝ケミカル(株)製 K−30]を重量比1/100の割合で充分混合した後、更に電子写真用キャリア[東芝ケミカル(株)製 FS−02]と重量比1/20の割合で充分な混合を行った。しかる後、ブローオフタイプ粉体帯電量測定装置[東芝ケミカル(株)製 モデルTB−220]にて摩擦帯電量を測定した。
【0036】
評価1〜3の結果を表1に示す。
【0037】
【表1】
超微粒子二酸化チタンの結晶形、平均一次粒子径、耐光性の評価結果
【0038】
【表2】
超微粒子二酸化チタンの流動性、摩擦帯電量の評価結
【0039】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明の製造方法により、化粧料や、塗料、インキ、プラスチックス等の紫外線遮蔽剤として適した耐光性の優れたルチル形超微粒子二酸化チタンを工業的、経済的に有利に製造することができる。また、本発明で得られた超微粒子二酸化チタンは粉体に優れた流動性を付与でき、さらにはシラン化合物の被覆量を変えることで、帯電量をマイナスからプラスまでの広い範囲で任意に設定できるので、各種粉体、特に電子写真用トナーの流動化剤、帯電量調整剤として有用な材料である。
Claims (6)
- (1)四塩化チタン水溶液を5〜30℃に保持しながら、アルカリ溶液で中和加水分解してコロイド状の非晶質水酸化チタンを析出させ、これを60〜80℃の温度で1〜10時間熟成して、平均結晶子径が5〜13nmである微小チタニアゾルを得る、四塩化チタン水溶液を加水分解する工程と、(2)前記の加水分解生成物を水中に分散させたスラリーに、攪拌しながらアルコキシシラン化合物および/またはアミノアルコキシシラン化合物を添加して、該加水分解生成物の表面にアルコキシシラン化合物および/またはアミノアルコキシシラン化合物を被覆処理する工程からなることを特徴とする電子写真用トナーの流動化剤または帯電量調整剤に用いるルチル型超微粒子二酸化チタンの製造方法。
- 前記(1)の四塩化チタン水溶液を加水分解する工程の後、加水分解生成物を100〜600℃の温度で熱処理してルチル型超微粒子二酸化チタンを得、次いで、(2')前記のルチル型超微粒子二酸化チタンを水中に分散させたスラリーに、攪拌しながらアルコキシシラン化合物および/またはアミノアルコキシシラン化合物を添加して、該ルチル型超微粒子二酸化チタンの表面にアルコキシシラン化合物および/またはアミノアルコキシシラン化合物を被覆処理する工程からなることを特徴とすることを特徴とする請求項1記載のルチル型超微粒子二酸化チタンの製造方法。
- 加水分解生成物の平均一次粒子径が0.03μm以下である請求項1記載のルチル型超微粒子二酸化チタンの製造方法。
- アルコキシシラン化合物および/またはアミノアルコキシシラン化合物の被覆量が加水分解生成物中の二酸化チタン基準で1〜50重量%である請求項1記載のルチル型超微粒子二酸化チタンの製造方法。
- アルコキシシラン化合物が、n−へキシルトリメトキシシランである請求項1記載のルチル型超微粒子二酸化チタンの製造方法。
- アミノアルコキシシラン化合物が、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、またはγ−アミノプロピルエトキシシランである請求項1記載のルチル型超微粒子二酸化チタンの製造方法。
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