JPS58148868A - クロロアセトアミド誘導体 - Google Patents
クロロアセトアミド誘導体Info
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- JPS58148868A JPS58148868A JP58019535A JP1953583A JPS58148868A JP S58148868 A JPS58148868 A JP S58148868A JP 58019535 A JP58019535 A JP 58019535A JP 1953583 A JP1953583 A JP 1953583A JP S58148868 A JPS58148868 A JP S58148868A
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- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
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- C07D409/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はクロロアセトアミド誘導体、更に詳しくは環形
成Ｃ原子１個の位置にＮ−置換クロロアセチルアミ７基
を有する新規５員異項環芳香族化合物、その除草剤とし
ての使用法、この使用法を容易にするための農園芸用組
成物および該異頃環芳香族化合物の製造法に関する。
成Ｃ原子１個の位置にＮ−置換クロロアセチルアミ７基
を有する新規５員異項環芳香族化合物、その除草剤とし
ての使用法、この使用法を容易にするための農園芸用組
成物および該異頃環芳香族化合物の製造法に関する。
除草剤として種々のＮ−置換−α−ハロゲンアセトアニ
リド類は公知である。除草活性および植物生長調整活性
を有するＮ−置換−Ｎ−（２，５−ジアルキル−ピロー
ル−１−イル）ハロアセトアミド類は米国第４．２８２
，０２８号明細書に開示されている。しかしなお一層有
効な除草剤の存在することか必要である。
リド類は公知である。除草活性および植物生長調整活性
を有するＮ−置換−Ｎ−（２，５−ジアルキル−ピロー
ル−１−イル）ハロアセトアミド類は米国第４．２８２
，０２８号明細書に開示されている。しかしなお一層有
効な除草剤の存在することか必要である。
本発明の新規５員異項環芳香族化合物は適当な土壌中持
続性を有する特に有効な除草剤である。
続性を有する特に有効な除草剤である。
本発明は式：
て示される新規化合物を提供することができる。
ｌ一式中、Ａｒは０、ＳおよびＮから選ばれる環中異項
原子１〜２個を含有する５装具項環芳香族基（Ａｒはこ
の環形成Ｃ原子によりＮ （Ｙ ）ＣＯＣＨ２Ｃｅ基の
Ｎ原子に結合する。Ａｒがピラゾリルである場合、その
４位にＮ （Ｙ ）ＣＯＣ８２Ｃ１基か存在する。）、
Ｙはアレン、ＣＨ２−Ｃ）Ｉ ＝ Ｃ二Ｃ夏１２、また
はＣ１，８アルキル、Ｃ３，８アルケニル、Ｃ３〜８ア
ルキニル、Ｃ３，８シクロアルキル、０５Ｎ８シクロア
ルケニル、６３Ｎ８シクロアルキル−Ｃ１，５アルキル
から選ばれる炭化水素基（この炭化水素基は置換基を有
しないか、もしくはＦ、ＣｌまたはＢｒから選ばれるハ
ロゲンで置換されていてもよし）。）、または ＣＨ（Ｒ１）−ＣＯＹ１基、 （Ｒ１はＨまたはＣ１〜５アルキル、 Ｙｌはこれが結合するＣＨ基と合して形成されるエステ
ルまたはアミド官能基）、またはＲ２Ａ ｚ基、 （Ｒ２はＣＨ２またはＣＨ２ＣＨ２（これらの基は置換
基を有しないか、もしくは０１〜５アルキルで置換され
ていてもよい。）、 Ａｚはジアゾリルまたはトリアゾリルから選ばれる芳香
族異項環基（その窒素原子のうち１個かに２に結合する
。）、０、ＳまたはＮから選ばれる異項原子１〜３個を
有する５装具項環基（この基はその環形成Ｃ原子により
Ｒ２に結合する。）およびピリミジニル基から選ばれる
芳香族異項環基、または２−オキソ−１−ピロリジニル
（そのＣＨ２基が０、ＳまたはＮＣ１１３で置き換えら
れていてもよい。）、またはこの２−オキソ−１−ピロ
リジニル基の５−オキソおよび／または二環式ベンズ（
Ｃ）縮合誘導基）、または Ａ−０−Ｒ３基、 （Ｒ３は■１またはＣ１〜８アルキル、Ｃ３〜８アルケ
ニル、Ｃ３，＋＋８アルキニル、Ｃ３Ｎ８シクロアルキ
ル、０５〜８シクロアルケニルもしくは０３〜８シクロ
アルキル−０１〜５アルキルから選はれる炭化水素基（
この炭化水素基は置換基を有しないか、もしくは有して
もよい。）、（ここにに４は６１〜５アルキル、Ｃ３〜
５アルケニル、Ｃ３，５アルキニル、Ｃ３，８シクロア
ルキル、６５〜８シクロアルケニル、０３〜８シクロア
ルキル−Ｃ１〜５アルキルから選ハれる炭化水素基（こ
の炭化水素基は置換基を有しないか、もしくはＦ、Ｃｌ
またはＢｒから選ばれるハロゲンで置換されていてもよ
い。）、またはアレン、 鳴はＨまたは上記に４と同意義）、 Ａは炭化水素部分（炭化水素部分かに３と結合し、異項
原子として酸素１〜２個を含む飽和含酸素異項環基を形
成してもよい。Ａに結合しているＮおよびＯ原子は３個
を越えないＣ原子で分けられる。））、または ＣＨ−Ｃ＝ＮＯＲ４基、 Ｉ ５Ｒ５ （Ｒ４は前記と同意義、Ｒ５およびＲｓはそれぞれ個別
にＨまたはＣＨ３、もしくはに５とＲｓを合して（ＣＨ
２）３または＜ ＣＲ２）４である。）、または ＣＨ−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯＣＨ３基、 ６ （Ｒ６はＨまたはＣ１〜３アルキル） を表わす。〕。
原子１〜２個を含有する５装具項環芳香族基（Ａｒはこ
の環形成Ｃ原子によりＮ （Ｙ ）ＣＯＣＨ２Ｃｅ基の
Ｎ原子に結合する。Ａｒがピラゾリルである場合、その
４位にＮ （Ｙ ）ＣＯＣ８２Ｃ１基か存在する。）、
Ｙはアレン、ＣＨ２−Ｃ）Ｉ ＝ Ｃ二Ｃ夏１２、また
はＣ１，８アルキル、Ｃ３，８アルケニル、Ｃ３〜８ア
ルキニル、Ｃ３，８シクロアルキル、０５Ｎ８シクロア
ルケニル、６３Ｎ８シクロアルキル−Ｃ１，５アルキル
から選ばれる炭化水素基（この炭化水素基は置換基を有
しないか、もしくはＦ、ＣｌまたはＢｒから選ばれるハ
ロゲンで置換されていてもよし）。）、または ＣＨ（Ｒ１）−ＣＯＹ１基、 （Ｒ１はＨまたはＣ１〜５アルキル、 Ｙｌはこれが結合するＣＨ基と合して形成されるエステ
ルまたはアミド官能基）、またはＲ２Ａ ｚ基、 （Ｒ２はＣＨ２またはＣＨ２ＣＨ２（これらの基は置換
基を有しないか、もしくは０１〜５アルキルで置換され
ていてもよい。）、 Ａｚはジアゾリルまたはトリアゾリルから選ばれる芳香
族異項環基（その窒素原子のうち１個かに２に結合する
。）、０、ＳまたはＮから選ばれる異項原子１〜３個を
有する５装具項環基（この基はその環形成Ｃ原子により
Ｒ２に結合する。）およびピリミジニル基から選ばれる
芳香族異項環基、または２−オキソ−１−ピロリジニル
（そのＣＨ２基が０、ＳまたはＮＣ１１３で置き換えら
れていてもよい。）、またはこの２−オキソ−１−ピロ
リジニル基の５−オキソおよび／または二環式ベンズ（
Ｃ）縮合誘導基）、または Ａ−０−Ｒ３基、 （Ｒ３は■１またはＣ１〜８アルキル、Ｃ３〜８アルケ
ニル、Ｃ３，＋＋８アルキニル、Ｃ３Ｎ８シクロアルキ
ル、０５〜８シクロアルケニルもしくは０３〜８シクロ
アルキル−０１〜５アルキルから選はれる炭化水素基（
この炭化水素基は置換基を有しないか、もしくは有して
もよい。）、（ここにに４は６１〜５アルキル、Ｃ３〜
５アルケニル、Ｃ３，５アルキニル、Ｃ３，８シクロア
ルキル、６５〜８シクロアルケニル、０３〜８シクロア
ルキル−Ｃ１〜５アルキルから選ハれる炭化水素基（こ
の炭化水素基は置換基を有しないか、もしくはＦ、Ｃｌ
またはＢｒから選ばれるハロゲンで置換されていてもよ
い。）、またはアレン、 鳴はＨまたは上記に４と同意義）、 Ａは炭化水素部分（炭化水素部分かに３と結合し、異項
原子として酸素１〜２個を含む飽和含酸素異項環基を形
成してもよい。Ａに結合しているＮおよびＯ原子は３個
を越えないＣ原子で分けられる。））、または ＣＨ−Ｃ＝ＮＯＲ４基、 Ｉ ５Ｒ５ （Ｒ４は前記と同意義、Ｒ５およびＲｓはそれぞれ個別
にＨまたはＣＨ３、もしくはに５とＲｓを合して（ＣＨ
２）３または＜ ＣＲ２）４である。）、または ＣＨ−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯＣＨ３基、 ６ （Ｒ６はＨまたはＣ１〜３アルキル） を表わす。〕。
Ａｒ基は置換基を有しなくても、または有してもよい。
Ａｒが置換されている場合、Ａｒ基は可能ないずれかの
位置に置換基を有していてもよく、かかる置換基の好ま
しい位置はクロロアセトアミド基に関して〇−位置（特
にｏ 、 ｏ’−位置）であり、更に置換基を存在せし
めることができる。Ａｒの適当な置換基の例として、Ｆ
、 ＣｅおよびＢｒから選ばトルハロゲン；Ｃ１〜４ア
ルキル（置換基を有しないかもしくはハロゲ７ （Ｆ、
Ｃｚ−Ｂｒ ）、Ｃ１〜４アルコキシまたは０３〜６シ
クロアルキルで置換されていてもよい。）；Ｃ２〜４ア
ルケニル（置換基を有しないかもしくはＣｉ〜４ミル４
アルコキシされていてもよい。）；Ｃ３〜６シクロアル
キル：ホルミルまたはＣ２〜４アルカノイルおよびその
オキシム基、アセタール基もしくはケタール基のような
官能性誘導基（たとえばＣ（−ＮＯ０１〜４アルキル”
１−３アルキル、Ｃ（０−ＣＩＮ４アルキル）２−Ｃ１
〜３アルキル、 ＣＨ（０−Ｃ１〜４アルキル）２など
）；ＣＩＰ＋＋４アルキル−ｓ、ｃｌ、４アルキル−ｓ
ｏ。
位置に置換基を有していてもよく、かかる置換基の好ま
しい位置はクロロアセトアミド基に関して〇−位置（特
にｏ 、 ｏ’−位置）であり、更に置換基を存在せし
めることができる。Ａｒの適当な置換基の例として、Ｆ
、 ＣｅおよびＢｒから選ばトルハロゲン；Ｃ１〜４ア
ルキル（置換基を有しないかもしくはハロゲ７ （Ｆ、
Ｃｚ−Ｂｒ ）、Ｃ１〜４アルコキシまたは０３〜６シ
クロアルキルで置換されていてもよい。）；Ｃ２〜４ア
ルケニル（置換基を有しないかもしくはＣｉ〜４ミル４
アルコキシされていてもよい。）；Ｃ３〜６シクロアル
キル：ホルミルまたはＣ２〜４アルカノイルおよびその
オキシム基、アセタール基もしくはケタール基のような
官能性誘導基（たとえばＣ（−ＮＯ０１〜４アルキル”
１−３アルキル、Ｃ（０−ＣＩＮ４アルキル）２−Ｃ１
〜３アルキル、 ＣＨ（０−Ｃ１〜４アルキル）２など
）；ＣＩＰ＋＋４アルキル−ｓ、ｃｌ、４アルキル−ｓ
ｏ。
またはＣｉ〜４ミル４アルキル２；Ｃ１〜５アルコキシ
カルボニル：Ｃ１〜４アルコキシ（置換基を有しないカ
モしくはハロゲンまたはＣ１〜４アルコキシで置換され
ていてもよい。）；Ｃ２〜４アルケニルオドロキシメチ
ルまたはそのエステル基（たとえば有機カルボン酸、た
とえばギ酸、６２〜５アルカンカルボン酸（酢酸など）
またはそのハロゲン化誘導体（クロロ酢酸など）とのエ
ステル基）があけられる。
カルボニル：Ｃ１〜４アルコキシ（置換基を有しないカ
モしくはハロゲンまたはＣ１〜４アルコキシで置換され
ていてもよい。）；Ｃ２〜４アルケニルオドロキシメチ
ルまたはそのエステル基（たとえば有機カルボン酸、た
とえばギ酸、６２〜５アルカンカルボン酸（酢酸など）
またはそのハロゲン化誘導体（クロロ酢酸など）とのエ
ステル基）があけられる。
ＡｒのＮ−置換クロロアセチルアミ７基に関して〇−位
置でない他の位置に要すれば置換基か存在してもよく、
かかる置換基は好ましくは０１〜４アルキル（たとえば
ＣＨ３）、ハロゲン（たとえばＣｌ、Ｂｒ）および０１
〜４アルコキシカルボニル（たとえばＣ００ＣＨ３）か
ら選ばれる基である。
置でない他の位置に要すれば置換基か存在してもよく、
かかる置換基は好ましくは０１〜４アルキル（たとえば
ＣＨ３）、ハロゲン（たとえばＣｌ、Ｂｒ）および０１
〜４アルコキシカルボニル（たとえばＣ００ＣＨ３）か
ら選ばれる基である。
Ａｒの環に異項原子２個を含む場合、その１個はＮ、他
の原子は好ましくはＯまたはＳから選ばれる。
の原子は好ましくはＯまたはＳから選ばれる。
化合物〔■〕に属する化合物は、Ａｒが環異項原子１個
を含む基（ピロリル、チェニル、フラニル）、もしくは
環中隣接する異項原子２個を含む基（インオキサシリル
、インチアゾリル、ピラゾリル）である化合物が好まし
い。Ｎ−置換−クロロアセチルアミノ基は、環異項原子
に関してβ−位置の環Ｃ原子、たとえばＡｒがビロール
、チオフェンまたはフラン環である場合の３位、および
ＡＴがインオキサゾール、イソチアゾールまたはピラゾ
ール環である場合の４位の環Ｃ原子に結合するのか好ま
しい。後者に属する化合物はＡｒ基かへ一置換一アセチ
ルアミ７基に関してオルト位置、特に０．０−位置に置
換基を有する（特に置換基が前記のような基である）化
合物か好ましい。環形成Ｎ原子は置換基を有しないか、
もしくは有してもよく、置換されている場合、その置換
基はＣ１〜４アルキル、特にＣＨａまたはＣ２Ｈｓであ
るのが好ましい。
を含む基（ピロリル、チェニル、フラニル）、もしくは
環中隣接する異項原子２個を含む基（インオキサシリル
、インチアゾリル、ピラゾリル）である化合物が好まし
い。Ｎ−置換−クロロアセチルアミノ基は、環異項原子
に関してβ−位置の環Ｃ原子、たとえばＡｒがビロール
、チオフェンまたはフラン環である場合の３位、および
ＡＴがインオキサゾール、イソチアゾールまたはピラゾ
ール環である場合の４位の環Ｃ原子に結合するのか好ま
しい。後者に属する化合物はＡｒ基かへ一置換一アセチ
ルアミ７基に関してオルト位置、特に０．０−位置に置
換基を有する（特に置換基が前記のような基である）化
合物か好ましい。環形成Ｎ原子は置換基を有しないか、
もしくは有してもよく、置換されている場合、その置換
基はＣ１〜４アルキル、特にＣＨａまたはＣ２Ｈｓであ
るのが好ましい。
Ａｒはチオフェン、イソチアゾールおよびイソオキサゾ
ール環、特にインチアゾールまたはチオフェン環である
のが好ましい。化合物ｒＩ）に属する化合物は、特にＡ
ｒかチオフェン環である化合物ＣＩ）特に少なくとも２
．４−ジ置換された３−チェニル、就中２位および４位
かＣアルキルおよび６１〜４１〜４ アルコキシから選ばれる基で置換されている３−チェニ
ル化合物が好ましい。
ール環、特にインチアゾールまたはチオフェン環である
のが好ましい。化合物ｒＩ）に属する化合物は、特にＡ
ｒかチオフェン環である化合物ＣＩ）特に少なくとも２
．４−ジ置換された３−チェニル、就中２位および４位
かＣアルキルおよび６１〜４１〜４ アルコキシから選ばれる基で置換されている３−チェニ
ル化合物が好ましい。
Ｙ、 Ｒ３、Ｒ４およびＲ’４がハロゲンで置換された
炭化水素基である場合、このハロゲンはＣｌまたはＢｒ
であって、かかる置換炭化水素基は特にモノ置換された
基であるのが好ましい。Ｙがハロゲン置換炭化水素基で
ある場合、除草剤として使用を企図するとき一般に１位
に存在しないのが好ましく（かかる１−ハロゲン化化合
物は一般に不安定であるが、他の化合物〔Ｉ〕（たとえ
ばＹがアルコキシアルキルまたはピラゾリルメチルであ
る化合物〔■〕）の製造法の貴重な中間体として有効で
ある。
炭化水素基である場合、このハロゲンはＣｌまたはＢｒ
であって、かかる置換炭化水素基は特にモノ置換された
基であるのが好ましい。Ｙがハロゲン置換炭化水素基で
ある場合、除草剤として使用を企図するとき一般に１位
に存在しないのが好ましく（かかる１−ハロゲン化化合
物は一般に不安定であるが、他の化合物〔Ｉ〕（たとえ
ばＹがアルコキシアルキルまたはピラゾリルメチルであ
る化合物〔■〕）の製造法の貴重な中間体として有効で
ある。
）、このようなＹの意義の適当な例として２−Ｃｔ−エ
チルがあけられる。
チルがあけられる。
Ｙ、 Ｒ３、Ｒ４および／または鳴がＣ１〜８アルキル
、Ｃ３〜８アルケニルモシクは６３〜８アルキニルであ
る場合、これらの基はＣ数５個を越えないものが好まし
い。Ｙ、Ｒ３、Ｒ４および／またはＲ１，がシクロアル
キルもしくはシクロアルケニルであるかあるいはこれを
含む基である場合、かかる環式炭化水素基は６個を越え
ないＣ原子を含むものが好ましい。
、Ｃ３〜８アルケニルモシクは６３〜８アルキニルであ
る場合、これらの基はＣ数５個を越えないものが好まし
い。Ｙ、Ｒ３、Ｒ４および／またはＲ１，がシクロアル
キルもしくはシクロアルケニルであるかあるいはこれを
含む基である場合、かかる環式炭化水素基は６個を越え
ないＣ原子を含むものが好ましい。
に１か０１〜５アルキルである場合、これはＣＨ３また
はＣ２１Ｉ５（特にＣＨ３）であるのか好ましい。Ｙｌ
の意義に関連して記載したエステル基またはアミド基は
、酸のＣ００Ｉ（基と、有機化合物（酸と反応して水を
脱離させ得る化合物）たとえばアルコール類、アミン類
、メルカプタン類、オキシム類、ヒドラジン類、ヒドラ
ジド類またはヒドラゾン類を反応させることにより得ら
れる官能基を含むこスジ 適当な意義はＣアルコキシ−ＣＯ１Ｃ３〜５ア１〜５ ルキニルー〇−ＣＯなどが例示される。Ｙｌのアミドの
適当な意義の例として０１〜４アルキルアミノ−ｃｏ、
ジ（Ｃ１〜４アルキル）アミノ−ＣＯｌｃｏ−Ｎｌ（Ｎ
Ｒ２およびＣ０−ＮＨ−Ｎ二Ｃ（Ｃ１〜３アルキル）２
かあげられる。
はＣ２１Ｉ５（特にＣＨ３）であるのか好ましい。Ｙｌ
の意義に関連して記載したエステル基またはアミド基は
、酸のＣ００Ｉ（基と、有機化合物（酸と反応して水を
脱離させ得る化合物）たとえばアルコール類、アミン類
、メルカプタン類、オキシム類、ヒドラジン類、ヒドラ
ジド類またはヒドラゾン類を反応させることにより得ら
れる官能基を含むこスジ 適当な意義はＣアルコキシ−ＣＯ１Ｃ３〜５ア１〜５ ルキニルー〇−ＣＯなどが例示される。Ｙｌのアミドの
適当な意義の例として０１〜４アルキルアミノ−ｃｏ、
ジ（Ｃ１〜４アルキル）アミノ−ＣＯｌｃｏ−Ｎｌ（Ｎ
Ｒ２およびＣ０−ＮＨ−Ｎ二Ｃ（Ｃ１〜３アルキル）２
かあげられる。
Ｒ２かＣ）（２である場合、これは６１〜５アルキル１
〜２個（好ましくは１個）で置換されていてもよい。Ｒ
２かＣ１１２ＣＨ２である場合、これは４個を越えない
０１〜５アルキルで置換されていてもよく、モノもしく
はジ置換されているのが好ましい。
〜２個（好ましくは１個）で置換されていてもよい。Ｒ
２かＣ１１２ＣＨ２である場合、これは４個を越えない
０１〜５アルキルで置換されていてもよく、モノもしく
はジ置換されているのが好ましい。
−ＣＨ２ＣＨ２がジ置換されている場合、この置換基は
異なるＣ原子に置換基を有するのか好ましい。
異なるＣ原子に置換基を有するのか好ましい。
Ｒ２の好ましい０１〜５アルキル置換基はＣ１１３およ
びＣ２１（５（特にＣＨ３）である。Ｒ２かＣｔ〜５ア
ルキルで置換されている場合、これはモノ置換されてい
るのが好ましい。Ｒ２は特にＣＨ２またはＣｌ−１（Ｇ
ｔ３”１である。
びＣ２１（５（特にＣＨ３）である。Ｒ２かＣｔ〜５ア
ルキルで置換されている場合、これはモノ置換されてい
るのが好ましい。Ｒ２は特にＣＨ２またはＣｌ−１（Ｇ
ｔ３”１である。
Ａｚが前記芳香族異項環基のいずれかである場合、この
環は置換基を有しないかもしくは有してもよく、該Ａｚ
の意義の適当な置換基はたとえばＣ１〜５アルキル（Ｃ
Ｈ３、Ｃ２Ｈｓのような）基１個ないしそれ以上であっ
て、この置換された芳香族異項環基はモノもしくはジ置
換されたものか好ましい。
環は置換基を有しないかもしくは有してもよく、該Ａｚ
の意義の適当な置換基はたとえばＣ１〜５アルキル（Ｃ
Ｈ３、Ｃ２Ｈｓのような）基１個ないしそれ以上であっ
て、この置換された芳香族異項環基はモノもしくはジ置
換されたものか好ましい。
ＡＺ基がジアゾールまたはトリアゾール環である場合、
これはｌ−ピラゾリル、１−イミダゾリル、１．２．３
−）リアゾル−１−イルまたは１．２．４−トリアツル
ー１−イル（これらは置換基を有しなくても有してもよ
い。）、特に１−ピラゾリル、３゜５−ジーＣＨ３−１
−ピラゾリルが好ましい。
これはｌ−ピラゾリル、１−イミダゾリル、１．２．３
−）リアゾル−１−イルまたは１．２．４−トリアツル
ー１−イル（これらは置換基を有しなくても有してもよ
い。）、特に１−ピラゾリル、３゜５−ジーＣＨ３−１
−ピラゾリルが好ましい。
Ａｚがその環Ｃ原子がＲ２に結合した前記５装具項環基
である場合、かかる環はたとえばフリル、チェニル、チ
アゾリル、インチアゾリル、オキサフリル、イソオキサ
シリル、１．２．４−もしくは１゜３．４−チア（ある
いはオキサ）ジアゾリルまたは１．３．４−トリアゾリ
ル（これらの基は置換基を有しなくても、またたとえは
Ｃ１〜４アルキル、６１〜４アルキルチオまたは０１〜
４アルコキシ置換基１〜２個を有する。）であって、か
かる意義の典型的例として２−フリル、２−チェニル、
２− Ｃ１１３−４−チアゾリル、ａ−ＣＩ（３−５−
インオキサシリル、２−Ｃ２Ｈ５−１，３，４−オキサ
ジアゾル−５−イル、３−ＣＩ量３−１．２．４−オキ
サジアゾル−５−イル、１−Ｃ〕Ｈ３−２−ＣＩ４３Ｓ
−１，３，４−トリアゾル−５−イルおよび２− Ｃ
Ｈ３１，３，４トリアゾル−５−イルかあけられる。
である場合、かかる環はたとえばフリル、チェニル、チ
アゾリル、インチアゾリル、オキサフリル、イソオキサ
シリル、１．２．４−もしくは１゜３．４−チア（ある
いはオキサ）ジアゾリルまたは１．３．４−トリアゾリ
ル（これらの基は置換基を有しなくても、またたとえは
Ｃ１〜４アルキル、６１〜４アルキルチオまたは０１〜
４アルコキシ置換基１〜２個を有する。）であって、か
かる意義の典型的例として２−フリル、２−チェニル、
２− Ｃ１１３−４−チアゾリル、ａ−ＣＩ（３−５−
インオキサシリル、２−Ｃ２Ｈ５−１，３，４−オキサ
ジアゾル−５−イル、３−ＣＩ量３−１．２．４−オキ
サジアゾル−５−イル、１−Ｃ〕Ｈ３−２−ＣＩ４３Ｓ
−１，３，４−トリアゾル−５−イルおよび２− Ｃ
Ｈ３１，３，４トリアゾル−５−イルかあけられる。
Ａｚがピリミジン基である場合、これはその２位、４位
または５位のＣ原子かＲ２に結合した基（たとえば２−
ピリミジニル）であってよい。
または５位のＣ原子かＲ２に結合した基（たとえば２−
ピリミジニル）であってよい。
Ａｚか前記二環式２−オキソ−１−ピロリジニル誘導基
である場合、そのベンゾ部分は置換基を有しなくてもま
たは例えばハロゲンで置換されていてもよく、かかる意
義の適当な例として２−オキソ−１，３−ベンゾチアゾ
ルー３−イルおよびその４−クロロ誘導基が挙げられる
。
である場合、そのベンゾ部分は置換基を有しなくてもま
たは例えばハロゲンで置換されていてもよく、かかる意
義の適当な例として２−オキソ−１，３−ベンゾチアゾ
ルー３−イルおよびその４−クロロ誘導基が挙げられる
。
Ｒ３が前記炭化水素基である場合、このような炭化水素
基は置換基を有しなくても、またたとえばハロゲン、シ
アノ、アゾール基（１−ピラゾリルなど）および／また
はＣ１〜４アルコキシで置換されていてもよく、このよ
うなに３で示される置換炭化水素基はモノ置換されたも
のが好ましい。Ｒ３の意義の例としてＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ
、（１−ピラゾリル）ＣＲ２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＮ、３．
５−ジメチル−１−ピラゾリルがあけられる。
基は置換基を有しなくても、またたとえばハロゲン、シ
アノ、アゾール基（１−ピラゾリルなど）および／また
はＣ１〜４アルコキシで置換されていてもよく、このよ
うなに３で示される置換炭化水素基はモノ置換されたも
のが好ましい。Ｒ３の意義の例としてＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ
、（１−ピラゾリル）ＣＲ２、ＣＨ２ＣＨ２ＣＮ、３．
５−ジメチル−１−ピラゾリルがあけられる。
ＡがＲ３と結合して環を形成する場合のＡ ＯＲ３の適
当な意義は、たとえば１，３−ジオキソラン−４−イル
−Ｃ１，３アルキレン、１．３−ジオキソラン−２−イ
ル−０１〜３アルキレンおよび２−または３−テトラヒ
ドロフリル−Ｃ１〜３アルキレンなどである。
当な意義は、たとえば１，３−ジオキソラン−４−イル
−Ｃ１，３アルキレン、１．３−ジオキソラン−２−イ
ル−０１〜３アルキレンおよび２−または３−テトラヒ
ドロフリル−Ｃ１〜３アルキレンなどである。
Ａかに３と結合しない（環を形成しない）場合、Ａは好
ましくは非芳香族、特にＡが結合するＯ原子およびＮ原
子を分離する０１〜５８アルキレン部分（好ましくは炭
素数１〜３（特に１〜２））である。Ａの適当な意義は
、Ｃ１１２、Ｃ１（２−ＣＨ２またはこれらのモノメチ
ル化誘導基、特にＣＩ２、Ｃ［１（ＣＨ１３）、Ｃ１１
２Ｃ１１２モジ＜ハＣ夏１（ＣＨ３）ＣＩＩ２テアル。
ましくは非芳香族、特にＡが結合するＯ原子およびＮ原
子を分離する０１〜５８アルキレン部分（好ましくは炭
素数１〜３（特に１〜２））である。Ａの適当な意義は
、Ｃ１１２、Ｃ１（２−ＣＨ２またはこれらのモノメチ
ル化誘導基、特にＣＩ２、Ｃ［１（ＣＨ１３）、Ｃ１１
２Ｃ１１２モジ＜ハＣ夏１（ＣＨ３）ＣＩＩ２テアル。
Ｒａ ニ特ニＣ１１３、Ｃ２■５およヒｎ Ｃ３Ｈ７の
ようなＣ１〜３アルキルである。
ようなＣ１〜３アルキルである。
Ａは置換基を有しないか、もしくはたとえば０１〜５ア
ルコキシで置換されていてもよい。置換されたＡの意義
はモノ置換されたものか好ましい。
ルコキシで置換されていてもよい。置換されたＡの意義
はモノ置換されたものか好ましい。
本発明は化合物（ＩＬＩの製造法を提供することができ
る。すなわち本発明は、 〔式中、ＡｒおよびＹは前記と同意義。〕で示される化
合物のＮ−ヒドロキシアセチル基の１１０基をＣ，て置
換し、 （ｂ）式： Ａ ｒ Ｎ ［（ＣＯＣＩ（２ＣＩＣＩ
ＩＩ）し式中、Ａｒは前記と同意義。〕 で示される化合物と 式： ＬＹ ［ＩＶ］〔式中、
Ｙは前記と同意義。ＬはＮ−アルキル化反応条件下に脱
離させ得る残基を表わす。〕で示される化合物を反応さ
せ、 １゜ 〔式中、Ｒ′はＨまたは６１〜３アルキル、Ｙ２はＡｚ
、ＯＲａまたはＮ（ＣＨ３）Ｃ０Ｃ■１３、Ａ’ｚは
いずれか１個の窒素原子によりＣＨＲ’基に結合したジ
アゾリルまたはトリアゾリルを表わす。
る。すなわち本発明は、 〔式中、ＡｒおよびＹは前記と同意義。〕で示される化
合物のＮ−ヒドロキシアセチル基の１１０基をＣ，て置
換し、 （ｂ）式： Ａ ｒ Ｎ ［（ＣＯＣＩ（２ＣＩＣＩ
ＩＩ）し式中、Ａｒは前記と同意義。〕 で示される化合物と 式： ＬＹ ［ＩＶ］〔式中、
Ｙは前記と同意義。ＬはＮ−アルキル化反応条件下に脱
離させ得る残基を表わす。〕で示される化合物を反応さ
せ、 １゜ 〔式中、Ｒ′はＨまたは６１〜３アルキル、Ｙ２はＡｚ
、ＯＲａまたはＮ（ＣＨ３）Ｃ０Ｃ■１３、Ａ’ｚは
いずれか１個の窒素原子によりＣＨＲ’基に結合したジ
アゾリルまたはトリアゾリルを表わす。
Ａｒおよびに３は前記と同意義。〕
で示される化合物を得るため、
１゜
〔式中、ＡｒおよびＲ′は前記と同意義。〕で示される
化合物と 式：ＬＹ２〔■〕 １一式中、Ｙ２は前記と同意義。］ で示される化合物もしくはその反応性誘導体を反応させ
ることにより上記化合物１−Ｉａ）を製造し、（ｄ）式
： Ａｒ −ＮＨ−Ｙ Ｃ■〕
１式中、ＡｒおよびＹは前記と同意義。〕で示される化
合物をクロロアセチルクロリドもしくはその反応性官能
誘導体てＮ−アシル化することから成る化合物〔■〕の
製造法を提供することかできる。
化合物と 式：ＬＹ２〔■〕 １一式中、Ｙ２は前記と同意義。］ で示される化合物もしくはその反応性誘導体を反応させ
ることにより上記化合物１−Ｉａ）を製造し、（ｄ）式
： Ａｒ −ＮＨ−Ｙ Ｃ■〕
１式中、ＡｒおよびＹは前記と同意義。〕で示される化
合物をクロロアセチルクロリドもしくはその反応性官能
誘導体てＮ−アシル化することから成る化合物〔■〕の
製造法を提供することかできる。
本発明の製造法（ａ）は、Ｏ■Ｉ基をＣＩで置換するた
めに知られた条件下に常套の方法で行なうことができる
。
めに知られた条件下に常套の方法で行なうことができる
。
この置換反応は、たとえは類似の反応のため自体公知の
条件下、化合物〔旧を塩化チオニルのような塩素化剤で
処理することにより達成することかできる。
条件下、化合物〔旧を塩化チオニルのような塩素化剤で
処理することにより達成することかできる。
この種々の塩素化方法に従って、化合物〔■〕をたとえ
はスルホニルハライドでスルホン化することにより対応
するスルホニルオキシ誘導体に変換し、次いでこのスル
ホニルオキシ誘導体のスルホニルオキシ基を塩素て親核
置換することにより該誘導体を所望の化合物ＣＩＩに変
換することができる。
はスルホニルハライドでスルホン化することにより対応
するスルホニルオキシ誘導体に変換し、次いでこのスル
ホニルオキシ誘導体のスルホニルオキシ基を塩素て親核
置換することにより該誘導体を所望の化合物ＣＩＩに変
換することができる。
この親核置換のために必要なＣｌアニオンを供給する試
剤は、たとえばＮａＣ，のような塩化アルカリ金属、第
四級テトラブチルアンモニウムクロリドまたは４−ジメ
チルアミノピリジン塩酸塩である。この置換反応は塩化
メチレン中、または水／有機層の２層系（有機層はたと
えばトルエンのような炭化水素）中、適当な相間移動触
媒の存在下に好ましくはたとえは４０〜１２０℃に加熱
して行なうのが好都合である。
剤は、たとえばＮａＣ，のような塩化アルカリ金属、第
四級テトラブチルアンモニウムクロリドまたは４−ジメ
チルアミノピリジン塩酸塩である。この置換反応は塩化
メチレン中、または水／有機層の２層系（有機層はたと
えばトルエンのような炭化水素）中、適当な相間移動触
媒の存在下に好ましくはたとえは４０〜１２０℃に加熱
して行なうのが好都合である。
製造法（ｂ）はアミド類のＮ−アルキル化のために知ら
れた条件下、常套の方法により行なうことができる。こ
の反応はその反応条件下で不活性な溶媒（たとえばジメ
トキシエタンまたはアセトニトリル）中、もしくは水／
有機層の２層系中、相間移動触媒の存在下に進行させる
のが有利である。
れた条件下、常套の方法により行なうことができる。こ
の反応はその反応条件下で不活性な溶媒（たとえばジメ
トキシエタンまたはアセトニトリル）中、もしくは水／
有機層の２層系中、相間移動触媒の存在下に進行させる
のが有利である。
して示される適当な意義（式［ＩＶ）中）は、Ｃｌ、Ｂ
ｒまたは有機スルホン酸のスルホニルオキシ部分（メシ
ルオキシもしくはｐ−）シルオキシのような基 である
。
ｒまたは有機スルホン酸のスルホニルオキシ部分（メシ
ルオキシもしくはｐ−）シルオキシのような基 である
。
化合物［−１１ＩＪは、これを好ましくは塩型、より好
ましくはアルカリ金属塩型（たとえばナトリウム塩型）
で使用する。このような塩は、化合物〔■〕をアルカリ
金属アミド、水素化アルカリ金属、水酸化アルカリ金属
またはアルカリ金属アルコレートのような塩基と反応さ
せる常套の方法で得ることができる。
ましくはアルカリ金属塩型（たとえばナトリウム塩型）
で使用する。このような塩は、化合物〔■〕をアルカリ
金属アミド、水素化アルカリ金属、水酸化アルカリ金属
またはアルカリ金属アルコレートのような塩基と反応さ
せる常套の方法で得ることができる。
製造法（Ｃ）に従って化合物［Ｉａ）を製造するため、
化合物ｉ”、Ｖ Ｊはそのアルカリ金属塩（たとえばナ
トリウム塩）として使用するのが適当である。またＹ２
がジアゾールまたはトリアゾール環である場合、化合物
〔■〕はＮ−）リアルキルシリル（たとえばＮ−４リメ
チルシリル）化合物として使用することもできる。この
反応は通常の方法で進行させることかできる。
化合物ｉ”、Ｖ Ｊはそのアルカリ金属塩（たとえばナ
トリウム塩）として使用するのが適当である。またＹ２
がジアゾールまたはトリアゾール環である場合、化合物
〔■〕はＮ−）リアルキルシリル（たとえばＮ−４リメ
チルシリル）化合物として使用することもできる。この
反応は通常の方法で進行させることかできる。
製造法ｆｄ）は同様にアミン類をＮ−クロロアセチル化
するために知られた条件下に通常の方法で行なうことが
できる。Ｎ−クロロアセチル化剤としてＣ，Ｃ０ＣＨ２
Ｃ，を使用する場合、かかる反応操作はに２ ＣＯ３の
ような酸結合剤の存在下に行なうのか好都合である。
するために知られた条件下に通常の方法で行なうことが
できる。Ｎ−クロロアセチル化剤としてＣ，Ｃ０ＣＨ２
Ｃ，を使用する場合、かかる反応操作はに２ ＣＯ３の
ような酸結合剤の存在下に行なうのか好都合である。
化合物〔Ｉａは、これが生成されて含有する反応混合物
を確立された操作に従って処理することにより該混合物
から回収することができる。
を確立された操作に従って処理することにより該混合物
から回収することができる。
本発明化合物であってその１種から他の種の化合物への
変換、たとえば酸のエステルへの変換、カルボニル化合
物のオキシム体への変換、ハロアルキル化合物のエーテ
ル体への変換（またはそれぞれの逆変換）などは常套の
方法で行なうことができることは理解されるべきである
。また同様に本発明化合物は１個ないしそれ以上の不整
中心を有し、それ故光学活性型、ジアステレオマー型、
ラセミ型または幾何異性型として存在することができる
。かかる化合物は、公知操作により分割することができ
るが、本発明の除草方法および除草剤組成物において一
般に混合物として使用する。
変換、たとえば酸のエステルへの変換、カルボニル化合
物のオキシム体への変換、ハロアルキル化合物のエーテ
ル体への変換（またはそれぞれの逆変換）などは常套の
方法で行なうことができることは理解されるべきである
。また同様に本発明化合物は１個ないしそれ以上の不整
中心を有し、それ故光学活性型、ジアステレオマー型、
ラセミ型または幾何異性型として存在することができる
。かかる化合物は、公知操作により分割することができ
るが、本発明の除草方法および除草剤組成物において一
般に混合物として使用する。
化合物ＣＩＩＩ、ｃｎｎ、〔■〕および１〕は新規であ
って、本発明の一部を構成する。
って、本発明の一部を構成する。
化合物１旧は、式：
％式％
［式中、Ａｒは前記と同意義。Ｊ
で示される化合物のエステル体をカルボン酸と共にアン
モノリシス処理し、次いてＮ−アルキル化し、化合物〔
■］にＹ基を（前記同様）導入することにより、得るこ
とかできる。
モノリシス処理し、次いてＮ−アルキル化し、化合物〔
■］にＹ基を（前記同様）導入することにより、得るこ
とかできる。
上記エステル体は、式：
％式％
１式中、Ａｒは前記と同意義。Ｊ
て示される対応する化合物をｌ−１０−ＣＨ２ＣＯＣ１
の適当なエステル体、たとえはＣＨ３ＣＯ−０ＣＨ２Ｃ
ＯＣ。
の適当なエステル体、たとえはＣＨ３ＣＯ−０ＣＨ２Ｃ
ＯＣ。
てアシル化することにより得ることができる。
また化合物［■〕は化合物［’ｌＸＪをクロロアセチル
クロリドでアシル化することにより得ることかできる。
クロリドでアシル化することにより得ることかできる。
化合物１■〕（化合物［’ Ｉ ３に属する。）は、化
合物１１Ｘｌと適当なアルデヒド体を反応させ、得られ
たシッフ塩基とクロロアセチルクロリドを反応さゼるこ
とにより得ることができる。
合物１１Ｘｌと適当なアルデヒド体を反応させ、得られ
たシッフ塩基とクロロアセチルクロリドを反応さゼるこ
とにより得ることができる。
化合物〔■〕は化合物ＣＩＸ）をＮ−アルキル化するこ
とにより得ることができる。このアルキル化は、対応す
るアルキル化剤（たとえばハロゲニド類）を用いるか、
または適当な場合にはシッフ塩基もしくはアミド体を経
て還元する常套の方法により進行させることができる。
とにより得ることができる。このアルキル化は、対応す
るアルキル化剤（たとえばハロゲニド類）を用いるか、
または適当な場合にはシッフ塩基もしくはアミド体を経
て還元する常套の方法により進行させることができる。
化合物〔■〕中、その多くのものは新規である。
有用な新規化合物ＣＩＸ）のうち特定の群の化合物は、
２位および４位にＣ１〜４アルキルおよびＣ１〜４アル
コキシから選ばれる基で置換された３−アミノチオフェ
ン類（化合物〔■ａ”〕）である。化合物ＣＩＸａ）は
本発明の一部を構成する。
２位および４位にＣ１〜４アルキルおよびＣ１〜４アル
コキシから選ばれる基で置換された３−アミノチオフェ
ン類（化合物〔■ａ”〕）である。化合物ＣＩＸａ）は
本発明の一部を構成する。
化合物ＣＩＸ）は、対応するＮＯ３化合物を還元（たと
えば水素圧下、パラジウムを存在せしめて接触的水素化
）することにより得ることができる。２位または４位に
ＣＨ３基を有する化合物（ＩＸａ）は、対応するチオフ
ェン−カルボキシレートをナトリウムビス（メトキシエ
トキシ）アルミニウム水素化物のような水素化複合物で
還元することにより得ることができる。また化合物〔■
ａ〕は、対応するカルバミン酸エステル類（たとえばカ
ル／マミン出発物質として用いるカルバミン酸エステル
類は、たとえは対応する酸をそのアジド体に変換し、次
いてクルチウス反応を経由して処理すること番こより得
ることかできる。
えば水素圧下、パラジウムを存在せしめて接触的水素化
）することにより得ることができる。２位または４位に
ＣＨ３基を有する化合物（ＩＸａ）は、対応するチオフ
ェン−カルボキシレートをナトリウムビス（メトキシエ
トキシ）アルミニウム水素化物のような水素化複合物で
還元することにより得ることができる。また化合物〔■
ａ〕は、対応するカルバミン酸エステル類（たとえばカ
ル／マミン出発物質として用いるカルバミン酸エステル
類は、たとえは対応する酸をそのアジド体に変換し、次
いてクルチウス反応を経由して処理すること番こより得
ることかできる。
出発物質の製造に関して本明細書中に記載のない限り、
出発物質は公知であるか、または公知方法もしくは本明
細書に記載された操作あるＬｌは公知操作と類似の方法
に従って製造および精製することができる。
出発物質は公知であるか、または公知方法もしくは本明
細書に記載された操作あるＬｌは公知操作と類似の方法
に従って製造および精製することができる。
本発明化合物ＣＩ）は植物の生長を抑制または調整する
ので有用である。生長とは植物の種子の発芽、幼植物の
萌芽および地下部分を含む植物体の発育を意味する。
ので有用である。生長とは植物の種子の発芽、幼植物の
萌芽および地下部分を含む植物体の発育を意味する。
特に本発明化合物は除草剤として有用であって、うな単
子葉植物および双子葉植物に対する１、４〜５．６Ｋｐ
／ｈａの施用割合と等価の試験投与量で発芽前または発
芽後施用する試験による損害で示されるように除草剤と
して有用である。本発明化合物は、その除草効果に照ら
し、双子葉およびイネ科の雑草を抑制する使用法か指摘
され、これは更に代表的化合物を活性成分として０．２
〜５．ＯＫｐ／ｈａ（タトエば０．２．１．０オよＵ
５． Ｏ階／ｈａ ’）の施用割合と等価の試験量でＡ
ｍａｒａｎｔｈｕｓ ｒｅｔｒｏｆｌｅｘｕｓ。
子葉植物および双子葉植物に対する１、４〜５．６Ｋｐ
／ｈａの施用割合と等価の試験投与量で発芽前または発
芽後施用する試験による損害で示されるように除草剤と
して有用である。本発明化合物は、その除草効果に照ら
し、双子葉およびイネ科の雑草を抑制する使用法か指摘
され、これは更に代表的化合物を活性成分として０．２
〜５．ＯＫｐ／ｈａ（タトエば０．２．１．０オよＵ
５． Ｏ階／ｈａ ’）の施用割合と等価の試験量でＡ
ｍａｒａｎｔｈｕｓ ｒｅｔｒｏｆｌｅｘｕｓ。
よび特にＡｇｒｏｐｙｒｏｎ ｒｅｐｅｎｓ％Ａｇｒｏ
ｓｔｉｓ ａｌｈａ。
ｓｔｉｓ ａｌｈａ。
−―−−−嬬■−−−−−−−−自
−一−−Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ ｍｙｏｓｕ
ｒｏｉｄｅｓｌＡｐｅｒａ ５ｐｉｃａ −一一一一一
嗣一一■―−−―−−−−駒−■−−−−■−−−−−
−向−−−ｖｅｎｔｉ、 Ａｖｅｎａ ｆａｔｕａ、
Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｃｒｕｓ −―噛−−―――
−−−−−−−−
―■−−ｇａｌｌｉ、 Ｂｒｏｍｕｓ ｔｅｃｔｏｒｕ
ｍ、 Ｓｏｒｇｈｕｍ ｈａｌｅｐｅ −一一一一−−
−――−−■―−−−−−暉■■鯛−―■崗−−−−−
ｎ５ｅ−Ｄｉｇｉｔａｒｉａ ｓｐｐ、および５ｅｔａ
ｒｉａ ｓｐｐ。
−一−−Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ ｍｙｏｓｕ
ｒｏｉｄｅｓｌＡｐｅｒａ ５ｐｉｃａ −一一一一一
嗣一一■―−−―−−−−駒−■−−−−■−−−−−
−向−−−ｖｅｎｔｉ、 Ａｖｅｎａ ｆａｔｕａ、
Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｃｒｕｓ −―噛−−―――
−−−−−−−−
―■−−ｇａｌｌｉ、 Ｂｒｏｍｕｓ ｔｅｃｔｏｒｕ
ｍ、 Ｓｏｒｇｈｕｍ ｈａｌｅｐｅ −一一一一−−
−――−−■―−−−−−暉■■鯛−―■崗−−−−−
ｎ５ｅ−Ｄｉｇｉｔａｒｉａ ｓｐｐ、および５ｅｔａ
ｒｉａ ｓｐｐ。
−一一一―−―−−―−−−―−一 −自−−一一
一一のようなイネ科雑草に対して評価した結果により確
認される。追加試験により本発明化合物は好ましい土壌
中保持力を示す。
一一のようなイネ科雑草に対して評価した結果により確
認される。追加試験により本発明化合物は好ましい土壌
中保持力を示す。
本発明化合物は雑草に対してより農作物に対して毒性か
比較的少ない。本発明化合物の選択的除草活性は、就中
包含される化合物の種類および施用割合に依存し、就中
とうもろこし、大豆、棉、サトウダイコン、馬鈴薯、ア
ルファルファ、ヒマワリ、アブラナ、落花生または亜麻
において観察される。それ数本発明化合物は農作物の現
場における選択的除草剤としての使用法が指摘される。
比較的少ない。本発明化合物の選択的除草活性は、就中
包含される化合物の種類および施用割合に依存し、就中
とうもろこし、大豆、棉、サトウダイコン、馬鈴薯、ア
ルファルファ、ヒマワリ、アブラナ、落花生または亜麻
において観察される。それ数本発明化合物は農作物の現
場における選択的除草剤としての使用法が指摘される。
それ数本発明は、現場に化合物［、Ｉ）の除草有効量（
現場か農作物である選択的除草有効量）を施用すること
から成る現場、好ましくは農作物の現場、特に上記のよ
うな農作物の現場の雑草を抑制する方法をも提供するこ
とができる。本発明の特に好ましくかつ有利な実施態様
は、農作物の現場の雑草の選択的抑制における化合物Ｃ
Ｉ）の発芽前（農作物および雑草の双方の発芽前）使用
である。
現場か農作物である選択的除草有効量）を施用すること
から成る現場、好ましくは農作物の現場、特に上記のよ
うな農作物の現場の雑草を抑制する方法をも提供するこ
とができる。本発明の特に好ましくかつ有利な実施態様
は、農作物の現場の雑草の選択的抑制における化合物Ｃ
Ｉ）の発芽前（農作物および雑草の双方の発芽前）使用
である。
本発明化合物の一般除草剤および選択的除草剤としての
用途における所望の効果を得るための施用量は、選択的
用途に使用するならばその特定の農作物の種類、および
他の標準的変動条件（たとえは使用する化合物、使用方
法、処理条件など）に依存して変化する。適当な施用割
合は、この分野の技術者の日常的手続きにより決めるか
、または本発明化合物の活性と、たとえば温室試験で施
用割合が知られた標準的活性を比較することにより決め
ることができる。しかし一般に本発明化合物を約０．１
〜５ Ｋ９７ｈａ 、好ましくは約０．２〜４に９７ｈ
ａ、より好ましくは０．５〜３．０ Ｋｐ／ｈａの割合
で施用し、必要に応じてこの施用を繰返えす場合に、通
常満足な結果を得ることができる。農作物の現場に使用
する場合、使用割合は好ましくは３Ｋｐ／ｈａを越えな
いようにすべきである。
用途における所望の効果を得るための施用量は、選択的
用途に使用するならばその特定の農作物の種類、および
他の標準的変動条件（たとえは使用する化合物、使用方
法、処理条件など）に依存して変化する。適当な施用割
合は、この分野の技術者の日常的手続きにより決めるか
、または本発明化合物の活性と、たとえば温室試験で施
用割合が知られた標準的活性を比較することにより決め
ることができる。しかし一般に本発明化合物を約０．１
〜５ Ｋ９７ｈａ 、好ましくは約０．２〜４に９７ｈ
ａ、より好ましくは０．５〜３．０ Ｋｐ／ｈａの割合
で施用し、必要に応じてこの施用を繰返えす場合に、通
常満足な結果を得ることができる。農作物の現場に使用
する場合、使用割合は好ましくは３Ｋｐ／ｈａを越えな
いようにすべきである。
本発明化合物〔Ｉ〕は除草剤として許容される希釈剤と
組合わせ除草剤組成物とすることができ、かつかかる組
成物として使用するのが好ましい。
組合わせ除草剤組成物とすることができ、かつかかる組
成物として使用するのが好ましい。
適当な組成物製剤は、これに活性成分０，０１〜９９重
量％、除草剤として許容される界面活性剤０〜２０％お
よび′固体または液体希釈剤１〜９９．９９％を含有せ
しめる。界面活性剤の活性成分に対する比を高くするこ
とが時には好ましく、これは組成物中に配合するか、も
しくはタンク混合により達成される。施用型除草剤組成
物は一般に活性成分００１〜２５重量％を含有せしめる
。もちろん予定した用途および化合物の物理的性質に依
存して活性成分をより低い濃度またはより高い濃度で含
有せしめることかできる。施用前に希釈すべき濃厚型組
成物は一般に活性成分２〜９０重量％、好ましくは１０
〜８０重量％を含有せしめる。
量％、除草剤として許容される界面活性剤０〜２０％お
よび′固体または液体希釈剤１〜９９．９９％を含有せ
しめる。界面活性剤の活性成分に対する比を高くするこ
とが時には好ましく、これは組成物中に配合するか、も
しくはタンク混合により達成される。施用型除草剤組成
物は一般に活性成分００１〜２５重量％を含有せしめる
。もちろん予定した用途および化合物の物理的性質に依
存して活性成分をより低い濃度またはより高い濃度で含
有せしめることかできる。施用前に希釈すべき濃厚型組
成物は一般に活性成分２〜９０重量％、好ましくは１０
〜８０重量％を含有せしめる。
本発明化合物を含有する有用な組成物は、粉剤、顆粒剤
、ペレット、濃厚懸濁液、湿潤し得る粉剤、乳化し得る
濃厚物などを包含する。これらの組成物は、たとえば本
発明化合物と希釈剤を混和することにより常套の方法で
得ることができる。より特定的に、液体組成物は各成分
を混合し、微細固体組成物は混和（通常、破砕）し、懸
濁液は湿潤摩砕し、顆粒剤およびペレットは（あらかじ
め成形した）粒状担体に活性成分を飽充またはコーティ
ング処理するかもしくは凝集法により得ることかできる
。
、ペレット、濃厚懸濁液、湿潤し得る粉剤、乳化し得る
濃厚物などを包含する。これらの組成物は、たとえば本
発明化合物と希釈剤を混和することにより常套の方法で
得ることができる。より特定的に、液体組成物は各成分
を混合し、微細固体組成物は混和（通常、破砕）し、懸
濁液は湿潤摩砕し、顆粒剤およびペレットは（あらかじ
め成形した）粒状担体に活性成分を飽充またはコーティ
ング処理するかもしくは凝集法により得ることかできる
。
また本発明化合物は微小カプセル型で使用することもて
きる。
きる。
活性化合物の性能を改良し、また発泡、固化および腐食
を少なくするため、除草剤組成物中に除草剤として許容
される添加物を用いることかできる。
を少なくするため、除草剤組成物中に除草剤として許容
される添加物を用いることかできる。
本発明に使用する界面活性剤は、除草剤として許容され
、乳化性、拡散性、湿潤性、分散性または他の界面改良
性を付与する物質を意味する。界面活性剤としてリグニ
ンスルホン酸ナトリウム類およびラウリル硫酸エステル
塩類が例示される。
、乳化性、拡散性、湿潤性、分散性または他の界面改良
性を付与する物質を意味する。界面活性剤としてリグニ
ンスルホン酸ナトリウム類およびラウリル硫酸エステル
塩類が例示される。
前記のような希釈剤は、除草剤として許容される液体ま
たは固体物質であって、濃厚物質を使い易いかもしくは
所望の濃度に希釈するために使用する物質である。粉末
または粒剤のための希釈剤は、たとえばタルク、カオリ
ンまたは珪藻土、液体濃厚型のための希釈剤は、たとえ
ばキシレンのような炭化水素またはインプロパツールの
ようなアルコール類、液体施用型のための希釈剤は就中
、水またはデーゼル油であってよい。
たは固体物質であって、濃厚物質を使い易いかもしくは
所望の濃度に希釈するために使用する物質である。粉末
または粒剤のための希釈剤は、たとえばタルク、カオリ
ンまたは珪藻土、液体濃厚型のための希釈剤は、たとえ
ばキシレンのような炭化水素またはインプロパツールの
ようなアルコール類、液体施用型のための希釈剤は就中
、水またはデーゼル油であってよい。
また本発明の除草剤組成物は、これに生物活性を有する
他の化合物−たとえば同様のまたは補足的除草活性を有
する化合物、あるいは解毒活性（ａｎｔｉｄｏｔａｌ
）、殺菌活性もしくは殺虫活性を有する化合物を含有せ
しめることができる。
他の化合物−たとえば同様のまたは補足的除草活性を有
する化合物、あるいは解毒活性（ａｎｔｉｄｏｔａｌ
）、殺菌活性もしくは殺虫活性を有する化合物を含有せ
しめることができる。
本発明の除草剤組成物の製造法を次の実施例Ａ〜Ｃで説
明する。
明する。
実施例Ａ；湿潤し得る粉剤
化合物ＣＩｊ （たとえば後記化合物１に２５）２５部
を、微細合成シリカ２５部、ラウリル硫酸ナトリウム２
部、リグニンスルホン酸ナトリウム３部および微粉砕カ
オリン４５部と混合し、平均粒径か約５ミクロンとなる
まで粉砕する。得られた湿潤し得る粉剤は、これを施用
前に水で希釈して所望の濃度の噴霧用薬液を調製する。
を、微細合成シリカ２５部、ラウリル硫酸ナトリウム２
部、リグニンスルホン酸ナトリウム３部および微粉砕カ
オリン４５部と混合し、平均粒径か約５ミクロンとなる
まで粉砕する。得られた湿潤し得る粉剤は、これを施用
前に水で希釈して所望の濃度の噴霧用薬液を調製する。
実施例Ｂ：濃厚エマルジョン
化合物ｒＩ］ （たとえは後記化合物ＦｋＪ２５）２０
部、キシレン４０部、ジメチルホルムアミド３゜ｉ１オ
ヨヒ乳化剤１０ 部（たとえはＡＴＬＯＸ４８ｓｌＩ３
、アルキルアリールスルホン酸カルシウムとＡｔ１ａｓ
Ｃｈｅｍｉｅ ＧｍｂＨのポリエトキシ化トリクリセ
リドの混合物）を、均質な溶液となるまで完全に混合す
る。得られた濃厚エマルジョンは、これを施用前、水で
希釈する。
部、キシレン４０部、ジメチルホルムアミド３゜ｉ１オ
ヨヒ乳化剤１０ 部（たとえはＡＴＬＯＸ４８ｓｌＩ３
、アルキルアリールスルホン酸カルシウムとＡｔ１ａｓ
Ｃｈｅｍｉｅ ＧｍｂＨのポリエトキシ化トリクリセ
リドの混合物）を、均質な溶液となるまで完全に混合す
る。得られた濃厚エマルジョンは、これを施用前、水で
希釈する。
実施例Ｃ：顆粒剤
化合物〔■〕（たとえば後記化合物Ｎｎ２５ ）５１１
を塩化メチレン２５ｚに溶解する。溶液を粒状アタパル
ジャイト（メツシュサイズ： ２４／４８ （メツシュ
／インチ）９５時に加え、完全に混合する。この溶媒を
減圧下に蒸発させる。
を塩化メチレン２５ｚに溶解する。溶液を粒状アタパル
ジャイト（メツシュサイズ： ２４／４８ （メツシュ
／インチ）９５時に加え、完全に混合する。この溶媒を
減圧下に蒸発させる。
次に実施例をあげて本発明の好ましい化合物の製造法を
詳述する。実施例中、特に記載のない限り、圧力はトル
（Ｔｏｒｒ）、Ｒｆ値はシリカゲル上の結果である。
詳述する。実施例中、特に記載のない限り、圧力はトル
（Ｔｏｒｒ）、Ｒｆ値はシリカゲル上の結果である。
最終化合物
実施例Ｉ
Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）−Ｎ−（
１，３−ジオキソラン−２−イルメチル）−クロロアセ
トアミド（製造法（ａ）） Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）−Ｎ−（
１，３−ジオキソラン−２−イルメチル）ヒドロキシア
セトアミド１．７ｇ（０，００６３モル）、ヘンシルト
リエチルアンモニウムクロリド５８〜、トルエン７ ｍ
ｅおよび３０％水酸化ナトリウム７ ｍｅの混合物をよ
く攪拌しながら、これにＰ −トルエンスルホニルクロ
リド１．３１ノ（０，００６９モ）△ とトルエン３．５ｍｅの混合物を、冷やすことなく流加
する。発熱反応が静まった後、雰囲気温度で更に２０時
間攪拌を続ける。
１，３−ジオキソラン−２−イルメチル）−クロロアセ
トアミド（製造法（ａ）） Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）−Ｎ−（
１，３−ジオキソラン−２−イルメチル）ヒドロキシア
セトアミド１．７ｇ（０，００６３モル）、ヘンシルト
リエチルアンモニウムクロリド５８〜、トルエン７ ｍ
ｅおよび３０％水酸化ナトリウム７ ｍｅの混合物をよ
く攪拌しながら、これにＰ −トルエンスルホニルクロ
リド１．３１ノ（０，００６９モ）△ とトルエン３．５ｍｅの混合物を、冷やすことなく流加
する。発熱反応が静まった後、雰囲気温度で更に２０時
間攪拌を続ける。
トルエン層を分離して水洗し、無水硫酸すＩ−ＩＪウム
上で乾燥する。
上で乾燥する。
溶媒を回転蒸発器で蒸発させて残留する粗残留物をジエ
チルエーテルから再結晶し、Ｎ−（２，４＝ジメチル−
チェニー３−イル）−Ｎ−（１，３−ジオキソラン−２
−イルメチル）トシルオキシアセトアミド（トシレート
体）を得る。融点１０１〜１０３°Ｃ０ 上記トシレート体２．１６ｙ（０，００５１モル）、テ
トラブチルアンモニウムクロリド１．８４ｙ（０，００
６６モル）、水１３ ｍｅおよびトルエン１６ ｍｅの
混合物を攪拌しながら９０℃で６時間に渡って加熱する
。次いでトルエン層を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥し
、減圧下に蒸発させる。
チルエーテルから再結晶し、Ｎ−（２，４＝ジメチル−
チェニー３−イル）−Ｎ−（１，３−ジオキソラン−２
−イルメチル）トシルオキシアセトアミド（トシレート
体）を得る。融点１０１〜１０３°Ｃ０ 上記トシレート体２．１６ｙ（０，００５１モル）、テ
トラブチルアンモニウムクロリド１．８４ｙ（０，００
６６モル）、水１３ ｍｅおよびトルエン１６ ｍｅの
混合物を攪拌しながら９０℃で６時間に渡って加熱する
。次いでトルエン層を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥し
、減圧下に蒸発させる。
残渣をシリカゲルカラム上、クロマトグラフィーに付す
。ヘキサン−酢酸エチル（２：１）で溶離し、結晶純品
として標記化合物を得た。融点７６〜７８°Ｃ０ 実施例２ Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）−Ｎ−メ
トキシエチル−クロロアセトアミド（製造法（ａ） Ｎ−（２，４−ジメチルチェニー３−イル）Ｎ−メトキ
シエチル−ヒドロキシアセトアミド２．０ｙ（０，００
８モル）および４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ
）０．９２ ｆ （０，００８モル）の乾燥塩化メチレ
ン８０１１ｅ溶液を攪拌しながら、これに塩化メシル０
．９３ｙ（０，００８モル）と乾燥塩化メチレン２０−
の混合物を、冷却することなく添加する。
。ヘキサン−酢酸エチル（２：１）で溶離し、結晶純品
として標記化合物を得た。融点７６〜７８°Ｃ０ 実施例２ Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）−Ｎ−メ
トキシエチル−クロロアセトアミド（製造法（ａ） Ｎ−（２，４−ジメチルチェニー３−イル）Ｎ−メトキ
シエチル−ヒドロキシアセトアミド２．０ｙ（０，００
８モル）および４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ
）０．９２ ｆ （０，００８モル）の乾燥塩化メチレ
ン８０１１ｅ溶液を攪拌しながら、これに塩化メシル０
．９３ｙ（０，００８モル）と乾燥塩化メチレン２０−
の混合物を、冷却することなく添加する。
生成したＤＭＡＰ塩酸塩および出発物質のメタンスルホ
ン酸塩含有混合物を２５時間加熱還流し、減圧下に蒸発
させる。
ン酸塩含有混合物を２５時間加熱還流し、減圧下に蒸発
させる。
残留油状物をシリカゲル上、カラムクロマトグラフィー
（ジエチルエーテルで溶離）に付し、−２０°Ｃで冷却
して固化させる。融点５４〜５５℃。
（ジエチルエーテルで溶離）に付し、−２０°Ｃで冷却
して固化させる。融点５４〜５５℃。
実施例３
Ｎ−（クロロアセチル）−Ｎ−（２−カルボメトキシ−
４−メチル−チェニー３−イル）アラニン・エチルエス
テル（製造法（ｂ）） 水素化ナトリウム（鉱油中、８０％分散液）１．５ ｙ
（０，０５モル）と乾燥ジメトキシエタン（１） Ｍ
Ｅ ）２５０ ｄの懸濁液をよく攪拌しなから、これ
に固体Ｎ−（２−カルボメトキシ−４−メチル−チェニ
ー３−イル）クロロアセトアミド９．９ｙ（０，０４モ
ル）を少量っつ添加する。
４−メチル−チェニー３−イル）アラニン・エチルエス
テル（製造法（ｂ）） 水素化ナトリウム（鉱油中、８０％分散液）１．５ ｙ
（０，０５モル）と乾燥ジメトキシエタン（１） Ｍ
Ｅ ）２５０ ｄの懸濁液をよく攪拌しなから、これ
に固体Ｎ−（２−カルボメトキシ−４−メチル−チェニ
ー３−イル）クロロアセトアミド９．９ｙ（０，０４モ
ル）を少量っつ添加する。
添加終了後、生成したナトＩＪウム塩溶液を５０°Ｃて
更に１時間攪拌した後、室温に達するのを許容し、２−
ブロモプロピオン酸エチル７．２５ｐ（００４モル）の
乾燥ＤＭＥ５Ｑ、ｅ溶液で処理する。
更に１時間攪拌した後、室温に達するのを許容し、２−
ブロモプロピオン酸エチル７．２５ｐ（００４モル）の
乾燥ＤＭＥ５Ｑ、ｅ溶液で処理する。
５０°Ｃで４時間反応させた後、混合物を沖過し、減圧
（５０℃／ ０．０１ ’ｒｏｒｒ ）下に蒸発させる
。残留褐色油状物をシリカゲル上、クロマトグラフィー
（ジエチルエーテル−ヘキサン（２：１）で溶離）に付
した後、球管蒸留して標記化合物の純品を得た。沸点１
３５℃／ Ｏ，ＯＯ５Ｔｏｒｒ ０実施例４ Ｎ−（ＩＨ−ピラゾル−１−イルメチル）Ｎ−（２，４
−’）メチル−チェニー３−イル）クロロアセトアミド
（製造法（ｂ）） Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）クロロア
セトアミド１９．３５ｙ（０，０９５モル）、ベンジル
ジメチルヘキサデシル−アンモニウムクロリド４．１５
Ｆ（０，０１モル）、水酸化ナトリウム４０ｆ（１モル
）、塩化メチレン２ｏｏ＃ｌ／および水４０−の混合物
を攪拌しながらこれに、固体１−クロロメチルピラゾー
ル塩酸塩１７ ｙ （０，１１モル）を、２５℃以上に
昇温しないような速度で添加する。
（５０℃／ ０．０１ ’ｒｏｒｒ ）下に蒸発させる
。残留褐色油状物をシリカゲル上、クロマトグラフィー
（ジエチルエーテル−ヘキサン（２：１）で溶離）に付
した後、球管蒸留して標記化合物の純品を得た。沸点１
３５℃／ Ｏ，ＯＯ５Ｔｏｒｒ ０実施例４ Ｎ−（ＩＨ−ピラゾル−１−イルメチル）Ｎ−（２，４
−’）メチル−チェニー３−イル）クロロアセトアミド
（製造法（ｂ）） Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）クロロア
セトアミド１９．３５ｙ（０，０９５モル）、ベンジル
ジメチルヘキサデシル−アンモニウムクロリド４．１５
Ｆ（０，０１モル）、水酸化ナトリウム４０ｆ（１モル
）、塩化メチレン２ｏｏ＃ｌ／および水４０−の混合物
を攪拌しながらこれに、固体１−クロロメチルピラゾー
ル塩酸塩１７ ｙ （０，１１モル）を、２５℃以上に
昇温しないような速度で添加する。
添加終了後、混合物を雰囲気温度で更に２．５時間攪拌
する。次いで水１０ｏｌｌｌを加え、有機層を分離して
これを水洗（２００，ｔｘａ回）し、硫酸す） ＩＪウ
ムで乾燥して蒸発乾個する。残渣をシリカゲル力うム上
、クロマトクラフィ一番こ付す。ヘキサン−ジエチルエ
ーテル（１：１）で溶離し、シロップ状純品として得ら
れた標記化合物を一夜−２０℃で冷却して結晶化する。
する。次いで水１０ｏｌｌｌを加え、有機層を分離して
これを水洗（２００，ｔｘａ回）し、硫酸す） ＩＪウ
ムで乾燥して蒸発乾個する。残渣をシリカゲル力うム上
、クロマトクラフィ一番こ付す。ヘキサン−ジエチルエ
ーテル（１：１）で溶離し、シロップ状純品として得ら
れた標記化合物を一夜−２０℃で冷却して結晶化する。
ジエチルエーテルから再結晶後の融点８８〜８９°Ｃ０
実施例５ Ｎ−（クロロアセチル）−Ｎ−（３，５−ジメチル−イ
ソオキサゾルー４−イル）アラニン・エチルエステル（
製造法（ｂ）） 水素化ナトリウム塩ウム中、８０％分散液）１．８９
（０，０６モル）と乾燥アセトニトリル（Ｃ１４３ＣＮ
）２５ ｍｌの懸濁液をよく攪拌しながらこれに、Ｎ
−（３，５−ジメチル−イソオキサゾル−４−イル）ク
ロロアセトアミド９．４ ｙ （０，０５モル）と乾燥
アセトニトリル１５０ ｍｅ混合物を滴加する。
実施例５ Ｎ−（クロロアセチル）−Ｎ−（３，５−ジメチル−イ
ソオキサゾルー４−イル）アラニン・エチルエステル（
製造法（ｂ）） 水素化ナトリウム塩ウム中、８０％分散液）１．８９
（０，０６モル）と乾燥アセトニトリル（Ｃ１４３ＣＮ
）２５ ｍｌの懸濁液をよく攪拌しながらこれに、Ｎ
−（３，５−ジメチル−イソオキサゾル−４−イル）ク
ロロアセトアミド９．４ ｙ （０，０５モル）と乾燥
アセトニトリル１５０ ｍｅ混合物を滴加する。
発熱反応（３４℃）か静まった後、ナトリウム塩の溶液
が宇高となるのを許容し、次Ｇ）で２−ブロモプロピオ
ン酸エチル９．０５ｙ（０，０５モル）の乾燥アセトニ
？ ＩＪル２５ ｍｅ温溶液処理する。
が宇高となるのを許容し、次Ｇ）で２−ブロモプロピオ
ン酸エチル９．０５ｙ（０，０５モル）の乾燥アセトニ
？ ＩＪル２５ ｍｅ温溶液処理する。
添加処理終了後、混合物を５０℃で３時間加熱し、蒸発
乾個する。残渣をジエチルエーテルＩｌｅに溶解し、濾
過する。ｒ液を蒸発させて得られた残留油状物をシリカ
ゲルカラム上、クロマトグラフィーに付し、ジエチルエ
ーテル−ヘキサン（１：１）で溶離して標記化合物を得
た。融点４９〜５０℃。
乾個する。残渣をジエチルエーテルＩｌｅに溶解し、濾
過する。ｒ液を蒸発させて得られた残留油状物をシリカ
ゲルカラム上、クロマトグラフィーに付し、ジエチルエ
ーテル−ヘキサン（１：１）で溶離して標記化合物を得
た。融点４９〜５０℃。
実施例６
Ｎ−（１−（１）（−ピラゾル−１−イル）エチル］−
Ｎ−（２．４−ジメチル−チェニー３−イル）クロロア
セトアミド（ ｕｉ法（Ｃ） ）２、４−ジメチル−３
−アミノチオフェン１２．７ｙ（０．１モル）の乾燥ベ
ンゼン１００ｄ溶液（分子篩（３λ）１６ｙと濃硫酸２
滴含有）を攪拌しながらこれに、アセトアルデヒド８，
５．／（０．１５モル）を、２５℃以上に昇温しないよ
うに注意しながら滴加する。
Ｎ−（２．４−ジメチル−チェニー３−イル）クロロア
セトアミド（ ｕｉ法（Ｃ） ）２、４−ジメチル−３
−アミノチオフェン１２．７ｙ（０．１モル）の乾燥ベ
ンゼン１００ｄ溶液（分子篩（３λ）１６ｙと濃硫酸２
滴含有）を攪拌しながらこれに、アセトアルデヒド８，
５．／（０．１５モル）を、２５℃以上に昇温しないよ
うに注意しながら滴加する。
アセトアルデヒド全量を滴加し終ったとき、混合物を雰
囲気温度でより長時間（２４時間）攪拌した後、濾過す
る。溶媒を除き、明褐色液体として残留するシッフ塩基
を得る。
囲気温度でより長時間（２４時間）攪拌した後、濾過す
る。溶媒を除き、明褐色液体として残留するシッフ塩基
を得る。
この物質１３ｙ（０．０８５モル）の乾燥トルエン７
５ ｍｅ温溶液攪拌しなからこれに、クロロアセチルク
ロリド９．７ｙ（０．０８６モル）を−３０℃でン商加
する。
５ ｍｅ温溶液攪拌しなからこれに、クロロアセチルク
ロリド９．７ｙ（０．０８６モル）を−３０℃でン商加
する。
流加終了後、この溶液を一３０’Ｃて更に３０分間攪拌
し、１−トリメチルシリルピラゾール１２ｙ（００８５
モル）を同し温度で流加処理する。
し、１−トリメチルシリルピラゾール１２ｙ（００８５
モル）を同し温度で流加処理する。
流加後、ドライアイス／アセトン浴を除き、混合物を雰
囲気温度に暖まるのを許容し、更に２０時間攪拌する。
囲気温度に暖まるのを許容し、更に２０時間攪拌する。
反応混合物を濾過し、減圧下に蒸発させる。シロップ状
残留物をシリカゲルカラム上、クロマトクラフィーに付
してヘキサン／ジエチルエーテル（３：２）で溶離し、
標記化合物の無色結晶を得た。ジエチルエーテルから再
結晶後の融点７６〜７８°Ｃ０ 実施例７ Ｎ−（４−メトキシ−２−メチル−チェニー３−イル）
−Ｎ−（２−エトキシエチル）クロロアセトアミド（製
造法（ｄ）） Ｎ−（２−エトキシエチル）−４−メトキシ−２−メチ
ルチオフェン−３−アミン６、０５Ｓ’（０、０３モル
）、炭酸カリウム４．１５ｙ（０．ｏ３モル）、水１０
ｙおよび塩化メチレン１ ０ ０ Ｍｅの混合物をよく
攪拌しながらこれに、クロロアセチルクロリド３．４
ｙ （ ０．０ ３モル）の塩化メチレン１０ｍｅ溶液
を、冷却することなく滴加する。発熱（２７℃）反応か
静まった後、雰囲気温度で更に１時間攪拌を続ける。
残留物をシリカゲルカラム上、クロマトクラフィーに付
してヘキサン／ジエチルエーテル（３：２）で溶離し、
標記化合物の無色結晶を得た。ジエチルエーテルから再
結晶後の融点７６〜７８°Ｃ０ 実施例７ Ｎ−（４−メトキシ−２−メチル−チェニー３−イル）
−Ｎ−（２−エトキシエチル）クロロアセトアミド（製
造法（ｄ）） Ｎ−（２−エトキシエチル）−４−メトキシ−２−メチ
ルチオフェン−３−アミン６、０５Ｓ’（０、０３モル
）、炭酸カリウム４．１５ｙ（０．ｏ３モル）、水１０
ｙおよび塩化メチレン１ ０ ０ Ｍｅの混合物をよく
攪拌しながらこれに、クロロアセチルクロリド３．４
ｙ （ ０．０ ３モル）の塩化メチレン１０ｍｅ溶液
を、冷却することなく滴加する。発熱（２７℃）反応か
静まった後、雰囲気温度で更に１時間攪拌を続ける。
塩化メチレン層を分離して水洗（１００，／Ｘ２回）し
、硫酸す） ＩＪウムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。
、硫酸す） ＩＪウムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。
残留物そのままの物質は標記化合物の純品である。Ｒｆ
値＝０．２３（ヘキサン−ジエチルエーテル（１：２）
）。この物質少撒を球管蒸留に付す。沸点１６８〜１７
０℃／ ０． ０ ５ ’［ｏｒｒ ０実施例１〜７の
いずれか１法ないしそれ以上の操作に従って次記表Ａに
示す化合物〔■〕を得た（表中− Ｍｅはメチル、Ｅ【
はエチルを表わす。）。
値＝０．２３（ヘキサン−ジエチルエーテル（１：２）
）。この物質少撒を球管蒸留に付す。沸点１６８〜１７
０℃／ ０． ０ ５ ’［ｏｒｒ ０実施例１〜７の
いずれか１法ないしそれ以上の操作に従って次記表Ａに
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電標 番 寸 ト り ０ ト の トー一ａつ １１ ＄ Σ ζ ぺ 〉 ′、き ■ ！デ ト ■ ■ロ −へ の 寸 りＣト の の の［Ｆ］ ＷＱ ＣＤ ［Ｆ］ Ｃｏ ｗ
’０Ｃｏ Ｃ＋０ｐ−＋Ｃ’Ｊ ｅｎｗ １１
’）＋４）ｈ ＋Ｅ Ｃ）［Ｆ］ Ｃｔ＋−トド
トド トトト ト ト０？−１へ の ｃｏｃｏ■ ■ ゞ ００ゝ “ ０１０（
Ｘ） ００（Ｘ）００ Ｇｏ ■
０”’ ｏ＋ αＣＬ
−−。
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Ｄ′ｊ ρ 日 日
Ｓ＋ｌ ρ
０ ■
中間体の製造
実施例８
３．５−ジメチル−４−アミノチオフェン−２−カルボ
ン酸メチル ３．５−ジメチル−４−二トロチオフエン−２−カルボ
ン酸メチル４５．２ｙ（０，２１モル）のメタノール１
０００ ｍｅ温溶液、パラジウム４．５ｇ（炭素上１０
％）の存在下に１０パールで２時間水素化する。
ン酸メチル ３．５−ジメチル−４−二トロチオフエン−２−カルボ
ン酸メチル４５．２ｙ（０，２１モル）のメタノール１
０００ ｍｅ温溶液、パラジウム４．５ｇ（炭素上１０
％）の存在下に１０パールで２時間水素化する。
還元反応終了時点で混合物をｒ過し、触媒をメタノール
で洗い、ｐ液を蒸発乾個する。
で洗い、ｐ液を蒸発乾個する。
結晶性残渣をジエチルエーテルで処理して標記化合物の
純品を得た。融点８８〜８９°Ｃ８実施例９ ２．４−ジメチル−３−アミノチオフェン水素化アルミ
ニウムビス（２−メトキシエトキシ）ナトリウム（トル
エン中７０％ｍ液’） ８９０アｅ（３モル）と乾燥ト
ルエン５ Ｑ Ｑ ｍｅに、３−アミノ−４−メチルチ
オフェン−２−カルボン酸メチル１００ｙ（０，５８モ
ル）の乾燥トルエン７００ｍｅ溶液を、強く攪拌しなか
ら５５°Ｃ以上に昇温しないような速度で流加する。
純品を得た。融点８８〜８９°Ｃ８実施例９ ２．４−ジメチル−３−アミノチオフェン水素化アルミ
ニウムビス（２−メトキシエトキシ）ナトリウム（トル
エン中７０％ｍ液’） ８９０アｅ（３モル）と乾燥ト
ルエン５ Ｑ Ｑ ｍｅに、３−アミノ−４−メチルチ
オフェン−２−カルボン酸メチル１００ｙ（０，５８モ
ル）の乾燥トルエン７００ｍｅ溶液を、強く攪拌しなか
ら５５°Ｃ以上に昇温しないような速度で流加する。
流加終了後、更に３０分間攪拌を続け、混合物を少量づ
つＱ ’Ｃで２０％水酸化す） ＩＩウム１２００ｍｅ
に加える。
つＱ ’Ｃで２０％水酸化す） ＩＩウム１２００ｍｅ
に加える。
トルエン層を分離して硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下に蒸発させる。褐色液体残留物を減圧下に蒸留し、標
記化合物純品を得た。沸点４９〜５２”Ｃ１０，０１Ｔ
ｏｒｒ０ 実施例１０ ４−メトキシ−２−メチル−３−アミノチオフェン Ｎ−（４−メトキシ−２−メチルチェニー３−イル）カ
ルバミン酸ベンジル５５．４９ （０，２モル）、水酸
化カリウム４０ｙ（０，７モル）、エタノール６００
Ｍｅおよび水１２０ｄの混合物をよく攪拌し、これを２
時間加熱還流する。得られた溶液を減圧下に蒸発させ、
残留物を水５００．／で希釈する。分離した明黄色油状
物をジエチルエーテル４００ ｍｅに吸収させ、水層を
エーテル４００ ｔｈｅで１回抽出する。
下に蒸発させる。褐色液体残留物を減圧下に蒸留し、標
記化合物純品を得た。沸点４９〜５２”Ｃ１０，０１Ｔ
ｏｒｒ０ 実施例１０ ４−メトキシ−２−メチル−３−アミノチオフェン Ｎ−（４−メトキシ−２−メチルチェニー３−イル）カ
ルバミン酸ベンジル５５．４９ （０，２モル）、水酸
化カリウム４０ｙ（０，７モル）、エタノール６００
Ｍｅおよび水１２０ｄの混合物をよく攪拌し、これを２
時間加熱還流する。得られた溶液を減圧下に蒸発させ、
残留物を水５００．／で希釈する。分離した明黄色油状
物をジエチルエーテル４００ ｍｅに吸収させ、水層を
エーテル４００ ｔｈｅで１回抽出する。
エーテル性溶液を合して硫酸ナトリウムで乾燥し、Ｅ過
する。濁液が１０℃以上に昇温しないように水浴で断続
的に注意して冷やしなから該濁液に乾燥塩化水素流を３
０分間に渡ってゆっくり通す。
する。濁液が１０℃以上に昇温しないように水浴で断続
的に注意して冷やしなから該濁液に乾燥塩化水素流を３
０分間に渡ってゆっくり通す。
沈澱として標記化合物の塩酸塩を得た。融点２３０°Ｃ
（遊離塩基の融点６１〜６３°Ｃ）。
（遊離塩基の融点６１〜６３°Ｃ）。
実施例１１
２−メチルチオ−４〜メチル−３−アミノチオフェン
２−メチルチオ−４−メチル−３−ニトロチオフェン１
８．９ ｙ （０，１モル）の湿ったジエチルエーテル
２００ ｍｅ溶液に、新しく製造したアルミニウムアマ
ルガム６ｙ（０，２２グラム原子）を約２分間に渡って
加える。このフラスコを氷で冷やすことにより５〜１０
分後に起こる強い反応を制御下に保持する。
８．９ ｙ （０，１モル）の湿ったジエチルエーテル
２００ ｍｅ溶液に、新しく製造したアルミニウムアマ
ルガム６ｙ（０，２２グラム原子）を約２分間に渡って
加える。このフラスコを氷で冷やすことにより５〜１０
分後に起こる強い反応を制御下に保持する。
４５分後、発熱反応が静まりアルミニウム全量か反応し
終ったとき、アルミニウムアマルガムを更に６ｙを加え
る。
終ったとき、アルミニウムアマルガムを更に６ｙを加え
る。
次いで混合物を２時間おだやかに還流する（この間にチ
オフェンアミンの生成が完結する。）。
オフェンアミンの生成が完結する。）。
有機層を傾瀉して残留物をジエチルエーテルで（５Ｑ
ｍｅ Ｘ ２回）洗う、。エーテル溶液を合して硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。残留粗生成
物を減圧下に蒸留して沸点７９〜８１℃／ ０．５ Ｔ
ｏｒｒの標記化合物を得た。
ｍｅ Ｘ ２回）洗う、。エーテル溶液を合して硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。残留粗生成
物を減圧下に蒸留して沸点７９〜８１℃／ ０．５ Ｔ
ｏｒｒの標記化合物を得た。
実施例１２
実施例８〜１１のうちの１法またはそれ以上の方法で処
理し、下記化合物ＣＩＸ）を得た。
理し、下記化合物ＣＩＸ）を得た。
（例１２．１ ）１．３−ジーＣＨ３−５−ＯＣ２Ｈ５
−４ＮＨ２−ピラゾール、Ｒｆ＝Ｑ、２８（テトラヒド
ロフラン：ヘキサン（９：１））、 （例１２．２ ） ３．５−ジーＣＨ３−４−ＮＯ３−
インチアゾール、融点８２〜８４℃、 （例１２．３ ）４−Ｃ２Ｈ５−２−ＣＨ３−３−アミ
ノ＋、ｔ−７エン、 Ｒｆ二０．２５（ジエチルエーテ
ル：ヘキサン（２：１））、 （例１２．４）４−ｎ−ブトキシ−２−メチル−３−ア
ミノチオフェン、融点２５℃、Ｒｆ＝０．２５（ジエチ
ルエーテル／ヘキサン（２：１））、（例１２．５ ）
５− Ｃ２１−１５０−３−ＣＨａ −４−ＮＯ３−ピ
ラゾール、融点８１〜８３°Ｃ１ （例１２．６）３．５−ジーＣ２１１５−１−ＣＨ３−
４−Ｎ１１２−ピラゾール、沸点６８〜７０℃１０．０
０１１’ｏｒｒ− （例１２．７）３．５−ジーＣ２１１５−４−Ｎ１１２
−インオキサソール、 Ｒｆ二０．３９ （ジエチルエ
ーテル）、（例１２．８ ） （３−ＮＯ３−４−Ｍｅ
−チェニー ２−イル）エタノン、融点８０〜８１°Ｃ
１（例１２．９ ）（３−ＮＨ３−４−Ｅｔ−チェニー
２−イル）エタノン、融点６８°Ｃ１ （例１２．１０）（３−ＮＯ３−４，５−ジーＭｅ−チ
ェニー２−イル）エタ／７、融点１２０−１２３°Ｃ１
（例１２１１ ） ２ Ｅｔ ４ Ｍｅ ３
Ｎ８２ ％オフエン、沸点７４〜７６°Ｃ／ ０
．０１ ’ｆｏｒｒ、（例１２．１２）２．４−ジーＥ
ｔ ３ ＮＯ３−チオフェン、Ｒｆ＝０．２４＋塩
化メチレン）、ｎ２〇−− １、５５１１、 （例１２．１３）２−Ｅｌ −４，５−ジーＭｅ ３
’Ｎｉ１２−チオフェン、ｎ２０＝ １．５５８１
、実施例１３ Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）アセトキ
シアセトアミド ２．４−ジメチル−３−アミノチオフェン１２．７２（
０，１モル）、炭酸カリウム１３．８ ｙ （０，１モ
ル）、水２０ ｍｅおよび塩化メチレン１５０−に、ア
セトキシアセチルクロリド１５ｆ（０，１１モル）を、
雰囲気温度で流加する。
−４ＮＨ２−ピラゾール、Ｒｆ＝Ｑ、２８（テトラヒド
ロフラン：ヘキサン（９：１））、 （例１２．２ ） ３．５−ジーＣＨ３−４−ＮＯ３−
インチアゾール、融点８２〜８４℃、 （例１２．３ ）４−Ｃ２Ｈ５−２−ＣＨ３−３−アミ
ノ＋、ｔ−７エン、 Ｒｆ二０．２５（ジエチルエーテ
ル：ヘキサン（２：１））、 （例１２．４）４−ｎ−ブトキシ−２−メチル−３−ア
ミノチオフェン、融点２５℃、Ｒｆ＝０．２５（ジエチ
ルエーテル／ヘキサン（２：１））、（例１２．５ ）
５− Ｃ２１−１５０−３−ＣＨａ −４−ＮＯ３−ピ
ラゾール、融点８１〜８３°Ｃ１ （例１２．６）３．５−ジーＣ２１１５−１−ＣＨ３−
４−Ｎ１１２−ピラゾール、沸点６８〜７０℃１０．０
０１１’ｏｒｒ− （例１２．７）３．５−ジーＣ２１１５−４−Ｎ１１２
−インオキサソール、 Ｒｆ二０．３９ （ジエチルエ
ーテル）、（例１２．８ ） （３−ＮＯ３−４−Ｍｅ
−チェニー ２−イル）エタノン、融点８０〜８１°Ｃ
１（例１２．９ ）（３−ＮＨ３−４−Ｅｔ−チェニー
２−イル）エタノン、融点６８°Ｃ１ （例１２．１０）（３−ＮＯ３−４，５−ジーＭｅ−チ
ェニー２−イル）エタ／７、融点１２０−１２３°Ｃ１
（例１２１１ ） ２ Ｅｔ ４ Ｍｅ ３
Ｎ８２ ％オフエン、沸点７４〜７６°Ｃ／ ０
．０１ ’ｆｏｒｒ、（例１２．１２）２．４−ジーＥ
ｔ ３ ＮＯ３−チオフェン、Ｒｆ＝０．２４＋塩
化メチレン）、ｎ２〇−− １、５５１１、 （例１２．１３）２−Ｅｌ −４，５−ジーＭｅ ３
’Ｎｉ１２−チオフェン、ｎ２０＝ １．５５８１
、実施例１３ Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）アセトキ
シアセトアミド ２．４−ジメチル−３−アミノチオフェン１２．７２（
０，１モル）、炭酸カリウム１３．８ ｙ （０，１モ
ル）、水２０ ｍｅおよび塩化メチレン１５０−に、ア
セトキシアセチルクロリド１５ｆ（０，１１モル）を、
雰囲気温度で流加する。
発熱反応が静まった後、更に１時間攪拌を続ける。有機
層を蒸発させて水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に蒸発させる。固体残渣をヘキサンで処理して標記
化合物の純品を得た。融点１１０〜１１２℃。
層を蒸発させて水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に蒸発させる。固体残渣をヘキサンで処理して標記
化合物の純品を得た。融点１１０〜１１２℃。
実施例１４
Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）ヒドロキ
シアセトアミド Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）アセトキ
シアセトアミド１５．９ｙ（０，０７モル）のメタノー
ル３００ ｍｌ溶液を攪拌してこれに、おだやかなアン
モニアガス気流を３０分間通して発泡させる。
シアセトアミド Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）アセトキ
シアセトアミド１５．９ｙ（０，０７モル）のメタノー
ル３００ ｍｌ溶液を攪拌してこれに、おだやかなアン
モニアガス気流を３０分間通して発泡させる。
発熱（４０°Ｃ）反応（冷水で断続的に冷やして和らけ
る。）か静まった後、史に３０分間攪拌を続け、反応溶
液を蒸発乾個する。固体生成物を酢酸エチルから再結晶
し、無色結晶として標記化合物純品を得た。融点８５〜
８７℃。
る。）か静まった後、史に３０分間攪拌を続け、反応溶
液を蒸発乾個する。固体生成物を酢酸エチルから再結晶
し、無色結晶として標記化合物純品を得た。融点８５〜
８７℃。
実施例１５
Ｎ−（２−エトキシエチル）−４−メトキシ−２−メチ
ルチオフェン−３−アミン 水素化アルミニウムビス（２−メトキシエトキシ）ナト
リウム（トルエン中７０％溶液）７０ ｍｅ（０，２４
５モル）と乾燥トルエン３０．／に、Ｎ−（４−メトキ
シ−２−メチル−チェニー３−イル）エトキシアセトア
ミド９．４ｙ（０，０４１モル）の乾燥トルエン１２５
ｍｌ溶液を、攪拌しながら流加する。発熱反応が静ま
った後、更に９０分間攪拌を続け、この溶液を少量つつ
２０％水酸化カリウム１００ ｍｅに注意しなから一１
０°Ｃで添加する。
ルチオフェン−３−アミン 水素化アルミニウムビス（２−メトキシエトキシ）ナト
リウム（トルエン中７０％溶液）７０ ｍｅ（０，２４
５モル）と乾燥トルエン３０．／に、Ｎ−（４−メトキ
シ−２−メチル−チェニー３−イル）エトキシアセトア
ミド９．４ｙ（０，０４１モル）の乾燥トルエン１２５
ｍｌ溶液を、攪拌しながら流加する。発熱反応が静ま
った後、更に９０分間攪拌を続け、この溶液を少量つつ
２０％水酸化カリウム１００ ｍｅに注意しなから一１
０°Ｃで添加する。
トルエン層を分離し、水層をトルエンで（１０〇−×２
回）抽出する。トルエン溶液を合して硫酸す） ＩＪウ
ムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。明褐色液体残留物と
して生成物純品を得た。Ｒｆ＝０．３２（ヘキサン−ジ
エチルエーテル（１：２））。
回）抽出する。トルエン溶液を合して硫酸す） ＩＪウ
ムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。明褐色液体残留物と
して生成物純品を得た。Ｒｆ＝０．３２（ヘキサン−ジ
エチルエーテル（１：２））。
実施例１６
Ｎ−〔（メトキシメチル）エチル〕−２，４−ジメチル
−チオフェン−３−アミン ２．４−ジメチル−３−アミノ−チオフェン６．４ｙ（
０，０５モル）とメトキシアセトンｓ、３ｒ（０，０６
モル）の乾燥トルエン１ｏ Ｏ、／溶液を、理論量の水
が水トラツプ中に分離されるまで（２，５時間）煮沸還
流する。トルエン溶液が雰囲気温度に冷えるのを許容し
、減圧蒸発させる。残留シッフ塩基は次工程用としてそ
のままで充分の純度である。
−チオフェン−３−アミン ２．４−ジメチル−３−アミノ−チオフェン６．４ｙ（
０，０５モル）とメトキシアセトンｓ、３ｒ（０，０６
モル）の乾燥トルエン１ｏ Ｏ、／溶液を、理論量の水
が水トラツプ中に分離されるまで（２，５時間）煮沸還
流する。トルエン溶液が雰囲気温度に冷えるのを許容し
、減圧蒸発させる。残留シッフ塩基は次工程用としてそ
のままで充分の純度である。
この物質９．２ｒ（０，０４８モル）を乾燥トルエン１
００ＩＩＩｅに溶解し、これを水素化アルミニウムビス
（２−メトキシエトキシ）ナトリウム（トルエン中７０
％溶液）２８Ｔｎ！（０，０９８，ｅ）の乾燥トルエン
１５ｄ溶液（よく攪拌）に、冷却することなく添加する
。
００ＩＩＩｅに溶解し、これを水素化アルミニウムビス
（２−メトキシエトキシ）ナトリウム（トルエン中７０
％溶液）２８Ｔｎ！（０，０９８，ｅ）の乾燥トルエン
１５ｄ溶液（よく攪拌）に、冷却することなく添加する
。
発熱（４４℃）反応が静まった後、更に９０分間攪拌を
続け、褐色溶液を少量っつ２ｏ％水酸化ｈ ’Ｊ ラム
溶ｇ ４ Ｑ ｍｅに注意しなから一１０’Ｃで添加す
る。
続け、褐色溶液を少量っつ２ｏ％水酸化ｈ ’Ｊ ラム
溶ｇ ４ Ｑ ｍｅに注意しなから一１０’Ｃで添加す
る。
トルエン層を分離して硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下
に蒸発させる。残留油状物をシリカゲル上、カラムクロ
マトクラフィＨヘキサン−ジエチルエーテル（３：１）
で溶離）に付した後、減圧下に蒸留（球管）し、沸点９
４〜９５℃／ ０．０１ Ｔｏｒｒの留分として生成物
を得た。
に蒸発させる。残留油状物をシリカゲル上、カラムクロ
マトクラフィＨヘキサン−ジエチルエーテル（３：１）
で溶離）に付した後、減圧下に蒸留（球管）し、沸点９
４〜９５℃／ ０．０１ Ｔｏｒｒの留分として生成物
を得た。
実施例１７
Ｎ−（５−エチル−１，３，４−オキサジアゾル−２−
イルメチル’） −２，４−ジメチルチオフェン−３−
アミン ２．４−ジメチル−３−アミノ−チオフェン１２．７ｙ
（０，１モル）、２−クロロメチル−５−エチル−１，
３，４−オキサジアゾール１４，６ ｙ （０，１モル
）、炭酸カリウム１３．８ ｙ（０，１モル）および乾
燥ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１５０＊の混合物を
８０℃で２０時間攪拌する。
イルメチル’） −２，４−ジメチルチオフェン−３−
アミン ２．４−ジメチル−３−アミノ−チオフェン１２．７ｙ
（０，１モル）、２−クロロメチル−５−エチル−１，
３，４−オキサジアゾール１４，６ ｙ （０，１モル
）、炭酸カリウム１３．８ ｙ（０，１モル）および乾
燥ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１５０＊の混合物を
８０℃で２０時間攪拌する。
反応混合物を雰囲気温度に冷やして水４０ Ｑ ｒｙｅ
に注ぎ、水−ＤＭＦ溶液をジエチルエーテルで（１５０
−ｘ３回）抽出する。エーテル抽出物を合して無水硫酸
すｌ−ＩＪウムで乾燥し、減圧蒸発させる。褐色油状残
留物をシリカゲルカラム上、クロマトグラフィーに付し
、ヘキサン／ジエチルエーテル（１：ｌ）で溶離し、オ
レンジ色の液体として標記化合物純品を得た。Ｒｆ＝０
．２（エーテル−ヘキサン（１：１））。
に注ぎ、水−ＤＭＦ溶液をジエチルエーテルで（１５０
−ｘ３回）抽出する。エーテル抽出物を合して無水硫酸
すｌ−ＩＪウムで乾燥し、減圧蒸発させる。褐色油状残
留物をシリカゲルカラム上、クロマトグラフィーに付し
、ヘキサン／ジエチルエーテル（１：ｌ）で溶離し、オ
レンジ色の液体として標記化合物純品を得た。Ｒｆ＝０
．２（エーテル−ヘキサン（１：１））。
実施例１８
Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）グリシン
ヒドラジド ７ ル：ｌ Ｂｖ ３５０ ｍｅ中、Ｎ−（２，４−
ジメチル−チェニー３−イル）グリシン・メチルエステ
ル８２ｙ（０，４１２モル）とヒドラジンヒトレート４
２２（１，３モル）を室温で２４時間攪拌する。
ヒドラジド ７ ル：ｌ Ｂｖ ３５０ ｍｅ中、Ｎ−（２，４−
ジメチル−チェニー３−イル）グリシン・メチルエステ
ル８２ｙ（０，４１２モル）とヒドラジンヒトレート４
２２（１，３モル）を室温で２４時間攪拌する。
混合物を減圧下に蒸発させ、水１５０．／を加えた後、
残渣をエーテルで（５００＊ｘ４回）処理する。エーテ
ル層を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発乾個して標記化合
物純品を得た。融点６８〜７゜°Ｃ０ 実施例１９ ヘー（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）−Ｎ−（
４−メチル−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾル
−３−イル−メチル）アミン Ｎ−（２，４−ジメチルチェニー３−イル）クリシンヒ
ドラジド１５ｙ（０，０７５モル）、イソチオシアン酸
メチル５．５ｙ（０，０７５モル）トエタノール１００
ｄの混合物を４時間還流する。反応混合物を６°Ｃに冷
やし、生成した沈澱を戸数して標記化合物の純品を得た
。融点１８４〜１８７°Ｃ０実施例２Ｏ Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）−Ｎ−（
４−メチル−５−メチルメルカプト−１，２゜４−トリ
アゾル−３−イル−メチル）アミンＮ−（２，４−ジメ
チル−チェニー３−イル）−Ｎ−（４−メチル−５−メ
ルカプト−１，２，４−トリアゾル−３−イル−メチル
）アミン９．５ｙ（０，０３７モル）、トリエチルベン
ジルアンモニウムクロリド１．１ｙおよびトルエン１０
０．／と５０％水酸化ナトリウム水溶液３０．ｒの混合
物に、硫酸ジメチル４．７９＜０．０３７モル）を加え
る。混合物を室温で５時間攪拌し、有機層を分離してこ
れを水洗（１００＋ｎｅＸ３回）し、硫酸ナトリウムで
乾燥して蒸発乾個する。残渣をエーテルから２回再結晶
して標記化合物純品を得た。融点９２〜９６°Ｃ０ 実施例２１ Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）−Ｎ−（
５−メチル−１，３，４−チアジアゾル−２−イル−メ
チル）アミン 塩化メチレン１７５−中Ｎ−（２，４−ジメチル−チェ
ニー３−イル）グリシンヒドラジド１０Ｐ（０，０５モ
ル）に、無水酢酸５．５ ｙ （０，０５モル）を流加
する。混合物を２０゛Ｃで１時間攪拌し、蒸発乾個する
。油状残留物をピリジン１５０ ｌｌｅに溶解し、三硫
化リン１１．５９（０，０５モル）を少量づつ添加する
。添加の過程で温度が４８℃に達する。混合物を２時間
還流し、室温で更に１６時間攪拌する。蒸発乾個した後
、残留物を塩化メチレンに溶解し、続いて溶液を氷水で
処理して冷水酸化す） ＩＪウム溶液および水で希釈し
、硫酸ナトリウムで乾燥して蒸発乾個する。これをシリ
カゲルカラム上、クロマトグラフィーに付し、油状物と
して標記化合物純品を得た。Ｒｆ＝０．２３（酢酸エチ
ル／ヘキサン（６：４）’）。
残渣をエーテルで（５００＊ｘ４回）処理する。エーテ
ル層を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発乾個して標記化合
物純品を得た。融点６８〜７゜°Ｃ０ 実施例１９ ヘー（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）−Ｎ−（
４−メチル−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾル
−３−イル−メチル）アミン Ｎ−（２，４−ジメチルチェニー３−イル）クリシンヒ
ドラジド１５ｙ（０，０７５モル）、イソチオシアン酸
メチル５．５ｙ（０，０７５モル）トエタノール１００
ｄの混合物を４時間還流する。反応混合物を６°Ｃに冷
やし、生成した沈澱を戸数して標記化合物の純品を得た
。融点１８４〜１８７°Ｃ０実施例２Ｏ Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）−Ｎ−（
４−メチル−５−メチルメルカプト−１，２゜４−トリ
アゾル−３−イル−メチル）アミンＮ−（２，４−ジメ
チル−チェニー３−イル）−Ｎ−（４−メチル−５−メ
ルカプト−１，２，４−トリアゾル−３−イル−メチル
）アミン９．５ｙ（０，０３７モル）、トリエチルベン
ジルアンモニウムクロリド１．１ｙおよびトルエン１０
０．／と５０％水酸化ナトリウム水溶液３０．ｒの混合
物に、硫酸ジメチル４．７９＜０．０３７モル）を加え
る。混合物を室温で５時間攪拌し、有機層を分離してこ
れを水洗（１００＋ｎｅＸ３回）し、硫酸ナトリウムで
乾燥して蒸発乾個する。残渣をエーテルから２回再結晶
して標記化合物純品を得た。融点９２〜９６°Ｃ０ 実施例２１ Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）−Ｎ−（
５−メチル−１，３，４−チアジアゾル−２−イル−メ
チル）アミン 塩化メチレン１７５−中Ｎ−（２，４−ジメチル−チェ
ニー３−イル）グリシンヒドラジド１０Ｐ（０，０５モ
ル）に、無水酢酸５．５ ｙ （０，０５モル）を流加
する。混合物を２０゛Ｃで１時間攪拌し、蒸発乾個する
。油状残留物をピリジン１５０ ｌｌｅに溶解し、三硫
化リン１１．５９（０，０５モル）を少量づつ添加する
。添加の過程で温度が４８℃に達する。混合物を２時間
還流し、室温で更に１６時間攪拌する。蒸発乾個した後
、残留物を塩化メチレンに溶解し、続いて溶液を氷水で
処理して冷水酸化す） ＩＪウム溶液および水で希釈し
、硫酸ナトリウムで乾燥して蒸発乾個する。これをシリ
カゲルカラム上、クロマトグラフィーに付し、油状物と
して標記化合物純品を得た。Ｒｆ＝０．２３（酢酸エチ
ル／ヘキサン（６：４）’）。
実施例２２
Ｎ−１２，４−ジメチル−チェニー３−イル）−Ｎ−（
５−メチル−１，２，４−）リアゾル−３−イル−メチ
ル）アミン 水酸化ナトリウム２．２ｙ（０，０５５モル）のメタノ
ール１２５ ｍｅ溶液を攪拌し、これにアセトアミジン
塩酸塩５ｙ（ｏ、０５モル）を加える。１５分後、Ｎ−
（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）グリシンヒド
ラジド１ｏｙ（００５モル）を加えて混合物を１８時間
還流する。蒸発乾個後、残渣を塩化メチレンで処理し、
不溶性副生成を沖去し、塩化メチレンを蒸発させて標記
化合物を得た。
５−メチル−１，２，４−）リアゾル−３−イル−メチ
ル）アミン 水酸化ナトリウム２．２ｙ（０，０５５モル）のメタノ
ール１２５ ｍｅ溶液を攪拌し、これにアセトアミジン
塩酸塩５ｙ（ｏ、０５モル）を加える。１５分後、Ｎ−
（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）グリシンヒド
ラジド１ｏｙ（００５モル）を加えて混合物を１８時間
還流する。蒸発乾個後、残渣を塩化メチレンで処理し、
不溶性副生成を沖去し、塩化メチレンを蒸発させて標記
化合物を得た。
融点８５〜８７℃。
実施例２３
Ｎ−（２，４−ジメチル−チェニー３−イル）クリシン
−イソプロピリデンヒドラジド アセトン５０ ｌｌｅ中、Ｎ−＜ ２．４−シｙｔ ＋
ルーーｙ−エニー３−イル）グリシンヒドラジド７ｒ（
０，０３５モル）を室温で２時間攪拌する。結晶生成物
を戸数し、標記化合物純品を得た。融点１２６〜１２８
℃０ 実施例２４ 実施例１３〜２３のいずれか１法ないしそれ以上の方法
で処理し、下記化合物〔■］を得た。
−イソプロピリデンヒドラジド アセトン５０ ｌｌｅ中、Ｎ−＜ ２．４−シｙｔ ＋
ルーーｙ−エニー３−イル）グリシンヒドラジド７ｒ（
０，０３５モル）を室温で２時間攪拌する。結晶生成物
を戸数し、標記化合物純品を得た。融点１２６〜１２８
℃０ 実施例２４ 実施例１３〜２３のいずれか１法ないしそれ以上の方法
で処理し、下記化合物〔■］を得た。
ｌ 、−＋ｌ公１．＋−１八 −＼
℃
Ｏつ
昌
距
１．
０つ
巴
へ
市
寸 寸 −ｅＰ 寸 ４
へ Ｃ］ へ ヘ へ実施
例２５ Ｎ−（２−カルボメトキシ−３，５−ジメチル−エニー
４−イル）クロロアセトアミド ３．５−ジメチル−４−アミノチオフェン−２−ルボン
酸メチル１２．２５ｙ（０，０６６モル）、酸カリウム
９．１ｙ（０，０６６モル）、水２５ ｍｅよび塩化メ
チレン１５０ｄに、クロロアセチルロリド７．５ｙ（０
，０６６モル）を、冷却するこなく、添加する。
へ Ｃ］ へ ヘ へ実施
例２５ Ｎ−（２−カルボメトキシ−３，５−ジメチル−エニー
４−イル）クロロアセトアミド ３．５−ジメチル−４−アミノチオフェン−２−ルボン
酸メチル１２．２５ｙ（０，０６６モル）、酸カリウム
９．１ｙ（０，０６６モル）、水２５ ｍｅよび塩化メ
チレン１５０ｄに、クロロアセチルロリド７．５ｙ（０
，０６６モル）を、冷却するこなく、添加する。
発熱（３６℃）反応が静まった後、更に１時間拌を続け
る。有機層を分離して水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥する。溶媒を除いた後、無色結晶として所望の生成物
を得た。融点１５７〜１５８℃。
る。有機層を分離して水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥する。溶媒を除いた後、無色結晶として所望の生成物
を得た。融点１５７〜１５８℃。
実施例２６
Ｎ−（２−クロロ−３，５−ジメチル−チェニー４−イ
ル）クロロアセトアミド Ｎ−（２，４−ジメチルチェニー３−イル）クローアセ
トアミド５．０ｙ（０，０２４５モル）の乾燥塩化メチ
レン５ Ｑ ｍｅ溶液を攪拌してこれに、塩化スルフリ
ル３．３ｙ（０，０２４５モル）を０℃で滴加する。
ル）クロロアセトアミド Ｎ−（２，４−ジメチルチェニー３−イル）クローアセ
トアミド５．０ｙ（０，０２４５モル）の乾燥塩化メチ
レン５ Ｑ ｍｅ溶液を攪拌してこれに、塩化スルフリ
ル３．３ｙ（０，０２４５モル）を０℃で滴加する。
流加終了後、混合物を雰囲気温度に暖まるのを許容し、
更に２０時間攪拌する。次いで溶媒を減用下に除いて結
晶性残渣をヘキサンで処理し、標記化合物純品を得た。
更に２０時間攪拌する。次いで溶媒を減用下に除いて結
晶性残渣をヘキサンで処理し、標記化合物純品を得た。
融点１６６°Ｃ（分解）。
実施例２７
Ｎ−１２１１，１−ジェトキシ）エチル−４−メチル−
チェニー３−イル］りロロアセトアミドＮ−（２−アセ
チル−４−メチル−チェニー３−イル）クロロアセトア
ミド１５Ｉ！ｆ０．０６５モル）を、乾燥エチルアルコ
ール６０ｙ、オルトギ酸トリエチル６０ｙおよび濃塩酸
７滴の１ＩＵ（５０℃）混合物に溶解する。
チェニー３−イル］りロロアセトアミドＮ−（２−アセ
チル−４−メチル−チェニー３−イル）クロロアセトア
ミド１５Ｉ！ｆ０．０６５モル）を、乾燥エチルアルコ
ール６０ｙ、オルトギ酸トリエチル６０ｙおよび濃塩酸
７滴の１ＩＵ（５０℃）混合物に溶解する。
室温で３０時間放置した後、反応混合物を減圧（５０℃
／ ０．０１ Ｔｏｒｒ ）下に蒸発サセル。褐色シロ
ラフ状残留物をシリカゲルカラム上、クロマトクラフィ
ーに付し、ヘキサン−ジエチルエーテル（２： １ ’
）て溶離（〜、無色結晶として標記化合物を得た。融点
５７〜５８°Ｃ０ Ｎ−［２１１−メトキシイミノ）エチル−４−メチル−
チェニー３−イル〕クロロγセトアミドＮ−（２−アセ
チル−４−メチル−チェニー３−イル）クロロアセトア
ミドｔ、５１０．００６５モル）とメトキシアミン６．
６ ｙ （０，１４モル）の有）を７時間還流する。
／ ０．０１ Ｔｏｒｒ ）下に蒸発サセル。褐色シロ
ラフ状残留物をシリカゲルカラム上、クロマトクラフィ
ーに付し、ヘキサン−ジエチルエーテル（２： １ ’
）て溶離（〜、無色結晶として標記化合物を得た。融点
５７〜５８°Ｃ０ Ｎ−［２１１−メトキシイミノ）エチル−４−メチル−
チェニー３−イル〕クロロγセトアミドＮ−（２−アセ
チル−４−メチル−チェニー３−イル）クロロアセトア
ミドｔ、５１０．００６５モル）とメトキシアミン６．
６ ｙ （０，１４モル）の有）を７時間還流する。
黄色の反応混合物を沖過し、減圧下に蒸発させて粗シン
／アンチ異性体混合物を得る。移動相としてヘキサン−
ジエチルエーテルを用いるクロマトグラフィーにより上
記異性体混合物を分割する。
／アンチ異性体混合物を得る。移動相としてヘキサン−
ジエチルエーテルを用いるクロマトグラフィーにより上
記異性体混合物を分割する。
初めにシン異性体純品０，６ｙが溶出される。融点１０
１〜１０２°ｃ、 Ｒｆ＝０．３３ （ヘキサン−エー
テル（１：１））。シリカゲルカラム上、溶離を続け、
他方のアンチ異性体純品０，４ｙを得た。
１〜１０２°ｃ、 Ｒｆ＝０．３３ （ヘキサン−エー
テル（１：１））。シリカゲルカラム上、溶離を続け、
他方のアンチ異性体純品０，４ｙを得た。
融点８７〜８９℃、Ｒｆ＝０．２ｉ。
実施例２９
前記実施例２５〜２８のいづれかまたはそれ以上の方法
に従って処理し、下記化合物ＣＩＩＴ〕を得た。
に従って処理し、下記化合物ＣＩＩＴ〕を得た。
２９、１ ２−（ＸＩ）ＱＣ：ｌ１３−４−Ｃ１１
３−チｘ＝−３−イル ｍ、ｐ、１１８＝］１９°Ｃ２
９、２２−Ｃ１１３−５−４−Ｃ１１３−チェニー３−
イル ｍ、ｐ、１０５＝１０６℃２９．３ ２．４
−シーＣＨ３−＋エニー３−イル ｍ、ｐ、１
２８−１２９°Ｃ２９，４３，トリー（月３−イソオキ
サソリレー４−イルｍ、ｐ 、 ９６〜９６°Ｃ２９，
５３，５−シＣ２■５−インオキサツルー４−イル ｍ
、Ｐ、６７〜６９°Ｃ２９，６４−０１３−チェニー３
−イル ｍ、ｐ、９３〜９６℃２９．７
２−Ｃ１１３−４−Ｃ２Ｈ５−チ：ｒ−ニーー３
−Ａル ｍ、ｐ、１１４°Ｃ２９，８２−ＣｕＩ２４
−ＯＣＨ３％工＝−３ ４ル ｍ、ｐ、１４４〜４５
℃２９、９ ２．４ ’−’ ０１３−フラン
−３−イルｎ１．９．９５〜９７°Ｃ２９，１０３，５
−ジー０Ｉ３−イソチッソ”）シー４−４ル ｍ、
ｐ、１０４〜０６℃２９、 １１ ３−Ｃ１１３−
５−ＱＣ２１１５−ビラ’／”ｔレ−ｍ、ｐ、１２５〜
２７°Ｃ４−イル ２９．１２ ２−ＣＯ０Ｃ２１ｔ５−Ｎ、３．５−ト
リーＣＨ３−ｍ、ｐ、１６３〜６５°Ｃビロール−４−
イル ２９．１３ ２＝Ｃ２Ｆ（５−４−ＣＨ３−チェ＝
−３−イルＩＴＩ、Ｐ、１０５＝Ｃ２９，１４２，４−
シーＣ２Ｈ５−チェニー３−イル ｍ、ｐ、１４
５℃２９．１５ ２ Ｃ０ａａ１３ ４−ＣＩ−（
３仔工＝ ３ イル ｍ、Ｐ、１１０”Ｃ２９，１
６２−ＣＫｉ３−４−ＱＣ４ｆ１９ｎ−チェ＝−３−イ
ル ｍ、ｐ、１２ト３０’Ｃ２９１７２−、ｃ２ｎ５−
４．５−ジＣＨ３−チェ＝ 〜 ｍ、Ｐ、１４７
〜４８℃３−イル 実施例３Ｏ Ｎ−（２，４−ジメチルチェニー３−イル） −Ｎ−メ
トキシエチル−ヒドロキシアセトアミド水酸化ナトリウ
ム（鉱油中８０９ｂ分散ｌ＆）３．０ｙ（０，１モル）
と乾燥ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）５０ｍｅの懸濁
液をよく攪拌してこれに、Ｎ−＜２．４−ジメチルチェ
ニー３−イル）ヒドロキシアセトアミド１８．４ ｙ
（０，ｉモル）と乾燥ＤＭＦ ５ Ｑ ｍｅの混合物を
滴加する。
３−チｘ＝−３−イル ｍ、ｐ、１１８＝］１９°Ｃ２
９、２２−Ｃ１１３−５−４−Ｃ１１３−チェニー３−
イル ｍ、ｐ、１０５＝１０６℃２９．３ ２．４
−シーＣＨ３−＋エニー３−イル ｍ、ｐ、１
２８−１２９°Ｃ２９，４３，トリー（月３−イソオキ
サソリレー４−イルｍ、ｐ 、 ９６〜９６°Ｃ２９，
５３，５−シＣ２■５−インオキサツルー４−イル ｍ
、Ｐ、６７〜６９°Ｃ２９，６４−０１３−チェニー３
−イル ｍ、ｐ、９３〜９６℃２９．７
２−Ｃ１１３−４−Ｃ２Ｈ５−チ：ｒ−ニーー３
−Ａル ｍ、ｐ、１１４°Ｃ２９，８２−ＣｕＩ２４
−ＯＣＨ３％工＝−３ ４ル ｍ、ｐ、１４４〜４５
℃２９、９ ２．４ ’−’ ０１３−フラン
−３−イルｎ１．９．９５〜９７°Ｃ２９，１０３，５
−ジー０Ｉ３−イソチッソ”）シー４−４ル ｍ、
ｐ、１０４〜０６℃２９、 １１ ３−Ｃ１１３−
５−ＱＣ２１１５−ビラ’／”ｔレ−ｍ、ｐ、１２５〜
２７°Ｃ４−イル ２９．１２ ２−ＣＯ０Ｃ２１ｔ５−Ｎ、３．５−ト
リーＣＨ３−ｍ、ｐ、１６３〜６５°Ｃビロール−４−
イル ２９．１３ ２＝Ｃ２Ｆ（５−４−ＣＨ３−チェ＝
−３−イルＩＴＩ、Ｐ、１０５＝Ｃ２９，１４２，４−
シーＣ２Ｈ５−チェニー３−イル ｍ、ｐ、１４
５℃２９．１５ ２ Ｃ０ａａ１３ ４−ＣＩ−（
３仔工＝ ３ イル ｍ、Ｐ、１１０”Ｃ２９，１
６２−ＣＫｉ３−４−ＱＣ４ｆ１９ｎ−チェ＝−３−イ
ル ｍ、ｐ、１２ト３０’Ｃ２９１７２−、ｃ２ｎ５−
４．５−ジＣＨ３−チェ＝ 〜 ｍ、Ｐ、１４７
〜４８℃３−イル 実施例３Ｏ Ｎ−（２，４−ジメチルチェニー３−イル） −Ｎ−メ
トキシエチル−ヒドロキシアセトアミド水酸化ナトリウ
ム（鉱油中８０９ｂ分散ｌ＆）３．０ｙ（０，１モル）
と乾燥ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）５０ｍｅの懸濁
液をよく攪拌してこれに、Ｎ−＜２．４−ジメチルチェ
ニー３−イル）ヒドロキシアセトアミド１８．４ ｙ
（０，ｉモル）と乾燥ＤＭＦ ５ Ｑ ｍｅの混合物を
滴加する。
発熱（５０℃）反応が静った後、ナトＩＪウム塩の溶液
が室温に達するのを許容し、次いで２−クロロエチルメ
チルエーテル１０．４ｙ（０，１１モル）の乾燥ＤＭＦ
２０−溶液を添加処理する。添加終了したとき、この混
合物を１００℃で４時間加熱し、蒸発乾個（４０℃／
０．１ Ｔｏｒｒ ）する。
が室温に達するのを許容し、次いで２−クロロエチルメ
チルエーテル１０．４ｙ（０，１１モル）の乾燥ＤＭＦ
２０−溶液を添加処理する。添加終了したとき、この混
合物を１００℃で４時間加熱し、蒸発乾個（４０℃／
０．１ Ｔｏｒｒ ）する。
残留物をジエチルエーテル２００−に吸収させ、水２５
０ＩＩＩｅで洗って硫酸マグネシウムで乾燥し、沖過す
る。ｒ液を蒸発させて残留油状物をシリカゲルカラム上
、クロマトグラフィーに付し、エーテルで溶離し、粘稠
な液体として所望の生成物純品を得た。Ｒｆ＝０．２５
Ｆエーテル）。
０ＩＩＩｅで洗って硫酸マグネシウムで乾燥し、沖過す
る。ｒ液を蒸発させて残留油状物をシリカゲルカラム上
、クロマトグラフィーに付し、エーテルで溶離し、粘稠
な液体として所望の生成物純品を得た。Ｒｆ＝０．２５
Ｆエーテル）。
実施例３１
上記実施例３０の方法に従って処理し、Ａｒ か２．４
−ジメチルチェニー３−イルて下記化合物１」を得た。
−ジメチルチェニー３−イルて下記化合物１」を得た。
３１、１ Ｃ１１２Ｃ１ｌ−ＮＯＣＨ３１（ｆ、−
Ｑ、２１ （ヘキサン−酢酸エチル３：２） ３１、２ ＣＨ２Ｃｌ１二ＮＯＣ２Ｈ５Ｒｆ＝０．
２５（ヘキサン−酢酸エチル３：２） Ｎ−（４−メトキシ−２−メチル−チェニー３−イル）
エトキシアセトアミド ４−メトキシ−２−メチル−３−アミノ−チオフェン９
．８ｙ（０，０６８モル）、炭酸カリウム９．４５１０
．０６８モル）、水３５．ｒおよび塩化メチレン１００
ｍｅに、エトキシアセチルクロリド８．４ Ｖ （０
，０６９−ｆニル）の塩化メチレン２ｏｄ溶液を、冷や
すことなく添加する。
Ｑ、２１ （ヘキサン−酢酸エチル３：２） ３１、２ ＣＨ２Ｃｌ１二ＮＯＣ２Ｈ５Ｒｆ＝０．
２５（ヘキサン−酢酸エチル３：２） Ｎ−（４−メトキシ−２−メチル−チェニー３−イル）
エトキシアセトアミド ４−メトキシ−２−メチル−３−アミノ−チオフェン９
．８ｙ（０，０６８モル）、炭酸カリウム９．４５１０
．０６８モル）、水３５．ｒおよび塩化メチレン１００
ｍｅに、エトキシアセチルクロリド８．４ Ｖ （０
，０６９−ｆニル）の塩化メチレン２ｏｄ溶液を、冷や
すことなく添加する。
発熱（３２°Ｃ）反応が静まった後、更に１時間攪拌を
続ける。有機層を分離してこれを水洗（１５゜−×２回
）し、無水硫酸す） ＩＪウムで乾燥する。
続ける。有機層を分離してこれを水洗（１５゜−×２回
）し、無水硫酸す） ＩＪウムで乾燥する。
回転蒸発器で溶媒を蒸発させて得られた残留物をシリカ
ゲル上、カラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−
ジエチル エーテル（１：１）で溶離して標記化合物純
品を得た。融点４０〜４１℃。
ゲル上、カラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−
ジエチル エーテル（１：１）で溶離して標記化合物純
品を得た。融点４０〜４１℃。
実施例３３
上記実施例３２と同様に処理し、式： Ａ ｒ Ｎ Ｉ
（ＣＯＹ ３にβ−Ｇハキで示される下記アミド類を得
た。
（ＣＯＹ ３にβ−Ｇハキで示される下記アミド類を得
た。
実施例３４
（Ｎ−４−メトキシ−２−メチルチェニー３−イル）カ
ルバミン酸ベンジル ４−メトキシ−２−メチル−チオフェン−３−カルボン
酸３６．５ ｙ （０，２１モル）と乾燥ベンゼン３０
０ ｍｅの懸濁液を攪拌してこれに、ジフェニルホスホ
リルアジド６３．６ｆ（０，２３モル）とトリエチルア
ミン２４．４ｙ（０゜２３モル）の全量を一度に加える
。
ルバミン酸ベンジル ４−メトキシ−２−メチル−チオフェン−３−カルボン
酸３６．５ ｙ （０，２１モル）と乾燥ベンゼン３０
０ ｍｅの懸濁液を攪拌してこれに、ジフェニルホスホ
リルアジド６３．６ｆ（０，２３モル）とトリエチルア
ミン２４．４ｙ（０゜２３モル）の全量を一度に加える
。
この混合物を１時間還流した後、ベンジルアルコール２
５ｙ（０，２３モル）で処理する。
５ｙ（０，２３モル）で処理する。
７８°Ｃで３．５時間反応させた後、反応混合物を雰囲
気温度に冷やし、ジエチルエーテル３５〇−で希釈し、
５％塩酸２５０ ｗｎｌ、飽和炭酸水素ナトリウム溶液
２５０ ｍｅおよび飽和塩化ナトリウム溶液２００ ｍ
ｅで連続的に洗浄する。硫酸ナトＩＪウムで乾燥した溶
媒を回転蒸発器で蒸発させ、生成した結晶性残留物をペ
ンタンで処理して標記化合物純品を得た。融点１０７〜
１０８°Ｃ０実施例３５ 特定のカルボン酸を用い、実施例３４に従って処理し、
次のカルバミン酸エステルを得た。
気温度に冷やし、ジエチルエーテル３５〇−で希釈し、
５％塩酸２５０ ｗｎｌ、飽和炭酸水素ナトリウム溶液
２５０ ｍｅおよび飽和塩化ナトリウム溶液２００ ｍ
ｅで連続的に洗浄する。硫酸ナトＩＪウムで乾燥した溶
媒を回転蒸発器で蒸発させ、生成した結晶性残留物をペ
ンタンで処理して標記化合物純品を得た。融点１０７〜
１０８°Ｃ０実施例３５ 特定のカルボン酸を用い、実施例３４に従って処理し、
次のカルバミン酸エステルを得た。
（例３５．１ ’） Ｉ Ｎ−２，４−ジメチル−フラ
ン−３−イル）カルバミン酸ペンシル、融点１０３〜１
０５℃、 （例３５．２ ） （Ｎ−４−ｎ−ブトキシ−２−メチ
ル−チェニー３−イル）カルバミン酸ベンジル、融点８
３°Ｃ６ 実施例３６ ４−メトキン−２−メチルチオフェン−３−カルホン酸 標記酸に対応するエチルエステル体を水酸化カリウムで
鹸化することにより標記化合物を得た。
ン−３−イル）カルバミン酸ペンシル、融点１０３〜１
０５℃、 （例３５．２ ） （Ｎ−４−ｎ−ブトキシ−２−メチ
ル−チェニー３−イル）カルバミン酸ベンジル、融点８
３°Ｃ６ 実施例３６ ４−メトキン−２−メチルチオフェン−３−カルホン酸 標記酸に対応するエチルエステル体を水酸化カリウムで
鹸化することにより標記化合物を得た。
融点１２７°Ｃ０
実施例３７
４−ｎ−ブトキシ−２−メチル−チオフェン−３−カル
ボン酸 上記実施例３６と同様の処理を行ない、標記化合物を得
た。融点６６〜６８°Ｃ０ 実施例３８ ４−メトキシ−２−メチル−チオフェン−３−カルボン
酸エチル 塩化メチレン１００ ｄ中、４−ヒドロキシ−２−メチ
ル−チオフェン−３−カルボン酸エチル１８．６ ｙ
（０，１モル）、硫酸ジメチル１０ ｎ＋ｅ （０，１
０５モル）およびベンジルトリエチルアンモニウムクロ
リド２．３ ｙ （０，０１モル）の混合物に、５０％
水酸化す） ＩＪウム溶液２０１１ｅを、雰囲気温度で
滴加する。
ボン酸 上記実施例３６と同様の処理を行ない、標記化合物を得
た。融点６６〜６８°Ｃ０ 実施例３８ ４−メトキシ−２−メチル−チオフェン−３−カルボン
酸エチル 塩化メチレン１００ ｄ中、４−ヒドロキシ−２−メチ
ル−チオフェン−３−カルボン酸エチル１８．６ ｙ
（０，１モル）、硫酸ジメチル１０ ｎ＋ｅ （０，１
０５モル）およびベンジルトリエチルアンモニウムクロ
リド２．３ ｙ （０，０１モル）の混合物に、５０％
水酸化す） ＩＪウム溶液２０１１ｅを、雰囲気温度で
滴加する。
約１５分間還流後、反応混合物を通常の方法で処理し、
標記化合物を得た。Ｒｆ＝０．３６（ジエチルエーテル
：ヘキサン（２：１”ｌ）。
標記化合物を得た。Ｒｆ＝０．３６（ジエチルエーテル
：ヘキサン（２：１”ｌ）。
実施例３９
３．５−ジメチル−４−ニトロチオフェン−２−カルボ
ン酸メチル ３．５−ジメチルチオフェン−２−カルボン酸メチル５
１．４ノ（０，３モル）の氷酢酸２００ ｍｅ冷（０°
Ｃ）溶液をよく攪拌してこれに、発煙硝酸（比重＝１．
５）３０ｄと無水酢酸１２０ ｍｅの混合物を、４０分
間に渡って滴加する。流加終了後、生成した褐色溶液を
５°Ｃて更に２時間攪拌し、氷水３０００−ｅに注く。
ン酸メチル ３．５−ジメチルチオフェン−２−カルボン酸メチル５
１．４ノ（０，３モル）の氷酢酸２００ ｍｅ冷（０°
Ｃ）溶液をよく攪拌してこれに、発煙硝酸（比重＝１．
５）３０ｄと無水酢酸１２０ ｍｅの混合物を、４０分
間に渡って滴加する。流加終了後、生成した褐色溶液を
５°Ｃて更に２時間攪拌し、氷水３０００−ｅに注く。
水層をジエチルエーテルで（５００ｍｅｘ２回）抽出し
、エーテル抽出物を水および３％炭酸水素ナトリウム溶
液で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧ｔ゛に蒸発さ
せる。
、エーテル抽出物を水および３％炭酸水素ナトリウム溶
液で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧ｔ゛に蒸発さ
せる。
残渣をシリカゲル上、カラムクロマトクラフィー に付
Ｌ、ヘキサン−ジエチルエーテル（１０：１）で溶離し
て標記化合物を得た。融点８７〜８８°ＣＯ 実施例４０ １．３−ジメチル−５−エトキシ−４−ニトロピラソー
ル 出発物協として１．３−ジメチル−５−エトキシピラソ
ールを用い、実施例３９と百様に処理して標記化合物を
得た。Ｒｆ＝０．３７（シリカケル上、ジエチルエーテ
ル使用）。
Ｌ、ヘキサン−ジエチルエーテル（１０：１）で溶離し
て標記化合物を得た。融点８７〜８８°ＣＯ 実施例４０ １．３−ジメチル−５−エトキシ−４−ニトロピラソー
ル 出発物協として１．３−ジメチル−５−エトキシピラソ
ールを用い、実施例３９と百様に処理して標記化合物を
得た。Ｒｆ＝０．３７（シリカケル上、ジエチルエーテ
ル使用）。
除草試験
実施例４１
雑草防除−発芽前処理
種子ポット（直径７（７））にビート培養基質と砂の混
合物を充填する。ビート培養基質と砂の混合物の露出表
面に試験化合物の液体（たとえば実施例Ｂに従って製せ
られた液体）を噴霧し、Ｗ二ｄｉｕｍ ｓａｔｉｖｕｍ
−Ａｇｒｏｓｔｉｓ ａｌｂａ−Ａｖｅｎａｓａｔｉｖ
ａおよびＬｏｌｉｕｍ ｅｒｅｎｎｅの種子を各ポッ
トにまき、Ａｖｅｎａ ５ａｔｉｖａおよびＬｏｌｉｕ
ｍｐｅ ｒｅｎｎｅはその種子をまいた後、薄層（０，
５ｃ＝ｍ）のビート培養基質で被覆する。各ポットを室
温で１日当り１４〜１７時間光（昼光またはそれと等・
価の光）に照射して２１日間保持する。
合物を充填する。ビート培養基質と砂の混合物の露出表
面に試験化合物の液体（たとえば実施例Ｂに従って製せ
られた液体）を噴霧し、Ｗ二ｄｉｕｍ ｓａｔｉｖｕｍ
−Ａｇｒｏｓｔｉｓ ａｌｂａ−Ａｖｅｎａｓａｔｉｖ
ａおよびＬｏｌｉｕｍ ｅｒｅｎｎｅの種子を各ポッ
トにまき、Ａｖｅｎａ ５ａｔｉｖａおよびＬｏｌｉｕ
ｍｐｅ ｒｅｎｎｅはその種子をまいた後、薄層（０，
５ｃ＝ｍ）のビート培養基質で被覆する。各ポットを室
温で１日当り１４〜１７時間光（昼光またはそれと等・
価の光）に照射して２１日間保持する。
２１日間保持後、特定の除草剤の除草効果を測定する。
測定は種々の種子植物の障害の程度および質の視覚的評
価を含む。
価を含む。
前記同様の方法において活性成分１．４および５．６に
９７ヘクタールに等価の使用量で化合物ＣＩ）を施用す
る。
９７ヘクタールに等価の使用量で化合物ＣＩ）を施用す
る。
上記試験により除草活性、すなわち供試植物に対する重
大な障害が観察された。
大な障害が観察された。
実施例４２
雑草防除−発芽後処理
植物か２〜４葉の段階に生長するのを確実にするように
播種を調節し、この植物か２〜４葉の段階に生長する時
点とほとんど同時に試験化合物（除草剤）を使用し、実
施例４２と同様の方法で処理する。
播種を調節し、この植物か２〜４葉の段階に生長する時
点とほとんど同時に試験化合物（除草剤）を使用し、実
施例４２と同様の方法で処理する。
また前記同様に１．４ Ｋｙ／ｈａおよび５，６即／ｈ
ａに一致する投与址て化合物［’ Ｉ Ｊを使用する。
ａに一致する投与址て化合物［’ Ｉ Ｊを使用する。
化合物を施用して２１日後、除曜効果の測定を行なう。
測定は実施例４１記載と類似の方法を包含する。
この試験により除草活性が観察された。
実施例４３
次に示す発芽前試験により本発明の代表的化合物の評価
を行なった。
を行なった。
種子鉢ｆ３０ｘ４０σ）にビート培養基質と砂の混合物
を６（９）の深さに充填する。ビート培養基質と砂の混
合物の露出表面に、所定の濃度で本発明化合物を含む水
性試験液（たとえは実施例Ｂに従って製ぜられた試験液
）を噴霧する。噴霧容量は水性試験液６００１７ｈａに
一致する。所望の施用割合を実現するような方法で濃度
を選択し、この種々の濃度の試験液を用いて同一の試験
を繰返えす。６種類の種子を各錘にまく。各植物の播種
数は、種子発芽作用、また特定の種子植物の初期生育の
大きさに依存する。播種後、ビート培養基質と砂の混合
物の約０．５（４１ｇの深さの薄い層で基質処理表面を
被覆する。
を６（９）の深さに充填する。ビート培養基質と砂の混
合物の露出表面に、所定の濃度で本発明化合物を含む水
性試験液（たとえは実施例Ｂに従って製ぜられた試験液
）を噴霧する。噴霧容量は水性試験液６００１７ｈａに
一致する。所望の施用割合を実現するような方法で濃度
を選択し、この種々の濃度の試験液を用いて同一の試験
を繰返えす。６種類の種子を各錘にまく。各植物の播種
数は、種子発芽作用、また特定の種子植物の初期生育の
大きさに依存する。播種後、ビート培養基質と砂の混合
物の約０．５（４１ｇの深さの薄い層で基質処理表面を
被覆する。
この種子鉢を、２０〜２４℃で１日当り１４〜１７時間
光に照射して２８日間保持する。
光に照射して２８日間保持する。
２８日間保持後、本発明の特定の化合物の除草効果を測
定する。測定は種々の植物に対する障害の程度および質
の視覚的評価を包含する。特に有利な除草性は就中、表
Ａ中の化合物陰２５．２６．４７．４８．５５．７５．
８４および８６について観察される。活性成分１障／ヘ
クタールに一致する施用割合で得られた結果の一部を要
約して表Ｂに示す。
定する。測定は種々の植物に対する障害の程度および質
の視覚的評価を包含する。特に有利な除草性は就中、表
Ａ中の化合物陰２５．２６．４７．４８．５５．７５．
８４および８６について観察される。活性成分１障／ヘ
クタールに一致する施用割合で得られた結果の一部を要
約して表Ｂに示す。
実施例４４
発芽後処理
前記実施例４３に記載の発芽前試験と同様の発芽後試験
の操作において、植物が２〜４葉の生育段階のときに除
草剤試験液を施用して更に代表的化合物１１Ｊの評価を
行なった。この目的のため、播種峙をつらせた関係で種
々の植物の種子をまく。
の操作において、植物が２〜４葉の生育段階のときに除
草剤試験液を施用して更に代表的化合物１１Ｊの評価を
行なった。この目的のため、播種峙をつらせた関係で種
々の植物の種子をまく。
温室条件（高度、光）は実施例４３の場合と同様である
。また除草効果の測定も実施例４１の方法に従って施用
２８日後に行なう。
。また除草効果の測定も実施例４１の方法に従って施用
２８日後に行なう。
特に有利な除草性は就中、表Ａ中の化合物陰２５．２６
．４７．４８．５５．７５．８４および８６について観
察される。活性成分５Ｋｖ／ヘクタールに一致する施用
割合で得られた結果の一部を要約して表Ｃに示す。
．４７．４８．５５．７５．８４および８６について観
察される。活性成分５Ｋｖ／ヘクタールに一致する施用
割合で得られた結果の一部を要約して表Ｃに示す。
野外試験
多種類農作物の発芽前野外遮蔽試験において次に示す条
件で更に化合物陰２５を評価した。
件で更に化合物陰２５を評価した。
−農作物：
大豆（５ｔｅｅｌｅ ） （略記Ｓｏ）棉（５ｔｏｎｅ
ｖｉｌｌｅ ２１３ ）（略記ＣＯ【）トウモロコシ（
ＬＧＩＩ’）（略ｇ己Ｃｏ ’）小麦（５ｖｅｎｎｏ
） （略記■４１）−雑草： Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ ｐｒａｔｅｎｓｉｓ （略記Ａ
／）Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｃｒｕｓ ｇａｌｌｉ
（略記Ｅｃｈ ）Ｇａｌｉｕｍ ａｐａｒｉｎｅ Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ ａｌｂｕｍおよびｐｏｌｙｓ
ｐｅｒｍｕｍＡｍａｒａｎｔｈｕｓ ｒｅｔｒｏｆｌｅ
ｘｕｓ（後の３種類は双子葉植物（略記Ｄｉｃｏｔｓ
） ）種子をまいた雑草Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ ｐｒａ
ｔｅｎｓｉｓ以外の雑草はすへて自生した雑草である。
ｖｉｌｌｅ ２１３ ）（略記ＣＯ【）トウモロコシ（
ＬＧＩＩ’）（略ｇ己Ｃｏ ’）小麦（５ｖｅｎｎｏ
） （略記■４１）−雑草： Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ ｐｒａｔｅｎｓｉｓ （略記Ａ
／）Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｃｒｕｓ ｇａｌｌｉ
（略記Ｅｃｈ ）Ｇａｌｉｕｍ ａｐａｒｉｎｅ Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ ａｌｂｕｍおよびｐｏｌｙｓ
ｐｅｒｍｕｍＡｍａｒａｎｔｈｕｓ ｒｅｔｒｏｆｌｅ
ｘｕｓ（後の３種類は双子葉植物（略記Ｄｉｃｏｔｓ
） ）種子をまいた雑草Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ ｐｒａ
ｔｅｎｓｉｓ以外の雑草はすへて自生した雑草である。
−噴霧容量： ７５０ ｌＬ／ｈａ
−繰返し回数；３
一評価：施用から２８日後
Ａｌａｃｈｌｏｒ （すなわちα−クロロ−２１６′−
ジエチル−Ｎ−メトキシメチルアセトアニリド入および
Ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ （すなわちα−クロロ−２′
−エチル−６′−メチル−Ｎ−（１−メチル−２−メト
キシエチル）了セトアニリリ。
ジエチル−Ｎ−メトキシメチルアセトアニリド入および
Ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ （すなわちα−クロロ−２′
−エチル−６′−メチル−Ｎ−（１−メチル−２−メト
キシエチル）了セトアニリリ。
陽２５ ０．６０ ０ １０ ６３
９２４３１．２５ ３ ３ ５３ ８０ １００
６７２．５ ５ ７ ８０ ９２ １００ ８
７Ａｌａｃｈｌｏｒ １．２５ ０ ０
０ １０ ４３ ４３２．５ ０ ３ ０
５３ ７８５７Ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ １．２５
０ ０ ０ ３３ １００ ３０２．５
０ ０ ０ ７３ １００ ４３上記結果は、本
発明化合物の単子葉植物に対する除草活性が商業的に入
手し得る標準化合物で見出される除草活性に等しいか、
またはそれより優れており、また同様に双子葉植物に対
する除草活性が優れていることを示すものである。本発
明化合物の除草活性は大豆、棉において選択的であり、
トウモロコシにおいて最も低い施用割合である。
９２４３１．２５ ３ ３ ５３ ８０ １００
６７２．５ ５ ７ ８０ ９２ １００ ８
７Ａｌａｃｈｌｏｒ １．２５ ０ ０
０ １０ ４３ ４３２．５ ０ ３ ０
５３ ７８５７Ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ １．２５
０ ０ ０ ３３ １００ ３０２．５
０ ０ ０ ７３ １００ ４３上記結果は、本
発明化合物の単子葉植物に対する除草活性が商業的に入
手し得る標準化合物で見出される除草活性に等しいか、
またはそれより優れており、また同様に双子葉植物に対
する除草活性が優れていることを示すものである。本発
明化合物の除草活性は大豆、棉において選択的であり、
トウモロコシにおいて最も低い施用割合である。
特許出願人 サンド・アクチェンゲゼルシャフト代理人
弁理士青山 葆 外１名 第１頁の続き ４０９／１２ ７４３１−４ Ｃ４３、
’８２ １０１ ７０５５１Ｈ２３１１００）
７１３３−４Ｃ（Ｃ０７Ｄ ４０９
／１２ ＝３３３１００
８２１４−４ Ｃ２０７１００７
２４２−４Ｃ ２３１１００７１３３−４Ｃ ２３３１００７１３３−４Ｃ ２３９１００７４３１−４Ｃ ２４９１００７１３２−４Ｃ ３０７１００７０４３−４Ｃ ３１７１００） ７４３２−４Ｃ
（Ｃ０７Ｄ ４１３／１２
−２６１１００ ７３０６−４
Ｃ２７１１００７３０６−４Ｃ ２３１１００７１３３−４Ｃ ３３３１００） ８２１４−４Ｃ
（Ｃ０７Ｄ ４１７／１２
−２７５１００ ７３０６−４
Ｃ２８５１００７３０６−４Ｃ ２３１１００７１３３−４Ｃ ３３３１００） ８２１４−４Ｃ
優先権主張 ０１９８２年９月１３日［相］イギリス（
ＧＢ）［有］８２２６００６ ［相］発 明 者 フレッド・クーネンドイツ連邦共和
国７８５８ヴアイル ・アム・レーイン・レープリス トラツヤ２０番 ０発 明 者 カールハインッ・ミルツナ−スイス国４
０５６バーゼル・カネン フエルトストラツセ２７番
弁理士青山 葆 外１名 第１頁の続き ４０９／１２ ７４３１−４ Ｃ４３、
’８２ １０１ ７０５５１Ｈ２３１１００）
７１３３−４Ｃ（Ｃ０７Ｄ ４０９
／１２ ＝３３３１００
８２１４−４ Ｃ２０７１００７
２４２−４Ｃ ２３１１００７１３３−４Ｃ ２３３１００７１３３−４Ｃ ２３９１００７４３１−４Ｃ ２４９１００７１３２−４Ｃ ３０７１００７０４３−４Ｃ ３１７１００） ７４３２−４Ｃ
（Ｃ０７Ｄ ４１３／１２
−２６１１００ ７３０６−４
Ｃ２７１１００７３０６−４Ｃ ２３１１００７１３３−４Ｃ ３３３１００） ８２１４−４Ｃ
（Ｃ０７Ｄ ４１７／１２
−２７５１００ ７３０６−４
Ｃ２８５１００７３０６−４Ｃ ２３１１００７１３３−４Ｃ ３３３１００） ８２１４−４Ｃ
優先権主張 ０１９８２年９月１３日［相］イギリス（
ＧＢ）［有］８２２６００６ ［相］発 明 者 フレッド・クーネンドイツ連邦共和
国７８５８ヴアイル ・アム・レーイン・レープリス トラツヤ２０番 ０発 明 者 カールハインッ・ミルツナ−スイス国４
０５６バーゼル・カネン フエルトストラツセ２７番
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 て示される化合物 し式中、Ａｒは０、ＳおよびＮから選ばれる環中異項原
子１〜２個を含有する５装具項環芳香族基（Ａｒはこの
環形成Ｃ原子によりＮ（Ｙ）ＣＯＣＨ２Ｃ１基のＮ原子
に結合する。Ａｒがピラゾリルである場合、その４位に
Ｎ （Ｙ ）ＣＯＣ８２Ｃ（、基か存在する。）、Ｙは
アレン、ＣＨ２−ＣＨ二Ｃ二Ｃ１１２、またはＣ１，８
アルキル、Ｃ３〜８アルケニル、Ｃ３〜８アルキニル、
０３〜８シクロアルキル、Ｃ５〜８シクロアルケニル、
６３〜８シクロアルキル−０１〜５アルキルから選ばれ
る炭化水素基（この炭化水素基は置換基を有しないか、
もしくはＦ、ＣＩまたはＢｒから選はれるハロゲンで置
換されていてもよい。）、または ＣＨ＜ Ｒ，）−ＣＯＹ１基、 （Ｒ１はＨまたはＣ１〜５アルキル、 Ｙｌはこれが結合するＣＯ基と合して形成されるエステ
ルまたはアミド官能基）、またはＲ２ＡＺ基、 （Ｒ２はＣＨ２またはＣ１１２ＣＨ２（これらの基は置
換基を有しないか、もしくはＣ１〜５アルキルで置換さ
れていてもよい。）、 Ａｚはジアゾリルまたはトリアゾリルから選ばれる芳香
族異項環基（その窒素原子のうち１個がＲ２に結合する
。）、０、ＳまたはＮから選ばれる異項原子１〜３個を
有する５負異項環基（この基はその環中Ｃ原子によりに
２に結合する。）およびピリミジニル基から選ばれる芳
香族異項環基、または２−オキソ−１−ピロリジニル（
そのＣＨ２基が０、ＳまたはＮＣＨ３で置き換えられて
いてもよい。）、またはこの２−オキソ−１−ピロリジ
ニル基の５−オキソおよび／または二環式ベンズ（Ｃ１
縮合誘導基）、または Ａ−０−Ｒ３基、 （Ｒ３は）（またはＣ１〜８アルキル・０３〜８フルケ
ニル、Ｃ３７，８アルキニル、０３Ｎ８シクロアルキル
、Ｃ５，＋＋８シクロアルケニルモジくハ０３Ｎ８シク
ロアルキルーＣＩ、＋５アルキルから選はれる炭化水素
基（この炭化水素基は置換基を有しないか、もしくは有
してもよい。）（ここにに４は６１〜５アルキル、Ｃ３
，５アルケニル、Ｃ３，５アルキニル、０３〜８シクロ
アルキル、Ｃ５〜８シクロアルケニル、０３〜８シクロ
アルキル−Ｃ１〜５アルキルから選ばれる炭化水素基（
この炭化水素基は置換基を有しないか、もしくはｊ Ｃ
１またはＢｒから選ばれるハロゲンで置換されていても
よい。）、またはアレン、 Ｒ′はＩ−１または上記Ｒ４と同意義）、Ａは炭化水素
部分（炭化水素部分がＲ３と結合し、異項原子として酸
素１〜２個を含む飽和含酸素異項環基を形成してもよい
。Ａに結合しているＮおよびＯ原子は３個を越えないＣ
原子で分けられる。））、または （Ｒ４は前記と同意義、Ｒ５およびＲｓはそれぞれ個別
にＨまたはＣＨ３、もしくはに５とＲｓを合して（ＣＨ
２）３または（ＣＨ２’） 、ｉである。）、または ＣＨ−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯＣＩ−１３基、電 に６ （Ｒ６はＨまたは０１〜３アルキル） を表わす。〕。 ２、 Ａｒか少なくともクロロアセトアミド基に関し
て〇−位置にハロゲン；非置換もしくは／％ロゲン、０
１〜４アルコキシまたはＣ３〜６シクロアルキルで置換
された６１〜４アルキル；非置換もしくはＣ１〜４アル
コキシで置換されたＣ２〜４アルケニル；Ｃ３〜６シク
ロアルキル；ホルミルまたはＣ２〜４アルカノイル；
Ｃ（＝ＮＯＣアルキル）−〇１〜３１〜４ アルキル；Ｃ（ＱＣ１〜４アルキル）２−０１．３アル
キル； Ｃ１ｌ （ＱＣＩ〜４Ｃ１〜３アルキル１〜４
アルキル−５ａｃ アルキル−５Ｏ；Ｃアルキル−
３Ｏ２１〜４ １〜４ＩＣ
１〜４アルコキシ−カルボニル；非置換もＬ＜はハロゲ
ンまたは０１〜４アルコキシで置換されたＣ１．．４ア
ルコキシ：Ｃ２Ｎ４アルケニルオキシ；Ｃ２〜４アルキ
ニルオキシ； ＨＯ；およびＣ１−（２０Ｈから選はれ
る置換基を有する化合物およびそのエステル類である特
許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３、Ａｒか環中１個の異項原子または環中隣接する２個
の異項原子を含み（この芳香族異項環基は、クロロアセ
トアミド基に関してｏ、ｏ’位置に第２項記載の基から
選はれる置換基少なくとも２個を有することもある。）
、要すればこの芳香族異項環か史にＣアルキル、ハロゲ
ンおよびＣ１〜４ア１〜４ ルコキシカルボニルから選ばれる置換基で置換された特
許請求の範囲第２項記載の化合物。 ４、 Ａｒが置換チオフェン、インチアゾールまたはイ
ソオキサゾール環である特許請求の範囲第３項記載の化
合物。 ５、 ＹがＲ２ＡＺ基またはＡ −０−Ｒ３基（Ｒ２
、Ａ ｚ、Ａおよびに３は第１項と同意義。）である特
許請求の範囲第４項記載の化合物。 ６、Ｒ２がＣ［１２またはＣＨ（Ｃ１１３）、Ａｚが１
−ピラゾリルまたは３．５−ジメチル−１−ピラゾリル
、ＡがＣＲ２、ＣＨ２−ＣＨ２またはこれらのモノメチ
ル化誘導基、Ｒ３がＣ１〜３アルキルである特許請求の
範囲第５項記載の化合物。 ７、 ＡｚがＣ１〜４アルキルおよびＣ１〜４アルコ
キシから選ばれる置換基で２．４−ジ置換された３−チ
ェニルである特許請求の範囲第６項記載の化合物。 ８、 ＡｚおよびＹが （ａ） それぞれ２．４−ジメチル−チェニー３−イ
ルおよびピラゾリル−１−メチル、 （ｂ）それぞれ２．４−ジメチル−チェニー３−イルお
よび１−（ピラゾリル−１）エチル、（Ｃ） それぞ
れ２．４−ジメチル−チェニー３−イルおよびＣＲ２０
Ｃ２１１ｓ、 （ｄ） それぞれ２，４−ジメチル−チェニー３−イ
ルおよヒＣ■２０Ｃ３■１７（ｎ）、 （ｅ） それぞれ２，４−ジメチル−チェニー３−イ
ルおよびＣ１１（ＣＨ３）Ｃ１１２０Ｃ■３、（［）そ
れぞれ２−メチル−４−エチル−チェニー３−イルおよ
びＣ■１２０Ｃ２■５、（ｇ） それぞれ２−メチル
−４−メトキシチェニー３−イルおよびピラゾリル−１
−メチル、ｆｈ） それぞれ２−メチル−４−メトキ
シチェニー３−イルおよびＣＨ２Ｃｌ１２０Ｃ２ＦＩ５
である第１項の化合物から選ばれる特許請求の範囲第７
項記載の化合物。 ９、第１項記載の化合物［−■」の除草有効量を現場に
施用することを特徴とする現場の雑草の防除方法。 １０、第１項記載の化合物ＣＩ〕の選択的除草有効社を
農作物の現場に施用することから成る現場の雑草を選択
的に防除する特許請求の範囲第９項記載の方法。 １１、第１項記載の化合物を除草剤として許容される希
釈剤に組合わせて含有せしめたことを特徴とする除草剤
。 ＼Ｉ 〔式中、ＡｒおよびＹは第１項と同意義。〕で示される
化合物。 １３、式：Ａｒ ＮＨＣ０ＣＨ２Ｇ７ ［１１１
〕〔一式中、Ａｒは第１項と同意義。〕 で示される化合物。 １４、 式 二 Ａｒ −Ｎｌ−１−Ｙ
ｒ ■］〔式中
、ＡｒおよびＹは第１項と同意義。〕で示される化合物
。 １５、 Ｃ１〜４アルキルおよび０１〜４アルコキシ
から選ばれる置換基により２位および４位で置換された
３−アミノチオフェン。 １式中、ＡｒおよびＹは前記と同意義。〕で示される化
合物のＮ−ヒドロキシアセチル基の１１０基をＣ／て置
換し、 （ｂ） 式 ； Ａｒ Ｎ１−Ｉ
ＣＯＣｌ１２ｃｌ ［−１１
１１１式中、Ａｒは前記と同意義。〕 てン１てされる化合物と 式： Ｉ−Ｙ 〔ｒｖ〕１式中、
Ｙは前記と同意義。ＬはＮ−アルキル化反応条件下に脱
離させ得る残基を表わす。〕て示される化合物を反応さ
せ、 ］。 １式中、Ｒ′はＩＩまたはＣ１〜３アルキル、Ｎ２はＡ
ｚ’、ＯＲ３またはＮ（Ｃ■１３）ＣＯＣ１１３、Ａｚ
’はいずれか１個の窒素原子によりｃｏｍ基に結合した
ジアゾール環またはトリアゾール環を表わす。 Ａｒおよびに３は前記と同意義。Ｊ で示される化合物を得るため、 〔式中、Ａｒおよびに′は前記と同意義。〕で示される
化合物と 式：１１Ｙ２〔■〕 〔式中、Ｎ２は前記と同意義。Ｊ で示される化合物の反応性誘導体を反応させることによ
り上記化合物ＣＩ ａ）を製造し、（ｄ）式： Ａｒ
−ＮＨ−Ｙ ｌ’Ｍ］〔式中、Ａｒおよ
びＹは前記と同意義。〕で示される化合物をクロロアセ
チルクロリドもしくはその反応性官能誘導体でＮ−アシ
ル化することを特徴とする第１項記載の化合物ＣＩ）の
製造法。
Applications Claiming Priority (4)
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|---|---|---|---|
| GB8203636 | 1982-02-09 | ||
| GB8226006 | 1982-09-13 | ||
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Publications (2)
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|---|---|
| JPS58148868A true JPS58148868A (ja) | 1983-09-05 |
| JPH0645617B2 JPH0645617B2 (ja) | 1994-06-15 |
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ID=26281932
Family Applications (1)
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| JP58019535A Expired - Lifetime JPH0645617B2 (ja) | 1982-02-09 | 1983-02-08 | クロロアセトアミド誘導体 |
Country Status (22)
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