JPS58121131A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS58121131A JPS58121131A JP146282A JP146282A JPS58121131A JP S58121131 A JPS58121131 A JP S58121131A JP 146282 A JP146282 A JP 146282A JP 146282 A JP146282 A JP 146282A JP S58121131 A JPS58121131 A JP S58121131A
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高分子成形物基板上の、金属強磁性層を磁気
記録層とする蒸着テープ等の磁気記録媒体の製造方法に
係り、長尺で特性の均一な磁気記録媒体の製造に適した
方法の提供を目的とする。
記録層とする蒸着テープ等の磁気記録媒体の製造方法に
係り、長尺で特性の均一な磁気記録媒体の製造に適した
方法の提供を目的とする。
蒸着テープは短波長記録に適する媒体として、１０００
年代初めから期待されていたが、耐久性、耐蝕性等の面
での課題の克服に多くの時間を必要として、近年一部オ
ーディオ用途で実用化されたところである。
年代初めから期待されていたが、耐久性、耐蝕性等の面
での課題の克服に多くの時間を必要として、近年一部オ
ーディオ用途で実用化されたところである。
おり、その場合長尺方向、幅方向に均一な特性を得るこ
とに関し、磁気特性の制御では、実用レベルの精度が達
成されているものの、実用性能面からは改良を必要とす
る課題が残っている。
とに関し、磁気特性の制御では、実用レベルの精度が達
成されているものの、実用性能面からは改良を必要とす
る課題が残っている。
そのひとつは、長尺のテープで比較検討した時磁気特性
は全く同一でも出力変動が異なることで、もうひとつは
ノイズが異なってくることである。
は全く同一でも出力変動が異なることで、もうひとつは
ノイズが異なってくることである。
本発−考は、媒体の表面性に有意差かあることをつきと
め、製造時のどこにかかる有意差音引き起す原因がある
かを詳細に検討して本発明を完成させたものである。以
下に本発明の説明を行う。
め、製造時のどこにかかる有意差音引き起す原因がある
かを詳細に検討して本発明を完成させたものである。以
下に本発明の説明を行う。
第１図は本発明を実施するための製造装置の要部を示し
、第２図は他の要部を示す。
、第２図は他の要部を示す。
図に示すように基板１は、回転支持体２に沿って、送り
出し軸３より巻取り軸４へと移動オる際蒸発源６より放
射される強磁性物質の蒸気流により、マスク６で一部入
射角の限定を受けた状態で蒸着される。
出し軸３より巻取り軸４へと移動オる際蒸発源６より放
射される強磁性物質の蒸気流により、マスク６で一部入
射角の限定を受けた状態で蒸着される。
回転支持体２は内蔀に媒体を循環させて、表面するため
冷却作用を行う機能をも有している。なお回転支持体は
、冷却されたエンドレス状の金属の４板であってもいい
。
冷却作用を行う機能をも有している。なお回転支持体は
、冷却されたエンドレス状の金属の４板であってもいい
。
蒸着が、マスク６に限定されて終了したあと基板に冷却
されていくが、実用規模の高速で移動する場合、基板は
室部以上であり、通常の巻き取りでは回転支持体をはな
れて、次々に触れる金属ローラを、熱伝達作用により昇
温しある平衡温度に到達させる。
されていくが、実用規模の高速で移動する場合、基板は
室部以上であり、通常の巻き取りでは回転支持体をはな
れて、次々に触れる金属ローラを、熱伝達作用により昇
温しある平衡温度に到達させる。
そのため第１．第２０−ラ７，８（第２図では？’、
８’ ）を温度制御した時、その制御温度が基板のカラ
ス転移点Ｔ９を境にして特性の安定性と強い相関を有す
ることを見出したのである。第１図では第１０−２７が
蒸着面と反対側に、第２０−ラ８が蒸着面に接している
。第２図では逆に第１０−ラア′が蒸着面に、第２０−
ラ８′が蒸着面と反対側の面と接する。
８’ ）を温度制御した時、その制御温度が基板のカラ
ス転移点Ｔ９を境にして特性の安定性と強い相関を有す
ることを見出したのである。第１図では第１０−２７が
蒸着面と反対側に、第２０−ラ８が蒸着面に接している
。第２図では逆に第１０−ラア′が蒸着面に、第２０−
ラ８′が蒸着面と反対側の面と接する。
実際の巻取り系では金属ローラ数は、エキスパンダゴム
ローラの導入等により更に増すが、蒸着直後の２個のロ
ーラ（ローラ径によっては１１＠だけでも良い。）の温
度を管理すｆｔはよい桿１宋う・ｆｌすられる。
ローラの導入等により更に増すが、蒸着直後の２個のロ
ーラ（ローラ径によっては１１＠だけでも良い。）の温
度を管理すｆｔはよい桿１宋う・ｆｌすられる。
しかし３個以上のローラの温度を管理することを阻むも
のではないのは勿論である。
のではないのは勿論である。
ローラの表面粗さも、モ滑であることが好ましいが実際
の管理水準から表面粗さ０．１Ｓ〜０．３Ｓ程度であれ
ば良い。
の管理水準から表面粗さ０．１Ｓ〜０．３Ｓ程度であれ
ば良い。
最も重要なことは、温度管理でＴｑ以下しζ制御するこ
とであ一す、その時にはローラ表面に傷が入って最大粗
さが０．６μｍを越えて１μｍになってもテープ表面に
損傷を与えないことは注目すべきである。
とであ一す、その時にはローラ表面に傷が入って最大粗
さが０．６μｍを越えて１μｍになってもテープ表面に
損傷を与えないことは注目すべきである。
次に具体的に本発明の詳細な説明する。
〔実施例１〕
直径１０００■の回転支持体を２６゛Ｃに保持し、３６
ｍ ／ ｍｉｎの速度で移動するポリエチレンテレフ
タレートフィルム＜ Ｔｇ＝６９．５’Ｃ） （厚み
９．５μｍ）上に、電子ビーム蒸着により、２．６×１
０＝Ｔｏｒｒ の酸素雰囲気中でＣｏ８６％Ｎｉ１６チ
の強磁性層を入射角４０°以上で０．１３μｍの厚さに
形成し、巻き取り側のローラを４０゛Ｃ±６’Ｃに制御
した七で巻き取り、−インチのテープを作成した。
ｍ ／ ｍｉｎの速度で移動するポリエチレンテレフ
タレートフィルム＜ Ｔｇ＝６９．５’Ｃ） （厚み
９．５μｍ）上に、電子ビーム蒸着により、２．６×１
０＝Ｔｏｒｒ の酸素雰囲気中でＣｏ８６％Ｎｉ１６チ
の強磁性層を入射角４０°以上で０．１３μｍの厚さに
形成し、巻き取り側のローラを４０゛Ｃ±６’Ｃに制御
した七で巻き取り、−インチのテープを作成した。
このテープについて全長３０００ ｍに渡って、再生出
力変動を調べた。なおこのときの記録波長はＱ、７１ｚ
ｍである。
力変動を調べた。なおこのときの記録波長はＱ、７１ｚ
ｍである。
その結果得られた出力変動は±０．６ｄＢであった。−
力木発明によらない製造方法によるものでは蒸着の最初
から９００ｍまでは出力変動が±ｏ、ｅｄＢの範囲であ
っタカ、１０００ｍから３０００ ｍ Ｋ至るまで、周
期をもたないくり返し現象の出力変動の大きい領域の出
現が観察されたつその最大変動幅は±３．２ｄＢと桁違
いに大きいものであった。
力木発明によらない製造方法によるものでは蒸着の最初
から９００ｍまでは出力変動が±ｏ、ｅｄＢの範囲であ
っタカ、１０００ｍから３０００ ｍ Ｋ至るまで、周
期をもたないくり返し現象の出力変動の大きい領域の出
現が観察されたつその最大変動幅は±３．２ｄＢと桁違
いに大きいものであった。
〔実施例２〕
直径１０００ＴＨＩの回転支持体’１ ｓ ’ｃに保持
し、ａ ｏ ｍ ／ ｍｉｎの速度で移動する ポリエ
チレンテレフタレートフィルム（Ｔｑニア０″Ｃ）の両
面に微小の突起を有する塗布層を有す基板上（厚み１１
．５７１ｍ）に、電子ビーム蒸着により、３Ｘ１０−５
Ｔｏｒｒの酸素雰囲気中でＣｏ ８０ ％ Ｎｉ２Ｏ％
の強磁性層を入射角４３°以上で０．１μｍの厚さに形
成し、巻き取り側のローラを３Ｑ０士３″Ｃに制御した
上で巻き取り、−インチのテープを作成した。
し、ａ ｏ ｍ ／ ｍｉｎの速度で移動する ポリエ
チレンテレフタレートフィルム（Ｔｑニア０″Ｃ）の両
面に微小の突起を有する塗布層を有す基板上（厚み１１
．５７１ｍ）に、電子ビーム蒸着により、３Ｘ１０−５
Ｔｏｒｒの酸素雰囲気中でＣｏ ８０ ％ Ｎｉ２Ｏ％
の強磁性層を入射角４３°以上で０．１μｍの厚さに形
成し、巻き取り側のローラを３Ｑ０士３″Ｃに制御した
上で巻き取り、−インチのテープを作成した。
このテープの記録波長０．７μｍでの再生出力変動は全
長４０００ｍに渡って±ｏ、ｓｄＢであった。
長４０００ｍに渡って±ｏ、ｓｄＢであった。
一方従来法により製造したテープは、１８０゜ｍ以降よ
り急激に出力変動が犬となり、最大上ｓ、２ｄＢとなっ
た。又ノイズの増加も目立った。
り急激に出力変動が犬となり、最大上ｓ、２ｄＢとなっ
た。又ノイズの増加も目立った。
なお実施例１，２で用いたフィルムの蒸着面の反対側に
グラファイト’を分散させたエポキシ層を０、ｆμｍの
厚さに塗布したものを用い一インチのテープとしたもの
でも同様に性能が改良されていることか確認された。
グラファイト’を分散させたエポキシ層を０、ｆμｍの
厚さに塗布したものを用い一インチのテープとしたもの
でも同様に性能が改良されていることか確認された。
そして、前述のような効果は、ポリアセテート。
ポリイミド、ポリアミド等の基板の種類及び厚みによら
ないことと、磁性層の種類及び厚みによらないことも確
認された。
ないことと、磁性層の種類及び厚みによらないことも確
認された。
以上の説明から明らかなように、本発明によると長尺方
向における出力変動が小さいなど特性か均一で高性能の
磁気記録媒体を安定に製造し得ることとなり、その工業
的有価値性は大きい。
向における出力変動が小さいなど特性か均一で高性能の
磁気記録媒体を安定に製造し得ることとなり、その工業
的有価値性は大きい。
第１図、第２図はそれぞれ本発明による製造方法を実施
する場合に用いられる製造装置の要部を示す図である。 １ 、、、、、、基板、２ 、、、、、、回転支持体、
６ 、、、、、。 蒸発源、−ｒ 、 ７’、 ８．８’ Ｉｌ、Ｔ、、、
ローラ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図
する場合に用いられる製造装置の要部を示す図である。 １ 、、、、、、基板、２ 、、、、、、回転支持体、
６ 、、、、、。 蒸発源、−ｒ 、 ７’、 ８．８’ Ｉｌ、Ｔ、、、
ローラ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図
Claims (1)
- 支持体に沿って移動する高分子成形物基板上に蒸着法に
より強磁性層を形成した後、前記基板のカラス転移点を
Ｔｑとする時、表面温度がＴｑ以下に制御されたローラ
にて前記基板を巻き取ることを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP146282A JPS58121131A (ja) | 1982-01-07 | 1982-01-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP146282A JPS58121131A (ja) | 1982-01-07 | 1982-01-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58121131A true JPS58121131A (ja) | 1983-07-19 |
| JPH0334132B2 JPH0334132B2 (ja) | 1991-05-21 |
Family
ID=11502122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP146282A Granted JPS58121131A (ja) | 1982-01-07 | 1982-01-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58121131A (ja) |
-
1982
- 1982-01-07 JP JP146282A patent/JPS58121131A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0334132B2 (ja) | 1991-05-21 |
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