JPS58157795A - ゼロ価ニツケル錯体の調製法 - Google Patents

ゼロ価ニツケル錯体の調製法

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JPS58157795A
JPS58157795A JP58027103A JP2710383A JPS58157795A JP S58157795 A JPS58157795 A JP S58157795A JP 58027103 A JP58027103 A JP 58027103A JP 2710383 A JP2710383 A JP 2710383A JP S58157795 A JPS58157795 A JP S58157795A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はゼロ仙１ニッケル錯体（ｚｅｒｏｖａｌｅｎｔ
ｎｉｃｋｅｌ　ｃｏｍｐｌｅｘｅｓ）の連続的調製法を
指向するものであり、さらに特定的にいうと、弐Ｎ；（
ｔ）４を有し９式中りが、＋１機リンな含む配イＪ子（
ＩｉｌＺａｎｄ）である油体の埋絖的解１装法を指向す
るものである。
細く粉砕されたニッケル粉末とある柚の配位子ケ有機″
ロゲン化物（ｏｒｇａｎｏｃｈｌｏｒｉｄｉｔｅ）とニ
トリル溶媒の存在下で反応させてゼロ１曲ニッケル触媒
を調製することについての一般的な化学は１９７５年９
月２０に発行されたＨ、　Ｉｉ”、　５ｈｏｏｋ　７７
：どの米し！８１特許５，９０５．１　’２　［］に記
載されている。
本発明は前記特訂中にＳＬ載された発明の改良である。
本発明は一般式Ｎ１（Ｔ、）４を有し９式中りが中性配
位子、　７＋ｌＪえば２式ｐ（ｏＡｒ）３であって式中
Ａ、ｒが炭素数１８１１６１以下のアリール基であるも
のを廟する配位子であるセロ価ニッケル卸体を〕ル続的
に製造するための改良された方法であって、それは１ノ
のニッケル当り少くとも約８００ａｎ２の表面種を（３
） 有する元素態ニッケルを２反応媒質中の液体の重量を基
準としてＬを少くとも５０市問［有］、４〜２０個の炭
素原子を有する有機二）　ＩＪルを少くとも２車量係お
よび有機ハロゲン化物として少くともＩ　Ｄ　Ｄ　ｐｐ
ｍ　ＣＡを含むか丑たはそれらからなる反応媒′１中で
埋什的に接触させ、＋の間反応ｌ＾１□ｊａ′（”Ｃ）
を１０２−Ｄ、３７５ｘ（Ｌの＊鉱％）に寺しい最低温
度と５８．３　＋［Ｊ、　７２５　Ｘ　（Ｌの車−一％
）に等しい最高１席度で限定情れる１ｌＩＬλ囲内に保
持することおよび反応生成物を、未反応のニッケルかあ
りそれから分離した後回収することからなる。
本発明の方法が適用される触媒は配位子りをもったニッ
ケルのゼロ価錯体であって、その配位子は式ＰＺ、であ
って９式中ＺがＲもしくはＯＲ，であり、Ｒが炭素原子
数１８以下のアルキルもしくはアリール基である式によ
ってきらに限定される。
こレラのアリール基を例示するとメトキシフェニル、ト
リル、キシリルおよびフェニルである。Ｉｎ−およびｐ
　−ト’Ｊルおよびそれらの混合物は好適なアリール基
である。
（４） Ａｉ前記のニッケル卸体は触媒として、しＩＪえは４〜
２０個の炭素原子を治する任意の非共役エチレン性不庖
第１］有磯ニドＩＪルのシアン化水系化（１１ｙｄｒ。
ｃｙｄｎａｔｉｎｎ）において、２時にペンテンニトリ
ル。
例えばシス−およびトランス３−ペンテンニトリル（３
ＰＮ）、４−ペンテンニトリル（４ＰＮ）、ならびにそ
れらの混合物（３，４−ＰＮ’ｓ）をシアン化水素化し
てアジポニトリル（ＡＩ）Ｎ）’ｌｒ［！造するときに
使ｉ＋１キれる。アジポニトリルは１次いで。
繊維、フィルムおよび成型品を作るのに有用で。
商業生産されるポリアミドであるポリヘキサメチレンア
ジパミドを製造するのに用いられる。
これらのニッケル触媒を用いる工程は連続的に￥施され
るので、その触媒を連続的な方法で調製することが好ま
しい。若干の変化ｆｚ　（ｖａｒｉａｂｌｅｓ）がその
触媒調製糸の生産性に著しい効果を及ぼし。
受は入れ可能な生産性（以下許容生産性という）を実現
するために若干の自明でない未＃（榮杆）が適用される
ように相互に作用させねばならぬことが発見された。生
産性に最も者しい効果を有する変化量は反応温度ならひ
に配位子および溶媒の濃度である。許容生産性を実現す
るためには、系に専入するニッケル粉末の表面種および
ハロゲン化物廓媒の濃度もまた制御しなければならない
。
１時間当り２反応媒質１ｊ当り０４７９ノ（１時間当り
反応媒質１ガロン当り４．０Ｘ１０　　ポンド）より低
い生産性では受は入れ不可能である。
存在する配位子が多過ぎ゛るかもしくは少なすきるとき
には生産性は急激に減少するから９反応中の配位子濃度
はある限度内に維持しなければならない。一般的につい
て、配位子は２反応媒質中のにニッケル粉末を除く）配
位子の重量を基準として少くとも５０重肘係が存在して
いて２反応φ件における若干の変化が許容でき、その結
果許容生産性が維持されるようにしなければならない。
配位子の濃度が５００車量係越えて増加すると、糸の生
産性は約８８〜９２重量係の配位子のところで最大にな
り、それ以上配位子濃度を増すと生産性は減少し始める
。配位子濃度が約９８車ｔ％に達すると、生産性はかろ
うじて受は入れ可能な程度になり、大さつげにいって５
０車１ｔｌ−係の呪位子が存在するときに実現される生
産性に＋１１当する。
配位子濃度約７Ｄ〜９２車中二％において不発明の方法
を実施するのが好寸しい。
本発明の方法においては温度は第二の主要な変化量であ
る。温度を上昇することによって加速することができる
多くの反応と異り２本つ６明の反応の生産性は、生産性
が最大になる１では温度上昇とともに急激にｊ・ｒ／加
することが発見された。それ以上に幅ＩＷ全上昇させる
と生産性は急激に減少してし捷う。そのト、最高速ｍ゛
が実現される温ＩＷは。
許容可能な反応速度を得るだめの最低および最高幅Ｉｆ
と同様に反応媒質中にイｆ在する配位子の濃度に依存す
ることが発見された。許容生唾性が得られる最低温度（
Ｔｍｉｎ）は等式：　Ｔｍ　ｉ　ｎ（−０）　＝　１０
２−０、３７５　Ｘ　（重用％Ｌ）により定義され、一
方許容生産性７５：　（４＋られる最高幅朋（Ｔｍ、ｌ
ｘ）は等式：％式％） り定４４される。与えらｆした配位子隈Ｊ糺で最話の生
産性が実現される温度はｉ’ｍ　ｉ　ｎと゛”ｍａｘの
大体中間である。このようにして９反応妹質中の配位子
濃度に対応もしくは１へ存してＩｌ＋７を度を制σ」１
することによって、生産性を最高にすることができる１
、前記の考察により許容生産性を得るためには。
反応媒質中にニトリル溶媒が存在する必要が必る。
モノニトリル、例えば４〜２０個の炭素原子を有する任
慧の非共役、エチレン性不飽和有磯ニトリル、待にろ−
ＰＮ、４−ＰＮおよび３　、４−　ＰＮ’ｓがニトリル
溶媒として使用できる。ジニトリル。
特に前記のモノニトリルのシアン化水素化生成物。
例えばアジポニトリル、メチルゲルタロニトリルおよび
エチルスクシノニトリルもまた有効な溶媒である。反応
媒質中の配位子の車量を基準として一般に６〜１２市量
％、好ま［７くは８〜１１重量係の二）　ＩＪルが使用
されるが、他の変化量がそれらの最高値もしくはその極
〈近い領に維持されるならば２車量％程度の少量でも用
い得る１、約２０重量％をこえる醗媒？弗度は好ましく
ない。
許容生産性を得るためにはニッケルの反応のための触媒
がニトリル溶媒中に存在することも必要である。適当な
ｊ畦媒としては式（Ｒ２Ｏ）述′ｙＰＸ２であって２式
中１（′とＲ，“が炭素原子数１８個以下のアルギルも
しくはアリール基で、この両者は同一かもしくはｙ４る
ものであり、Ｘと２は１〜２でありｒ　　Ｙｆは０もし
くは１であり、かつＸ＋　　Ｙおよび２のオ目は６であ
り、そしてＸが塩素基、臭素基およびヨウ素基から々る
群から選はれるハロゲン基である櫓４幾ハロゲン化！１
勿ンゲ含捷れる。ｌｌ１ｌＩ！媒は、その場所で（ｉｎ
ｓｉｔｕ）、少くとも２個のａｏｐ帖合を有する適当な
配位子、Ｌを、開始剤としての適自身ハロゲン化物源９
例えばリンのハロゲン化物も１−〈ハアルキル要換妊れ
たハロゲン化ｍ（例：ＣＨ５ＰＣ，／、２）とともに反
応きせることにより遂行もしくは調製することができる
。これらのハロゲン（ｌｊ物を生成するのに有用々他の
化合物は当業者にとって自明である。（反応中の液体の
重−を基準として）ハロゲン化物として少くとも約ｉｏ
ｏ。
ｆｉしくは１５０−５００　ｐｐｍ　Ｃ＃が存在しなけ
れは不動では々い。３０　ｒｌ　ｐｐｍ　Ｃｅより多く
を用いることはできるが、このような高レベルにょる利
益は疑わしい。
ニッケル金属は２反応のための衣ｍ１積が大きくなるよ
うに泊１１＜粉砕した形医で反圧、中ヘノ弊人−ずべき
であるか、初子寸法を小さくしすき゛て、未１ｙ応のニ
ッケル？反応生成物から分Ａ１［するのに困・〃ｔをき
たしてはいけ寿い。表面Ａ″！￥はニッケル１ｙ−当り
少くとも８００．好壕しくは８００〜２０００（：ｒｕ
２とすべさである。適当なニック゛ルＷとし７てはＴｎ
ｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｎ１ｃｅ１社か市販している
“ケミカル　グレードニッケルかある。ニッケルの吊は
その粒子寸法および表面積、すなわちそのニッケルの反
応性に依存するが、過剰のニッケルを用いることが好ま
しい。一般に４〜１０倍過剰を用いうるが、この址より
多くをＩ［ｌいても少しの効果しか現れない。
前記の教示にしたかつて調製した触媒は、６゜４−　Ｐ
Ｎ’ｓのような不飽和モノニトリルの連緋的なシアン化
水素化に用いたとき、イケ１かＫ　部分的に減損するだ
けである。触媒はシアン化水素化反応生成物から、好芳
しくは抽出法２例えば１９７６年１１月２０日に発行さ
れた米国特許３，７７３，８０９に６１載の方法で回収
し、消費された触媒を除去した債、この一部減損した触
媒を再び本発明の方法にしたがってニッケル粉末と反応
させる。再生された触媒は次いでシアン化水素化に決さ
れる。次の実施例は本発明を説明するためであって、そ
れを限定するだめのものではない。部および係は別記し
ない限り＊量による。
実施例■ 本発明の方法を、＠公的にｇ損したリサイクル触媒を受
入れながら連続的に操作する場合の条件を模擬するため
に、米国特、杵３，９０３，１２０の実施例Ｉ−Ａの教
示にしたがって、ゼロ価ニッケル１モル当りｍ−（７０
％）とｐ−（３０％）−トリトリルホスファイトの混合
物（ＴＴＰ）１０．５モルの割合でＴＴＰ　濃度８０％
ｔ　ｍ−（７０％）ｙｐ−（３０％）−ジトリルホスフ
オロクロリダイトとして２００　ｐｐｍ　ＣＬおよび３
−ＰＮ＃＋媒１８％を含む、リサイクル流分（ｓｔｒｅ
ａｍ）の近似組成物溶液を調製する。この溶液を攪拌中
の反応器内へ連続的に導入する。反応器の内容物を水蒸
気ジャケットを用いて表に示されている温度に維持し、
供給速度を調節してホールドアツプ（停滞）時間が１０
時間になるようにする。ニッケル１ノ当り１６００ＣＩ
ｒＬ２の表面積を有するニッケル粉末を加えて液体１０
０ｙ−当り６ｙ−のＮｉ粉末の濃度を維持する。ニッケ
ル粉末は、ニッケルカルボニル’ｒ２００℃で熱分解し
て生成した。この方法は高純度製品を生成するものであ
る。このようなニッケル粉末は曲標名ｌＮＣ０１２，１
５を付けて市販されている。
液体生成物をニッケル粉末から遠心分離し、ニッケルの
固形物は反応器へ戻す。溶解性のゼロ価ニッケルの生成
速度は表中に記載されている。
実施例ＩＩ〜■ 反応温度を変えたことを除き実施例Ｉ金繰り返えす。そ
の結果は表中に報告されている。
１　　　９５　　０．９５８　　　　　　　　（８，０
）２　　　７２　　０．５０３　　　　　　　　（４，
２）３　　１１６　　０．５３９　　　　　　　　（４
，５）４　　　８５　　０．８０３　　　　　　　　（
６，７）５　　１０５　　０．８７５　　　　　　　　
（７，３）実施例■ 反応器へのフィード中のＴ　Ｔ　Ｐ　＆Ｎ度を６０重量
％とし、ペンテンニトリル溶媒の濃度を６８重量％とし
たことを除き、実施例■を繰り返えす。生産性は０．６
４７ノ／時間−７（３，４Ｘ１０　　ポンド／時間−ガ
ロン）である。
実施例Ｖ’ＩＩ 反応器へのフィード中の’Ｉ’　Ｔ　Ｐ　７１度を９０
重量係、ベンテンニ）　ＩＪル溶媒の濃度を８．０　車
計％とじたことを除き、実施例■を灯り返えす。その生
産性け１．０３０ＪｉＩ−７時間−７（３，６Ｘ１０　
　ポンド／時間−ガロン）である。
実施列前 反応器へのフィード中のＴＴＰ濃度を９６重量係、ペン
テンニトリル溶媒の濃度を２重量％とじたことを除き、
実施例■を繰り返えす。その生産性は０．４９Ｌｙ−／
時間−Ａ（４，ｌＸ１０　　ポンド／時間−ガロン）で
ある。
実施例■ 反応器へのフィード中のハロゲン化物濃度を１００　ｐ
ｐｍ　ＣＢとすることを除き、実施例Ｉを繰り返えす。
その生産性は［Ｊ、７９３ｙ−／時間−１（６，２Ｘ　
１０　　ポンド／時間−ガロン）である。
比較例■ 反応器へのフィード中のＴＴＰ濃度を９８重量％、ペン
テンニトリル溶媒の濃度を０重量％とすることを除き、
実施例■を繰り返えす。その生産性は０．１０８ノ／時
間−７（（Ｊ、９Ｘ１０−　ポンド／時間−ガロン）で
ある。
比較例■ 反応器へのフィード中のハロゲン化物濃度を５０　ｐｐ
ｍ　Ｃ，ｅとすることを除き実施例■を繰り返えす。そ
の生産性はｕ、１５６？／時間−７（ｌ、３×１０　ボ
ンド／時間−ガロン）である。
比Ｉ数例ＩＴＪ ニッケル粉末の表面積が２０　ｃｍ２／　！ｆであるこ
とを除き実施例Ｉを繰り返えす。その生産性は０．４１
９．ｉ？／時間−、ｇ　（３，５ボンド／時間−ガロン
）である。
特許出願人　　イーアイ・デュ・ボン・ドウ・ヌムール
・アンド・カンパニー 代理人　弁理士　　松　井　政　広（外１名）（１５）

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １一般式Ｎ　ｉ　（Ｌ　）　４を有し２式中りが弐Ｐ（
    Ｚ）、であって２式中ＺがＲもしくはＯＲであり、Ｒが
    炭素原子数１８以下のアルキルもしくはアリール基であ
    る中性の配位子であるゼロ価（ｚｅｒｏｙａｌｅｎｔ）
    ニッケル錯体を連続的に生成するための改良された方法
    であって、ニッケル１ｙ−当り少くとも約８００鑞２の
    表面積を有する元素態ニッケルを９反応媒質中の液体の
    重量を基準として少くとも５０重量係のり、少くとも２
    重量係の４〜２０個の炭素原子を有する有機ニトリルお
    よび有機ハロゲン化物（ｏｒｇａｎｏｃｈｌｏｒｉｄｉ
    　ｔｅ）として少くとも１１００ｐｐ　Ｃ，＃を含む反
    応媒質中で連続的に接触させ。 その間反応温度（°Ｃ）を１０２−０．３７５Ｘ（：ｉ
    量％Ｌ）に等しい最低温度および５８３＋［１，７２５
    ×（１ｆ量％Ｉ、）に等しい最高温度により限定される
    卯、曲内に維持することからなる方法。 ２、特許請求の範囲第１項記載の方法であって。 前記りの濃度が６５〜９０市量％の範囲内に昶持される
    方法。 ６　特許請求の靴囲第２項記載の方法であって。 前記有機ニトリルのａ度が６〜１２車′ｔｊｔ％の祁囲
    内に維持される方法。 ４　特許請求の範囲第１，２もしくは６頃ｉｊ己俄の方
    法であって、前記ニッケル粉末の表面積がニッケル１！
    １−当り８００〜２０００ｃＩＩＬ２の範囲内Ｋｍ持さ
    れ、前記ハロゲン化物のｍｋＷが１ｌ５０−３００ｐｐ
    　ＣＡの範囲内に維持されるものである方法。 ５　特許請求の範囲第１項記載の方法であって。 前記りが弐Ｐ　（ＯＡ　ｒ　）−、であって２式中Ａｒ
    が炭素原子数１８以下のアリール基である配位子である
    方法。 ６、特許請求の範囲第４項記載の方法であって。 前記りが弐Ｐ（ＯＡｒ）ｓであって２式中Ａｒが炭素原
    子数１８以下のアリール基である配位子である方法。
JP58027103A 1982-02-23 1983-02-22 ゼロ価ニツケル錯体の調製法 Granted JPS58157795A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US351421 1982-02-23
US06/351,421 US4416825A (en) 1982-02-23 1982-02-23 Preparation of zerovalent nickel complexes

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58157795A true JPS58157795A (ja) 1983-09-19
JPH0369915B2 JPH0369915B2 (ja) 1991-11-05

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ID=23380859

Family Applications (1)

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JP58027103A Granted JPS58157795A (ja) 1982-02-23 1983-02-22 ゼロ価ニツケル錯体の調製法

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US (1) US4416825A (ja)
JP (1) JPS58157795A (ja)
KR (1) KR900003458B1 (ja)
BE (1) BE895990A (ja)
CA (1) CA1204119A (ja)
DE (1) DE3306311A1 (ja)
FR (1) FR2523974B1 (ja)
GB (1) GB2115421B (ja)
IT (1) IT1164587B (ja)
LU (1) LU84656A1 (ja)
NL (1) NL8300658A (ja)

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