JPS58171860A - 薄膜トランジスタ - Google Patents
薄膜トランジスタInfo
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- JPS58171860A JPS58171860A JP5433682A JP5433682A JPS58171860A JP S58171860 A JPS58171860 A JP S58171860A JP 5433682 A JP5433682 A JP 5433682A JP 5433682 A JP5433682 A JP 5433682A JP S58171860 A JPS58171860 A JP S58171860A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
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- G02F1/13624—Active matrix addressed cells having more than one switching element per pixel
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- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2300/00—Aspects of the constitution of display devices
- G09G2300/08—Active matrix structure, i.e. with use of active elements, inclusive of non-linear two terminal elements, in the pixels together with light emitting or modulating elements
- G09G2300/0809—Several active elements per pixel in active matrix panels
-
- G—PHYSICS
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- G09G2300/0823—Several active elements per pixel in active matrix panels used to establish symmetry in driving, e.g. with polarity inversion
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- G—PHYSICS
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- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2320/00—Control of display operating conditions
- G09G2320/02—Improving the quality of display appearance
- G09G2320/0209—Crosstalk reduction, i.e. to reduce direct or indirect influences of signals directed to a certain pixel of the displayed image on other pixels of said image, inclusive of influences affecting pixels in different frames or fields or sub-images which constitute a same image, e.g. left and right images of a stereoscopic display
- G09G2320/0214—Crosstalk reduction, i.e. to reduce direct or indirect influences of signals directed to a certain pixel of the displayed image on other pixels of said image, inclusive of influences affecting pixels in different frames or fields or sub-images which constitute a same image, e.g. left and right images of a stereoscopic display with crosstalk due to leakage current of pixel switch in active matrix panels
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はソース・ト)レイン間のリーク電流を低減させ
る構造を有する牛導体薄膜、トランジスタに−する。
る構造を有する牛導体薄膜、トランジスタに−する。
近年、絶縁基板上に薄膜トランジスタを形成する研究が
活発に行なわれている。この技術は、安価な絶縁基板を
用いlfl解ナシナイスプレイ現するアクティブマトリ
ックスパネル、あるいは通常の半導体集積回路上にトラ
ンジスタなどの能動素子を形成する三次元集積回路、あ
るいは安価で高性能なイメージセンサ、あるいは高密変
のメモリなど、数多くの応用が期待されるものである。
活発に行なわれている。この技術は、安価な絶縁基板を
用いlfl解ナシナイスプレイ現するアクティブマトリ
ックスパネル、あるいは通常の半導体集積回路上にトラ
ンジスタなどの能動素子を形成する三次元集積回路、あ
るいは安価で高性能なイメージセンサ、あるいは高密変
のメモリなど、数多くの応用が期待されるものである。
以下、薄膜トランジスタをアクティブマトリックスパネ
ルに応用した場合を例に取って説明するが、本発明は薄
膜トランジスタを用いた他の場合にも全く同様に適用す
ることがで診る。これは、本発明の主旨が、リーク電流
を減少させるという薄膜トランジスタの本質的な特性向
上KINするものだからである。
ルに応用した場合を例に取って説明するが、本発明は薄
膜トランジスタを用いた他の場合にも全く同様に適用す
ることがで診る。これは、本発明の主旨が、リーク電流
を減少させるという薄膜トランジスタの本質的な特性向
上KINするものだからである。
薄膜トランジスタのアクティブマトリックスパネルに応
用した場合の液晶表示装雪け、一般に1上伸のガラス基
板と、下側の薄膜トランジスタ基板と、その間に封入さ
れた液晶とから構成されており、前記薄膜トランジスタ
基板上にマトリックス状に1置され九液晶駆動素子を外
部選択回路により選択し、前F液晶駆動素子に接続され
九液晶駆動電1jK電圧を印加するととKよ抄、任意の
文字、図形、あるいは画惨の表示を行なりものである。
用した場合の液晶表示装雪け、一般に1上伸のガラス基
板と、下側の薄膜トランジスタ基板と、その間に封入さ
れた液晶とから構成されており、前記薄膜トランジスタ
基板上にマトリックス状に1置され九液晶駆動素子を外
部選択回路により選択し、前F液晶駆動素子に接続され
九液晶駆動電1jK電圧を印加するととKよ抄、任意の
文字、図形、あるいは画惨の表示を行なりものである。
前記薄膜トランジスタ基板の一般的な回路−を第1図に
示す。
示す。
第1回顧は薄膜トランジスタ基板上の液晶駆動素子のマ
トリックス状配tSである。II中の1で1!まれえ領
域が表示領域であ)、その中に液晶駆動素子2がマトリ
ックス状に配曾されている。!lは液晶駆動素子2への
データ信号ラインであり、4は液晶駆動素子2へのタイ
ミング信号ラインである。液晶駆動素子20回路図を第
11111e)K示す。
トリックス状配tSである。II中の1で1!まれえ領
域が表示領域であ)、その中に液晶駆動素子2がマトリ
ックス状に配曾されている。!lは液晶駆動素子2への
データ信号ラインであり、4は液晶駆動素子2へのタイ
ミング信号ラインである。液晶駆動素子20回路図を第
11111e)K示す。
5は薄膜トランジスタであり、データのスイッチングを
行なら、6はコンデンサであ抄、データ信44t11i
I持用として用いられる。このコンデンサの容量として
は、液晶自体の有する容量と故意に酸は九コンデンサの
容量を含むが、場合によっては液晶の容量のhで構成さ
れることもある。7は液晶パネルであ抄、7−1は各液
晶駆動素子に対応して形成されえ液晶駆動電極であ如、
7−2は上側ガラスパネルである。
行なら、6はコンデンサであ抄、データ信44t11i
I持用として用いられる。このコンデンサの容量として
は、液晶自体の有する容量と故意に酸は九コンデンサの
容量を含むが、場合によっては液晶の容量のhで構成さ
れることもある。7は液晶パネルであ抄、7−1は各液
晶駆動素子に対応して形成されえ液晶駆動電極であ如、
7−2は上側ガラスパネルである。
以上の説明かられかるように、薄膜トランジスタは、液
晶に印加する電圧のデータをスイッチングするために用
いられ、このと針薄膜トランジスタKl!求される特性
は大t〈次の2種111に分類される。
晶に印加する電圧のデータをスイッチングするために用
いられ、このと針薄膜トランジスタKl!求される特性
は大t〈次の2種111に分類される。
(1) 薄膜トランジスタをON状態にし走時コンデ
ンサを充電させるために充分な電流を流すことかで−る
こと。
ンサを充電させるために充分な電流を流すことかで−る
こと。
(2) 薄膜トランジスタを0?ν状11Kした時、
蕃力、電流が流れないこと。
蕃力、電流が流れないこと。
(1)はコンデンサへのデータの書−込kqlH性に関
するものである。液晶の表示はコンデンサの電位によ抄
決定されるため、短時間にデータを完璧に書き込むこと
がで−るように、薄膜トランジスタは充分大舞い電流を
流すことかで舞なくてはならない。この時の電流(以下
、ON電流という)はコンデンサの容量と、書−込λ時
間とから定ま抄そσ・OK電流をクリアできるように薄
膜トランジスタを製造しなくてはならない。薄膜トラン
ジスタの流すことがでするON電流は、トランジスタの
サイズ(チャネル長とチャネル幅)、構造、製造プロセ
ス、ゲート電圧、ドレイン電圧などに大きく依存する。
するものである。液晶の表示はコンデンサの電位によ抄
決定されるため、短時間にデータを完璧に書き込むこと
がで−るように、薄膜トランジスタは充分大舞い電流を
流すことかで舞なくてはならない。この時の電流(以下
、ON電流という)はコンデンサの容量と、書−込λ時
間とから定ま抄そσ・OK電流をクリアできるように薄
膜トランジスタを製造しなくてはならない。薄膜トラン
ジスタの流すことがでするON電流は、トランジスタの
サイズ(チャネル長とチャネル幅)、構造、製造プロセ
ス、ゲート電圧、ドレイン電圧などに大きく依存する。
c2)は、コンデンサに書舞込まれたデータの保持特性
Kllする吃り・である、一般に、書舞込まれたデータ
は書き込み時間より4はるかに4Iい時間保持されなく
てはならない、コンデンサの容量は。
Kllする吃り・である、一般に、書舞込まれたデータ
は書き込み時間より4はるかに4Iい時間保持されなく
てはならない、コンデンサの容量は。
通常1pν1度の小ζい値であゐため、薄膜トランジス
タがOpν状鯵の時にわずかで4リーク電流c以下、O
FF電流という)が流れると、ドレインの電位(すなわ
ち、コンデンすの電位)は急tKソースの電位に近づき
、書き込まれたデータは正しく保持されなくなってしま
う、したがって。
タがOpν状鯵の時にわずかで4リーク電流c以下、O
FF電流という)が流れると、ドレインの電位(すなわ
ち、コンデンすの電位)は急tKソースの電位に近づき
、書き込まれたデータは正しく保持されなくなってしま
う、したがって。
OFν電流はで伊る11711小さくしなくてはならな
い、 oyy電流の機構についてFi、本発明の主旨に
関係するため、ilK評しく述べる。
い、 oyy電流の機構についてFi、本発明の主旨に
関係するため、ilK評しく述べる。
以上述べた内容かられかるよりに、薄膜トランジスタの
OFF電流を低減させることは、非常に重畳な意義を有
する。チャネル長を小さく、チャネル幅を太キ〈シて充
分なON電流を得ようとする 5− とOFF電流も増加し、データの保持特性を悪化させる
ためである。したがって、01F電流を減少せしめるこ
とは、薄膜トランジスタの特性改善において急務となっ
ている。このことは薄膜トランジスタをアクティブマト
リックスパネル以外の用途に応用する場合にも全く同様
である。例えば、薄膜トランジスタを用いて、通常のロ
ジック回路を構成する場合には静止電流が増加し、また
メモリやイメージセンサを構成する場合KFi誤動作の
原因となる。
OFF電流を低減させることは、非常に重畳な意義を有
する。チャネル長を小さく、チャネル幅を太キ〈シて充
分なON電流を得ようとする 5− とOFF電流も増加し、データの保持特性を悪化させる
ためである。したがって、01F電流を減少せしめるこ
とは、薄膜トランジスタの特性改善において急務となっ
ている。このことは薄膜トランジスタをアクティブマト
リックスパネル以外の用途に応用する場合にも全く同様
である。例えば、薄膜トランジスタを用いて、通常のロ
ジック回路を構成する場合には静止電流が増加し、また
メモリやイメージセンサを構成する場合KFi誤動作の
原因となる。
本発明け、このような従来の薄膜トランジスタの欠点を
除去するものであり、その目的とするところけ、0FI
F電流を低減させる構造を有する薄膜トランジスタを提
供することである。以下、 OFν電流の機構について
詳しく述べた後、それに基づいて本発明の詳細な説明す
る。
除去するものであり、その目的とするところけ、0FI
F電流を低減させる構造を有する薄膜トランジスタを提
供することである。以下、 OFν電流の機構について
詳しく述べた後、それに基づいて本発明の詳細な説明す
る。
第2図は半導体薄膜を用い九Nチャネル薄膜トランジス
タの一般的な構造を示す断面図である。8けガラス、石
英などの絶縁性透明基板、9は多結晶シリコンなどの半
導体薄膜、10は半導体薄膜中にリンやヒ素などの不純
物をドープして形成したソース領 6− 域、11は同じくドレイン領域、12けゲー1L15け
ゲー)IF響、14は層間絶縁膜、15はソース電極、
16けドレイン電番である。この構造を有する薄膜トラ
ンジスタの代衰的な特性を第3因及び第4図に示す。
タの一般的な構造を示す断面図である。8けガラス、石
英などの絶縁性透明基板、9は多結晶シリコンなどの半
導体薄膜、10は半導体薄膜中にリンやヒ素などの不純
物をドープして形成したソース領 6− 域、11は同じくドレイン領域、12けゲー1L15け
ゲー)IF響、14は層間絶縁膜、15はソース電極、
16けドレイン電番である。この構造を有する薄膜トラ
ンジスタの代衰的な特性を第3因及び第4図に示す。
第3図はチャネル長Lg=20j惰、チャネル幅Wsa
+10J111のサイズを有する薄膜トランジスタの特
性を示すグラフである。なお、このデータは本出願人が
実験を行なって得られた結果である。このグ′2フの横
軸はソースに対するゲート電圧yssであ抄、縦軸はド
レイン電流より である、ノくラメータはソースに対す
るドレイン電圧VDIでTo−、ムの1曽がVD−we
、 I V K 、 Bの1纏がvDllVに、0の1
曽がVesg=SIVKそれぞれ対応する。
+10J111のサイズを有する薄膜トランジスタの特
性を示すグラフである。なお、このデータは本出願人が
実験を行なって得られた結果である。このグ′2フの横
軸はソースに対するゲート電圧yssであ抄、縦軸はド
レイン電流より である、ノくラメータはソースに対す
るドレイン電圧VDIでTo−、ムの1曽がVD−we
、 I V K 、 Bの1纏がvDllVに、0の1
曽がVesg=SIVKそれぞれ対応する。
これよ抄わかるように、ドレイン電流■DけV・―冨O
v近傍で最小値を取り、ye−の絶対値が増加すゐKつ
れてドレイン電流よりは増加する。vII−が正の領域
でドレイン電流が増加することは、トランジスタが0シ
シ状態からON状態へ変化することを意味するものであ
抄、電流の増加率はで−る隈抄大きいことが望ましい、
一方、yesが負の領域でドレイン電流が増加するとと
け、07Fシ電流がゲート電圧依存性を有することを意
味する亀のでToリトランジスタの特性としては望まし
くない、またトレイン電涛はドレイン電圧V!IIKよ
り大幹く変化する。特Kvosが負の領域におけるドレ
イン電流、すなわちOFF電流は、ON電流以上にドレ
イン電圧依存性が大ぎい。
v近傍で最小値を取り、ye−の絶対値が増加すゐKつ
れてドレイン電流よりは増加する。vII−が正の領域
でドレイン電流が増加することは、トランジスタが0シ
シ状態からON状態へ変化することを意味するものであ
抄、電流の増加率はで−る隈抄大きいことが望ましい、
一方、yesが負の領域でドレイン電流が増加するとと
け、07Fシ電流がゲート電圧依存性を有することを意
味する亀のでToリトランジスタの特性としては望まし
くない、またトレイン電涛はドレイン電圧V!IIKよ
り大幹く変化する。特Kvosが負の領域におけるドレ
イン電流、すなわちOFF電流は、ON電流以上にドレ
イン電圧依存性が大ぎい。
第4図はチャネル幅W=10μ愼の薄膜トランジスタの
特性のチャネル長り依存性を示すグラフである。なお、
このデータも出願人が実験を行なって得喪結果である。
特性のチャネル長り依存性を示すグラフである。なお、
このデータも出願人が実験を行なって得喪結果である。
ドレイン電圧はVDI = A V。
で一定であり、パラメータはチャネル長りである。
Dの曲線がL= 10 fim’に、 Hの曲線がL
= 2’O0ば、?の曲線がL=’40m*ば、Gの1
纏がL = 100μmrrLKそれぞれ対応する。こ
れよりわかるよりに、 vGlが正の領域ではドレイン
電流工f1はチャネル長I、に反比例し、通常の金属絶
縁膜半導体構造電界効果トランジスタ(MO8pzT)
の運輸と一致する。しかし、yesが負の領域では、V
OSの飴、対値が大赦くなるにつれて、チャネル長Lf
’1依存性は小さくな抄、ついKFiLの依存性が全く
無くなる。すなわち、yo−が約−8v以下のと鎗には
、いかなるLK対しても01P纜流は一定になる。
= 2’O0ば、?の曲線がL=’40m*ば、Gの1
纏がL = 100μmrrLKそれぞれ対応する。こ
れよりわかるよりに、 vGlが正の領域ではドレイン
電流工f1はチャネル長I、に反比例し、通常の金属絶
縁膜半導体構造電界効果トランジスタ(MO8pzT)
の運輸と一致する。しかし、yesが負の領域では、V
OSの飴、対値が大赦くなるにつれて、チャネル長Lf
’1依存性は小さくな抄、ついKFiLの依存性が全く
無くなる。すなわち、yo−が約−8v以下のと鎗には
、いかなるLK対しても01P纜流は一定になる。
第3図及び第4図に示したデータより、OFF電流は次
のような機構によるものと考えられる。
のような機構によるものと考えられる。
すなわち 7@@ w= Q 7 fCおける0ア?電
流は半導体薄膜の固有抵抗により決定されるが、V・1
を負にバイアスし走時のOFF電流は、半導体薄膜のl
ImK鋳起されるpfli層と、ソース領域及びドレイ
ン領域の)111層との関に形成されるPN#合を流れ
る電流により規定される。一般に、半導体薄膜中には多
くのトラップが存在する喪め、このPM接合は不完全で
あり、し★がって接合リーク電流が流れやすい、ゲート
電圧を負にバイアスするほどOFF電流が増加するのけ
、半導体薄膜の!I画に形成畜れるP型層のキャリア濃
度が増加して、PM接合のエネルギー障壁の幅が狭くな
る丸め、電界の集中が起と抄、接合リーク電流が増加す
ること 9− によるものである。また、0FFII流のドレイン電圧
依存性も、同様の理由によるものである。′J!九〇F
F電流のチャネル長依存性も、接合リーク電流により謂
明で舞る。すなわち、v■を負にバイアスするにつれて
、OFF電流はドレイン近傍の壷金す−ク電流Kt配さ
れ、半導体薄膜の固有抵抗により流れる電流は無視でき
るようになるためである。
流は半導体薄膜の固有抵抗により決定されるが、V・1
を負にバイアスし走時のOFF電流は、半導体薄膜のl
ImK鋳起されるpfli層と、ソース領域及びドレイ
ン領域の)111層との関に形成されるPN#合を流れ
る電流により規定される。一般に、半導体薄膜中には多
くのトラップが存在する喪め、このPM接合は不完全で
あり、し★がって接合リーク電流が流れやすい、ゲート
電圧を負にバイアスするほどOFF電流が増加するのけ
、半導体薄膜の!I画に形成畜れるP型層のキャリア濃
度が増加して、PM接合のエネルギー障壁の幅が狭くな
る丸め、電界の集中が起と抄、接合リーク電流が増加す
ること 9− によるものである。また、0FFII流のドレイン電圧
依存性も、同様の理由によるものである。′J!九〇F
F電流のチャネル長依存性も、接合リーク電流により謂
明で舞る。すなわち、v■を負にバイアスするにつれて
、OFF電流はドレイン近傍の壷金す−ク電流Kt配さ
れ、半導体薄膜の固有抵抗により流れる電流は無視でき
るようになるためである。
ClFF電流の榛構は上述した通妙のものであるが実際
K OFF電流を低減させるための有効な手段は従来、
あま抄取られていなかっ九。1rIIK、ゲート電圧を
負にバイアスした時の0FIP電流を低減させるためK
d、接合リーク電流を低減させなくてはならないため、
その努力はほとんど払われていなかった。
K OFF電流を低減させるための有効な手段は従来、
あま抄取られていなかっ九。1rIIK、ゲート電圧を
負にバイアスした時の0FIP電流を低減させるためK
d、接合リーク電流を低減させなくてはならないため、
その努力はほとんど払われていなかった。
本発明はこのような0FIF電流のゲート電圧依存性を
低減させ、yesを負の値に増加させてもOFF電流が
#テとんど増加しない特性な肩する画期的な薄膜トラン
ジスタを提供するものである。これを実現するために本
発明では、半導体薄膜を用いソ 10− −スミ響とドレイン電極とゲート電番をII虻良友薄膜
トランジスタおいて、11数個の前記薄膜トランジスタ
を直列Km続し、その両端の電極をソース電極及びドレ
イン電極とすると共に、前配曹赦儒の薄膜トランジスタ
のゲート電番をすべて共通にしたことt**とする薄膜
トランジスタをmsする。以下、図を参照して本発明の
詳細な説明すゐ。
低減させ、yesを負の値に増加させてもOFF電流が
#テとんど増加しない特性な肩する画期的な薄膜トラン
ジスタを提供するものである。これを実現するために本
発明では、半導体薄膜を用いソ 10− −スミ響とドレイン電極とゲート電番をII虻良友薄膜
トランジスタおいて、11数個の前記薄膜トランジスタ
を直列Km続し、その両端の電極をソース電極及びドレ
イン電極とすると共に、前配曹赦儒の薄膜トランジスタ
のゲート電番をすべて共通にしたことt**とする薄膜
トランジスタをmsする。以下、図を参照して本発明の
詳細な説明すゐ。
第55+1は、本発明の一般的な回路図を示すものであ
る。8ijンースを、 I)Fiミドレイン、Gけゲー
トを示して−る。また1iは璽列に接続する薄膜トラン
ジスタの個数を衰わしている。I%ilかもわかるよう
KN伽の薄膜トランジスタを曹列に接続し両端の電接の
一方をソースに、他方をドレインとする。また、N個の
薄膜トランジスタのゲートはすべて共通にして、1つの
ゲートとする0本発明の主旨は、このように構成され九
複数個の薄膜トランジスタを単一の薄膜トランジスタと
してiH扱うことにあゐ、このように構成された薄膜ト
ランジスタは非常に優れたOFν特性を有する。その理
由は、第6図を参照して説明する。
る。8ijンースを、 I)Fiミドレイン、Gけゲー
トを示して−る。また1iは璽列に接続する薄膜トラン
ジスタの個数を衰わしている。I%ilかもわかるよう
KN伽の薄膜トランジスタを曹列に接続し両端の電接の
一方をソースに、他方をドレインとする。また、N個の
薄膜トランジスタのゲートはすべて共通にして、1つの
ゲートとする0本発明の主旨は、このように構成され九
複数個の薄膜トランジスタを単一の薄膜トランジスタと
してiH扱うことにあゐ、このように構成された薄膜ト
ランジスタは非常に優れたOFν特性を有する。その理
由は、第6図を参照して説明する。
第6図b)は、第5図においてN=2とした場合の回路
図である。簡単のため、N−2の場合を例にとって本発
明を説明する0図中、El、 r;、 aの意味する
内容は第5図と同じである。 El、 D、 G、x
rbける電位をそれぞれvo 、 VD 、 vo 、
VXとする。また、図中の番号は、2つの薄膜トラン
ジスタにつけられた番号であり、それぞれのトランジス
タのチャネル長をL+、Ltとする。また、第6図の)
は、顧のトランジスタを岬価的に1つのトランジスタ2
會流かえたものであり、そのチャネル長けIs+Ltで
ある。トランジスタ1のドレイン電圧vos1.ゲート
電圧VGII及びトランジスタ2のドレイン電圧Voi
2、ゲート電圧Villaけ次式で与えられる。
図である。簡単のため、N−2の場合を例にとって本発
明を説明する0図中、El、 r;、 aの意味する
内容は第5図と同じである。 El、 D、 G、x
rbける電位をそれぞれvo 、 VD 、 vo 、
VXとする。また、図中の番号は、2つの薄膜トラン
ジスタにつけられた番号であり、それぞれのトランジス
タのチャネル長をL+、Ltとする。また、第6図の)
は、顧のトランジスタを岬価的に1つのトランジスタ2
會流かえたものであり、そのチャネル長けIs+Ltで
ある。トランジスタ1のドレイン電圧vos1.ゲート
電圧VGII及びトランジスタ2のドレイン電圧Voi
2、ゲート電圧Villaけ次式で与えられる。
’%rD111== VX −V自v(1111=
Vm −Vll Voa!= Vn −’ VX ) VG% : vo −VX トランジスタ1を流れる電流工、とトランジスタ2會流
れる電MI Xsが等しくなるように点Xの電位Vlが
定まる。このとき、Vm < vx (7aが成立し、
し九がってドレイン電圧Vo −Vs #12つのトラ
ンジスタに分割して印加されることになる。このためド
レイン電fllは減少するはずであるが、ドレイン電流
とチャネル長との関に一定の関係が成立する場合に#i
、第6図の)K比べてチャネル長が短い分だけドレイン
電流は増加し、結局、第611b)のトランジスタと、
第6図中)のトランジスタとでは電流値#i岬しくなる
。実際、V・−Vm ) Qの場合には、この関係が成
立し、ON電流Fit化しない。
Vm −Vll Voa!= Vn −’ VX ) VG% : vo −VX トランジスタ1を流れる電流工、とトランジスタ2會流
れる電MI Xsが等しくなるように点Xの電位Vlが
定まる。このとき、Vm < vx (7aが成立し、
し九がってドレイン電圧Vo −Vs #12つのトラ
ンジスタに分割して印加されることになる。このためド
レイン電fllは減少するはずであるが、ドレイン電流
とチャネル長との関に一定の関係が成立する場合に#i
、第6図の)K比べてチャネル長が短い分だけドレイン
電流は増加し、結局、第611b)のトランジスタと、
第6図中)のトランジスタとでは電流値#i岬しくなる
。実際、V・−Vm ) Qの場合には、この関係が成
立し、ON電流Fit化しない。
すなわち、チャネル長をどのように分割しても電流値は
質わらない。
質わらない。
しかし、V・−v−〈0の場合KFi状況が異なる。
これは、第4図に示したように、ゲート電圧を自にバイ
アスした場合、ドレイン電流のチャネル長依存性がなく
なってくることに起因する。すなわち、ゲート電圧を負
の方向に大きくしていくと。
アスした場合、ドレイン電流のチャネル長依存性がなく
なってくることに起因する。すなわち、ゲート電圧を負
の方向に大きくしていくと。
01r電RFiチヤネル長に依存しなくなってくる丸め
、第6図b)との)とでチャネル長の違いによる効lけ
なのなってくる。したがって、Ii!!身のトラン−1
3ψ ジスタに加わるドレイン電圧が低下する分だけ。
、第6図b)との)とでチャネル長の違いによる効lけ
なのなってくる。したがって、Ii!!身のトラン−1
3ψ ジスタに加わるドレイン電圧が低下する分だけ。
の)でFiCIF?電流が減少する。この効果は、ゲー
ト電圧を負にバイアスするほど顕著になる。
ト電圧を負にバイアスするほど顕著になる。
また、以上の現象は、物性的に次のようにも説明される
。トランジスタがONの状態では、半導体薄膜の表面に
はチャネルが形成これる九め、ソースからドレインに向
けて、は埋均−な電位勾配(電界)が生じているために
、どのようにチャネルを分割してもドレイン電流は皆化
しない、一方トランジスタがopyの状態では、前述の
通り、ドレイン近傍のPM接合K 11とんどの電界が
集中しているため、トランジスタを分割することにより
個々のPN接合に加わる電界集中を弱めることかで舞、
接合リーク電流、すなわちOFF電流を減少させること
がで−る。
。トランジスタがONの状態では、半導体薄膜の表面に
はチャネルが形成これる九め、ソースからドレインに向
けて、は埋均−な電位勾配(電界)が生じているために
、どのようにチャネルを分割してもドレイン電流は皆化
しない、一方トランジスタがopyの状態では、前述の
通り、ドレイン近傍のPM接合K 11とんどの電界が
集中しているため、トランジスタを分割することにより
個々のPN接合に加わる電界集中を弱めることかで舞、
接合リーク電流、すなわちOFF電流を減少させること
がで−る。
次に、実験データを示して1本発明の効果を実証する。
第7図は1本発明による薄膜トランジスタの特性を示す
グラフである。第63顧においてL1=Lt=10μ情
、W1=W鵞=10μ愼とじ九場合のトラ 14− ンジスタ轡性である。このトランジスタは等価的に第5
mK示したトランジスタに等しいものである。なお、こ
のデータも本出膠人が実験を行なって得られ九結果であ
る。パラメータはドレイン電圧テ&す、HV@@が7n
smIVK、Iの一線がyDs = 4 Vに、Jの曲
線がVDI = 9 V Kそれぞれ対応している。こ
のグラフかられかるように、Vllllが正の領域、す
なわちON電流は第3図のデータとほとんど一致するが
、V・−が負の領域、すなわちOFFFF電流第1第3
WJ幅に異な抄、低い値でほぼ一定の値をとっている。
グラフである。第63顧においてL1=Lt=10μ情
、W1=W鵞=10μ愼とじ九場合のトラ 14− ンジスタ轡性である。このトランジスタは等価的に第5
mK示したトランジスタに等しいものである。なお、こ
のデータも本出膠人が実験を行なって得られ九結果であ
る。パラメータはドレイン電圧テ&す、HV@@が7n
smIVK、Iの一線がyDs = 4 Vに、Jの曲
線がVDI = 9 V Kそれぞれ対応している。こ
のグラフかられかるように、Vllllが正の領域、す
なわちON電流は第3図のデータとほとんど一致するが
、V・−が負の領域、すなわちOFFFF電流第1第3
WJ幅に異な抄、低い値でほぼ一定の値をとっている。
すなわち、従来の薄膜トランジスタと同17. OM電
流を保ちつつ、0シシ電流を大幅に41に波させている
。ま走、本出願人は従来のトランジスタ特性をもとにし
てコンビ為−タシI&レージ嘗ンを行ない、本発明によ
る薄膜トランジスタのoyy 特性を計算して入たが、
その結果は縞7111のグラフと非常によ(−散しえ。
流を保ちつつ、0シシ電流を大幅に41に波させている
。ま走、本出願人は従来のトランジスタ特性をもとにし
てコンビ為−タシI&レージ嘗ンを行ない、本発明によ
る薄膜トランジスタのoyy 特性を計算して入たが、
その結果は縞7111のグラフと非常によ(−散しえ。
以上の説明では簡単のため、舅=2の場合、すなわち2
つの薄膜トランジスタを直列KW綬した場合について述
べたが、3つ以上の場合にも全く同様の砦明をすること
がで−る。薗列に接続する薄膜トランジスタの個数を増
加之せると、ドレイン電圧力1高い場合のOFF電流の
改曹が顕著になってぐる。これは、トランジスタの数が
多Zfiと個々のトランジスタに印加されるドレイン電
圧が減少するためである。したがって、薄膜トランジス
タの用途と、要求これる0IFF電流のレベルによって
、その個数Nを選択すればよい、アクティブマトリック
スパネルに応用する場合には、通常、ドレイン電圧が低
い九め(約10v以下)、 N=2〜3で充分である。
つの薄膜トランジスタを直列KW綬した場合について述
べたが、3つ以上の場合にも全く同様の砦明をすること
がで−る。薗列に接続する薄膜トランジスタの個数を増
加之せると、ドレイン電圧力1高い場合のOFF電流の
改曹が顕著になってぐる。これは、トランジスタの数が
多Zfiと個々のトランジスタに印加されるドレイン電
圧が減少するためである。したがって、薄膜トランジス
タの用途と、要求これる0IFF電流のレベルによって
、その個数Nを選択すればよい、アクティブマトリック
スパネルに応用する場合には、通常、ドレイン電圧が低
い九め(約10v以下)、 N=2〜3で充分である。
薄膜トランジスタでロジック回路を構成する場合には、
通常、充分なON電流を得るために高いゲート電圧を印
加するが、ドレイン電圧もそれとほぼ同等の高い値にな
るため舅の普は大とくした方がOFF電流の低減には効
果がある。
通常、充分なON電流を得るために高いゲート電圧を印
加するが、ドレイン電圧もそれとほぼ同等の高い値にな
るため舅の普は大とくした方がOFF電流の低減には効
果がある。
以上、述べたように、本発明はON電流を低下ζせるこ
となく、OFF電流を大幅に減少せしめるという優れた
効果を有する画期的な薄膜トランジスタを提供するもの
である。
となく、OFF電流を大幅に減少せしめるという優れた
効果を有する画期的な薄膜トランジスタを提供するもの
である。
糖1図は薄膜トランジスタをアクティブマトリックスパ
ネルに応用した場合の一般的な回路図である。 第2図は半導体薄膜を用いえyチャネル薄膜トランジス
タの一般的な構造を示すII!1面図である。 msmxび菖4図は、従来の薄膜トランジスタの特性を
示すグラフで布る。 縞5図は本発明の一般的な構成を示す回路図である。 第61Jは本発明の一例として、2個の薄膜トランジス
タを直列Km続した場合の回路図と、それに等価な単一
の薄膜トランジスタを示すものである。 11E711は、第6因に示した本発明による薄膜トラ
ンジスタの特性を示すグラフである。 以 上 出願人 株式会社 諏訪精工舎 303 6ノ 第1図 第2WA 1°゛3“°゛0 第3図 Tes (V61j) 第4図 30 第5図 □ 負 蛎) (ト) 第6図 一
ネルに応用した場合の一般的な回路図である。 第2図は半導体薄膜を用いえyチャネル薄膜トランジス
タの一般的な構造を示すII!1面図である。 msmxび菖4図は、従来の薄膜トランジスタの特性を
示すグラフで布る。 縞5図は本発明の一般的な構成を示す回路図である。 第61Jは本発明の一例として、2個の薄膜トランジス
タを直列Km続した場合の回路図と、それに等価な単一
の薄膜トランジスタを示すものである。 11E711は、第6因に示した本発明による薄膜トラ
ンジスタの特性を示すグラフである。 以 上 出願人 株式会社 諏訪精工舎 303 6ノ 第1図 第2WA 1°゛3“°゛0 第3図 Tes (V61j) 第4図 30 第5図 □ 負 蛎) (ト) 第6図 一
Claims (1)
- 半導体薄膜を用い、ソース電番とドレイン電極とダート
電極を備ええ薄膜トランジスタにおいて彼数儒の前記薄
膜トランジスタを直′列に接続し、その両端の電極をソ
ース電極及びドレイン電極とすると共に、前記複数個の
薄膜トランジスタのゲート電極をすべて共通にしたこと
を特徴とする薄膜トランジスタ。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5433682A JPS58171860A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | 薄膜トランジスタ |
FR8304924A FR2524714B1 (fr) | 1982-04-01 | 1983-03-25 | Transistor a couche mince |
GB08308614A GB2117970B (en) | 1982-04-01 | 1983-03-29 | Thin film transistor integrated circuit |
US06/481,087 US4623908A (en) | 1982-04-01 | 1983-03-31 | Thin film transistors |
DE19833311923 DE3311923A1 (de) | 1982-04-01 | 1983-03-31 | Duennfilmtransistoranordnung |
FR8310563A FR2547955B2 (fr) | 1982-04-01 | 1983-06-27 | Transistor a couche mince |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5433682A JPS58171860A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | 薄膜トランジスタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58171860A true JPS58171860A (ja) | 1983-10-08 |
JPH0544195B2 JPH0544195B2 (ja) | 1993-07-05 |
Family
ID=12967756
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5433682A Granted JPS58171860A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | 薄膜トランジスタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58171860A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03108766A (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-08 | Nippondenso Co Ltd | 高耐圧トランジスタ |
EP0589478A3 (en) * | 1992-09-25 | 1994-11-17 | Sony Corp | Liquid crystal display device. |
US6184559B1 (en) | 1996-11-21 | 2001-02-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Active matrix display device having multiple gate electrode portions |
US6885027B2 (en) | 1994-06-02 | 2005-04-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Active matrix display and electrooptical device |
DE19605669B4 (de) * | 1995-02-15 | 2007-06-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd., Atsugi | Aktivmatrix-Anzeigevorrichtung |
DE19605670B4 (de) * | 1995-02-15 | 2007-06-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd., Atsugi | Aktivmatrixanzeigegerät |
US7253460B2 (en) | 2004-02-04 | 2007-08-07 | Casio Computer Co., Ltd. | Active matrix panel with two thin film transistors to a pixel |
JP2021013023A (ja) * | 2001-11-09 | 2021-02-04 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3784491B2 (ja) | 1997-03-28 | 2006-06-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | アクティブマトリクス型の表示装置 |
-
1982
- 1982-04-01 JP JP5433682A patent/JPS58171860A/ja active Granted
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03108766A (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-08 | Nippondenso Co Ltd | 高耐圧トランジスタ |
EP0589478A3 (en) * | 1992-09-25 | 1994-11-17 | Sony Corp | Liquid crystal display device. |
US5412493A (en) * | 1992-09-25 | 1995-05-02 | Sony Corporation | Liquid crystal display device having LDD structure type thin film transistors connected in series |
US6885027B2 (en) | 1994-06-02 | 2005-04-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Active matrix display and electrooptical device |
US7148506B2 (en) | 1994-06-02 | 2006-12-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Active matrix display and electrooptical device |
US7459724B2 (en) | 1994-06-02 | 2008-12-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Active matrix display and electrooptical device |
DE19605669B4 (de) * | 1995-02-15 | 2007-06-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd., Atsugi | Aktivmatrix-Anzeigevorrichtung |
DE19605670B4 (de) * | 1995-02-15 | 2007-06-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd., Atsugi | Aktivmatrixanzeigegerät |
US6184559B1 (en) | 1996-11-21 | 2001-02-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Active matrix display device having multiple gate electrode portions |
US6426517B2 (en) | 1996-11-21 | 2002-07-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Active matrix display device having multiple gate electrode portions |
JP2021013023A (ja) * | 2001-11-09 | 2021-02-04 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置 |
US7253460B2 (en) | 2004-02-04 | 2007-08-07 | Casio Computer Co., Ltd. | Active matrix panel with two thin film transistors to a pixel |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0544195B2 (ja) | 1993-07-05 |
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