JPS58134077A - 新規なインド−ル酢酸エステル誘導体及びその製造法 - Google Patents
新規なインド−ル酢酸エステル誘導体及びその製造法Info
- Publication number
- JPS58134077A JPS58134077A JP1509982A JP1509982A JPS58134077A JP S58134077 A JPS58134077 A JP S58134077A JP 1509982 A JP1509982 A JP 1509982A JP 1509982 A JP1509982 A JP 1509982A JP S58134077 A JPS58134077 A JP S58134077A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なインドール酢酸エステル誘導体、更に詳
細には1次の一般式(1) 〔式中、Rは水素原子、基−coi’t1(ここでR1
はアルキル基、アルケニル基を示す)又は基−COC=
C−几、(ここで82は水素原子、ハロゲンi子、シア
ノ基、低級アルキル基、フェニル基t 、 kl’sは
水素原子、低級アルキル基、フェニル基k 、R4は低
級アルキル基、低級アルキルオキシ基、アシルオキシ基
又はハロゲン原子で置換されていても良いフェニル基を
示す)を示す〕で表わされるインドール酢酸エステル誘
導体並びにその製造法に関する。
細には1次の一般式(1) 〔式中、Rは水素原子、基−coi’t1(ここでR1
はアルキル基、アルケニル基を示す)又は基−COC=
C−几、(ここで82は水素原子、ハロゲンi子、シア
ノ基、低級アルキル基、フェニル基t 、 kl’sは
水素原子、低級アルキル基、フェニル基k 、R4は低
級アルキル基、低級アルキルオキシ基、アシルオキシ基
又はハロゲン原子で置換されていても良いフェニル基を
示す)を示す〕で表わされるインドール酢酸エステル誘
導体並びにその製造法に関する。
現在、インドメタシンは非ステロイド性消炎鎮痛剤とし
て頭痛、歯痛、腰痛、筋肉痛及びリウマチ性疾患等の治
療に繁用されている医薬である。
て頭痛、歯痛、腰痛、筋肉痛及びリウマチ性疾患等の治
療に繁用されている医薬である。
しかしながら、インドメタシンを経口投与した場合、潰
瘍発生を伴なう胃腸障害等の副作用の発生が知られてい
た。すなわち、リウマチ性疾患の治療の如く長期間投与
が必要な場合のみならず短期間投与の場合でさえ胃の充
血、出血等の好ましくない症状を惹き起すことも少なく
なく、その投与方法、投与量□が制限されているのが現
状であった。 □[・ そこで、本発明者らはイノ□・・1::上゛メタン/の
上記副作用を軽減すべく鋭意研究をおこなった結果、イ
ンドメタシンに゛ブタンジオール化合物を反応させて得
られた前記式(11で表わされるインドール酢酸エステ
ル誘導体はインドメタシンと同等の消炎鎮痛作用を有し
ながらその副作用はインドメタシンと比べ非常に軽微で
あることを見出し本発明を完成した。
瘍発生を伴なう胃腸障害等の副作用の発生が知られてい
た。すなわち、リウマチ性疾患の治療の如く長期間投与
が必要な場合のみならず短期間投与の場合でさえ胃の充
血、出血等の好ましくない症状を惹き起すことも少なく
なく、その投与方法、投与量□が制限されているのが現
状であった。 □[・ そこで、本発明者らはイノ□・・1::上゛メタン/の
上記副作用を軽減すべく鋭意研究をおこなった結果、イ
ンドメタシンに゛ブタンジオール化合物を反応させて得
られた前記式(11で表わされるインドール酢酸エステ
ル誘導体はインドメタシンと同等の消炎鎮痛作用を有し
ながらその副作用はインドメタシンと比べ非常に軽微で
あることを見出し本発明を完成した。
すなわち、本発明の目的に、非ステロイド性消炎鎮痛剤
として有用な新規なインドール酢酸エステル誘導体(1
)を提供せんとするにある0また、本発明の他の目的は
、新規なインドール酢酸エステル誘導体(111に製造
する方法を提供せんとするにある。
として有用な新規なインドール酢酸エステル誘導体(1
)を提供せんとするにある0また、本発明の他の目的は
、新規なインドール酢酸エステル誘導体(111に製造
する方法を提供せんとするにある。
本発明の化合物(11は、例えば次のいずれかの方法に
より公知のエステル化反応を利用して製造することがで
きる。
より公知のエステル化反応を利用して製造することがで
きる。
■ インドメタシン(Ill又はその反応性誘導体に2
.3−ブタンジオール(1) e反応させてインドール
酢酸ニス1ル(la)を製造する。
.3−ブタンジオール(1) e反応させてインドール
酢酸ニス1ル(la)を製造する。
・、′:、。
以下余白
7)i3
■ ■で得られたインドール酢酸エステル(Ia)に、
カルボン酸頭又はその反応性誘導体を反応させてインド
ール酢酸エステル誘導体(Ib)を製造する。
カルボン酸頭又はその反応性誘導体を反応させてインド
ール酢酸エステル誘導体(Ib)を製造する。
C−e(lb)
味する〕
■ 2.3−ブタンジオールモノエステル誘導体(■に
インドメタシン(nl又はその反応性誘導体を反応させ
て、インドール酢酸エステル誘導体(Ib)を製造する
。
インドメタシン(nl又はその反応性誘導体を反応させ
て、インドール酢酸エステル誘導体(Ib)を製造する
。
(式中R,は前記と同じ)
本方法において、インドメタシン(田)及びカルボン1
11Φ)の反応性誘導体としては、酸ノ−ロゲ二ド、酸
無水物、混合酸無水物等が挙げられ、この場合、反応は
ピリジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン等の第
三級アミン;炭酸アルカリ、水酸化アルカリ、水素化ア
ルカリ等の脱酸剤の存在下行うのが好ましい。
11Φ)の反応性誘導体としては、酸ノ−ロゲ二ド、酸
無水物、混合酸無水物等が挙げられ、この場合、反応は
ピリジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン等の第
三級アミン;炭酸アルカリ、水酸化アルカリ、水素化ア
ルカリ等の脱酸剤の存在下行うのが好ましい。
また上記反応は適当な反応溶媒中でおこなうことが好ま
しく、反応溶媒としてはエーテル。
しく、反応溶媒としてはエーテル。
テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、クロロホル
ム、ジクロルメタン等の反応に関与しない溶媒が好まし
い。
ム、ジクロルメタン等の反応に関与しない溶媒が好まし
い。
斯くの如くして得られる本発明化合物(1)の消炎効果
及び潰瘍形成抑制効果について試験した結果を示す。
及び潰瘍形成抑制効果について試験した結果を示す。
○薬理作用
体重200?前後の雄性ドンリュウ系ラットを一群7匹
とし48時間絶食した後、被検化合物’t−1sカルボ
キシメチルセルロースナトリウム水溶液に懸濁して経口
投与した。被検化合物投与60分後2ットの足跳容積を
容積測定器を用いて測定し1次、[いて1チ力ラゲニン
生理食塩1 水溶液の0.11を右後肢足跳皮下に注入し、3時間後
における浮腫強度を196カルボキシメチルセルロース
ナトリウム水溶液を投与した対照群と比較して浮腫抑制
率を求めた。
とし48時間絶食した後、被検化合物’t−1sカルボ
キシメチルセルロースナトリウム水溶液に懸濁して経口
投与した。被検化合物投与60分後2ットの足跳容積を
容積測定器を用いて測定し1次、[いて1チ力ラゲニン
生理食塩1 水溶液の0.11を右後肢足跳皮下に注入し、3時間後
における浮腫強度を196カルボキシメチルセルロース
ナトリウム水溶液を投与した対照群と比較して浮腫抑制
率を求めた。
更に4時間後にラットを屠殺して、食前を摘出し、胃損
傷抑制効果を潰瘍係数で示した。
傷抑制効果を潰瘍係数で示した。
この結果を第1表に示す。
第1表から明らかな如く、本発明化合物は、カラゲニン
浮腫に対し高い抑制率を示すとともに、非ステロイド性
消炎鎮痛物質の副作用である潰瘍発生が非常に軽微であ
ることが明らかに認められた。
浮腫に対し高い抑制率を示すとともに、非ステロイド性
消炎鎮痛物質の副作用である潰瘍発生が非常に軽微であ
ることが明らかに認められた。
次に本発明の実施例を挙けて説明する0実施例1(化合
物lの合成) インドメタシン17.9)iベンゼン200*jに懸濁
し、これに塩化チオニル20M11を加え60〜70C
で5時間攪拌した。反応後、過剰の塩化チオニル及びベ
ンゼンを減圧留去して淡黄色結晶のインドメタシンの酸
クロリドt−Sた0この酸クロリドをテトラヒドロフラ
ンsomeに1%し、2.3−ブタンジオール4.5
) 、ピリジン1G11!及びテトラハイドロフラン1
50ay/の混液中VC少しずつ滴下した。滴下後室温
にて4時間攪拌し、溶媒を減圧留去した0残渣をクロロ
ホルムに転溶し、水、10Is塩酸、水の順に洗い無水
硫酸マグネシウムにて乾燥した。クロロホルムを留去し
残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル)にて精
製し、淡黄色結晶の第2表記載の化合物1. 15.5
)(収率72.1%)ft%た。
物lの合成) インドメタシン17.9)iベンゼン200*jに懸濁
し、これに塩化チオニル20M11を加え60〜70C
で5時間攪拌した。反応後、過剰の塩化チオニル及びベ
ンゼンを減圧留去して淡黄色結晶のインドメタシンの酸
クロリドt−Sた0この酸クロリドをテトラヒドロフラ
ンsomeに1%し、2.3−ブタンジオール4.5
) 、ピリジン1G11!及びテトラハイドロフラン1
50ay/の混液中VC少しずつ滴下した。滴下後室温
にて4時間攪拌し、溶媒を減圧留去した0残渣をクロロ
ホルムに転溶し、水、10Is塩酸、水の順に洗い無水
硫酸マグネシウムにて乾燥した。クロロホルムを留去し
残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル)にて精
製し、淡黄色結晶の第2表記載の化合物1. 15.5
)(収率72.1%)ft%た。
融点106〜108C
実施例2(化合物3の合成)
21.5)の化合物1.ヲテトラヒドロフラン15―に
溶解し、ピリジンl−を加え、水冷攪拌しながらエナン
ト酸クロリド0.78Pのエーテル溶液10111を滴
下した。同温度で30分、更に室温に戻して4時間攪拌
後、溶媒を減圧下留去し、残渣をクロロホルムに転溶し
て、水、10チ塩酸、水、飽和炭酸水素す) IJウム
溶液、水の順に洗い無水憾酸マグネシウムで乾燥した。
溶解し、ピリジンl−を加え、水冷攪拌しながらエナン
ト酸クロリド0.78Pのエーテル溶液10111を滴
下した。同温度で30分、更に室温に戻して4時間攪拌
後、溶媒を減圧下留去し、残渣をクロロホルムに転溶し
て、水、10チ塩酸、水、飽和炭酸水素す) IJウム
溶液、水の順に洗い無水憾酸マグネシウムで乾燥した。
クロロホルムを減圧下留去し残渣をカラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル)にて精製し黄色液体の第2表記載
の化合物3. 2.25P(収率83チ)を帰た〇 実施例3(化合物20の合成ン 2.3−ブタンジオール4.j 9−をテトラヒドロフ
ラン601に溶解しピリジン51を加え、氷55.1.
.1・’j’。
フィー(シリカゲル)にて精製し黄色液体の第2表記載
の化合物3. 2.25P(収率83チ)を帰た〇 実施例3(化合物20の合成ン 2.3−ブタンジオール4.j 9−をテトラヒドロフ
ラン601に溶解しピリジン51を加え、氷55.1.
.1・’j’。
冷攪拌下、α−クアノケイヒ酸ジクロリド9.51テト
ラヒドロフラン溶液30dを滴下した。
ラヒドロフラン溶液30dを滴下した。
同温良で30分、室温に戻して4時間攪拌後、溶媒を減
圧下留去し、残渣をクロロホルムに転溶した。クロロホ
ルム層を水、lOチ塩酸、水、飽和炭酸水素す) IJ
ウム溶液、水の順に洗い無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。クロロホルムを減圧下留去し、残渣をカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル)にて精製し淡黄色液体のモ
ノエステル体5.86i(収率48チ)を得た0このモ
ノエステル体2.45)’iテトラヒドロフラ゛/30
1に浴解し、ピリジン21を加え、水冷下撹拌しながら
、インドメタシンの酸クロリド3.76)のテトラヒド
ロフラン溶液201を滴下した。同温度で30分、更に
室温に戻して4時間攪拌後、溶媒を減圧下留去し、残渣
をクロロホルムに転溶して、水、10チ塩酸、水。
圧下留去し、残渣をクロロホルムに転溶した。クロロホ
ルム層を水、lOチ塩酸、水、飽和炭酸水素す) IJ
ウム溶液、水の順に洗い無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。クロロホルムを減圧下留去し、残渣をカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル)にて精製し淡黄色液体のモ
ノエステル体5.86i(収率48チ)を得た0このモ
ノエステル体2.45)’iテトラヒドロフラ゛/30
1に浴解し、ピリジン21を加え、水冷下撹拌しながら
、インドメタシンの酸クロリド3.76)のテトラヒド
ロフラン溶液201を滴下した。同温度で30分、更に
室温に戻して4時間攪拌後、溶媒を減圧下留去し、残渣
をクロロホルムに転溶して、水、10チ塩酸、水。
飽和炭酸水素す) 17ウム溶液、水の順に洗い無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。クロロホルムi・ を減圧下留去し1.残、渣tカラムクロマトグラフィ゛
・5 −(シリカゲル)にて精製し黄色液体の第2表記載の化
合物2α 4.15y−(収率71チ)を得た0 実施例4 実施例1.2又は3と同様にして第2表の化合物を得た
。尚表中には実施例1〜3で得た化合物もあわせて記載
した0 以下余白
酸マグネシウムで乾燥した。クロロホルムi・ を減圧下留去し1.残、渣tカラムクロマトグラフィ゛
・5 −(シリカゲル)にて精製し黄色液体の第2表記載の化
合物2α 4.15y−(収率71チ)を得た0 実施例4 実施例1.2又は3と同様にして第2表の化合物を得た
。尚表中には実施例1〜3で得た化合物もあわせて記載
した0 以下余白
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 次の一般式(1) 〔式中、Rは水素原子、基−COR,(ここでR,Fi
アルキル基、アルケニル基を示す〕又は基co−c=c
−几4(仁こで凡、は水素原子、ハロゲン原子、シアン
基、低級アルキル基、フェニル基t 、 Rs Fi、
水素原子、低級アルキル基、フェニル基を、几4は低級
アルキル基、低級アルキルオキシ基、アシルオキシ基又
はハロゲン原子で置換されていても良いフェニル基を示
す)を示す〕で表わされるインドール酢酸エステル誘導
体。 2、一般式([I で表わされる化合物又はその反応性誘導体に一般式1) で表わされる2、3−ブタンジオールを反応させること
11F−特徴とする一般式(Ia)以下余白 Q で表わされるインドール酢酸エステルの製造法。 3、一般式(la) CH3 で表わされるインドール竺’?、エステルに一般式() %式%) 〔式中、几、はアルキル基、アルケニル基、基−C=C
−R4(ここでRttit水素原子、ハロゲン原子、シ
アノ基、低級アルキル基、フェニル基を、Rsは水素原
子、低級アルキル基、フェニル基を、R,は低級アルキ
ル基、4級アルキルオキシ基、アシルオキシ基又はハロ
ゲン原子で置換されていても良いフェニル基を示す)を
示す〕で表わされるカルボン酸又はその反応性誘導体を
反応させること全特徴とする一般式(Ib)CH3 、(J (式中kL5は前詰:′・、と同じ) 1゜ で表わされるインドール酢酸エステル誘導体(7)製造
法。 4、一般式〇 OHOCO几。 (式中几、は前記と同じ) で表わされる2、3−ブタンジオールモノエステル誘導
体に一般式(n) で表わされる化合物又はその反応性誘導体を反応させる
ことを特徴とする一般式(Ib)CH。 鴎 (式中几、は前記と同じ) で表わされるインドール酢酸エステル誘導体の製造法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1509982A JPS58134077A (ja) | 1982-02-02 | 1982-02-02 | 新規なインド−ル酢酸エステル誘導体及びその製造法 |
CA000411293A CA1187488A (en) | 1982-02-02 | 1982-09-13 | Indoleacetic ester derivatives and process for preparing same |
GB08226787A GB2125786B (en) | 1982-02-02 | 1982-09-20 | Esters of indomethacin |
DE19823235850 DE3235850A1 (de) | 1982-02-02 | 1982-09-28 | Neue indolessigsaeureesterderivate und verfahren zur herstellung derselben |
IT49205/82A IT1149095B (it) | 1982-02-02 | 1982-10-05 | Derivati di estere in dolacetico e procedimento per preparli |
CH6750/82A CH649532A5 (de) | 1982-02-02 | 1982-11-19 | Indolessigsaeureesterderivate und verfahren zur herstellung derselben. |
FR8220317A FR2520739B1 (fr) | 1982-02-02 | 1982-12-03 | Nouveaux derives d'ester indoleacetique, leur procede de preparation et leur application en therapeutique |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1509982A JPS58134077A (ja) | 1982-02-02 | 1982-02-02 | 新規なインド−ル酢酸エステル誘導体及びその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58134077A true JPS58134077A (ja) | 1983-08-10 |
JPS6237623B2 JPS6237623B2 (ja) | 1987-08-13 |
Family
ID=11879389
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1509982A Granted JPS58134077A (ja) | 1982-02-02 | 1982-02-02 | 新規なインド−ル酢酸エステル誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58134077A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1994006769A1 (fr) * | 1992-09-16 | 1994-03-31 | Samjin Pharm. Co., Ltd. | Nouvel ester n-cinnamoyl-2-methyle-5-methoxy-3-indole acetique, production et preparation pharmaceutique contenant ledit ester |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0711322U (ja) * | 1993-07-29 | 1995-02-21 | 住友重機械プラスチックマシナリー株式会社 | 射出成形機 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52156862A (en) * | 1976-06-22 | 1977-12-27 | Hisamitsu Pharmaceut Co Inc | Novel indoleacetic acid ester derivatives |
JPS5476578A (en) * | 1977-11-28 | 1979-06-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | Novel indomethacin glyceride derivative |
JPS5490174A (en) * | 1977-12-27 | 1979-07-17 | Kanebo Ltd | Novel indomethacin derivatives and their preparation |
-
1982
- 1982-02-02 JP JP1509982A patent/JPS58134077A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52156862A (en) * | 1976-06-22 | 1977-12-27 | Hisamitsu Pharmaceut Co Inc | Novel indoleacetic acid ester derivatives |
JPS5476578A (en) * | 1977-11-28 | 1979-06-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | Novel indomethacin glyceride derivative |
JPS5490174A (en) * | 1977-12-27 | 1979-07-17 | Kanebo Ltd | Novel indomethacin derivatives and their preparation |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1994006769A1 (fr) * | 1992-09-16 | 1994-03-31 | Samjin Pharm. Co., Ltd. | Nouvel ester n-cinnamoyl-2-methyle-5-methoxy-3-indole acetique, production et preparation pharmaceutique contenant ledit ester |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6237623B2 (ja) | 1987-08-13 |
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