JPS641854B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS641854B2 JPS641854B2 JP4985381A JP4985381A JPS641854B2 JP S641854 B2 JPS641854 B2 JP S641854B2 JP 4985381 A JP4985381 A JP 4985381A JP 4985381 A JP4985381 A JP 4985381A JP S641854 B2 JPS641854 B2 JP S641854B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roller
- thin film
- plastic substrate
- cooling
- surface roughness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 17
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 12
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 claims 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 25
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 25
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 9
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 8
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
本発明は、プラスチツク基体上に蒸着、スパツ
タリング等の方法を用いて、薄膜（例えば強磁性
体薄）を形成するに際して、熱の影響によるプラ
スチツク基板の変形、プラスチツク基体を案内す
るローラ表面からの形状転写等が生じない薄膜形
成装置を提供せんとするものである。 通常、プラスチツク基体上に薄膜、例えば強磁
性薄膜を形成する場合、図に示すような装置によ
り行われている。図において、１はプラスチツク
基体２を巻回した供給リールであり、軸３に対し
て回動自在に取り付けられている。４はプラスチ
ツク基体２を案内、搬送する複数個の回動ローラ
であり、それぞれ軸５に対して回動自在に取り付
けられている。６は強磁性薄膜をプラスチツク基
体２に蒸着形成するための蒸着源である。７はプ
ラスチツク基体２の冷却ローラであり軸８に対し
て回動自在に取り付けられている。冷却ローラ７
は、プラスチツク基体２を案内、搬送する役目と
ともに、蒸着源よりの蒸発分子がプラスチツク基
体２に到達した際に、プラスチツク基体２に与え
られる熱を冷却し、プラスチツク基体２が熱変形
するのを防止する役目を持つものである。９は薄
膜が形成されたプラスチツク基体２を巻取るため
の巻取リールであり、軸１０に対して回動自在に
取り付けられている。供給リール１から送出され
たプラスチツク基体２は、回動ローラ４を介して
冷却ローラ７へ導びかれ、ここで、蒸着源５によ
り、プラスチツク基体２上に強磁性薄膜が形成さ
れ、さらに回動ローラ４を介して巻取リール９に
巻回される。上記の一連の動作は、すべて真空槽
１１内で行なわれる。 以上の構成の薄膜形成装置によつて、プラスチ
ツク基体上に薄膜を形成する訳であるが、近年、
磁気記録再生技術分野では長時間記録再生の要請
から、記録信号の波長はますます短波長化してお
り、これに伴つて蒸着によつて形成すべき磁性層
の膜厚も例えば1000Å程度と、かなり薄くなつて
きている。このように、極度に薄い磁性層を有す
る磁気テープにおいては、プラスチツク基体のわ
ずかな変形でも出力レベル変動の原因となる。図
に示す真空蒸着装置において、プラスチツク基体
２の変形は主として冷却ローラ７上で発生する。
すなわち、蒸着源６より飛来した強磁性材料より
プラスチツク基体２に与えられた熱が冷却ローラ
７によつて十分な速度で吸収されないため、残つ
た若干の熱によつて、プラスチツク基体２が熱変
形したり、冷却ローラ表面の凹凸形状（従来は
0.3s以上）が転写され、これらが出力レベル変動
の原因となるという問題点が生ずる。 本発明は、真空内薄膜形成装置において発生す
る、上記のようなプラスチツク基体の熱変形、形
状転写を防止せんとするものである。 以下に、本発明について詳細に説明する。 本発明は、プラスチツク基体（場合によつては
プラスチツク基体上に形成された薄膜）に接触す
る冷却用ローラの表面及び途中の搬送用回転ロー
ラの一部又はすべての表面を0.05s〜0.2sの表面粗
さに仕上げ、かつビツカース硬度でHV＝650〜
2000の材料で構成することを特徴とするものであ
る。 第１表にプラスチツク基体に接触するローラの
円筒面の表面粗さと熱影響による変形及び形状転
写との関係を示す。資料としては2μｍ〜20μｍの
ポリエチレンテフタレート基体上に800〜1300Å
の膜厚を有するCo系磁性層を有する磁気テープ
を用いた。第１表で丸印は、これ等の磁気テープ
を用いて記録再生を行なつた場合、出力レベル変
動がほとんどないもの、△印は、やや出力レベル
変動があるが実用上問題ないもの、×印は出力変
動が大きく問題があるものを示す。
タリング等の方法を用いて、薄膜（例えば強磁性
体薄）を形成するに際して、熱の影響によるプラ
スチツク基板の変形、プラスチツク基体を案内す
るローラ表面からの形状転写等が生じない薄膜形
成装置を提供せんとするものである。 通常、プラスチツク基体上に薄膜、例えば強磁
性薄膜を形成する場合、図に示すような装置によ
り行われている。図において、１はプラスチツク
基体２を巻回した供給リールであり、軸３に対し
て回動自在に取り付けられている。４はプラスチ
ツク基体２を案内、搬送する複数個の回動ローラ
であり、それぞれ軸５に対して回動自在に取り付
けられている。６は強磁性薄膜をプラスチツク基
体２に蒸着形成するための蒸着源である。７はプ
ラスチツク基体２の冷却ローラであり軸８に対し
て回動自在に取り付けられている。冷却ローラ７
は、プラスチツク基体２を案内、搬送する役目と
ともに、蒸着源よりの蒸発分子がプラスチツク基
体２に到達した際に、プラスチツク基体２に与え
られる熱を冷却し、プラスチツク基体２が熱変形
するのを防止する役目を持つものである。９は薄
膜が形成されたプラスチツク基体２を巻取るため
の巻取リールであり、軸１０に対して回動自在に
取り付けられている。供給リール１から送出され
たプラスチツク基体２は、回動ローラ４を介して
冷却ローラ７へ導びかれ、ここで、蒸着源５によ
り、プラスチツク基体２上に強磁性薄膜が形成さ
れ、さらに回動ローラ４を介して巻取リール９に
巻回される。上記の一連の動作は、すべて真空槽
１１内で行なわれる。 以上の構成の薄膜形成装置によつて、プラスチ
ツク基体上に薄膜を形成する訳であるが、近年、
磁気記録再生技術分野では長時間記録再生の要請
から、記録信号の波長はますます短波長化してお
り、これに伴つて蒸着によつて形成すべき磁性層
の膜厚も例えば1000Å程度と、かなり薄くなつて
きている。このように、極度に薄い磁性層を有す
る磁気テープにおいては、プラスチツク基体のわ
ずかな変形でも出力レベル変動の原因となる。図
に示す真空蒸着装置において、プラスチツク基体
２の変形は主として冷却ローラ７上で発生する。
すなわち、蒸着源６より飛来した強磁性材料より
プラスチツク基体２に与えられた熱が冷却ローラ
７によつて十分な速度で吸収されないため、残つ
た若干の熱によつて、プラスチツク基体２が熱変
形したり、冷却ローラ表面の凹凸形状（従来は
0.3s以上）が転写され、これらが出力レベル変動
の原因となるという問題点が生ずる。 本発明は、真空内薄膜形成装置において発生す
る、上記のようなプラスチツク基体の熱変形、形
状転写を防止せんとするものである。 以下に、本発明について詳細に説明する。 本発明は、プラスチツク基体（場合によつては
プラスチツク基体上に形成された薄膜）に接触す
る冷却用ローラの表面及び途中の搬送用回転ロー
ラの一部又はすべての表面を0.05s〜0.2sの表面粗
さに仕上げ、かつビツカース硬度でHV＝650〜
2000の材料で構成することを特徴とするものであ
る。 第１表にプラスチツク基体に接触するローラの
円筒面の表面粗さと熱影響による変形及び形状転
写との関係を示す。資料としては2μｍ〜20μｍの
ポリエチレンテフタレート基体上に800〜1300Å
の膜厚を有するCo系磁性層を有する磁気テープ
を用いた。第１表で丸印は、これ等の磁気テープ
を用いて記録再生を行なつた場合、出力レベル変
動がほとんどないもの、△印は、やや出力レベル
変動があるが実用上問題ないもの、×印は出力変
動が大きく問題があるものを示す。
【表】
第１表から、0.05s〜0.2sの表面粗さに仕上げた
ローラを用いた場合、熱影響、形状転写が少ない
ということが分かる。0.05s未満の表面粗さの場
合は表面の仕上げが困難であり、またローラ表面
と磁気テープの密着度が大きくなり、図に示した
装置内での搬送がスムーズに行なわれず、テープ
に不用の歪を与える等の点で問題が生ずる。 一方、ローラ表面を0.05s〜0.5sの表面粗さに形
成した場合においても、ローラ表面の硬度が小さ
い場合には、磁気テープとの接触により摩耗が大
きく表面が荒らされて短時間で0.5s以上の表面粗
さになつてしまい、初期の目的を達成できなくな
る。第２表に、ローラ表面の硬度とローラ寿命の
関係を示す。
ローラを用いた場合、熱影響、形状転写が少ない
ということが分かる。0.05s未満の表面粗さの場
合は表面の仕上げが困難であり、またローラ表面
と磁気テープの密着度が大きくなり、図に示した
装置内での搬送がスムーズに行なわれず、テープ
に不用の歪を与える等の点で問題が生ずる。 一方、ローラ表面を0.05s〜0.5sの表面粗さに形
成した場合においても、ローラ表面の硬度が小さ
い場合には、磁気テープとの接触により摩耗が大
きく表面が荒らされて短時間で0.5s以上の表面粗
さになつてしまい、初期の目的を達成できなくな
る。第２表に、ローラ表面の硬度とローラ寿命の
関係を示す。
【表】
ローラの寿命は、表面粗さが0.5s以上になつた
時点を基準として判断している。ローラ寿命とし
ては、ローラの交換に伴う種々の手数、コスト等
を考慮に入れれば最低20日は必要であると考えら
れる。一方、ローラの加工性、特に0.05〜0.5sの
表面粗さに仕上げるための表面仕上げ加工性に着
目すれば、硬度が大きくなる程困難となり、その
硬度がビツカース硬度で2000になると多大の手間
が必要となる。以上の点を考慮すれば、第２表か
ら、ビツカース硬度で650〜2000の範囲にある材
料を用いることが望ましいことが分かる。 本発明によると、以上説明したように、ローラ
として表面粗が0.05〜0.5sで、ビツカース硬度650
〜2000のものを用いることにより、長期間にわた
つて熱変形、形状転写等を生ずることなくプラス
チツク表面に薄膜を安定に形成できるものであ
る。
時点を基準として判断している。ローラ寿命とし
ては、ローラの交換に伴う種々の手数、コスト等
を考慮に入れれば最低20日は必要であると考えら
れる。一方、ローラの加工性、特に0.05〜0.5sの
表面粗さに仕上げるための表面仕上げ加工性に着
目すれば、硬度が大きくなる程困難となり、その
硬度がビツカース硬度で2000になると多大の手間
が必要となる。以上の点を考慮すれば、第２表か
ら、ビツカース硬度で650〜2000の範囲にある材
料を用いることが望ましいことが分かる。 本発明によると、以上説明したように、ローラ
として表面粗が0.05〜0.5sで、ビツカース硬度650
〜2000のものを用いることにより、長期間にわた
つて熱変形、形状転写等を生ずることなくプラス
チツク表面に薄膜を安定に形成できるものであ
る。
図は薄膜形成装置の構成例を示す図である。
１……供給リール、４……回動ローラ、６……
蒸着源、７……冷却ローラ、８……巻取リール、
１１……真空槽。
蒸着源、７……冷却ローラ、８……巻取リール、
１１……真空槽。
Claims (1)
- １ 真空槽内においてプラスチツクフイルム基体
上に薄膜形成用の素材粒子を付着させて薄膜を形
成するのに用いるものであつて、上記素材粒子の
付着により温度上昇する上記フイルム基体を冷却
するための冷却ローラと、上記フイルム基体を案
内するため案内ローラとを有する薄膜形成装置に
おいて、上記両ローラのうち少なくとも上記冷却
ローラのフイルム基体に接触する面が、ビツカー
ス硬度で650〜2000の表面硬度を有しかつ0.05s〜
0.2sの表面粗さを有することを特徴とする薄膜形
成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4985381A JPS57164438A (en) | 1981-04-01 | 1981-04-01 | Thin film forming device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4985381A JPS57164438A (en) | 1981-04-01 | 1981-04-01 | Thin film forming device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57164438A JPS57164438A (en) | 1982-10-09 |
| JPS641854B2 true JPS641854B2 (ja) | 1989-01-12 |
Family
ID=12842608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4985381A Granted JPS57164438A (en) | 1981-04-01 | 1981-04-01 | Thin film forming device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57164438A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5972655A (ja) * | 1982-10-20 | 1984-04-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
| EP0203582B1 (en) * | 1985-05-31 | 1991-03-27 | Hitachi Maxell Ltd. | Method and apparatus for making magnetic recording medium |
| JP2583969B2 (ja) * | 1988-05-26 | 1997-02-19 | 松下電器産業株式会社 | 磁気記録媒体の製造装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
-
1981
- 1981-04-01 JP JP4985381A patent/JPS57164438A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57164438A (en) | 1982-10-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6001446A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPS641854B2 (ja) | ||
| JPS6362656A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6228933A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置 | |
| JPS60239951A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH01264632A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 | |
| JPH0214423A (ja) | 磁気記録媒体製造用真空蒸着装置 | |
| JPS58121131A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS61187127A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS61196441A (ja) | 記録媒体の成膜法 | |
| JPH03130923A (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造装置 | |
| JP2000030964A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置及び製造方法 | |
| JPH01307918A (ja) | 磁気記録媒体、その製造方法および装置 | |
| JPH0334131B2 (ja) | ||
| JPH0833989B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6045271B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPS61196442A (ja) | 記録媒体の成膜法 | |
| JPS6074609A (ja) | 連続膜形成装置 | |
| JP2004055052A (ja) | 蒸着テープの製造方法 | |
| JPH0227523A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 | |
| JPH03141026A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS61196443A (ja) | 記録媒体の成膜法 | |
| JPS6156563B2 (ja) | ||
| JPS6124023A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS60209931A (ja) | 薄膜形成方法 |