JPS5820716B2 - レ−ザヨウセツホウホウ - Google Patents

レ−ザヨウセツホウホウ

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Publication number
JPS5820716B2
JPS5820716B2 JP50138051A JP13805175A JPS5820716B2 JP S5820716 B2 JPS5820716 B2 JP S5820716B2 JP 50138051 A JP50138051 A JP 50138051A JP 13805175 A JP13805175 A JP 13805175A JP S5820716 B2 JPS5820716 B2 JP S5820716B2
Authority
JP
Japan
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welding
laser beam
laser
irradiated
irradiation
Prior art date
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Expired
Application number
JP50138051A
Other languages
English (en)
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JPS5262146A (en
Inventor
石川憲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication of JPS5262146A publication Critical patent/JPS5262146A/ja
Publication of JPS5820716B2 publication Critical patent/JPS5820716B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はレーザ溶接方法に係り、特に酢液強度が高く、
溶接部の良い方法に関する。
従来パルスレーザ光を使用して、集光スポットを順次重
ね合わせ、シーム溶接することが実用化されている。
この溶接方法では、連続発振レーザ光を使用した溶接方
法より溶接部周囲の温度上昇が少ないため、溶接部と接
近して耐熱性のない部品が設けられている材料の酢液に
は適している。
しかしながらこの后接方法では、酢液速度を向上させる
ために、レーザ光のくり返し周波数を増加させていた。
単位時間当りのレーザ光照射回数が増加すると、酢液部
周囲の温度が上昇し、醇融域が広がり悪影響を及ぼして
いた。
このため溶接速度を低下させねばならず、溶接効率の低
下を招いていた。
一方パルスレーザ光を順次高速度で重ね合わせ溶接をす
ると、前のレーザ光が照射された部分の温度が下がらな
いうちに、次のレーザ光の一部を重ねて照射すると、照
射レーザ光内部の温度が不均一になり、局部的に醇融物
が飛散し溶接部に溝を形成したり、陪込み深さが浅いた
め充分な性液強度の得られない部所が生じる等の欠点が
あった。
本発明は上記従来の欠点を除去するために開発したもの
で、初めに照射間隔をあけてレーザ光を照射し、次にこ
の照射間隔のあいた部所にレーザ光を照射し、溶接速度
を上げ、溶接部の飛散を減少させて溶接効率の高い、酸
液強度の強いレーザ溶接方法を提供することを目的とす
る。
以下本発明の詳細を図示の実施例を参照して説明する。
第1図は本発明方法を実施したレーザ加工装置の構成図
である。
図において1はレーザ発振器で、この発振器1より発振
されたレーザ光は下部に設置しである集光レンズ等の集
光光学系2により溶接材3に集光照射される。
ここで溶接材3は載置台4に載置され、載置台4は摺動
具5を介して固定台5上に摺動自在に設置されている。
一方載置台4には回転駆動源7が接続されていて、□載
置台4を移動する。
そしてこの回転駆動源700回転回転軸8に伝達され、
この回転軸8の他端に取着された穴のあいた回転板9を
回転する。
回転板9には第2図に示すような貫通孔10.11が設
けられていて、この回転板9を挾んで光源12とこの光
源12から発光されて回転板90貫通孔10.11を通
過した光を検出する検出器13が設置されている。
これらの検出器13は切換スイッチ14に接続されてい
る。
スイッチ14はレーザ発振器1に接続されレーザ光発振
のタイ:ミングを決定するように構成されている。
次に作用について説明する。
上記構成のレーザ加工装置において回転駆動源により、
酢液材を載置する載置台を移動し、回転軸が回転すると
、この回転軸が1回転する毎に、1回転軸に取着された
回転板が回転し、この回転板中に設けられた穴から検出
器が2回信号を発し、レーザ発振器から2回のパルスレ
ーザ光を発振する。
ここで、回転軸が1回転する毎に載置台がパルヌレーザ
光の集光径以上に移動するように構成しであるので、第
3図に示すように照射間隔がおいて照射される。
このようにして溶接線上に送りが一応終了した時に、回
転駆動源の回転を逆にするとともに、スイッチを切換え
る。
そして再び前記と同様に、載置台を移動しなからレーザ
光を発出すると、レーザ光を発振すると、レーザ光の照
射位置は前記のレーザ光の照射間となり、最終的に溶接
材の溶接線上にはレーザ光が重なった状態で照射される
上記実施例では、往復で溶接が完了するように構成した
が、3回以上の走査を行ってもよく、さらに円筒形溶接
材においては、往復酢液することなく、一方方向送りで
額を完了することもできる。
本発明は上記実施例にもとすいて詳述したように、少な
くとも2行路以上の行程によりレーザ光を酢液線上に走
査させて直接を完了するように構成したので、一回のレ
ーザ光走査中に、溶接線上に与えられるレーザ光のエネ
ルギーは半分以下となるため、溶接線周囲を加熱するた
めに使用される熱量は半分以下となり、したがって異常
な温度上昇をさげることができる。
二回目のレーザ光走査までには、時間の経過があるため
に、−回目のレーザ光照射による熱は消散されているた
めに、二回目のレーザ光の走査によっても温度上昇を少
なくできる。
さらにレーザ光は、前のレーザ光による熱は消散してい
て、照射中心である溶接線上に対して軸対称の温度分布
となっているため、照射毎のレーザ光による宕は込みは
良好になる。
このように本発明によれば、異常な温度上昇を防止でき
るとともに、酢液部の均一な溶込みが可能となり、溶接
材の飛散を防止し、溶接強度が向上する等の効果がある
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法を実施したレーザ加工装置の構成図
、第2図はこの加工装置の回転板の側面図、第3図は一
行程で照射された溶接材の平面図、第4図は本発明方法
により直接を終了した洛接材の平面図を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 照射間隔をあけてレーザ光を照射する第1照射工程
    と、第1の照射工程における間隔間にレーザ光を照射す
    る第2照射工程を具備するレーザ溶接方法。
JP50138051A 1975-11-19 1975-11-19 レ−ザヨウセツホウホウ Expired JPS5820716B2 (ja)

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JPS5262146A JPS5262146A (en) 1977-05-23
JPS5820716B2 true JPS5820716B2 (ja) 1983-04-25

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JP50138051A Expired JPS5820716B2 (ja) 1975-11-19 1975-11-19 レ−ザヨウセツホウホウ

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JPS63137106U (ja) * 1987-03-02 1988-09-09

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JPS5262146A (en) 1977-05-23

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