JPS58143538A - 樹脂封止形半導体装置の製造方法 - Google Patents

樹脂封止形半導体装置の製造方法

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JPS58143538A
JPS58143538A JP57026285A JP2628582A JPS58143538A JP S58143538 A JPS58143538 A JP S58143538A JP 57026285 A JP57026285 A JP 57026285A JP 2628582 A JP2628582 A JP 2628582A JP S58143538 A JPS58143538 A JP S58143538A
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JP
Japan
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resin
strips
semiconductor device
cut end
semiconductor substrate
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JP57026285A
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Kenichi Tateno
立野 健一
Masami Yokozawa
横沢 真覩
Hiroyuki Fujii
博之 藤井
Mikio Nishikawa
西川 幹雄
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
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    • H01L24/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は樹脂封止形半導体装置の製造方法に関する。
近年、比較的大きな電力を取り扱うことのできる半導体
装置、たとえば、パワートランジスタと呼ばれるような
大型半導体装置も樹脂封止成型部が用いられている。こ
の場合、半導体装置の放熱特性については十分に配慮す
る必要がある。
第1図および第2図は、上述の樹脂封止形パワートラン
ジスタの製造工程途上における状態を示すものの一例で
あり、以下、本発明をこれらの図示装置を参照して詳し
くのべる。
コノパワートランジスタの製造工程をのヘルド、先ず、
所定のプレス加工法で仕上げられたリードフレームと称
す構体の枠体1と一体形成された半導体基板支持体の上
に所定半導体基板を、通常のダイボンド法で固定したの
ち、各電極結線を行なって、ついで、これを成型樹脂2
で封止する。1)り記リードフレーム1はこれに多数の
外部リード3を連結してなり、そのうちの1つが半導体
基板支持体につながっている。そして、前記外部リード
3と半導体基板上の各電極とは、たとえば、アルミニウ
ム細線で結線される。また、前記成型樹脂2の外枠他端
に突出し、もう1つの枠体4に連結された細条6は半導
体基板支持体とつ、なかっておリ、前記成型樹脂2の形
成時に半導体基板支持体の浮動を阻止する、いわゆる位
置規正に用いるものである。すなわち、この半導体基板
支持体の位置規正用細条5は、樹脂成形時の金型と同半
導体基板支持体との間の位置を規正し、同半導体基板支
持体の裏面に薄く均一な樹脂層を形成し、同樹脂層が十
分な電気的絶縁とともに、放熱効果の支障とならないよ
うにするためのものである。
樹脂成形工程が完了すると、第1図中のX−XおよびY
−Yの線に沿って切断し、前記外部リード3とその枠体
1および前記細条6とその枠体4をそれぞれ切り放して
、第2図の半導体装置単体を得る。ところが、単に枠体
1および枠体4から切り放しただけの上記半導体装置は
、前記細条6の切断端面が前記成型樹脂2の外面から突
出したままの状態であり、これを電子機器の所定位置に
取り付けた際、前記細条6Ω切断端面での接触事故ない
しは絶縁不良の発生の危惧がある。なお、外形構造中に
設けられた貫通孔6は、この半導体装置を電子機器に組
み込む際に用いる取付は孔である。
本発明は、前記細条6の切断端面の突出部を除去する工
程をそなえることにより、上述の問題点をも排除し、安
定な半導体装置を提供するものである。
第3図は本発明の実施によって実現した半導体装置の一
部切欠断面図であり、前記細条5の切断端面の突出部を
化学的に溶解除去して、同端面を前記成型樹脂2の外面
から窪む位置まで引っ込めたものである。前記細条6の
切断端面の突出部を取り除く方法は、強酸(例えば、塩
酸)で前記突出部の金属面を食刻除去する工程による。
また、前記細条6は、鋼材を主体としたものであるから
、この部分を機械的方法、たとえば、ドリルで研削する
ことによっても、その端面を前記成型樹脂2の外面から
窪む位置まで削り除くことがcif能である。なお、図
中の7が放熱板を兼ねる半導(4,に仮支持体である。
さらに、前記細条5の端面部は、上記の除去り程で形成
された窪み部分に絶縁性樹脂を−詰め込むことにより、
一段と安定化がはかられる。すなわちζこの端面が絶縁
性樹脂で覆われていると、塵埃の堆積、あるいは端面金
属の腐食物生成による絶縁性の劣化が少なく、経時安定
性が良好である。
以上に実施例で詳しくのべたように、本発明は、放熱板
を兼ねる半導体基板支持体の一方の側から導出される外
部リードをつなぐ枠体と、前記半導体基板支持体の他方
の側から導出される細条をつなぐ枠体とを有するリード
フレームを用いて、所定半導体基板を前記支持体に固定
して、樹脂封止成型したのち、前記外部リードをつなぐ
枠体およ′び前記細条をつなぐ枠体を切断除去する〒程
ならびに前記細条の切断端面を前記樹脂封止成型部の外
向から窪む位置まで除去する工程をそなえたことを特徴
とする樹脂封止形半導体装置の製造方法である3本発明
によれば、放熱特性ならびに電子機器類に装着して使用
する際の絶縁性を十分に保障し得る樹脂成形工程の大型
半導体装置を実現することができ、同半導体装置の信頼
性を向上させることができる。    °′
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は本発明の実施過程における状態を
示す斜視図、第3図は本発明の実施例により得られた半
導体装置の一部切欠断面図である。 1−、、、、リードフレームの枠体、2・・・・・・成
型樹脂、3・・・・・・外部リード、4・・・・・・枠
体、5・・・・・・細条、6・・・・・・貫通孔、7・
・・・・・半導体屑板支持体。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名S 第2図 413  図 2

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 放熱板を兼ねる半導体基板支持体の一方の側から導出さ
    れる外部リードをつなぐ枠体と、前記半導体基板支持体
    の他方の側から導出される細条をつなぐ枠体とを有する
    リードフレームを用いて、所定半導体基板を前記支持体
    に固定して、樹脂封止成型したのち、前記外部リードを
    つなぐ枠体および前記細条をつなぐ枠体を切断除去する
    工程ならびに前記細条の切断端面を前記樹脂封止成型部
    の外面から窪む位置まで除去する工程をそなえたことを
    特徴とする樹脂封止形半導体装置の製造方法。
JP57026285A 1982-02-19 1982-02-19 樹脂封止形半導体装置の製造方法 Granted JPS58143538A (ja)

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JPH0424856B2 JPH0424856B2 (ja) 1992-04-28

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60128645A (ja) * 1983-12-16 1985-07-09 Hitachi Ltd 絶縁型パワートランジスタの製造方法
JPS60128646A (ja) * 1983-12-16 1985-07-09 Hitachi Ltd 絶縁型パワートランジスタの製造方法
JPS60172346U (ja) * 1984-04-23 1985-11-15 新電元工業株式会社 樹脂密封型半導体装置
JPS60247952A (ja) * 1984-05-23 1985-12-07 Nec Corp 樹脂絶縁形半導体装置
US4637130A (en) * 1981-03-05 1987-01-20 Matsushita Electronics Corporation Method for manufacturing a plastic encapsulated semiconductor device and a lead frame therefor
JPS62180957U (ja) * 1986-05-06 1987-11-17

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4637130A (en) * 1981-03-05 1987-01-20 Matsushita Electronics Corporation Method for manufacturing a plastic encapsulated semiconductor device and a lead frame therefor
JPS60128645A (ja) * 1983-12-16 1985-07-09 Hitachi Ltd 絶縁型パワートランジスタの製造方法
JPS60128646A (ja) * 1983-12-16 1985-07-09 Hitachi Ltd 絶縁型パワートランジスタの製造方法
JPH0527261B2 (ja) * 1983-12-16 1993-04-20 Hitachi Ltd
JPH0530070B2 (ja) * 1983-12-16 1993-05-07 Hitachi Ltd
JPS60172346U (ja) * 1984-04-23 1985-11-15 新電元工業株式会社 樹脂密封型半導体装置
JPS60247952A (ja) * 1984-05-23 1985-12-07 Nec Corp 樹脂絶縁形半導体装置
JPS62180957U (ja) * 1986-05-06 1987-11-17

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