JPS5867353A - ゼロ価ニツケル錯体の調製法 - Google Patents
ゼロ価ニツケル錯体の調製法Info
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- JPS5867353A JPS5867353A JP57165140A JP16514082A JPS5867353A JP S5867353 A JPS5867353 A JP S5867353A JP 57165140 A JP57165140 A JP 57165140A JP 16514082 A JP16514082 A JP 16514082A JP S5867353 A JPS5867353 A JP S5867353A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
- C07F15/04—Nickel compounds
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- C07C253/08—Preparation of carboxylic acid nitriles by addition of hydrogen cyanide or salts thereof to unsaturated compounds
- C07C253/10—Preparation of carboxylic acid nitriles by addition of hydrogen cyanide or salts thereof to unsaturated compounds to compounds containing carbon-to-carbon double bonds
-
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-
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明の方法は、ジニ) IJルを製造するための触媒
として典型的に使用される。ゼロ価(zero−val
entlニッケル錯体の製法における改良を指向するも
のである。さらに特定的にいうと1本方法は、3−およ
び/または4−はンテンニトリルのシアン化水素化(h
ydrocyanation) によるアジポニトリ
ルの製造において、有機ボラン(organ。
として典型的に使用される。ゼロ価(zero−val
entlニッケル錯体の製法における改良を指向するも
のである。さらに特定的にいうと1本方法は、3−およ
び/または4−はンテンニトリルのシアン化水素化(h
ydrocyanation) によるアジポニトリ
ルの製造において、有機ボラン(organ。
borane lにより促進されたゼロ価ニッケル触媒
を。
を。
触媒および助触媒(promoter l が使用さ
れた後に回収することを指向するものである。
れた後に回収することを指向するものである。
1970年2月17日に発行された米国特許3.496
,218は一般的表現で、一定のニッケル錯体を触媒と
して用いて、非共役の、エチレン性不飽和有機化合物9
例えば3−および/または4−ペンテンニトリルのシア
ン化水素化により、ジニトリル特にアジポニトリルを製
造する方法を記載している。この触媒はトリフェニルボ
ランのような有機ボラン化合物により促進される。広い
範囲の操作条件ならびに反応剤の相対的な量およびタイ
プが開示されている。
,218は一般的表現で、一定のニッケル錯体を触媒と
して用いて、非共役の、エチレン性不飽和有機化合物9
例えば3−および/または4−ペンテンニトリルのシア
ン化水素化により、ジニトリル特にアジポニトリルを製
造する方法を記載している。この触媒はトリフェニルボ
ランのような有機ボラン化合物により促進される。広い
範囲の操作条件ならびに反応剤の相対的な量およびタイ
プが開示されている。
特に有用な形式のゼロ価ニッケル触媒が、 1973
年10月16日発行の米国特許5,766,237に記
載されている。その特許権者は、消費された触媒の重量
当り製造される製品の重量を増加し、収率を改良するた
めに、シアン化水素化において。
年10月16日発行の米国特許5,766,237に記
載されている。その特許権者は、消費された触媒の重量
当り製造される製品の重量を増加し、収率を改良するた
めに、シアン化水素化において。
一定のエーテルの添加と同時に、過剰の亜リン酸トリア
リール配位子を使用することを開示している。
リール配位子を使用することを開示している。
1975年9月2日に発行された米国特許3.903,
120は、有機リン化合物を用いるゼロ価ニッケル錯体
の製法を開示し2元素態ニッケルの反応速度を増加させ
るだめの触媒としてハロゲン化リンを用いている。また
、有機のモノニトリルおよび/またはジニ) IJルを
溶媒として使用すると反応速度が増加することも開示さ
れている。
120は、有機リン化合物を用いるゼロ価ニッケル錯体
の製法を開示し2元素態ニッケルの反応速度を増加させ
るだめの触媒としてハロゲン化リンを用いている。また
、有機のモノニトリルおよび/またはジニ) IJルを
溶媒として使用すると反応速度が増加することも開示さ
れている。
1973年11月20日に発行された米国特許3.77
3,809は、有機リン化合物およびそれらの金属錯体
1例えば前記の触媒を有機ニトリルから、0〜100”
Oでパラフィンオたはシクロノミラフイン炭化水素溶媒
によシ、生成流体を抽出することにより分離する方法を
開示している。有4381Jン化合物およびそれらの金
属錯体は主として炭化水素相水中含まれ、有機のモノニ
トリルおよびジニトリルは主として分離した相に含まれ
る。
3,809は、有機リン化合物およびそれらの金属錯体
1例えば前記の触媒を有機ニトリルから、0〜100”
Oでパラフィンオたはシクロノミラフイン炭化水素溶媒
によシ、生成流体を抽出することにより分離する方法を
開示している。有4381Jン化合物およびそれらの金
属錯体は主として炭化水素相水中含まれ、有機のモノニ
トリルおよびジニトリルは主として分離した相に含まれ
る。
本発明は、アリールボランで促進されたゼロ価ニッケル
ー有機すン釆配位子を含む触媒の存在下で、非共役の、
不飽和ニトリルにシアン化水素を付加することによるジ
ニトリルの製法であって。
ー有機すン釆配位子を含む触媒の存在下で、非共役の、
不飽和ニトリルにシアン化水素を付加することによるジ
ニトリルの製法であって。
該付加からの生成1)1f、体をパラフィンまたはシク
ロパラフィンに少くとも60℃の温度で接触させて。
ロパラフィンに少くとも60℃の温度で接触させて。
触媒の実体(value’slを含む第一の軽質の炭化
水素抽出相および重質のジニトリル相を形成式せた後こ
れらの相を分離するものであり、かつ前記触媒は元索態
ニッケルを有機リン化合物と反応させることにより最初
に調製されるものである製法において、前記第一の44
質抽出相を十分に冷却して第二の軽質相および第二の重
質相を形成させること、これらの相を分離すること、こ
の第二の軽質相から実質的にすべての前記炭化水素を除
去すること、およびこの第二の軽質相からこのようにし
て得られた残滓を最初の触媒調製へ戻して前記元素態ニ
ッケルと反応させることからなる改良である。
水素抽出相および重質のジニトリル相を形成式せた後こ
れらの相を分離するものであり、かつ前記触媒は元索態
ニッケルを有機リン化合物と反応させることにより最初
に調製されるものである製法において、前記第一の44
質抽出相を十分に冷却して第二の軽質相および第二の重
質相を形成させること、これらの相を分離すること、こ
の第二の軽質相から実質的にすべての前記炭化水素を除
去すること、およびこの第二の軽質相からこのようにし
て得られた残滓を最初の触媒調製へ戻して前記元素態ニ
ッケルと反応させることからなる改良である。
軽質の抽出相は好ましくは約45°Cより低く。
そして最も好捷しくけ20〜30℃の範囲の温度に冷却
される。
される。
本発明は、ここに記載されたようなゼロ価ニッケル触媒
を使用するシアン化水素化の操作であって、その生成流
体をパラフィン捷たはシクロパラフィンで抽出するもの
のすべての操作における触媒使用を改良するに役立てつ
る。特に興味深いものはアジポニ) IJル(ADNI
を製造するための。
を使用するシアン化水素化の操作であって、その生成流
体をパラフィン捷たはシクロパラフィンで抽出するもの
のすべての操作における触媒使用を改良するに役立てつ
る。特に興味深いものはアジポニ) IJル(ADNI
を製造するための。
3−および/もしくは4−はンテンニトリルまたはこれ
らの混合物のシアン化水I化であね、その理由はADH
はへキサメチレンジアミン製造用の中間体であり、これ
は続いて、繊維、フィルムおよび成形物品を形成するの
に有用な重版のポリアミドであるポリヘキサメチレンア
ジパミドを製造するのに用いられるからである。
らの混合物のシアン化水I化であね、その理由はADH
はへキサメチレンジアミン製造用の中間体であり、これ
は続いて、繊維、フィルムおよび成形物品を形成するの
に有用な重版のポリアミドであるポリヘキサメチレンア
ジパミドを製造するのに用いられるからである。
本発明が適用されるゼロ価ニッケル(Nt(0) :l
触媒の製造は、1975年9月2日に発行され2本文中
に引用によりその開示が編入されている米国特許3,9
03,120に記載されている。特に興味深いものは一
般弐N i L 4を有し9式中りが式P (OA r
13であって2式中Arが18個の炭素原子までの了り
−ル基である亜リン酸トリアリールのような中性配位子
である触媒の製造である。ア14−ル基の例示としては
メトキシフェニル、トリル。
触媒の製造は、1975年9月2日に発行され2本文中
に引用によりその開示が編入されている米国特許3,9
03,120に記載されている。特に興味深いものは一
般弐N i L 4を有し9式中りが式P (OA r
13であって2式中Arが18個の炭素原子までの了り
−ル基である亜リン酸トリアリールのような中性配位子
である触媒の製造である。ア14−ル基の例示としては
メトキシフェニル、トリル。
キシリルおよびフェニルである。■1−およびp−トリ
ルおよびこれらの混合物は好ましいアリール基である。
ルおよびこれらの混合物は好ましいアリール基である。
過剰の配位子が使用可能である。
前記の触媒とともに用いられる助触媒はトリアリールボ
ランであって9式BR3であって式中Rが6々いし12
個の炭素原子を有する了り−ルまたは置換された了り−
ル基1例えばフェニル、0−トリル、p−トリル、ナフ
チル、メトキシフェニル、ヒフェニル、クロルフェニル
およヒフロムフェニルであるものが含まれる。
ランであって9式BR3であって式中Rが6々いし12
個の炭素原子を有する了り−ルまたは置換された了り−
ル基1例えばフェニル、0−トリル、p−トリル、ナフ
チル、メトキシフェニル、ヒフェニル、クロルフェニル
およヒフロムフェニルであるものが含まれる。
シアン化水素化を行う方法は臨界的ではない。
複数の工程を連続的に用い、一工程からの生成物を連続
的に次く工程へ送り、そして工程間でシアン化水素を分
離(aplitlさせるのが好ましい。
的に次く工程へ送り、そして工程間でシアン化水素を分
離(aplitlさせるのが好ましい。
生成物のジニトリルを未反応の出発片料物質および経済
的理由によってリサイクルする必要のある触媒から分離
するために、シアン化水素化からの生成流体を2本文中
に引用によりその開示が編入されている米国特許3,7
73,809に記載されている方法により、パラフィン
またはシクロパラフィンと接触させる。触媒としてN
i L4であって。
的理由によってリサイクルする必要のある触媒から分離
するために、シアン化水素化からの生成流体を2本文中
に引用によりその開示が編入されている米国特許3,7
73,809に記載されている方法により、パラフィン
またはシクロパラフィンと接触させる。触媒としてN
i L4であって。
Lが中性配位子の亜リン酸トリ(混合された9m−およ
びp−)トリル(TTP)であるもの々らびに助触媒と
してトリフェニルボラン(TPB 1を用い、3−はン
テンニトリル(3PN)および/捷たは4−ペンテンニ
トリル(4PNlをシアン化水素化してアジポニトリル
(ADN)を製造する場合には、典型的な生成流体は次
の平均組成を有する。
びp−)トリル(TTP)であるもの々らびに助触媒と
してトリフェニルボラン(TPB 1を用い、3−はン
テンニトリル(3PN)および/捷たは4−ペンテンニ
トリル(4PNlをシアン化水素化してアジポニトリル
(ADN)を製造する場合には、典型的な生成流体は次
の平均組成を有する。
成分 量(重量%)
NiL4 0.4−0.8 (as
Ni 16−および4−PN 1O−20T
TP 20−40AD
N+I)N米 4O−60TPB
O,2−0,8米 2
−メチルゲルタロニトリルおよびエチルスクシノニトリ
ルのような、 AI)Nと異るジニトリル。
Ni 16−および4−PN 1O−20T
TP 20−40AD
N+I)N米 4O−60TPB
O,2−0,8米 2
−メチルゲルタロニトリルおよびエチルスクシノニトリ
ルのような、 AI)Nと異るジニトリル。
felt、い抽出剤はシクロヘキサンであって容積比1
〜5.好ましくは1〜2を生成流体の容積に乗じて使用
する。商業的に許容し得る量の抽出剤を用いて、急速な
相分離全達成しエマルションが形成しないようにするた
めには、少なくとも55〜60℃の温度で抽出を行う必
要がある。本発明が適用されるのは、触媒を含み2重質
のジニトリル相から分離されたものであるこの軽質の軟
化水素相である。シアン化水素化中に、ニッケル触媒の
一部はある程度失活するので1反応に触媒を再び導入す
る前に活性ニッケルを補給する必要がある。
〜5.好ましくは1〜2を生成流体の容積に乗じて使用
する。商業的に許容し得る量の抽出剤を用いて、急速な
相分離全達成しエマルションが形成しないようにするた
めには、少なくとも55〜60℃の温度で抽出を行う必
要がある。本発明が適用されるのは、触媒を含み2重質
のジニトリル相から分離されたものであるこの軽質の軟
化水素相である。シアン化水素化中に、ニッケル触媒の
一部はある程度失活するので1反応に触媒を再び導入す
る前に活性ニッケルを補給する必要がある。
この補給は、リサイクルされる触媒を触媒の調製中へ9
元素前ニッケルが遊離の配位子と、米国特許3,903
,120の3カラムの10〜45行に特に記載されてい
るように反応させられる工程において導入することによ
り行われる。しかしながら。
元素前ニッケルが遊離の配位子と、米国特許3,903
,120の3カラムの10〜45行に特に記載されてい
るように反応させられる工程において導入することによ
り行われる。しかしながら。
この補給は平衡に逆行する条件下に行わねばならないの
で、商業的操作の場合はなるべく速かな反応を維持する
ことが特に重要である。
で、商業的操作の場合はなるべく速かな反応を維持する
ことが特に重要である。
米国特許3,905,120には、七ノニトリルまたは
ジニトリルを、有機リン化合物と元素前ニッケルの間の
反応速度を増加するだめの溶媒として用いることができ
、前記のようにして得られた軽″貞の炭化水素相はモノ
ニトリル、ジニトリル、配位子およびゼロ価ニッケル全
含んでいるので、これらの化合物を触媒FA調製中、抽
出剤を除去して操作の効率を改良した後に、 ii’!
接リサイクルすることができる筈であると思われる。と
開示されている。しかしながら、このようなリサイクル
を試してみると1元素前ニッケルの反応速度は許容でき
ない水′$まで減少することが刊っている。
ジニトリルを、有機リン化合物と元素前ニッケルの間の
反応速度を増加するだめの溶媒として用いることができ
、前記のようにして得られた軽″貞の炭化水素相はモノ
ニトリル、ジニトリル、配位子およびゼロ価ニッケル全
含んでいるので、これらの化合物を触媒FA調製中、抽
出剤を除去して操作の効率を改良した後に、 ii’!
接リサイクルすることができる筈であると思われる。と
開示されている。しかしながら、このようなリサイクル
を試してみると1元素前ニッケルの反応速度は許容でき
ない水′$まで減少することが刊っている。
触媒のリサイクルに起因する反応速度の減損外は、前記
のようKして得られた軽質の炭化水素相を第二の重質相
が形成されるまで冷却し2次いで炭化水素を除去する前
にこのより重質の相を除去することによって補正するこ
とができる。通常。
のようKして得られた軽質の炭化水素相を第二の重質相
が形成されるまで冷却し2次いで炭化水素を除去する前
にこのより重質の相を除去することによって補正するこ
とができる。通常。
炭化水素相は約45°0より低く、好ましくは約60℃
より低くまで、そして20〜60℃の範囲に冷却して、
十分量の第二の重質相を形成させなければならない。こ
の冷却により生成した重質相はリサイクルされるもので
はなく、ジニトリル例えばADNを含んでいる。このよ
り重質の相の除去が有利な効果を有することは、ジニ)
+)ルがニッケルの反応速度を増加させることを教示
している米国特許3,903,120の見地からいうと
驚くべきことである。当業者は、多重相混合物(mul
tiple phase m1xturel’ii形成
するのに必要とするより少しでも多くジニトリルを除去
することは不必要であり力・つ有害の可能性があると予
言するであろう。本方法ではジニトリルを除去し。
より低くまで、そして20〜60℃の範囲に冷却して、
十分量の第二の重質相を形成させなければならない。こ
の冷却により生成した重質相はリサイクルされるもので
はなく、ジニトリル例えばADNを含んでいる。このよ
り重質の相の除去が有利な効果を有することは、ジニ)
+)ルがニッケルの反応速度を増加させることを教示
している米国特許3,903,120の見地からいうと
驚くべきことである。当業者は、多重相混合物(mul
tiple phase m1xturel’ii形成
するのに必要とするより少しでも多くジニトリルを除去
することは不必要であり力・つ有害の可能性があると予
言するであろう。本方法ではジニトリルを除去し。
セして々おニッケルの反応速度を増加するのであるから
、ニッケル粉末と遊離の配位子の反応に対して有毒であ
る伺らかの他の化合物がジニ) +1ルとともに同時に
除去されると考えることができる。
、ニッケル粉末と遊離の配位子の反応に対して有毒であ
る伺らかの他の化合物がジニ) +1ルとともに同時に
除去されると考えることができる。
純ADNi冷却したりザイクルに加えたものである実施
例IIIおよび■により示されるように、 ADNは
明らかに毒物ではない。
例IIIおよび■により示されるように、 ADNは
明らかに毒物ではない。
次の実施例は本発明を説明するためであって。
限定するために提供されるものではなく1部およびチは
別に特定しない限り重量によるものである。
別に特定しない限り重量によるものである。
次の実施例および比較例において、出発物質はテトラキ
ス(1−リ−m−およびp−)グルホスファイト)ニッ
ケル(0)触媒[N i L 4 ]を過剰のTTPと
ともに用い、助触媒としてTPBi用いて、6−および
/または4−ペンテンニトリルをシアン化水素化した流
体生成物であった。その本体の分析値は次の通りであっ
た。
ス(1−リ−m−およびp−)グルホスファイト)ニッ
ケル(0)触媒[N i L 4 ]を過剰のTTPと
ともに用い、助触媒としてTPBi用いて、6−および
/または4−ペンテンニトリルをシアン化水素化した流
体生成物であった。その本体の分析値は次の通りであっ
た。
N i L4 0.64 N i (0)
として)TTP 60 モノニトリル米 14 (11) ジニトリル未来 55 TPB 0.4分解
生成物 〈1 米 主としてS−,4−−:ンテンニトリル未来 主と
してアジポニトリルならびに少量の2−メチルグルタロ
ニトリルおよびエチルスクシノニトリル この流体生成物1容量に対しシクロヘキサン15谷量を
用い、米国特許3,773,809に記載された操作に
より、指示された温度で徹底的に抽出した。生成した相
を分離し、シクロヘキサン相を記載されたように処理し
た。
として)TTP 60 モノニトリル米 14 (11) ジニトリル未来 55 TPB 0.4分解
生成物 〈1 米 主としてS−,4−−:ンテンニトリル未来 主と
してアジポニトリルならびに少量の2−メチルグルタロ
ニトリルおよびエチルスクシノニトリル この流体生成物1容量に対しシクロヘキサン15谷量を
用い、米国特許3,773,809に記載された操作に
より、指示された温度で徹底的に抽出した。生成した相
を分離し、シクロヘキサン相を記載されたように処理し
た。
抽出を59°Oで行い、シクロヘキサン相を約23°C
まで冷却したところ、第二のより重質な相が生成した。
まで冷却したところ、第二のより重質な相が生成した。
この重質相を除去した後、より軽質のシクロヘキサン相
を望索雰囲気下で回転魚発器中へ移した。蒸発器を82
℃の湯浴中で加熱し。
を望索雰囲気下で回転魚発器中へ移した。蒸発器を82
℃の湯浴中で加熱し。
この間2本質的にすべてのシクロヘキサンが除去される
まで、水流ポンプによる減圧を与えた。得(16) (12) られた濃縮物を分析し、その結果を表に示す。
まで、水流ポンプによる減圧を与えた。得(16) (12) られた濃縮物を分析し、その結果を表に示す。
大体、L30?の前記濃縮物を、20y−の6−14−
ペンテンニトリル混合物(大体、97%の3−ペンテン
ニトリルおよび6チの4−ペンテンニトリル1,0.0
22111Jの三塩化リンおよび6y−のニッケル粉末
(平均粒子寸法6〜7μm1表面積0.32−0.44
7712/ gm 、 ニッケルテトラカルボニルの
熱分解により生成)とともに、温度計および磁気撹拌器
を装着した250αの平底フラスコに容れた。
ペンテンニトリル混合物(大体、97%の3−ペンテン
ニトリルおよび6チの4−ペンテンニトリル1,0.0
22111Jの三塩化リンおよび6y−のニッケル粉末
(平均粒子寸法6〜7μm1表面積0.32−0.44
7712/ gm 、 ニッケルテトラカルボニルの
熱分解により生成)とともに、温度計および磁気撹拌器
を装着した250αの平底フラスコに容れた。
フラスコの内容物を溶解性ニッケルにニッケル粉末を除
いた)について分析した。結果を表に示す。フラスコの
内容物を90℃に加熱し、その温度で撹拌しながら5時
間保持した後、フラスコの内容物を冷却し、再び溶解性
ニッケル(未反応のニッケル粉末を除いた)について分
析した。分析の結果および溶解性ニッケルの増加の計算
値が表示されている。
いた)について分析した。結果を表に示す。フラスコの
内容物を90℃に加熱し、その温度で撹拌しながら5時
間保持した後、フラスコの内容物を冷却し、再び溶解性
ニッケル(未反応のニッケル粉末を除いた)について分
析した。分析の結果および溶解性ニッケルの増加の計算
値が表示されている。
比較例1(C−11
最初の抽出を約57′Cで行い、追加の相を分離するこ
となく操作を続行したことを除いて、実施例Iを繰り返
えした。その結果を表に示す。
となく操作を続行したことを除いて、実施例Iを繰り返
えした。その結果を表に示す。
最初の抽出を59〜60゛Cで行ったことを除き。
実施例■金繰り返えした。結果を表に示す。
比較例■(C−21
最初の抽出を59°Cで行ったことを除き、比較例Iを
繰り返えした。結果を表に示す。
繰り返えした。結果を表に示す。
実施例III (E −31
最初の抽出を60℃で行い、蒸発を110”0で行い、
そして7006〕の濃縮物、4.0?のニッケル粉末、
[1,Q11mJO三塩化リンおよび4.941のアジ
ポニトリルを反応フラスコに容れたことを除いて、実施
例Iを繰り返えした(この時点でフラスコの内容物の分
析値は、1.26%ニッケル(01,68,6%亜リン
酸トリトリル、66%モノニトリルおよび10.6φジ
ニ) 11ルであった)。結果を表に示す。
そして7006〕の濃縮物、4.0?のニッケル粉末、
[1,Q11mJO三塩化リンおよび4.941のアジ
ポニトリルを反応フラスコに容れたことを除いて、実施
例Iを繰り返えした(この時点でフラスコの内容物の分
析値は、1.26%ニッケル(01,68,6%亜リン
酸トリトリル、66%モノニトリルおよび10.6φジ
ニ) 11ルであった)。結果を表に示す。
75.0.SJの@絹物を反応フラスコへ容れたことお
よびアジポニトリルを加えな〃≧つだことを除き。
よびアジポニトリルを加えな〃≧つだことを除き。
実施例■を繰り返えした。その結果を表に示す。
実施例■(E−41
6B、72y−の濃縮物および6.28 、Pのアジポ
ニトリルを反応フラスコへ容れたことを除き、実施例■
金繰り返えした。この時点でのフラスコの内容物の分析
値は1.67%ニッケル(01,68,0%亜すン酸ト
リトリル、5.4≠モノニトリルおよび11.9%ジニ
トリルであった。結果を表に示す。
ニトリルを反応フラスコへ容れたことを除き、実施例■
金繰り返えした。この時点でのフラスコの内容物の分析
値は1.67%ニッケル(01,68,0%亜すン酸ト
リトリル、5.4≠モノニトリルおよび11.9%ジニ
トリルであった。結果を表に示す。
比較例■(C−41
相の分離を行わずに操作を続行したこと、 75.O
fO濃催物を反応フラスコに容れたことおよびアジポニ
) IJルを那えなかったことを除いて、実施例■を繰
り返えした。
fO濃催物を反応フラスコに容れたことおよびアジポニ
) IJルを那えなかったことを除いて、実施例■を繰
り返えした。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 アリールボランで促進されたゼロ価ニッケルー有
機リン系配位子を含む触媒の存在下で、非共役の、不飽
和二) IJルにシアン化水素を付加することによるジ
ニトリルの製法であって、該付加からの生成流体を;々
ラフインまたはシクロパラフィンに少くとも60°Cの
温就で接触させて、触媒の実体を含む第一の軽質の炭化
水素抽出相および重質のジニ) IJル相を形成させた
後、これらの相を分離するものであり、かつ前記触媒は
元素態ニッケルを有機リン化合物と反応させることによ
って最初に調製されるものである製法において、前記第
一の軽質抽出相を十分に冷却して第二の軽゛は相および
第二の重質相を形成させること、これらの第二の相を分
離すること、この第二の軽質相から実質的にすべての前
記炭化水素を除去すること。 およびこの第二の軽質相からこのようにして得られた残
滓の少くとも一部分を最初の触媒調製に戻して前記元素
態ニッケルと反応させることからなる改良。 2、特許請求の範囲第1項記載の方法であって。 前記軽質相の抽出物を約45°Cより低温に冷却する方
法。 3、%許請求の範囲第1項記載の方法であって。 前記軽質相の抽出物を20〜30°Cの温度範囲に冷却
する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/305,183 US4385007A (en) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | Preparation of zerovalent nickel complexes |
US305183 | 1981-09-24 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5867353A true JPS5867353A (ja) | 1983-04-21 |
Family
ID=23179692
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57165140A Pending JPS5867353A (ja) | 1981-09-24 | 1982-09-24 | ゼロ価ニツケル錯体の調製法 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4385007A (ja) |
JP (1) | JPS5867353A (ja) |
KR (1) | KR840001590A (ja) |
BE (1) | BE894473A (ja) |
CA (1) | CA1181425A (ja) |
DE (1) | DE3235433A1 (ja) |
FR (1) | FR2513246A1 (ja) |
GB (1) | GB2106517B (ja) |
IT (1) | IT1156109B (ja) |
LU (1) | LU84386A1 (ja) |
NL (1) | NL8203671A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007502854A (ja) * | 2003-05-12 | 2007-02-15 | ロディア・ポリアミド・インターミーディエッツ | 不飽和化合物のヒドロシアン化方法 |
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FR2849027B1 (fr) * | 2002-12-23 | 2005-01-21 | Rhodia Polyamide Intermediates | Procede de synthese de composes comprenant des fonctions nitriles a partir de composes a insaturations ethyleniques |
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FR2854891B1 (fr) | 2003-05-12 | 2006-07-07 | Rhodia Polyamide Intermediates | Procede de preparation de dinitriles |
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DE102004004683A1 (de) * | 2004-01-29 | 2005-08-18 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Dinitrilen |
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EP1825914A1 (de) * | 2006-02-22 | 2007-08-29 | Basf Aktiengesellschaft | Verbessertes Verfahren zur Herstellung von Nickel(0)-Phophorligand-Komplexen |
CZ2008547A3 (cs) * | 2006-03-17 | 2009-06-10 | Invista Technologies S. A. R. L. | Zpusob purifikace triorganofosfitu ošetrením bazickým aditivem |
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CN101687658B (zh) | 2007-05-14 | 2013-07-24 | 因温斯特技术公司 | 高效反应器和方法 |
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EP2229353B1 (en) * | 2008-01-15 | 2018-01-03 | INVISTA Textiles (U.K.) Limited | Hydrocyanation of pentenenitriles |
CN101910119B (zh) * | 2008-01-15 | 2013-05-29 | 因温斯特技术公司 | 用于制备和精制3-戊烯腈,和用于精制2-甲基-3-丁烯腈的方法 |
EP2257516A4 (en) * | 2008-03-19 | 2012-12-12 | Invista Tech Sarl | METHOD FOR THE PRODUCTION OF CYCLODODECATRIOS AND METHOD FOR THE PRODUCTION OF LAUROLACTONE |
EP2334624B1 (en) * | 2008-10-14 | 2014-10-01 | Invista Technologies S.à.r.l. | Process for making 2-secondary-alkyl-4,5-di-(normal-alkyl)phenols |
CN102471218B (zh) * | 2009-08-07 | 2014-11-05 | 因温斯特技术公司 | 用于形成二酯的氢化并酯化 |
CN103502206B (zh) | 2010-07-07 | 2016-01-13 | 因温斯特技术公司 | 用于制备腈的方法 |
CN104011014B (zh) | 2011-10-07 | 2016-05-11 | 因温斯特技术公司 | 用于制备腈的方法 |
WO2013095853A1 (en) | 2011-12-21 | 2013-06-27 | Invista North America S.A R.L. | Extraction solvent control for reducing stable emulsions |
KR20140127218A (ko) | 2011-12-21 | 2014-11-03 | 인비스타 테크놀러지스 에스.에이 알.엘. | 안정한 에멀젼을 감소시키기 위한 추출 용매 제어 |
KR20140127220A (ko) | 2011-12-21 | 2014-11-03 | 인비스타 테크놀러지스 에스.에이 알.엘. | 안정한 에멀젼을 감소시키기 위한 추출 용매 제어 |
CN105531257B (zh) | 2013-07-17 | 2019-12-17 | 英威达纺织(英国)有限公司 | 通过蒸馏将溶剂与镍催化剂分离 |
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-
1981
- 1981-09-24 US US06/305,183 patent/US4385007A/en not_active Expired - Fee Related
-
1982
- 1982-09-22 LU LU84386A patent/LU84386A1/fr unknown
- 1982-09-22 NL NL8203671A patent/NL8203671A/nl not_active Application Discontinuation
- 1982-09-22 FR FR8215941A patent/FR2513246A1/fr not_active Withdrawn
- 1982-09-23 BE BE0/209077A patent/BE894473A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-09-23 CA CA000412054A patent/CA1181425A/en not_active Expired
- 1982-09-23 IT IT23409/82A patent/IT1156109B/it active
- 1982-09-23 GB GB08227230A patent/GB2106517B/en not_active Expired
- 1982-09-24 DE DE19823235433 patent/DE3235433A1/de not_active Withdrawn
- 1982-09-24 JP JP57165140A patent/JPS5867353A/ja active Pending
- 1982-09-24 KR KR1019820004323A patent/KR840001590A/ko unknown
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