JPS58170754A - インドリン系化合物の製法 - Google Patents
インドリン系化合物の製法Info
- Publication number
- JPS58170754A JPS58170754A JP5320982A JP5320982A JPS58170754A JP S58170754 A JPS58170754 A JP S58170754A JP 5320982 A JP5320982 A JP 5320982A JP 5320982 A JP5320982 A JP 5320982A JP S58170754 A JPS58170754 A JP S58170754A
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- Japan
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- indole
- formic acid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はインドリン系化合物の製法に関し、史に詳（７
くはインドール系化合物を還元することによるインドリ
ン系化合物の製法に関する。
くはインドール系化合物を還元することによるインドリ
ン系化合物の製法に関する。
インドール系化合物の還元は、従来、インドール系化合
物を酸性溶媒中バイトランド試薬（たとえば、ピリジン
ボラン、トリエチルンラン、水素化硼素シアノナトリウ
ムなど）によって還元するか、または還元触媒を用いて
水素添加することによって接触還元していた１しかしな
がら、前者は、大量生産の場合、等モル以上の原料を残
月するため発熱などに伴う副反応が起き、原料の分解産
物の生成などのため後処理が複雑になるという欠点があ
る。
物を酸性溶媒中バイトランド試薬（たとえば、ピリジン
ボラン、トリエチルンラン、水素化硼素シアノナトリウ
ムなど）によって還元するか、または還元触媒を用いて
水素添加することによって接触還元していた１しかしな
がら、前者は、大量生産の場合、等モル以上の原料を残
月するため発熱などに伴う副反応が起き、原料の分解産
物の生成などのため後処理が複雑になるという欠点があ
る。
また、後者は、パラジウム−またはニッケルー触媒を使
用する場合には高温高圧を必要とし、反応時間も長く、
白金−触媒を使用する場合には強い条件下ではベンゼン
核まで還元されてしまうことがあるという欠点がある。
用する場合には高温高圧を必要とし、反応時間も長く、
白金−触媒を使用する場合には強い条件下ではベンゼン
核まで還元されてしまうことがあるという欠点がある。
最近ペプチド合成に際し、ギ酸−パラジウム黒による゛
脱保護反応が報告されているが、本発明者らは、この反
応によりどの程度インドール環が還元を受けるかについ
て明らかにすべく種々反応を試みた結果、脱保護の条件
でかなりインドール環が還元される場合があることを確
認した。しか［７、還元を目的とした反応としては、収
率がきわめて低く、シかも長時間を要するため、およそ
実用には供し難いものであった。本発明者らはさらに検
討の結果、反応系を加温することによシ予想をはるかに
上まわってインドール環が還元され、しかも所要時間が
短縮されるとともに、前記従来法の欠点が解消されるこ
とを発見し、本発明を完成した。
脱保護反応が報告されているが、本発明者らは、この反
応によりどの程度インドール環が還元を受けるかについ
て明らかにすべく種々反応を試みた結果、脱保護の条件
でかなりインドール環が還元される場合があることを確
認した。しか［７、還元を目的とした反応としては、収
率がきわめて低く、シかも長時間を要するため、およそ
実用には供し難いものであった。本発明者らはさらに検
討の結果、反応系を加温することによシ予想をはるかに
上まわってインドール環が還元され、しかも所要時間が
短縮されるとともに、前記従来法の欠点が解消されるこ
とを発見し、本発明を完成した。
本発明の方法は、インドール系化合物をギ酸中、還元金
属触媒の存在下、４０〜１００℃に加熱し７、還元する
ことを特徴とするインドリン系化合物の製法である。。
属触媒の存在下、４０〜１００℃に加熱し７、還元する
ことを特徴とするインドリン系化合物の製法である。。
本発明において、インドール系化合物とはインドール、
６−メチルインドール トリプタミンなどの単なるインドール化合物は勿論のこ
と、インドール環からなる三項以上の縮合多環式化合物
（たとえば、テトラヒドロカルバゾールなど）やトリプ
トファンからなるペプチドをも含み、要するに環の数や
、壇上の置換基の種類や数にかかわりなくインドール環
をその中に有している化合物を意味する。
６−メチルインドール トリプタミンなどの単なるインドール化合物は勿論のこ
と、インドール環からなる三項以上の縮合多環式化合物
（たとえば、テトラヒドロカルバゾールなど）やトリプ
トファンからなるペプチドをも含み、要するに環の数や
、壇上の置換基の種類や数にかかわりなくインドール環
をその中に有している化合物を意味する。
従って、生成するインドリン系化合物も、前記インドー
ル系化合物に対応する化合物を意味する。
ル系化合物に対応する化合物を意味する。
還元金属触媒とはパラジウム、白金などからなる還元性
の触媒を指すが、市販の１ｏ９／パラジウムカーボンま
たはパラジウム黒が効果的であるっギ酸は溶媒として種
々の化合物を溶解するとともに還元のだめの水素源とし
て作用する。８０％程度の含水ギ酸でも還元反応は進行
するが、含水量が少なく純度の高いギ酸はど還元１え応
の進行が良好である。
の触媒を指すが、市販の１ｏ９／パラジウムカーボンま
たはパラジウム黒が効果的であるっギ酸は溶媒として種
々の化合物を溶解するとともに還元のだめの水素源とし
て作用する。８０％程度の含水ギ酸でも還元反応は進行
するが、含水量が少なく純度の高いギ酸はど還元１え応
の進行が良好である。
本発明の方法は水素源としてギｔｒ・）与を用い、水素
ガスは使用しない開放系の反応−゛ちるから、反応温度
を高めることが容易でお心，反応温度を４０〜１００℃
に保持することにより、室温では長時間を要する本発明
の反応を極めて虹時間に完結させることが可能となる。
ガスは使用しない開放系の反応−゛ちるから、反応温度
を高めることが容易でお心，反応温度を４０〜１００℃
に保持することにより、室温では長時間を要する本発明
の反応を極めて虹時間に完結させることが可能となる。
反応温度を７０℃前後に保持した場合に最も良好な結果
が得られる、ギ酸はアミン系化合物のホルミル化剤でも
あるので、反応成績体中には窒素に水素が結合している
インドリン系化合物と、窒素がホルミル化されたインピ
リン系化合物とが混在する場合がある。
が得られる、ギ酸はアミン系化合物のホルミル化剤でも
あるので、反応成績体中には窒素に水素が結合している
インドリン系化合物と、窒素がホルミル化されたインピ
リン系化合物とが混在する場合がある。
ギ酸中にアンモニウム ホルメート系化合物（たとえば
アンモニウム ホルメート、トリエチルアンモニウム
ホルメートなど）を加えて本発明の方法を実施すると、
ホルミル化が促進され、成績体はホルミル化されたイン
ドリン系化合物のみとなり、単離，精製を極めて容易に
することがＩｌｌ能となる。
アンモニウム ホルメート、トリエチルアンモニウム
ホルメートなど）を加えて本発明の方法を実施すると、
ホルミル化が促進され、成績体はホルミル化されたイン
ドリン系化合物のみとなり、単離，精製を極めて容易に
することがＩｌｌ能となる。
本発明の方法は反応操作を簡単に１，、反応時１月を短
縮させ、後処理を容易にすることが可能で、産支ト有用
である。
縮させ、後処理を容易にすることが可能で、産支ト有用
である。
以Ｆ、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
実施例 １
Ｎ−アセチルトリプトファン エチルエステル（１０３
．８■， ０． ３ ７ ９ ｍｍｏｔ）の９９％ギ
酸溶液（４＋＋＋ｅ）に１０％パラジウム カーボン（
１００〜）を窒素雰囲気下に加え、７０℃で４５分攪拌
後反応液を濾過し、炉取したパラジウム カーボンを８
０％含水メタノール（５０ｄ）でよく洗滌した，、 ｉ
？液と洗滌液を合し、減圧下に留去し、得られた残渣に
１０％炭酸水素ナトリウム水を加え、酢酸エチル（３０
Ｘ２ｍ）で抽出した。
．８■， ０． ３ ７ ９ ｍｍｏｔ）の９９％ギ
酸溶液（４＋＋＋ｅ）に１０％パラジウム カーボン（
１００〜）を窒素雰囲気下に加え、７０℃で４５分攪拌
後反応液を濾過し、炉取したパラジウム カーボンを８
０％含水メタノール（５０ｄ）でよく洗滌した，、 ｉ
？液と洗滌液を合し、減圧下に留去し、得られた残渣に
１０％炭酸水素ナトリウム水を加え、酢酸エチル（３０
Ｘ２ｍ）で抽出した。
この抽出液を飽和食塩水（ ２ ０ｍｊ）で洗滌し、芒
硝で乾燥した。溶液を留去し、残渣を７リカゲルカラム
クロマトグラフイー（展開溶媒，ベンゼン゛アセトン＝
２：１）で精製し、Ｎ−アセチル−１−ホルミル−２．
ｓ − ＞ヒドロトリブトフ了ン エチルエステル（８
８．７■）を得た。 収率 ７ ７． ０％実施例 ２ 実施例１に準じて次表に示す化合物を得だ。
硝で乾燥した。溶液を留去し、残渣を７リカゲルカラム
クロマトグラフイー（展開溶媒，ベンゼン゛アセトン＝
２：１）で精製し、Ｎ−アセチル−１−ホルミル−２．
ｓ − ＞ヒドロトリブトフ了ン エチルエステル（８
８．７■）を得た。 収率 ７ ７． ０％実施例 ２ 実施例１に準じて次表に示す化合物を得だ。
（注）
Claims (1)
- １）インドール系化合物をギ酸中、還元金属触媒の存在
下、４０〜１００℃に加熱し、還元することを特徴とす
るインピリン系化合物の製法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5320982A JPS58170754A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | インドリン系化合物の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5320982A JPS58170754A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | インドリン系化合物の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58170754A true JPS58170754A (ja) | 1983-10-07 |
Family
ID=12936461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5320982A Pending JPS58170754A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | インドリン系化合物の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58170754A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63179857A (ja) * | 1987-01-22 | 1988-07-23 | Kawasaki Steel Corp | インドリンの製造方法 |
-
1982
- 1982-03-31 JP JP5320982A patent/JPS58170754A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63179857A (ja) * | 1987-01-22 | 1988-07-23 | Kawasaki Steel Corp | インドリンの製造方法 |
| JPH066572B2 (ja) * | 1987-01-22 | 1994-01-26 | 川崎製鉄株式会社 | インドリンの製造方法 |
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