JPS58201743A - １，９−ノナンジア−ルを製造する方法 - Google Patents
１，９−ノナンジア−ルを製造する方法Info
- Publication number
- JPS58201743A JPS58201743A JP57085273A JP8527382A JPS58201743A JP S58201743 A JPS58201743 A JP S58201743A JP 57085273 A JP57085273 A JP 57085273A JP 8527382 A JP8527382 A JP 8527382A JP S58201743 A JPS58201743 A JP S58201743A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- octen
- reaction
- extraction
- nonanedial
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は１，９−ノナンジアールの新′規な製造法に関
するものであり、さらに詳しくは工業的実施に適した方
法によって７−オクテン−１−アールをヒドロホルミル
化し、反応混合液から効果的に１．９−ノナンシアー／
Ｉ／全分離取得することを骨子とする１、９−ノナンジ
アールの製造法に関するものである。
するものであり、さらに詳しくは工業的実施に適した方
法によって７−オクテン−１−アールをヒドロホルミル
化し、反応混合液から効果的に１．９−ノナンシアー／
Ｉ／全分離取得することを骨子とする１、９−ノナンジ
アールの製造法に関するものである。
１．９−ノナンジアールはアゼフィン酸、１．９−ノナ
ンジアミンなどをはじめとする種々の有用な物質の出発
原料として有用な化合物であるが、これまでその工業的
な製造法は全く知られていないのが実状である。アゼラ
イン酸エステ／ｌ／’ｉ水素化リチウムアルミニウムな
どで半還元することにより１，９−ノナンジアールを製
造することもできるが、半還元により１，９−ノナンシ
アーμを選択的に製造することは困難でありかつ原料お
よび還元剤が高価であることを考慮するとこの方法は工
業的には採用し難い。先に本発明者らはブタジェンと水
とをバッジラム錯体触媒の存在下に反応させることによ
って２，７−オクタノニン−１−オールを工業的に有利
に製造しうろこと（特開昭５６−１３８１２９号公報参
照）、２．７−オクタノニン−１−オー／Ｉ／′ｆｒ：
銅系竺媒およびり゛ロム系触媒よりなる群より選ばれる
触媒の存在下に異性化すれば７−オクテン−１−アール
が高収率で得られること、を見い出また（特願昭５６−
７．３１．５１ ）。
ンジアミンなどをはじめとする種々の有用な物質の出発
原料として有用な化合物であるが、これまでその工業的
な製造法は全く知られていないのが実状である。アゼラ
イン酸エステ／ｌ／’ｉ水素化リチウムアルミニウムな
どで半還元することにより１，９−ノナンジアールを製
造することもできるが、半還元により１，９−ノナンシ
アーμを選択的に製造することは困難でありかつ原料お
よび還元剤が高価であることを考慮するとこの方法は工
業的には採用し難い。先に本発明者らはブタジェンと水
とをバッジラム錯体触媒の存在下に反応させることによ
って２，７−オクタノニン−１−オールを工業的に有利
に製造しうろこと（特開昭５６−１３８１２９号公報参
照）、２．７−オクタノニン−１−オー／Ｉ／′ｆｒ：
銅系竺媒およびり゛ロム系触媒よりなる群より選ばれる
触媒の存在下に異性化すれば７−オクテン−１−アール
が高収率で得られること、を見い出また（特願昭５６−
７．３１．５１ ）。
かかる背景から、本発明者らは７−オクテン−１−ア一
〃を出発原料とする。各種の誘導体の合成法について鋭
意検討を５重ねてきた。その結果、この度、ロジウム錯
化合物および三置換ホスフィンを含む芳香族炭化水素溶
液中で７−オクテン−１−アー／１／ヲ水素と一酸化次
素との混合ガスによってヒドロホルミル化し、得られる
反応混合液に対して１，４−ブタンジオ−／Ｌ／または
１，６−ヘキサンジオールの水溶液を抽剤とする抽出操
作を施せば１．９−ノナンジアールは効果的に抽剤層中
に抽出分離されること、該抽出操作によってロジウム錯
化合物および三置換ホスフィンは実質的に油剤層中に溶
出しないことを見出し本発明を完成するに至った。本発
明の方法は出発原料がブタジェン、水およびオキソガス
であること、反応混合液から１．９−ノナンジアールと
触媒成分とを抽出という極めて簡単な操作によって分離
しうろこと、などの利点を備えている。
〃を出発原料とする。各種の誘導体の合成法について鋭
意検討を５重ねてきた。その結果、この度、ロジウム錯
化合物および三置換ホスフィンを含む芳香族炭化水素溶
液中で７−オクテン−１−アー／１／ヲ水素と一酸化次
素との混合ガスによってヒドロホルミル化し、得られる
反応混合液に対して１，４−ブタンジオ−／Ｌ／または
１，６−ヘキサンジオールの水溶液を抽剤とする抽出操
作を施せば１．９−ノナンジアールは効果的に抽剤層中
に抽出分離されること、該抽出操作によってロジウム錯
化合物および三置換ホスフィンは実質的に油剤層中に溶
出しないことを見出し本発明を完成するに至った。本発
明の方法は出発原料がブタジェン、水およびオキソガス
であること、反応混合液から１．９−ノナンジアールと
触媒成分とを抽出という極めて簡単な操作によって分離
しうろこと、などの利点を備えている。
本発明方法においてヒドロホルミル化反応溶媒として用
いられる芳香族炭化水素としてはベンゼン、トルエン、
キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、ドデシルベン
ゼンなどの非置換またはアルキル基で置換され牟ベンゼ
ン類を具体的に挙げることができる。ロジウム錯化合物
としては、ヒドロホルミル化触媒能ヲ有する任意のロジ
ウム錯化合物あるいは反応系中においてか・かるロジウ
ム錯化合物を与える公知のロジウム化合物が使用できる
。その具体例としてＲｈ４（ＣＯ）１２、Ｒｈ６（ＣＯ
）１６、Ｒｈ０Ａ’（ＰＰｈｓ）ｓ （Ｐｈはフェニル
基を表わす）、ＨＲｈ（００）（ＰＰｈｓ ）ｓなどを
挙げることができる。また別途に触媒調製槽を設け、そ
の中で公知の方法により調製したロジウム錯化合物を含
む反応液をそのまま触媒溶液として用いることもできる
。反応混合液中におけるロジウム錯化合物の濃度はロジ
ウム原子換算で０．０５〜１０ミリグラム原子／ｌの範
囲から選ぶのが望ましい。使用しうる三置換ホスフィン
としては数多くのものがあるが、トリフェニルホスフィ
ン、トリトリルホスフィン、トリナフチルホスフィン、
ジフェニルプロピルホスフィン、ジフェニルブチルホス
フィンなどをその好ましい例として挙げることができる
。これらの三置換ホスフィンは単独もしくは二種以上組
合せて用いることができる。一般にロジウム錯化合物に
よるヒドロ水反応ル化反応においてそうであるように、
本発明の方法においても三置換ホスフィンはロジウム錯
化合物に対して過剰に（通常１０当量以上）用いられ、
これによりロジウム錯化合物の安定化と１，９−ノナン
シアーμへの選択率の向上がもたらされ、同時に抽出工
程における油剤層中へのロジウム錯化合物の溶出による
損失が抑えられる。通常、三置換ホスフィンはロジウム
錯化合物中のロジウム１原子あたり２５〜５００当量の
割合で用いられる。本発明者らの更に詳細な検討による
と、上記三置換ホスフィンと合せて１，４−ビス（ジフ
ェニルホスフィノ）ブタンをロジウム１原子あたり０．
６〜２当量添加すると三置換ホスフィンの三置換ホスフ
ィンオキシトへの酸素酸化が抑制され、ロジウム触媒の
触媒活性がさらに安定化する傾向があることがわかった
。１．４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタンの添加
量が上記の範囲を逸脱する場合には添加効果が実質的に
現われないか、または触媒活性が著しく低下するので好
ましくない。
いられる芳香族炭化水素としてはベンゼン、トルエン、
キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、ドデシルベン
ゼンなどの非置換またはアルキル基で置換され牟ベンゼ
ン類を具体的に挙げることができる。ロジウム錯化合物
としては、ヒドロホルミル化触媒能ヲ有する任意のロジ
ウム錯化合物あるいは反応系中においてか・かるロジウ
ム錯化合物を与える公知のロジウム化合物が使用できる
。その具体例としてＲｈ４（ＣＯ）１２、Ｒｈ６（ＣＯ
）１６、Ｒｈ０Ａ’（ＰＰｈｓ）ｓ （Ｐｈはフェニル
基を表わす）、ＨＲｈ（００）（ＰＰｈｓ ）ｓなどを
挙げることができる。また別途に触媒調製槽を設け、そ
の中で公知の方法により調製したロジウム錯化合物を含
む反応液をそのまま触媒溶液として用いることもできる
。反応混合液中におけるロジウム錯化合物の濃度はロジ
ウム原子換算で０．０５〜１０ミリグラム原子／ｌの範
囲から選ぶのが望ましい。使用しうる三置換ホスフィン
としては数多くのものがあるが、トリフェニルホスフィ
ン、トリトリルホスフィン、トリナフチルホスフィン、
ジフェニルプロピルホスフィン、ジフェニルブチルホス
フィンなどをその好ましい例として挙げることができる
。これらの三置換ホスフィンは単独もしくは二種以上組
合せて用いることができる。一般にロジウム錯化合物に
よるヒドロ水反応ル化反応においてそうであるように、
本発明の方法においても三置換ホスフィンはロジウム錯
化合物に対して過剰に（通常１０当量以上）用いられ、
これによりロジウム錯化合物の安定化と１，９−ノナン
シアーμへの選択率の向上がもたらされ、同時に抽出工
程における油剤層中へのロジウム錯化合物の溶出による
損失が抑えられる。通常、三置換ホスフィンはロジウム
錯化合物中のロジウム１原子あたり２５〜５００当量の
割合で用いられる。本発明者らの更に詳細な検討による
と、上記三置換ホスフィンと合せて１，４−ビス（ジフ
ェニルホスフィノ）ブタンをロジウム１原子あたり０．
６〜２当量添加すると三置換ホスフィンの三置換ホスフ
ィンオキシトへの酸素酸化が抑制され、ロジウム触媒の
触媒活性がさらに安定化する傾向があることがわかった
。１．４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタンの添加
量が上記の範囲を逸脱する場合には添加効果が実質的に
現われないか、または触媒活性が著しく低下するので好
ましくない。
本発明にしたがう７−オクテン−１−７−μのヒドロホ
ルミル化度応は通常５０〜１２０°Ｃの温度下で実施さ
れる。反応圧力は約０．５〜２０絶対気圧、好ましくは
１〜１０絶対気圧の範囲内から選ばれる。本発明者らの
検討によると、反応混合液中の一酸化戻素濃度がある程
度低い方が１，９−ノナンジアールの選択率が向上し、
副生成物である２−メチル−１，８−オクタンジアール
の選択率が低下する傾向が認められる。したがって、入
りガス中の水素／−酸化炭素のモル比は少なくとも１以
上で′あることが望ましい。反応の選択性および反応生
成物間の分離の容易さなどの要件を勘案すると、反応は
一酸化戻素の拡散または供給律速下もしくはそれに近い
条件下で行なうのが有利である。本ヒドロホルミル化反
応は攪拌型反応槽中または気泡塔型反応槽中で連続方式
またはバッチ方式で行なわれる。
ルミル化度応は通常５０〜１２０°Ｃの温度下で実施さ
れる。反応圧力は約０．５〜２０絶対気圧、好ましくは
１〜１０絶対気圧の範囲内から選ばれる。本発明者らの
検討によると、反応混合液中の一酸化戻素濃度がある程
度低い方が１，９−ノナンジアールの選択率が向上し、
副生成物である２−メチル−１，８−オクタンジアール
の選択率が低下する傾向が認められる。したがって、入
りガス中の水素／−酸化炭素のモル比は少なくとも１以
上で′あることが望ましい。反応の選択性および反応生
成物間の分離の容易さなどの要件を勘案すると、反応は
一酸化戻素の拡散または供給律速下もしくはそれに近い
条件下で行なうのが有利である。本ヒドロホルミル化反
応は攪拌型反応槽中または気泡塔型反応槽中で連続方式
またはバッチ方式で行なわれる。
本発明方法において、ヒドロホルミル化反応混合液は１
，４−ブタンジオ−／Ｉ／ｌたは１，６−ヘキサンジオ
ールの水溶液を油剤とする抽出操作に付される。１．４
−ブタンジオール水溶液を抽剤として用いる場合には６
０〜９０重量パーセントの濃度であることが好ましく、
１，６−ヘキサンジオ−〃水溶液を抽剤として用いる場
合には２５〜８５重量パーセントの濃度であることが好
ましい。ジオール水溶液の濃度が上記範囲を逸脱する場
合には、１゜９−ノナンジアールの抽出率が低下した夛
、触媒成分の抽剤層中への溶出量が増大したシ、また抽
残層（触媒溶液′）中へのジオールの移行量が多くなっ
たりするので、工業的に好ましくない。抽出温度として
は１０〜６０°Ｃの範囲内の温度が選ばれる。抽出操作
は通常、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガス、
水素、任意の割合の水素／−酸化択素混合ガス、あるい
はこれらの混合ガスの算囲気下で行なわれる。抽出装置
としては、一般的に汎用な攪拌型抽出塔、ＲＤＯ型抽出
塔、多孔板型抽出塔などが適用可能である。本抽出操作
によシ反応生成物（ジアール類）および未反応７−オク
テン−′１−アールの一部は抽剤層（下層）中に抽出分
離され、触媒成分を含む芳香族灰化水素溶液は抽残層（
上層）として分離される。抽残層は必要に応じて水洗し
たのち、その一部について公知の触媒賦活処理を施した
のち、７−オクテン−１−アールのヒドロホルミルｙ化
反応工程に循環され再使用される。抽剤層はこれに通常
の分留操作を施すことによらて原料、反応生成物および
抽剤のそれぞれに分離され、原料はヒドロホＡ／ミ〜化
反応工程に、抽剤は抽出工程に循環される。
，４−ブタンジオ−／Ｉ／ｌたは１，６−ヘキサンジオ
ールの水溶液を油剤とする抽出操作に付される。１．４
−ブタンジオール水溶液を抽剤として用いる場合には６
０〜９０重量パーセントの濃度であることが好ましく、
１，６−ヘキサンジオ−〃水溶液を抽剤として用いる場
合には２５〜８５重量パーセントの濃度であることが好
ましい。ジオール水溶液の濃度が上記範囲を逸脱する場
合には、１゜９−ノナンジアールの抽出率が低下した夛
、触媒成分の抽剤層中への溶出量が増大したシ、また抽
残層（触媒溶液′）中へのジオールの移行量が多くなっ
たりするので、工業的に好ましくない。抽出温度として
は１０〜６０°Ｃの範囲内の温度が選ばれる。抽出操作
は通常、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガス、
水素、任意の割合の水素／−酸化択素混合ガス、あるい
はこれらの混合ガスの算囲気下で行なわれる。抽出装置
としては、一般的に汎用な攪拌型抽出塔、ＲＤＯ型抽出
塔、多孔板型抽出塔などが適用可能である。本抽出操作
によシ反応生成物（ジアール類）および未反応７−オク
テン−′１−アールの一部は抽剤層（下層）中に抽出分
離され、触媒成分を含む芳香族灰化水素溶液は抽残層（
上層）として分離される。抽残層は必要に応じて水洗し
たのち、その一部について公知の触媒賦活処理を施した
のち、７−オクテン−１−アールのヒドロホルミルｙ化
反応工程に循環され再使用される。抽剤層はこれに通常
の分留操作を施すことによらて原料、反応生成物および
抽剤のそれぞれに分離され、原料はヒドロホＡ／ミ〜化
反応工程に、抽剤は抽出工程に循環される。
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。
実施例１
温度針、還流冷却器、液出入口、およびガス出入口（ガ
ス吹込み口および排出口）を備えた内容１１のステンレ
ス製電磁攪拌式オートクレーブにＨＲｈ（００）（ＰＰ
ｈｓ）５； ０，５０ ミリモルおよびＰＰｈ５；５
０ミリモ／Ｌ’を溶解したトルエン溶液５００露Ｉｆ
。
ス吹込み口および排出口）を備えた内容１１のステンレ
ス製電磁攪拌式オートクレーブにＨＲｈ（００）（ＰＰ
ｈｓ）５； ０，５０ ミリモルおよびＰＰｈ５；５
０ミリモ／Ｌ’を溶解したトルエン溶液５００露Ｉｆ
。
仕込み、系内全水素／−酸化炭素混合ガス（モル比；３
／１）で充分置換したのち、該混合ガスで２気圧（絶対
圧）にし、内温を９５℃に保った。しかるのち、該混合
ガス’ｔ ２０１／ｈｒの速度で流通させつつ激しく攪
拌しなから７−オクテン−１−アール（純度；９８％）
を定量ポンプによ９１時間かけて６５９連続添加した。
／１）で充分置換したのち、該混合ガスで２気圧（絶対
圧）にし、内温を９５℃に保った。しかるのち、該混合
ガス’ｔ ２０１／ｈｒの速度で流通させつつ激しく攪
拌しなから７−オクテン−１−アール（純度；９８％）
を定量ポンプによ９１時間かけて６５９連続添加した。
添加終了後、更に１時間攪拌を続けたのち反応を停止し
、オートクレーブを冷却した。反応混合液の一部をガス
クロマトグラフィーにより分析したところ、未反応の７
−オクテン−１−アールが５．８２１ＦＭ存しておシ（
７−オクテン−１−アールの変換率；９４饅）、各反応
生成物の選択率は次の通りであった（いず（９） れも反応した７−オクテン−１−アールに対するモ／Ｌ
’哄）。
、オートクレーブを冷却した。反応混合液の一部をガス
クロマトグラフィーにより分析したところ、未反応の７
−オクテン−１−アールが５．８２１ＦＭ存しておシ（
７−オクテン−１−アールの変換率；９４饅）、各反応
生成物の選択率は次の通りであった（いず（９） れも反応した７−オクテン−１−アールに対するモ／Ｌ
’哄）。
１．９−ノナンジアール １８４ｊ％２−メ
チ／ｌ’ １ ＋ ８−オクタンシアー／ｋｉ ９
．０％６−オクテン−１−アール ； ｓ、ｓ％
その池・ ；２．９％次いで、
オートクレーブ内の反応混合液を予め系内金窒素ガス置
換された攪拌装置を備えた内容′２１の三ツロフラスコ
に圧送し、１．６−ヘキサンジ □オー／Ｉ／を７０重
量饅含む水溶液５００ｓ＋ｔｔ−加え、窒素ガス雰囲気
下、３０°Ｃ，６ＧＯｒｐｍの条件下で３０分間抽出操
作を行なった。１５分間静置し両層を分液した。上層（
抽残層）と下層（抽剤層）をガスクロマトグラフィーに
よって分析したところ、１．９−ノナンシアーμおよび
２−メチ／Ｌ’−１゜８−オクタンジアールの抽出率は
それぞれ９０％および８８％であ゛つた。抽残層門空気
に触れないようにオートクレーブに移し、上記（第１回
目の反応）と同一の反応条件および要領で７−オクテン
−１−アールのヒドロ水反応ル化反応を行なつ（１０） た（第２回目の反応）。第２回目の反応での７−オクテ
ン−１−アールの変換率は９３．６％であり、各反応生
成物の選択率は第１回目の反応結果と同一であることが
確められた。第１回目と同一の条件および操作により抽
出を行なった。抽残層を再びオートクレーブに仕込み、
第１回目と同一の条件下で７−オクテン−１−アールの
ヒドロホルミル化反応を繰シ返した（第３回目の反応）
。第５回目の反応における７−オクテン−１−アールの
変換率は９３．３％であった。このようにして、合計３
回のヒドロホルミル化反応および抽出操作によって合計
的１．７２１９抽剤層を得た。この抽剤層について減圧
上分留を行なうことによって約１８５ｇの１，９−ノナ
ンシアーμと２−メチル−１゜８−オクタンシアーμの
混合物（モル比ｉ ９１，８／８．２）が得られた。
チ／ｌ’ １ ＋ ８−オクタンシアー／ｋｉ ９
．０％６−オクテン−１−アール ； ｓ、ｓ％
その池・ ；２．９％次いで、
オートクレーブ内の反応混合液を予め系内金窒素ガス置
換された攪拌装置を備えた内容′２１の三ツロフラスコ
に圧送し、１．６−ヘキサンジ □オー／Ｉ／を７０重
量饅含む水溶液５００ｓ＋ｔｔ−加え、窒素ガス雰囲気
下、３０°Ｃ，６ＧＯｒｐｍの条件下で３０分間抽出操
作を行なった。１５分間静置し両層を分液した。上層（
抽残層）と下層（抽剤層）をガスクロマトグラフィーに
よって分析したところ、１．９−ノナンシアーμおよび
２−メチ／Ｌ’−１゜８−オクタンジアールの抽出率は
それぞれ９０％および８８％であ゛つた。抽残層門空気
に触れないようにオートクレーブに移し、上記（第１回
目の反応）と同一の反応条件および要領で７−オクテン
−１−アールのヒドロ水反応ル化反応を行なつ（１０） た（第２回目の反応）。第２回目の反応での７−オクテ
ン−１−アールの変換率は９３．６％であり、各反応生
成物の選択率は第１回目の反応結果と同一であることが
確められた。第１回目と同一の条件および操作により抽
出を行なった。抽残層を再びオートクレーブに仕込み、
第１回目と同一の条件下で７−オクテン−１−アールの
ヒドロホルミル化反応を繰シ返した（第３回目の反応）
。第５回目の反応における７−オクテン−１−アールの
変換率は９３．３％であった。このようにして、合計３
回のヒドロホルミル化反応および抽出操作によって合計
的１．７２１９抽剤層を得た。この抽剤層について減圧
上分留を行なうことによって約１８５ｇの１，９−ノナ
ンシアーμと２−メチル−１゜８−オクタンシアーμの
混合物（モル比ｉ ９１，８／８．２）が得られた。
実施例２
実施例１全く同一の反応条件で７−オクテン−１−アー
ルのヒドホルミル化反応を行りったのち、抽剤として１
．４−ブタンジオールｔ７５重１１（１１） ％含む水溶液５００ｇ／を用いて実施例１と同様にして
抽出操作を行なった。分液後、抽出層および抽残層をガ
スクロマトグラフィーによシ分析したところ、生成した
１、９−ノナンジアールおよび２−メチＡ／−Ｌ８−オ
クタンジアールの抽出率はそれぞれ９０％および８５％
であることがわかった。
ルのヒドホルミル化反応を行りったのち、抽剤として１
．４−ブタンジオールｔ７５重１１（１１） ％含む水溶液５００ｇ／を用いて実施例１と同様にして
抽出操作を行なった。分液後、抽出層および抽残層をガ
スクロマトグラフィーによシ分析したところ、生成した
１、９−ノナンジアールおよび２−メチＡ／−Ｌ８−オ
クタンジアールの抽出率はそれぞれ９０％および８５％
であることがわかった。
実施例３
触媒としてＲｈ４（ＣＯＯ２Ｏ３２０ミリモルおよびト
リトリルホスフィン１００ミリモルおよび１．４−ビス
（ジフェニルホスフィノ）ブタン０．７ミリモ１ｖｔ−
用い、反応圧力を３気圧（絶対圧）にしたこと以外は実
施例１と同様にして７−オクテン−１−アールのヒドロ
ホル化度化反応ヲ行すった。反応後、１，６−ヘキサン
ジオ−／Ｌ／を５０重量−含む水溶液５ＤＯＭｌを用い
て水素／−酸化炭素混合ガス（モル比５／１）雰囲気下
、２０°Ｃで２回抽出操作を繰り返した。この抽出操作
によシ生成した１、９−ノナンジアールおよび２−メチ
Ａ’−１＋ ８−オクタンジアールのそれぞれ８５％お
よび８４％が抽出層中に抽出分離された。このようにし
て７−オ（１２） クテンー１−アールのヒドロホルミル化反応および抽出
を合計５回くり返した。各回の反応酸ｌＩＲを第１表に
示す。
リトリルホスフィン１００ミリモルおよび１．４−ビス
（ジフェニルホスフィノ）ブタン０．７ミリモ１ｖｔ−
用い、反応圧力を３気圧（絶対圧）にしたこと以外は実
施例１と同様にして７−オクテン−１−アールのヒドロ
ホル化度化反応ヲ行すった。反応後、１，６−ヘキサン
ジオ−／Ｌ／を５０重量−含む水溶液５ＤＯＭｌを用い
て水素／−酸化炭素混合ガス（モル比５／１）雰囲気下
、２０°Ｃで２回抽出操作を繰り返した。この抽出操作
によシ生成した１、９−ノナンジアールおよび２−メチ
Ａ’−１＋ ８−オクタンジアールのそれぞれ８５％お
よび８４％が抽出層中に抽出分離された。このようにし
て７−オ（１２） クテンー１−アールのヒドロホルミル化反応および抽出
を合計５回くり返した。各回の反応酸ｌＩＲを第１表に
示す。
第 １ 表
特許出願人 株式会社 り ラ し゛ 代
埋 人 弁理士 本 多 堅（１３）
埋 人 弁理士 本 多 堅（１３）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ロジウム錯化合物および三置換ホスフィンを含む芳
香族灰化水素溶液中で７−オクテン−１−アー／Ｉ／ｌ
−水素と一酸化戻素との混合ガ′ スによってヒドロホ
ルミル化し、得られる反応混合液に対して１，４−ブタ
ンジオ−μまたは１，６−へキサンジオールの水溶液を
油剤とする抽出操作を施すととＫよって１，９−ノナン
シアーＩＶｆ抽剤層に抽出分離し、触媒成分を含む抽残
層を７−オクテン−１−アールのヒドロホルミル化反応
工程に循環することを特徴とする１、９−ノナンシアー
Ａ／’ｉ製造する方法。 ２、油剤が２５〜８５重量パーセントの１，６−ヘキサ
ンジオール水溶液である特許請求の範囲第１項記載の方
法。 ３、抽剤が６０〜９０重量パーセントの１，４−ブタン
ジオール水溶液である特許請求の範囲第１項記載の方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57085273A JPS58201743A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | １，９−ノナンジア−ルを製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57085273A JPS58201743A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | １，９−ノナンジア−ルを製造する方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58201743A true JPS58201743A (ja) | 1983-11-24 |
Family
ID=13853948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57085273A Pending JPS58201743A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | １，９−ノナンジア−ルを製造する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58201743A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60188341A (ja) * | 1984-02-01 | 1985-09-25 | デグツサ・アクチエンゲゼルシヤフト | １，４‐ブタンジアールの製法 |
| US4742178A (en) * | 1986-11-10 | 1988-05-03 | Eastman Kodak Company | Low pressure hydroformylation of dienes |
| JP2001011008A (ja) * | 1999-07-02 | 2001-01-16 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | トリシクロデカンジカルバルデヒド及び／又はペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドの製造法 |
| JP2001163824A (ja) * | 1999-12-13 | 2001-06-19 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 反応生成液からのアルデヒドの回収法 |
| JP4573003B2 (ja) * | 1999-07-02 | 2010-11-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | トリシクロデカンジメタノール及び／又はペンタシクロペンタデカンジメタノールの製造法 |
-
1982
- 1982-05-19 JP JP57085273A patent/JPS58201743A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60188341A (ja) * | 1984-02-01 | 1985-09-25 | デグツサ・アクチエンゲゼルシヤフト | １，４‐ブタンジアールの製法 |
| US4742178A (en) * | 1986-11-10 | 1988-05-03 | Eastman Kodak Company | Low pressure hydroformylation of dienes |
| JP2001011008A (ja) * | 1999-07-02 | 2001-01-16 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | トリシクロデカンジカルバルデヒド及び／又はペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドの製造法 |
| JP4573003B2 (ja) * | 1999-07-02 | 2010-11-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | トリシクロデカンジメタノール及び／又はペンタシクロペンタデカンジメタノールの製造法 |
| JP4573002B2 (ja) * | 1999-07-02 | 2010-11-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | トリシクロデカンジカルバルデヒド及び／又はペンタシクロペンタデカンジカルバルデヒドの製造法 |
| JP2001163824A (ja) * | 1999-12-13 | 2001-06-19 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 反応生成液からのアルデヒドの回収法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4356333A (en) | Process for preparing n-octadienol | |
| JPS6221771B2 (ja) | ||
| JPS6331450B2 (ja) | ||
| JPS5923858B2 (ja) | ロジウム錯体の取得方法 | |
| JPS58157739A (ja) | １，９−ノナンジア−ルの製造方法 | |
| US5177278A (en) | Preparation of cyclododecene | |
| JPS58201743A (ja) | １，９−ノナンジア−ルを製造する方法 | |
| US4337363A (en) | Process for the preparation of 3-(4-methyl-3-cyclohexen-1-yl) butyraldehyde | |
| JPH0725555B2 (ja) | オキソ合成生成物の蒸留残渣からロジウムを分離・回収する方法 | |
| US4733007A (en) | Process for the production of 1,12-dodecanoic diacid | |
| US11571687B2 (en) | Methods for recovering and reusing selective homogeneous hydrogenation catalyst | |
| JPS6358813B2 (ja) | ||
| JP2588374B2 (ja) | ヒドリドカルボニルトリス（トリオガノホスホラス）ロジウム化合物の製造方法 | |
| JPS6019781A (ja) | ２−ヒドロキシ−４−メチルテトラヒドロピランの製造法 | |
| JP2023521020A (ja) | 合成ガスサロゲートを用いたヒドロホルミル化触媒システム | |
| Giannoccaro et al. | Phenylacetylene carbonylation catalysed by Pd (II) and Rh (III) intercalated in zirconium phosphates | |
| US4733008A (en) | Process for the production of 1,12-dodecanoic diacid | |
| JPS5849532B2 (ja) | ブタンジオ−ル類の製造方法 | |
| JPS6072844A (ja) | 極性官能基含有ホルミルノルボルナンの製造方法 | |
| JPS5849534B2 (ja) | アルデヒドの製造方法 | |
| JPH034526B2 (ja) | ||
| JPH04230642A (ja) | オキソ合成の生成物の蒸留残留物からのロジウムの回収方法 | |
| JPS5848529B2 (ja) | アルデヒドの製造方法 | |
| JPH068258B2 (ja) | シクロヘキサンからシクロヘキサノールおよびシクロヘキサノンを含有する混合物を製造する方法 | |
| US20240033721A1 (en) | Method for recovering and reusing selective homogeneous hydrogenation catalyst |