JPS58173869A - 化合物半導体電界効果トランジスタの製造方法 - Google Patents
化合物半導体電界効果トランジスタの製造方法Info
- Publication number
- JPS58173869A JPS58173869A JP57055289A JP5528982A JPS58173869A JP S58173869 A JPS58173869 A JP S58173869A JP 57055289 A JP57055289 A JP 57055289A JP 5528982 A JP5528982 A JP 5528982A JP S58173869 A JPS58173869 A JP S58173869A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- type
- insulating film
- mask
- compound semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/80—FETs having rectifying junction gate electrodes
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Weting (AREA)
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
- Recrystallisation Techniques (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57055289A JPS58173869A (ja) | 1982-04-05 | 1982-04-05 | 化合物半導体電界効果トランジスタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57055289A JPS58173869A (ja) | 1982-04-05 | 1982-04-05 | 化合物半導体電界効果トランジスタの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58173869A true JPS58173869A (ja) | 1983-10-12 |
JPS6242398B2 JPS6242398B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1987-09-08 |
Family
ID=12994417
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57055289A Granted JPS58173869A (ja) | 1982-04-05 | 1982-04-05 | 化合物半導体電界効果トランジスタの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58173869A (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59197176A (ja) * | 1983-04-22 | 1984-11-08 | Nec Corp | 接合ゲ−ト電界効果トランジスタの製造方法 |
JPS6149479A (ja) * | 1984-08-18 | 1986-03-11 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
US5867171A (en) * | 1993-05-25 | 1999-02-02 | Casio Computer Co., Ltd. | Face image data processing devices |
JP2008240742A (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-09 | Showa Corp | 減衰力発生装置 |
JP2012523697A (ja) * | 2009-04-08 | 2012-10-04 | エフィシエント パワー コンヴァーション コーポレーション | エンハンスメントモードGaNHEMTデバイス、及びその製造方法 |
-
1982
- 1982-04-05 JP JP57055289A patent/JPS58173869A/ja active Granted
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59197176A (ja) * | 1983-04-22 | 1984-11-08 | Nec Corp | 接合ゲ−ト電界効果トランジスタの製造方法 |
JPS6149479A (ja) * | 1984-08-18 | 1986-03-11 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
US5867171A (en) * | 1993-05-25 | 1999-02-02 | Casio Computer Co., Ltd. | Face image data processing devices |
US6226013B1 (en) | 1993-05-25 | 2001-05-01 | Casio Computer Co., Ltd. | Face image data processing devices |
JP2008240742A (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-09 | Showa Corp | 減衰力発生装置 |
JP2012523697A (ja) * | 2009-04-08 | 2012-10-04 | エフィシエント パワー コンヴァーション コーポレーション | エンハンスメントモードGaNHEMTデバイス、及びその製造方法 |
US8890168B2 (en) | 2009-04-08 | 2014-11-18 | Efficient Power Conversion Corporation | Enhancement mode GaN HEMT device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6242398B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1987-09-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS5837949A (ja) | 集積回路装置 | |
JPS58173869A (ja) | 化合物半導体電界効果トランジスタの製造方法 | |
US4437925A (en) | Etched-source static induction transistor | |
JP2662879B2 (ja) | 絶縁ゲート電界効果トランジスタの製造方法 | |
JP2869653B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
US4458259A (en) | Etched-source static induction transistor | |
JPS6110280A (ja) | 接合型電界効果トランジスタ | |
JP2757872B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPH0240924A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS59191385A (ja) | 半導体装置 | |
JPH0797634B2 (ja) | 電界効果トランジスタとその製造方法 | |
JPS63245960A (ja) | 電界効果半導体装置 | |
JPS62204578A (ja) | 電界効果トランジスタの製造方法 | |
RU795311C (ru) | Способ изготовлени транзисторных структур | |
JPS5910591B2 (ja) | 電界効果トランジスタの製造方法 | |
JPS63250864A (ja) | 縦形シヨツトキ電界効果トランジスタ | |
JP2003163225A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH01225177A (ja) | 電界効果トランジスタ | |
JPS62224082A (ja) | 化合物半導体装置の製造方法 | |
JPS6395664A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS59197176A (ja) | 接合ゲ−ト電界効果トランジスタの製造方法 | |
JPH01296663A (ja) | 光電子集積回路 | |
JPH01235353A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS63181477A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH04130733A (ja) | 半導体装置 |