JPS58180553A - 光学機器用成形素材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学機器用成形素材に関し、詳しくはビデオデ
ィスク、レンズ類などの光学機器と成形するために有用
な素材に関するものである。

従来のレコードは表面に彫られた細い溝の形で記録され
た音の信号をレコード針でなぞりながら再生するという
、アナグロ式のものである。これに対してオーディオ業
界ではデジタルオー、デイオディスク　（ＤＡＤ）と呼
ばれるデジタル式のものの開発が試みられている。ＤＡ
Ｄは音の信号をパルス符号に直し、スタンパ−にてデジ
タル信号を記＆ｔさせ、これにレーザー光線を当てて再
生するものである。ＤＡＤはアナロフ式と比較して音質
が良好であるばかりかレコード盤を小櫃化できるメリッ
トがあり、その商品化が期待されている。　　。

ところで、かかるＤＡＤなどのビデオディスク佛で代置
される光学機器用素材については、透明性にすぐれてい
ること、ＩＩ屈折率が低いこと、耐熱性であること、耐
衝撃性であること、変形・そりが少ないこと、二次加工
性が容易であること等の条件を満足することが要求され
、特に複屈折率が低いことは重要な要素とされる。この
ような要求を満足しうる素材として考えられるものにア
クリルｗ１１がある。しかし、アクリル樹脂は耐熱性が
低く　（約７０℃）、耐衝撃性も低い上に、水分によっ
て変形やそりを生じることがある。また、従来のポリカ
ーボネートは粘度平均分子量が２００００以上のものが
一般的であり、これは流動性がｇ＜、５５０〜５９０℃
という高温で成形する必要があった。しかし、このよう
な条件で成形すると、ガスが発生しやすく、まえ複屈折
率が高いものとなる欠点がある。しかも、成形品はその
部位によって複屈折にバッフ中がある。

本発明の目的は、上記のような欠点を解消して光学機器
用素材として有用なポリカーボネート系組成物を提供す
ることである。

本発明は粘度平均分子＠　１５０００〜１８０　ＤＯの
ポリカーボネートに対して酸化防止剤を１００〜５００
Ｍの割合で添加してなる光学機器用成形素材である。

本発明に用いるポリカーボネートは粘度平均分子１１１
１５０００〜１８０００、好ましくは１＋６０００〜１
７０００の比較的低分子量のものである。ここで粘度平
均分子量が１５０００未満であると衝撃強度が低く、成
形時に薊れが発生し、また１８０００　ｔｔ超えると複
屈折率が高く、成形品に反りや変形が生じやすい。本発
明に用いるポリカーボネートはたとえばビスフェノール
Ａと塩化カルボニルをアルカリの存在下に溶液縮合反応
させることにより得ることができる。

次に、酸化防止剤はボ、リカー穀ネートの高温成彩時に
おける焼けや分解劣化を抑制することを目的としてポリ
カーボネートに添加するので、この目的に適うものであ
れば任意に使用できるか、本発明者らの検討結果では、
トリスノニルフェニル７オスフアイト、２−エチルへキ
シルフェニルフォスファイト、トリスフェニル７オスフ
アイトのうちから選択された１１！１もしくは２−以上
の混合物を用いることが好ましい。＃化防止剤はポリカ
ーボネートに対して１００〜５００１１Ｎ　、好ましく
は１５０〜２００騨の割合で加える。酸化防止剤の添加
量が１００−未満であると、成形時にポリカーボネート
の焼けが発生しやすく、このため複屈折率が高くなる。

一方、５００ｐＰを超えると、成形時にポリカーボネー
ト中の酸化防止剤が分解してガスが発生し、複屈折率が
高くなる。

光学機器用成形素材として用いる本発明のポリカーボネ
ート系組成物には上記成分のほか、必要に応、じて静電
防止剤、滑剤などの添加剤を適宜加えることができる。

本発明のポリカーボネート系組成物は種々の成形方法に
よって目的とする光学機器を＄１！造できるが、特に射
出成形、射出成形とプレス成形の組合せ、押出成形とプ
レス成形との組合せなどの成形手段を適用することが好
ましい。

本発明のポリカーボネート系組成物をビデオディスク、
レンズ類などの光学機器用素材として用いると、光学的
性質にすぐれたものが得られる。

具体的には、重要な要素である複屈折率が極めて低い（
たとえばダブルバス：±１００即以下）上に、成形加工
条件（温度）幅が広く、成形品の部位による複屈折率の
バラツキが極めて少ないという特色がある。しかも、耐
熱性（１００°Ｃ以上）や耐衝撃性が高い。

次に本発明を実施例により拝しく説明する。

実施例１〜４ 所定の粘度平均分子量のポリカーｌネート１００重量部
に対してトリスノニルフェニル７オ、ス７アイト（ＴＩ
Ｐ）１５０−を加え、タンブラ−にて十分予備混合後、
射出成形機（東芝機械製、工Ｓ−４５ＰＩ））を用いて
成形温度（シリンダー最高温度）５６０℃、金型温度１
１０℃の条件で成形して径１５０ｗａｄ、肉厚ｔ２簡の
円板を製作した。この円板番こついて種々の性質を測定
し、第１表に示した結果を得た。

実施例５〜１５ この例ではポリカーボネートとして粘度平均分子ｍ　１
６０００または１７０００のものを用い、かつ成形温度
を変化させたこと以外は実施例１と同様に行なった。結
果を第１表に示す。

実施例１４〜１６ 酸化防止剤の添加量を変化させたこと以外は実施例２と
同様に行なった。結果を鮪１表に示す。

実施例１７．１８ 酸化防止剤として２−エチルへキシルフェニル７オスフ
アイト　（ｍｎｐ）あるいはトリスフェニル７オスフア
イト（ＴＰＰ）を使用したこと以外は実施例２と同様に
行なった。結果を第１表に示す。

比較例１〜６ 粘度平均分子量の異なるポリカーボネートを用い、かつ
成形温度を変化させたこと以外は実施例１と同様に行な
った。結果を第２表に示す。

比較例７〜９ 酸化防止剤の添加蓋を変化させたこと以外は実施例２と
同様に行なった。結果を第２表に示す。

比較例１０ ポリカーボネートの代少にアクリル樹脂（商品名：パラ
ベラ）ＨＲ，協和ガス化学工業製）を用い、成形温度を
２６０°Ｃとしたこと以外は実施例１と同様に行なった
。結果を第２表に示す。

・ｌ　分子ｍ（粘度平均分子量） ウベローデ粘度針を用いて塩化メチレンを溶媒とし、次
式で算出した。

５ｃｈｎｅｌｌの粘度式 ％式％ Ｏ寸法１３０’Ｘ　ｔ２ｍのポリカーボネートシート板
を用い反射式光弾性装置（フォトエラスチック社製）に
て５７５ｍ１１波長における複屈折率を測定した。

・絶対値がａ３１００−以下であること、また（ト）は
引張り応力、Ｈは圧縮応力を示す。

・５　光線透過率 Ｊより　］［−４７１９＆：準拠 ・４　熱変形温度　（１ａ６ψ−） ムＳＴＭ　−Ｄ６４Ｂに準拠 ｅｌ　アイゾツト衝撃強さくノツチ付き・１／８イ万）
ム３ＴＭ　Ｄ−２５６に準拠 手続補正書（自発） 昭和５７年５月−１９日 特許庁長官　島田春樹　殿 １、　事件の表示 ％顧昭５７−６４０２９ ２、　発明の名称 光学機器用成形素材 Ｓ　補正なする者 事件との関係　　特許出願人 出光石油化学株式会社 ４代理人 〒１０４ ◆ｇ都中央区京ａ１丁目１番１０番 コ　補正の対象 明細書の％＃！＋請求の範囲の橢および発明の詳細な説
明の欄（２）明細書第５頁１２行目の「１００〜Ｓ００
」を「１００〜６００」に訂正する。

（３１同第４頁１４行目の［１００〜５００ＰＪを［１
００〜６ｏｏｐｐＪに訂正する。

（４）同第４頁１５行目の［１５０〜２００ｐｐｌＪを
［１５０〜４００ＰＪに訂正する。

（５）同第４頁１８行目のｌ”ｓｏｏｐｐｍＪを「６０
０ｐＰ」に訂正する。

（６）同第６頁５行目の［１５０１１１Ｊを「２５０鱗
」に訂正する。

（７１同第６頁下から６行目の「実施例１４〜１６−１
を「実施例１４〜１７」に訂正する。

（８）　　同第６頁下から５行目の「実施例１７，１８
Ｊを［実施例１８．１９Ｊに訂正する。

（９）　　同第１０頁の第２表の比較例９の酸化防止剤
の欄の数値「５５０」を「７００Ｊに訂正する。

（１（ｌ　　１ｍ第８頁の第１表を次の通りに訂正する
。

特許請求の範囲 （１）粘度平均分子１１１１５０００〜１８０００のポ
リカーｌネートに対して酸化防止剤を１００〜６００ｐ
Ｉｍの割合で添加してなる光学機器用成形素材。

１２１　　酸化防止剤カドリスノニルフェニル７オスフ
アイト、２−エチルへキシルフェニルフォスファイト、
トリスフェニル７オスフアイトのうちから選ばれた１種
もしくは２＠以上の混合物である翁計祠求の範囲第１項
記載の光学機器用成形素材。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）粘度平均分子量１５０００〜１８０００のポリカ
   ーボネートに対して酸化防止剤を１００〜５００Ｐの割
   合で添加してなる光学機器用成形素材。 （２１［ｆ［止剤力）リスノニルフェニル７オスフアイ
   ト、２−エチルへキシルフェニル７オスフアイト、トリ
   スフェニル７オスフアイトのうちから選ばれた１棟もし
   くは２種以上の混合物である特許請求の範囲第１項記載
   の光学機器用成形素材。