JPH1180090A - 液晶性（メタ）アクリレート化合物、該化合物を含有する組成物及びこれを用いた光学異方体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 一般式(Ｉ) 【化１】 ［X¹；H、CH₃、P¹、P²；C1〜18の炭化水素鎖、Z¹；-COO
-、-OCO-、Y¹、Y²；単結合、-CH₂CH₂-、-CH₂O-、-OCH
₂-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-(CH₂)
₄-、-CH₂CH₂CH₂O-、-OCH₂CH₂CH₂-、-CH=CH-CH₂CH₂-、 -
CH₂CH₂CH₂O-、-OOCCOO-、j；0、1、n；0、1、R；H、ハロケ
゛ン、CN、C1〜20のアルキル、アルコキシ、アルケニル、アルケニルオキシ、CH₂=
CX¹COO-(P¹-Z¹)_j-P²-、環A、B、C；1,4-フェニレン、ヒ゜リシ゛ン-
2,5-シ゛イル、ヒ゜リミシ゛ン-2,5-シ゛イル、1,4-シクロヘキシレン、シ゛オキサン-
2,5-シ゛イル］で表わされる液晶性(メタ)アクリレート化合
物。 【効果】 プラスチックやガラス基板への塗布性に優
れ、配向の均一性及び膜厚の均一性に優れた位相差フィ
ルム等の光学異方体の作製に有用な材料である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学、表示、記録
材料、液晶ディスプレイの光学補償板や偏光プリズム材
料として利用される新規な液晶性（メタ）アクリレート
化合物、該化合物を液晶組成物及びこれを用いた光学異
方体に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ素子の表示品位の向上
と軽量化に応える光学補償板等の光学異方体の作製を可
能にする技術として、本発明者等は、特開平８−３１１
１号公報に、少なくとも２つの６員環を有する液晶性骨
格を部分構造として有する環状アルコール、フェノール
又は芳香族ヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル又は
メタクリル酸エステルを含有し、室温において液晶性を
示す重合性液晶組成物を配向させた状態において光重合
して得られる内部の配向構造が制御された光学異方体を
提案した。この公報に記載の重合性液晶組成物は、低分
子化合物から構成され、その粘度も低く、所望の配向状
態を迅速に達成することができるという長所を有してい
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、該重合
性液晶組成物をガラスやプラスチック等の基板に塗布す
る場合には、均一な厚みをもって塗布するのが困難とい
う問題があった。

【０００４】本発明が解決しようとする課題は、光学異
方体として有用な材料であって、迅速に所望の配向状態
となり、かつ、ガラスやプラスチック基板への良好な塗
布性を示す重合性液晶性化合物及び該化合物を含有する
重合性液晶組成物を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、液晶性
（メタ）アクリレート化合物の化学構造と、ガラス基板
やプラスチック基板への塗布性との相関について鋭意検
討した結果、特定の化学構造を有する液晶性（メタ）ア
クリレート化合物により、上記課題を解決できることを
見出し、本発明を完成するに至った。

【０００６】即ち、本発明は上記課題を解決するため
に、（１）一般式（Ｉ）

【０００７】

【化６】

【０００８】［式中、Ｘ¹ は水素原子又はメチル基を表
わし、Ｐ¹及びＰ²はそれぞれ独立的に炭素原子数１から
１８の２価の炭化水素基を表わし、Ｚ¹ は−ＣＯＯ−又
は−ＯＣＯ−を表わし、Ｙ¹及びＹ²はそれぞれ独立的
に、単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂
−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝Ｃ
Ｈ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂
ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂ＣＨ ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ
Ｈ₂ＣＨ₂−、 −ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−又は−ＯＯＣＣＯ
Ｏ−を表わし、ｊは０又は１の整数を表わし、ｎは０又
は１の整数を表わし、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、シ
アノ基、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アルコキシ
基、アルケニル基、アルケニルオキシ基又は一般式（I
I）

【０００９】

【化７】

【００１０】（式中、Ｘ² は水素原子又はメチル基を表
わし、Ｐ³及びＰ⁴はそれぞれ独立的に炭素原子数１から
１８の２価の炭化水素基を表わし、Ｚ² は−ＣＯＯ−又
は−ＯＣＯ−を表わし、ｋはそれぞれ独立的に０又は１
の整数を表わす。）で表わされる基を表わし、６員環
Ａ、Ｂ及びＣはそれぞれ独立的に、式

【００１１】

【化８】

【００１２】（式中、Ｗはハロゲン原子又はメチル基を
表わし、ｍは１〜４の整数を表わす。）で表わされる６
員環を表わし、ｎは０又は１を表わす。］で表わされる
液晶性（メタ）アクリレート化合物、

【００１３】（２）上記一般式（Ｉ）で表わされる液晶
性（メタ）アクリレート化合物を含有し、液晶相を示す
液晶組成物及び

【００１４】（３）上記（２）に記載の液晶組成物の重
合体から構成される光学異方体を提供する。

【００１５】

【発明の実施の形態】一般式（Ｉ）で表わされる液晶性
（メタ）アクリレート化合物の構造上の特徴は、６員環
Ａ、Ｂ、Ｃ及び連結基Ｙ¹、Ｙ²から構成される剛直な液
晶骨格の末端に位置するフレキシブルなスペーサー部分
において、（メタ）アクリロイルオキシ基に含まれるエ
ステル基以外に少なくとも一つのエステル結合を有する
点にある。これにより、１分子あたり多数のエステル基
が存在することによる粘度の増大と、多数のカルボニル
基の分極構造によりガラス表面等への親和性が増大する
結果、良好な塗布性が得られるものと考えられる。

【００１６】本発明の一般式（Ｉ）で表わされる液晶性
（メタ）アクリレート化合物（以下、本発明の化合物と
いう。）は、例えば、以下の方法によって合成すること
ができる。

【００１７】一般式（IV）

【００１８】

【化９】

【００１９】（式中、Ｐ¹、Ｐ²、Ｚ¹、Ｙ¹、Ｙ²、Ｒ、
ｊ、ｎ、６員環Ａ、Ｂ及びＣは、一般式（Ｉ）における
ものと同じものを表わす。）で表わされる化合物の水酸
基、又は、一般式（Ｖ）

【００２０】

【化１０】

【００２１】（式中、Ｐ¹、Ｐ²、Ｐ³、Ｐ⁴、Ｚ¹、Ｚ²、
Ｙ¹、Ｙ²、ｊ、ｋ、ｎ、６員環Ａ、Ｂ及びＣは、一般式
（Ｉ）におけるものと同じものを表わす。）で表わされ
る化合物の水酸基を、例えば、

【００２２】(1) トリエチルアミンの如き塩基存在下で
（メタ）アクリロイルクロリドの如き（メタ）アクリル
酸の酸ハロゲン化物との反応によりエステル化させる方
法、(2) 酸触媒存在下で（メタ）アクリル酸との反応に
よりエステル化させる方法、(3) ジシクロヘキシルカル
ボジイミドの如き縮合剤を用いて（メタ）アクリル酸と
の反応によりエステル化させる方法により製造すること
ができる。

【００２３】また、一般式（VI）

【００２４】

【化１１】

【００２５】（式中、Ｙ¹、Ｙ²、ｎ、Ｒ、６員環Ａ、Ｂ
及びＣは、一般式（Ｉ）におけるものと同じものを表わ
す。）で表わされる化合物の水酸基、又は一般式（VI
I）

【００２６】

【化１２】

【００２７】（式中、Ｙ¹、Ｙ²、ｎ、６員環Ａ、Ｂ及び
Ｃは、一般式（Ｉ）におけるものと同じものを表わ
す。）で表わされる化合物の水酸基を、一般に市販され
ているカルボキシル基を有する化合物、例えば、式

【００２８】

【化１３】

【００２９】で表わされる化合物（東亞合成株式会社製
の「Ｍ−５６００」）、式

【００３０】

【化１４】

【００３１】で表わされる化合物（共栄社化学株式会社
製の「ＨＯＡ−ＭＳ」）とを (1)ジシクロヘキシルカル
ボジイミドの如き縮合剤を用いてエステル化させる方
法、 (2)カルボキシル基をハロゲン化アシル基に変換し
た後に、エステル化させる方法、により製造することが
できる。

【００３２】本発明の化合物に迅速なる光重合性を要求
する場合、本発明の一般式（Ｉ）で表わされる化合物
は、一般式（Ｉ）において、Ｘ¹及びＸ²が、メチル基よ
りも水素原子である化合物が好ましい。

【００３３】また、本発明の化合物は、発明の目的か
ら、単体として液晶相、特にネマチック相、スメクチッ
クＡ相、スメクチックＣ相を示すことが好ましい。一般
式（Ｉ）において、Ｐ¹、Ｐ²、Ｐ³及びＰ⁴は、それぞれ
独立的に、炭素原子数１〜１８の２価の炭化水素基を選
択することができるが、Ｐ¹、Ｐ²、Ｐ³及びＰ⁴が、炭素
原子数が６以上である化合物は、液晶性が発現しにくく
なる傾向にあるため、Ｐ ¹、Ｐ²、Ｐ³及びＰ⁴が、それぞ
れ独立的に、炭素原子数１〜６のアルキレン基である化
合物が好ましく、炭素原子数１〜２のアルキレン基であ
る化合物が特に好ましい。

【００３４】また、一般式（Ｉ）において、ｎが０であ
る化合物は、液晶性が発現しにくくなる傾向にあるた
め、ｎが１である化合物が好ましい。また、環Ａ、Ｂ及
びＣは、化合物の屈折性を大きくすることができるた
め、１，４−フェニレン基であることが好ましい。ま
た、化合物の転移温度を調節し、誘電率の大きさを調節
する目的で、１，４−フェニレン基の１〜４個の水素原
子がハロゲン原子やメチル基で置換された化合物が好ま
しい。

【００３５】本発明の液晶組成物は、通常この技術分野
で液晶相と認識される相を示す組成物であれば特に制限
なく用いることができる。そのような液晶組成物の中で
も、液晶相として、ネマチック相、スメクチックＡ相、
（カイラル）スメクチックＣ相、コレステリック相を発
現するものが好ましい。また、（カイラル）スメクチッ
クＣ相を示す場合には、該（カイラル）スメクチックＣ
相の上の温度領域でスメクチックＡ相を、スメクチック
Ａ相を示す場合には、該スメクチックＡ相の上の温度領
域でネマチック相を、それぞれ発現する液晶組成物は、
良好な一軸の配向特性が得られるので好ましい。

【００３６】本発明の液晶組成物は、液晶相の温度領域
で紫外線を照射して、組成物中の（メタ）アクリレート
化合物を重合させる。本発明の液晶組成物は、室温付
近、即ち、少なくとも２０〜３０℃の温度範囲で液晶相
を発現するものが好ましい。例えば、（カイラル）スメ
クチックＣ相で本発明の液晶組成物に紫外線を照射し
て、組成物中の（メタ）アクリレート化合物を重合させ
る場合、室温付近、即ち、少なくとも２０〜３０℃の温
度範囲で（カイラル）スメクチックＣ相を発現するもの
が好ましい。

【００３７】本発明の液晶組成物中の一般式（Ｉ）で表
わされる化合物の割合は、ガラスやプラスチック基板へ
の良好な塗布性能を確保するために、２重量％以上であ
ることが好ましい。本発明の液晶組成物中の一般式
（Ｉ）で表わされる化合物の割合が２重量％よりも少な
い場合、塗布性能が低下する傾向にあるので好ましくな
い。

【００３８】また、本発明の液晶組成物には、一般式
（Ｉ）で表わされる化合物以外の化合物であって、分子
中に、通常この技術分野において液晶骨格と認められる
骨格と重合性官能基とを同時に有する重合性の液晶化合
物（以下、その他の重合性液晶化合物という。）を、９
８重量％以下の濃度で、特に制限なく添加することがで
きる。

【００３９】液晶骨格は、少なくとも２つ又は３つの６
員環を有するものが特に好ましい。重合性官能基として
は、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基、エポキシ
基、ビニルエーテル基、シンナモイル基、ビニル基等を
挙げることができるが、これらの中でも良好な光重合特
性が得られることから、アクリロイルオキシ基が特に好
ましい。一分子中に複数の重合性官能基を有する多官能
の重合性液晶化合物の場合には、重合性官能基の種類が
異なっていても良い。例えば、一分子中に２つの重合性
官能基を有する２官能の重合性液晶化合物の場合、一方
の重合性官能基がアクリロイルオキシ基、もう一方の官
能基がメタアクリロイルオキシ基又はビニルエーテル基
であっても良い。２官能の重合性液晶化合物は、多くの
種類が知られており、一般に、これらを重合させた場合
には、良好な耐熱性及び強度特性を得られることから、
好適に用いることができる。そのような２官能の重合性
液晶化合物としては、例えば、以下の式（１）〜（１
０）に挙げた化合物が挙げられるが、本発明の液晶組成
物に併用することができるその他の重合性液晶化合物
は、これらに限定されるものではない。

【００４０】

【化１５】

【００４１】（式中、シクロヘキサン環はトランスシク
ロヘキサン環を表わし、Ｘはハロゲン原子、シアノ基又
はメチル基を表わし、ｓは２〜１２の整数を表わす）。

【００４２】さらに本発明の液晶組成物には、一分子中
に一つの重合性官能基を有する単官能の重合性液晶化合
物を添加することもできる。そのような単官能の重合性
液晶化合物としては、例えば、以下の式（１１）〜（５
６）で表わされる化合物が挙げられるが、本発明の液晶
組成物において使用することができるその他の重合性液
晶化合物は、これらに限定されるものではない。

【００４３】

【化１６】

【００４４】

【化１７】

【００４５】

【化１８】

【００４６】

【化１９】

【００４７】（式中、シクロヘキサン環はトランスシク
ロヘキサン環を表わし、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、
シアノ基、炭素原子１〜２０のアルキル基、アルコキシ
基、アルケニル基又はアルケニルオキシ基を表わし、ｓ
は２から１２の整数を表わす。）

【００４８】さらにまた、本発明の液晶組成物には、室
温付近、即ち、少なくとも２０〜３０℃の温度範囲にお
いて、液晶相の発現を容易にし、かつ、液晶組成物の光
重合物の耐熱性及び強度特性の確保を図ることを目的と
して、分子中に、少なくとも２つの６員環を有する液晶
骨格を有する環状アルコール、フェノール又は芳香族ヒ
ドロキシ化合物のアクリル酸エステル又はメタクリル酸
エステルの如き単官能（メタ）アクリレートを含有させ
ることもできる。

【００４９】このような単官能（メタ）アクリレート
は、（メタ）アクリロイルオキシ基と液晶骨格との間
に、アルキレン基又はオキシアルキレン基等の液晶の技
術分野でスペーサーと呼ばれる柔軟性の連結基が存在し
ないため、このような単官能（メタ）アクリレートを重
合させて得られる重合体の主鎖には、スペーサーを介さ
ず直接剛直な液晶骨格が結合し、液晶骨格の熱運動は、
高分子主鎖により制限されることが予想される。その結
果、耐熱性及び強度特性に優れた重合体が得られること
が期待できる。また、分子内には、分子形状的に液晶性
を低下させてしまう（メタ）アクリロイルオキシ基が一
つ存在するのみであるので、液晶を発現させる温度範囲
の制御においても、分子内に複数の（メタ）アクリロイ
ルオキシ基を有する化合物より容易になる。このよう単
官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、一般式
（III）

【００５０】

【化２０】

【００５１】（式中、Ｘ³は水素原子又はメチル基を表
わし、ｒは０又は１の整数を表わし、６員環Ｄ、Ｅ及び
Ｆはそれぞれ独立的に、

【００５２】

【化２１】

【００５３】（式中、ｐは１〜４の整数を表わす。）で
表わされる６員環を表わし、Ｙ³及びＹ⁴はそれぞれ独立
的に、単結合、−ＣＨ ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣ
Ｈ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ
＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂
ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝Ｃ
Ｈ−ＣＨ₂ＣＨ₂−又は−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−を表わ
し、 Ｙ⁵は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原
子１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基
又はアルケニルオキシ基を表わす。）で表わされる化合
物が挙げられる。

【００５４】このような単官能（メタ）アクリレートの
具体的な例としては、以下の式（５７）〜（６７）で表
わされる化合物が挙げられるが、本発明の液晶組成物に
おいて使用することができる単官能（メタ）アクリレー
トはこれらに限定されるものではない。

【００５５】

【化２２】

【００５６】

【化２３】

【００５７】（式中、シクロヘキサン環はトランスシク
ロヘキサン環を表わし、数字は相転移温度を表わし、相
転移温度におけるＣは結晶相、Ｎはネマチック相、Ｓは
スメクチック相、Ｉは等方性液体相をそれぞれ表わ
す。）

【００５８】また、本発明の液晶組成物には、重合性官
能基を有していない液晶化合物を用途に応じて添加する
こともできる。例えば、本発明の液晶組成物から成る重
合体を表示素子と用いる場合、あるいは温度によって屈
折率を変化させたい場合には、組成物中に重合性官能基
を有していない液晶化合物を３０〜９８重量％の範囲で
併用することもできる。また、本発明の液晶組成物から
成る重合体を温度によって屈折率を変化させることが好
ましくない場合、あるいは耐熱性や機械的特性を重視す
る場合には、本発明の液晶組成物中に重合性官能基を有
していない液晶化合物を３０重量％未満の範囲で併用す
ることもできる。

【００５９】また、本発明の液晶組成物には、重合性官
能基を有する化合物であって、液晶性を示さない化合物
も添加することができる。このような化合物としては、
通常、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高
分子形成性オリゴマーとして認識されるものであれば特
に制限なく使用することができるが、アクリレート化合
物、メタクリレート化合物、ビニルエーテル化合物が特
に好ましい。

【００６０】以上のように、本発明の液晶組成物には、
一般式（Ｉ）で表わされる液晶性（メタ）アクリレート
以外に、重合性官能基を有する液晶化合物、重合性官能
基を有さない液晶化合物、液晶性を示さない重合性化合
物を適宜組み合わせて添加してもよいが、少なくとも得
られる液晶組成物の液晶性が失われないように各成分の
添加量を調整する必要がある。

【００６１】更に本発明の液晶組成物には、その重合反
応性を向上させることを目的として、熱重合開始剤、光
重合開始剤の重合開始剤を添加することもできる。

【００６２】熱重合開始剤としては、例えば、過酸化ベ
ンゾイル、ビスアゾブチロニトリル等が挙げられる。ま
た、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインエーテ
ル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジル
ケタール類等が挙げられる。熱重合開始剤あるいは光重
合開始剤を添加する場合の添加量は、液晶組成物に対し
て１０重量％以下が好ましく、５重量％以下が特に好ま
しく、０．５〜１．５重量％の範囲が更に好ましい。

【００６３】また、本発明の液晶組成物には、その保存
安定性を向上させるために、安定剤を添加することもで
きる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノ
ン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチル
カテコール等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添
加量は、液晶組成物に対して１重量％以下が好ましく、
０．５重量％以下が特に好ましい。

【００６４】また、本発明の液晶組成物には、液晶骨格
の螺旋構造を内部に有する重合体を得ることを目的とし
て、カイラル（光学活性）化合物を添加することもでき
る。そのような目的で使用するカイラル化合物は、それ
自体が液晶性を示す必要は無く、また重合性官能基を有
していても、有していなくても良い。また、その螺旋の
向きは、重合体の使用用途によって適宜選択することが
できる。そのようなカイラル化合物としては、例えば、
光学活性基としてコレステリル基を有するペラルゴン酸
コレステロール、ステアリン酸コレステロール、光学活
性基として２−メチルブチル基を有するビーディーエイ
チ社（ＢＤＨ社；イギリス国）製の「ＣＢ−１５」、
「Ｃ−１５」、メルク社（ドイツ国）製の「Ｓ−１０８
２」、チッソ社製の「ＣＭ−１９」、「ＣＭ−２０」、
「ＣＭ」；光学活性基として１−メチルヘプチル基を有
するメルク社製の「Ｓ−８１１」、チッソ社製の「ＣＭ
−２１」、「ＣＭ−２２」等をを挙げることができる。
カイラル化合物を添加する場合の好ましい添加量は、液
晶組成物の用途によるが、重合して得られる重合体の厚
み（ｄ）を重合体中での螺旋ピッチ（Ｐ）で除した値
（ｄ／Ｐ）が０．１〜２０の範囲となる量が好ましい。

【００６５】また、本発明の液晶組成物を偏光フィルム
や配向膜の原料、又は印刷インキ及び塗料等として利用
する場合には、その目的に応じて金属、金属錯体、染
料、顔料、色素、界面活性剤、ゲル化剤、紫外線吸収
剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタンの金属酸化
物等を添加することもできる。

【００６６】本発明の光学異方体は、本発明の液晶組成
物を配向させた状態において、重合させることにより製
造することができる。例えば、表面を布等でラビング処
理した基板、もしくは有機薄膜を形成した基板表面を布
等でラビング処理した基板、あるいはＳｉＯ₂ を斜方蒸
着した配向膜を有する基板上に担持させるか、基板間に
挟持させた後、本発明の液晶を重合させる方法が挙げら
れる。その他の配向処理方法としては、液晶組成物の流
動配向の利用や、電場又は磁場の利用を挙げることがで
きる。これらの配向手段は単独で用いても、また組み合
わせて用いても良い。その中でも基板表面を布等でラビ
ング処理した基板を用いる方法は、その簡便性から特に
好ましい。

【００６７】基板を構成する材料は、有機材料、無機材
料を問わずに用いることができる。基板の材料となる有
機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ
メタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、
ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロ
エチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチ
ルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケト
ン等が挙げられ、また、無機材料としては、例えば、シ
リコン、ガラス、方解石等が挙げられる。

【００６８】これらの基板を布等でラビングすることに
よって適当な配向性を得られない場合、公知の方法に従
ってポリイミド薄膜又はポリビニルアルコール薄膜等の
有機薄膜を基板表面に形成し、これを布等でラビングし
ても良い。また、通常のツイステッド・ネマチック（Ｔ
Ｎ）素子又はスーパー・ツイステッド・ネマチック（Ｓ
ＴＮ）素子で使用されているプレチルト角を与えるポリ
イミド薄膜は、光学異方体内部の分子配向構造を更に精
密に制御することができることから、特に好ましく。

【００６９】また、電場によって配向状態を制御する場
合には、電極層を有する基板を使用する。この場合、電
極上に前述のポリイミド薄膜等の有機薄膜を形成するの
が好ましい。

【００７０】さらに、ラビングに代わる配向処理方法と
して、光配向法を用いることもできる。この方法は、ポ
リビニルシンナメート等の分子内に光二量化反応する官
能基を有する有機薄膜、光で異性化する官能基を有する
有機薄膜又はポリイミド等の有機薄膜に、偏光した光、
好ましくは偏光した紫外線を照射することによって、配
向膜を形成するものである。この光配向法に光マスクを
適用することにより配向のパターン化が容易に達成でき
るので、光学異方体内部の分子配向も精密に制御するこ
とが可能となる。

【００７１】本発明の液晶組成物を重合させる方法とし
ては、迅速な重合の進行が望ましいので、紫外線又は電
子線等のエネルギーを照射することによって光重合させ
る方法が好ましい。光重合させる際の光源としては、偏
光光源を用いても良いし、非偏光光源を用いても良い。
また、液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で光
重合を行なう場合には、少なくとも照射面側の基板は適
当な透明性が与えられていなければならない。また、照
射時の温度は、本発明の液晶組成物の液晶状態が保持さ
れる温度範囲内であることが好ましい。特に、光重合に
よって光学異方体を製造しようとする場合には、意図し
ない熱重合の誘起を避ける意味からも可能な限り室温に
近い温度、即ち２０〜３０℃の温度で重合させることが
好ましい。

【００７２】重合によって得られた本発明の光学異方体
は、初期の特性変化を軽減し、安定的な特性発現を図る
ことを目的として熱処理を施すこともできる。熱処理の
温度は５０〜２５０℃の範囲で、また熱処理時間は３０
秒〜１２時間の範囲が好ましい。

【００７３】このような方法によって製造される本発明
の光学異方体は、基板から剥離して用いても、剥離せず
に用いても良い。

【００７４】

【実施例】以下、本発明の実施例を示し、本発明を更に
詳細に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施
例に限定されるものではない。

【００７５】（実施例１）液晶性アクリレート化合物の
合成（１） ４，４’−ビフェノール３．０ｇ、式

【００７６】

【化２４】

【００７７】で表わされる化合物（共栄社化学株式会社
製の「ＨＯＡ−ＭＳ」）７．７ｇ、４−ピロリジノピリ
ジン１．６ｇ及びテトラヒドロフラン５０ｍｌから成る
混合物に、反応液の温度を３０℃以下に保ちながら、ジ
シクロヘキシルカルボジイミド１０．０ｇ及びテトラヒ
ドロフラン３０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了
後、４０℃で１時間反応させた後、反応液を室温まで冷
却した。次に、反応液に飽和食塩水１００ｍｌを加え、
反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を加えた。析出
したジシクロヘキシル尿素をガラスフィルターによって
濾別した後、濾液に酢酸エチル２００ｍｌを加えて抽出
を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去
して粗生成物１２．１ｇを得た。この粗生成物を、酢酸
エチル及びトルエンから成る混合溶媒（容量比で酢酸エ
チル：トルエン＝１：２、Ｒｆ＝０．４９）を展開溶媒
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精
製して、式（ａ）

【００７８】

【化２５】

【００７９】で表わされる液晶性アクリレート化合物
（ａ）８．２ｇを得た。この液晶性アクリレート化合物
（ａ）の融点は２９℃であった。

【００８０】（実施例２）液晶性アクリレート化合物の
合成（２） ２−ヒドロキシエチルアクリレート２．６ｇ、トリエチ
ルアミン４．２ｇ及びテトラヒドロフラン２０ｍｌから
成る混合物を５℃に冷却しながら撹拌し、この混合物
に、反応液の温度が１５℃以下に保ちながら、式（ｂ）

【００８１】

【化２６】

【００８２】で表わされる化合物５．０ｇ及びテトラヒ
ドロフラン１０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了
後、室温にて３時間反応液を撹拌しながら反応させた。
反応終了後、飽和食塩水１００ｍｌを加え、反応液の水
層が弱酸性になるまで希塩酸を加え、さらに酢酸エチル
１００ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した
後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物５．９ｇを得
た。この粗生成物を、酢酸エチル及びｎ−ヘキサンから
成る混合溶媒（容量比で酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝
１：３、Ｒｆ＝０．５４）を展開溶媒とするシリカゲル
カラムクロマトグラフィーを用いて精製して、式（ｃ）

【００８３】

【化２７】

【００８４】で表わされる液晶性アクリレート化合物
（ｃ）４．６ｇ得た。この化合物は、室温で等方性液体
相を示した。

【００８５】（実施例３）液晶性アクリレート化合物の
合成（３） ４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニル２５．０ｇ、
実施例１で使用した「ＨＯＡ−ＭＳ」３０．５ｇ、ジメ
チルアミノピリジン５．５ｇ及びテトラヒドロフラン２
００ｍｌから成る混合液に、反応液の温度を３０℃以下
に保ちながら、ジシクロヘキシルカルボジイミド３６．
０ｇ及びテトラヒドロフラン７０ｍｌから成る溶液を滴
下した。滴下終了後、室温で５時間反応液を撹拌した
後、反応液に飽和食塩水５００ｍｌを加えた。反応液の
水層が弱酸性となるまで希塩酸を加え、析出したジシク
ロヘキシル尿素をガラスフィルターによって濾別した
後、濾液に酢酸エチル５００ｍｌを加えて抽出を行っ
た。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗
生成物４５．４ｇを得た。この粗生成物を、酢酸エチル
及びｎ−ヘキサンから成る混合溶媒（容量比で酢酸エチ
ル：ｎ−ヘキサン＝１：１、Ｒｆ＝０．４６）を展開溶
媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて
精製し、更にエタノールから再結晶させて精製して、式
（ｄ）

【００８６】

【化２８】

【００８７】で表わされる液晶性アクリレート化合物
（ｄ）３３．６ｇを得た。この化合物の融点は８７℃で
あった。

【００８８】（実施例４）液晶性アクリレートの合成
（４） 式（ｅ）

【００８９】

【化２９】

【００９０】で表わされる化合物（ｅ）３．０ｇ、実施
例１で使用した「ＨＯＡ−ＭＳ」９．３ｇ、ジメチルア
ミノピリジン１．２ｇ及びテトラヒドロフラン５０ｍｌ
から成る混合物に、反応液の温度を３０℃以下に保ちな
がら、ジシクロヘキシルカルボジイミド８．８ｇ及びテ
トラヒドロフラン４０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴
下終了後、室温で５時間反応液を撹拌した後、反応液に
飽和食塩水１００ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性と
なるまで希塩酸を加えた。析出したジシクロヘキシル尿
素をガラスフィルターによって濾別した後、濾液に酢酸
エチル１００ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗
した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物１０．８ｇ
を得た。この粗生成物を、酢酸エチル及びトルエンから
成る混合溶媒（容量比で酢酸エチル：トルエン＝１：
２、Ｒｆ＝０．５４）を展開溶媒とするシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーを用いて精製し、更にエタノール
から再結晶させて精製して、式（ｆ）

【００９１】

【化３０】

【００９２】で表わされる液晶性アクリレート化合物
（ｆ）０．７ｇを得た。この化合物の融点は７８℃であ
った。

【００９３】（実施例５）液晶性アクリレートの合成
（５） メチルヒドロキノン２．２ｇ、ピリジン１０．０ｇ及び
テトラヒドロフラン２０ｍｌから成る混合物に、反応液
の温度を４０℃以下に保ちながら、４−アセトキシ安息
香酸クロリド１１．０ｇ及びテトラヒドロフラン１０ｍ
ｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、室温にて３時
間反応液を撹拌した。次に、反応液に飽和食塩水１００
ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を
加えた後、酢酸エチル１００ｍｌを加えて抽出を行っ
た。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗
生成物１３．８ｇを得た。この粗生成物を、エタノール
から再結晶させて、式（ｇ）

【００９４】

【化３１】

【００９５】で表わされる化合物（ｇ）８．５ｇを得
た。

【００９６】化合物（ｇ）８．５ｇ及びテトラヒドロフ
ラン５０ｍｌから成る混合液を撹拌しながら、これに、
ベンジルアミン１６ｍｌを３０分おきに４回に分けて滴
下した。滴下終了後、更に１時間室温で撹拌した。この
反応液に飽和食塩水１００ｍｌを加えた後、反応液の水
層が弱酸性となるまで希塩酸を加え、さらに酢酸エチル
７０ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、
酢酸エチルを減圧留去して粗生成物１３．８ｇを得た。
この粗生成物を、トルエンから再結晶させて、式（ｈ）

【００９７】

【化３２】

【００９８】で表わされる化合物（ｈ）３．０ｇを得
た。

【００９９】化合物（ｈ）２．０ｇ、実施例１で使用し
た「ＨＯＡ−ＭＳ」３．６ｇ、ジメチルアミノピリジン
０．４ｇ及びテトラヒドロフラン２０ｍｌから成る混合
物に、反応液の温度を３０℃以下に保ちながら、ジシク
ロヘキシルカルボジイミド３．４ｇ及びテトラヒドロフ
ラン２０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、室
温で５時間反応液を撹拌した後、反応液に飽和食塩水７
０ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸
を加えた。析出したジシクロヘキシル尿素をガラスフィ
ルターによって濾別した後、酢酸エチル８０ｍｌを加え
て抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減
圧留去して粗生成物５．９ｇを得た。この粗生成物を、
酢酸エチル及びトルエンから成る混合溶媒（容量比で酢
酸エチル：トルエン＝１：１、Ｒｆ＝０．６７）を展開
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用い
て精製して、式（ｉ）

【０１００】

【化３３】

【０１０１】で表わされる液晶性アクリレート化合物
（ｉ）３．７ｇを得た。この化合物は室温で等方性液体
相を示した。

【０１０２】（実施例６）液晶性アクリレートの合成
（６） ヒドロキノン２．５ｇ、ピリジン８．９ｇ及びテトラヒ
ドロフラン２０ｍｌから成る混合液に、反応液の温度を
４０℃以下に保ちながら、４−アセトキシ安息香酸クロ
リド１２．０ｇ及びテトラヒドロフラン３０ｍｌから成
る溶液を滴下した。滴下終了後、室温にて３時間反応液
を撹拌した。この反応液に飽和食塩水１００ｍｌを加
え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を加えた
後、さらに酢酸エチル１００ｍｌを加えて抽出を行っ
た。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗
生成物５．５ｇを得た。この粗生成物をエタノールから
再結晶させて精製して、式（ｊ）

【０１０３】

【化３４】

【０１０４】で表わされる化合物（ｊ）３．８ｇを得
た。

【０１０５】化合物（ｉ）３．８ｇ及びテトラヒドロフ
ラン４０ｍｌから成る混合液に、ベンジルアミン６ｍｌ
を３０分おきに３回に分けて滴下した。滴下終了後、室
温にて１時間反応液を撹拌した。この反応液に飽和食塩
水６０ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希
塩酸を加えた後、さらに酢酸エチル５０ｍｌを加えて抽
出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留
去して粗生成物５．１ｇを得た。この粗生成物をトルエ
ンから再結晶させて精製して、式（ｋ）

【０１０６】

【化３５】

【０１０７】で表わされる化合物（ｋ）２．６ｇを得
た。

【０１０８】化合物（ｋ）２．６ｇ、実施例１で使用し
た「ＨＯＡ−ＭＳ」４．８ｇ、ジメチルアミノピリジン
０．６ｇ及びテトラヒドロフラン３０ｍｌから成る混合
液に、反応液の温度を３０℃以下に保ちながら、ジシク
ロヘキシルカルボジイミド４．６ｇ及びテトラヒドロフ
ラン２０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、室
温で５時間反応液を撹拌した後、反応液に飽和食塩水７
０ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸
を加えた。析出したジシクロヘキシル尿素をガラスフィ
ルターによって濾別した後、濾液に酢酸エチル８０ｍｌ
を加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチ
ルを減圧留去して粗生成物５．９ｇを得た。この粗生成
物を、酢酸エチル及びトルエンから成る混合溶媒（容量
比で酢酸エチル：トルエン＝１：１、Ｒｆ＝０．６７）
を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィー
を用いて精製し、更にエタノールから再結晶させて精製
して、式（ｌ）

【０１０９】

【化３６】

【０１１０】で表わされる液晶性アクリレート化合物
（ｌ）４．８ｇを得た。化合物（ｌ）の相転移温度は、
Ｓｘ相（帰属不明のスメクチック相）−Ｎ相（ネマチッ
ク相）転移温度が９６℃、Ｎ相−Ｉ相（等方性液体相）
転移温度が１０２℃であった。

【０１１１】（実施例７）液晶性アクリレートの合成
（７） ４，４’−ビフェノール２５．０ｇ、ピリジン１．０ｇ
及びテトラヒドロフラン２５０ｍｌから成る混合物に、
無水酢酸１３．７ｇを１０分かけて滴下した。滴下終了
後、４時間加熱環流させた。反応液を室温まで冷却した
後、飽和食塩水１０００ｍｌ及び酢酸エチル４００ｍｌ
を加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチ
ルを減圧留去して粗生成物４７．０ｇを得た。この粗生
成物をメタノールから再結晶させ、更にトルエンから５
回再結晶させて精製して、式（ｍ）

【０１１２】

【化３７】

【０１１３】で表わされる化合物（ｍ）８．１ｇを得
た。

【０１１４】化合物（ｍ）４．０ｇ、ピリジン３．４ｇ
及びテトラヒドロフラン２０ｍｌから成る混合液に、反
応液の温度を４０℃以下に保ちながら、４−アセトキシ
安息香酸クロリド５．４ｇ及びテトラヒドロフラン２０
ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、室温にて３
時間反応液を撹拌した。この反応液に飽和食塩水１００
ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を
加えた後、さらに酢酸エチル１００ｍｌを加えて抽出を
行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去し
て粗生成物９．１ｇを得た。この粗生成物をエタノール
から再結晶させて精製して、式（ｎ）

【０１１５】

【化３８】

【０１１６】で表わされる化合物（ｎ）２．７ｇを得
た。

【０１１７】化合物（ｎ）２．７ｇ及びテトラヒドロフ
ラン１０ｍｌから成る混合液に、ベンジルアミン４ｍｌ
を３０分おきに３回に分けて滴下した。滴下終了後、室
温で１時間反応液を撹拌した。反応液に飽和食塩水６０
ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を
加えた後、さらに酢酸エチル５０ｍｌを加えて抽出を行
った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して
粗生成物４．１ｇを得た。この粗生成物をトルエンから
再結晶させて精製して、式（ｏ）

【０１１８】

【化３９】

【０１１９】で表わされる化合物（ｏ）２．０ｇを得
た。

【０１２０】化合物（ｏ）２．０ｇ、実施例１で使用し
た「ＨＯＡ−ＭＳ」４．２ｇ、ジメチルアミノピリジン
０．５ｇ及びテトラヒドロフラン２０ｍｌから成る混合
液に、反応液の温度を３０℃以下に保ちながら、ジシク
ロヘキシルカルボジイミド４．０ｇ及びテトラヒドロフ
ラン２０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、室
温で５時間反応液を撹拌した後、反応液に飽和食塩水７
０ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸
を加えた。析出したジシクロヘキシル尿素をガラスフィ
ルターによって濾別した後、濾液に酢酸エチル８０ｍｌ
を加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチ
ルを減圧留去して粗生成物６．４ｇを得た。この粗生成
物を、酢酸エチル及びトルエンの混合溶媒（容量比で酢
酸エチル：トルエン＝１：１、Ｒｆ＝０．７１）を展開
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用い
て精製し、更にエタノールから再結晶させて精製して、
式（ｐ）

【０１２１】

【化４０】

【０１２２】で表わされる液晶性アクリレート化合物
（ｐ）３．２ｇを得た。化合物（ｐ）の相転移温度は、
Ｃ相（結晶相）−Ｓｃ相（スメクチックＣ相）転移温度
が５７℃、Ｓｃ相−Ｎ相（ネマチック相）転移温度が９
３℃、Ｎ相−Ｉ相（等方性液体相）転移温度が１０１℃
であった。

【０１２３】（実施例８）液晶組成物の調製（１） 実施例６で得た液晶性アクリレート化合物（ｌ）５０重
量部及び実施例７で得た液晶性アクリレート化合物
（ｐ）５０重量部からなる液晶組成物（ａ）を調製し
た。この液晶組成物（ａ）は８６〜９４℃の温度範囲で
ネマチック相を示した。

【０１２４】次に、式（５７）

【０１２５】

【化４１】

【０１２６】で表わされる化合物５０重量部及び式（６
０）

【０１２７】

【化４２】

【０１２８】で表わされる化合物５０重量部からなる液
晶組成物（ｂ）を調製した。この液晶組成物（ｂ）は、
室温で液晶相を示し、ネマチック相−等方性液体相の相
転移温度は４６℃であった。

【０１２９】液晶組成物（ａ）５０重量部及び液晶組成
物（ｂ）５０重量部からなる液晶組成物（ｃ）を調製し
た。液晶組成物（ｃ）は３５〜６４℃の温度範囲でネマ
チック相を示した。

【０１３０】（実施例９）液晶組成物の調製（２） 実施例３で得た液晶性アクリレート（ｄ）１０重量部及
び実施例８で調製した液晶組成物（ｂ）９０重量部から
なる液晶組成物（ｄ）を調製した。液晶組成物（ｄ）
は、室温で液晶相を示し、ネマチック相−等方性液体相
の相転移温度は４３℃であった。

【０１３１】（実施例１０）光学異方体の作製（１） 実施例８で調製した液晶組成物（ｃ）９９重量部に光重
合開始剤「ＩＲＧ−６５１」（チバガイギー社製）１重
量部を溶解させた。これをセルギャップ１０ミクロンの
透明ガラス製ＴＮ（ツイステッドネマチック）セルに注
入したところ、良好なＴＮ配向が得られているこをが偏
光顕微鏡観察により確認できた。このセルに、３８℃に
おいて高圧水銀ランプを用いて５００ｍＪ／cm² の紫外
線を照射し、液晶組成物を光重合させた。セルを偏光顕
微鏡で観察したところ、ＴＮ配向が均一に固定化された
光学異方体が得られていることが確認できた。次に、セ
ルのガラスを取り外すことにより、１枚のガラスの上に
担持された厚さ１０ミクロンのＴＮ配向構造を有する光
学異方体を得た。この光学異方体は１５０℃で１００時
間加熱しても、ＴＮ配向構造が保持されることがわかっ
た。

【０１３２】（実施例１１）光学異方体の作製（２） 実施例９で調製した液晶組成物（ｄ）９９重量部に光重
合開始剤「ＩＲＧ−６５１」１重量部を溶解させた。こ
れをセルギャップ１０ミクロンの透明ガラス製ＴＮセル
に注入したところ、良好なＴＮ配向が得られていること
を偏光顕微鏡観察により確認できた。このセルに、２５
℃において高圧水銀ランプを用いて５００ｍＪ／cm² の
紫外線を照射し、液晶組成物を光重合させた。セルを偏
光顕微鏡で観察したところ、ＴＮ配向が均一に固定化さ
れた光学異方体が得られていることが確認できた。次
に、セルのガラスを取り外すことにより、１枚のガラス
の上に担持された厚さ１０ミクロンのＴＮ配向構造を有
する光学異方体を得た。この光学異方体は１５０℃で１
００時間加熱しても、ＴＮ配向構造が保持されることが
わかった。

【０１３３】（実施例１２）光学異方体の作製（３） 厚さ１mmで２０mm×２０mmの透明ガラス基板に、ポリイ
ミド配向剤「ＡＬ−１２５４」（日本合成ゴム社製）を
２０００回転／分でスピンコートした後、１５０℃で１
時間乾燥させることにより、ガラス基板上にポリイミド
薄膜を形成した。このポリイミド薄膜をラビングマシー
ン「ＲＭ−５０」［イーシーエイチ社（ＥＨＣ社）製］
を用いてラビングすることにより、ポリイミド配向膜と
した。

【０１３４】このようにして得たポリイミド配向膜付き
ガラス基板に、実施例８で調製した液晶組成物（ｃ）９
９重量部に光重合開始剤「ＩＲＧ−６５１」（チバガイ
ギー社製）１重量部を添加したものを１０００回転／分
でスピンコートした。このスピンコートした基板に、窒
素気流下４０℃において高圧水銀ランプを用いて５００
ｍＪ／cm² の紫外線を照射し、液晶組成物を光重合させ
た。この基板を偏光顕微鏡で観察したところ、均一な一
軸配向が固定化された光学異方体が得られていることを
確認できた。また、この基板を２枚の偏光板の間に挟ん
だところ、基板の全面にわたって均一な干渉色が観察さ
れ、均一な厚みをもった光学異方体が得られたことを確
認できた。また、この基板を１５０℃で加熱しても、固
定化された均一な配向状態はそのまま保持されているこ
とがわかった。

【０１３５】（比較例１）実施例１２において、液晶組
成物（ｃ）に代えて、実施例８で調製した液晶組成物
（ｂ）を用いた以外は、実施例１２と同様にして光学異
方体を作製した。得られた光学異方体を偏光顕微鏡で観
察したところ、均一な一軸配向が固定化された光学異方
体が得られているのが確認できた。しかしながら、これ
を２枚の偏光板の間に挟んだところ、基板の全面にわた
る均一な干渉色が観察されず、光学異方体の膜厚が均一
でないことが確認された。

【０１３６】（実施例１３）光学異方体の作製（４） 厚さ２．０mmで２０mm×２０mmのポリカーボネート基板
の光軸方向と同一方向にラビングマシーン「ＲＭ−５
０」（ＥＨＣ社製）を用いてラビング処理した。ラビン
グ処理したポリカーボネート基板に、実施例９で調製し
た液晶組成物（ｄ）９９重量部に光重合開始剤「ＩＲＧ
−６５１」（チバガイギー社製）１重量部を添加したも
のを５００回転／分でスピンコートした。このスピンコ
ートした基板に、窒素気流下２５℃において高圧水銀ラ
ンプを用いて５００ｍＪ／cm² の紫外線を照射し、液晶
組成物を光重合させた。この基板を偏光顕微鏡で観察し
たところ、均一な一軸配向が固定化された光学異方体が
得られているのが確認できた。また、この基板を２枚の
偏光板の間に挟んでところ、基板の全面にわたって均一
な干渉色が観察され、均一な厚みをもった光学異方体が
得られたことを確認できた。また、この基板を１００℃
で加熱しても、固定化された均一な配向状態はそのまま
保持されていた。

【０１３７】（比較例２）実施例１３において、液晶組
成物（ｄ）に代えて、実施例６で調製した液晶組成物
（ｂ）を用いた以外は、実施例１３と同様にして光学異
方体を作製した。得られた光学異方体を偏光顕微鏡で観
察したところ、均一な一軸配向が固定化された光学異方
体が得られていることが確認できた。しかしながら、こ
れを２枚の偏光板の間に挟んだところ、基板の全面にわ
たる均一な干渉色が観察されず、光学異方体の膜厚が均
一でないことが確認された。

【０１３８】

【発明の効果】本発明の液晶性（メタ）アクリレート化
合物及びそれを含有する液晶組成物は、プラスチックや
ガラス基板への塗布性に優れているので、塗布等の手段
によって位相差フィルム等の光学異方体を作製する材料
として有用である。また、本発明の液晶性（メタ）アク
リレート化合物を含有する液晶組成物を用いて作製した
光学異方体は、配向の均一性及び膜厚の均一性に優れて
おり、位相差フィルム等への応用に適している。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｋ 19/34 Ｃ０９Ｋ 19/34 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｘ¹ は水素原子又はメチル基を表わし、Ｐ¹及
   びＰ²はそれぞれ独立的に炭素原子数１から１８の２価
   の炭化水素基を表わし、Ｚ¹ は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ
   −を表わし、Ｙ¹及びＹ²はそれぞれ独立的に、単結合、
   −ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ
   −、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ
   ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、
   −ＯＣＨ₂ＣＨ ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂ＣＨ
   ₂−、 −ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−又は−ＯＯＣＣＯＯ−を
   表わし、ｊは０又は１の整数を表わし、ｎは０又は１の
   整数を表わし、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、シアノ
   基、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、
   アルケニル基、アルケニルオキシ基又は一般式（II） 【化２】 （式中、Ｘ² は水素原子又はメチル基を表わし、Ｐ³及
   びＰ⁴はそれぞれ独立的に炭素原子数１から１８の２価
   の炭化水素基を表わし、Ｚ² は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ
   −を表わし、ｋはそれぞれ独立的に０又は１の整数を表
   わす。）で表わされる基を表わし、６員環Ａ、Ｂ及びＣ
   はそれぞれ独立的に、式 【化３】 （式中、Ｗはハロゲン原子又はメチル基を表わし、ｍは
   １〜４の整数を表わす。）で表わされる６員環を表わ
   し、ｎは０又は１を表わす。］で表わされることを特徴
   とする液晶性（メタ）アクリレート化合物。
2. 【請求項２】 一般式（Ｉ）において、Ｒがシアノ基で
   あり、Ｘ¹ が水素原子であり、Ｐ¹及びＰ²がそれぞれ独
   立的にメチレン基又はエチレン基であり、Ｙ ¹及びＹ²が
   それぞれ独立的に、単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−
   であり、ｊが０又は１であり、ｎが０又は１であり、６
   員環Ａ及びＣが、１，４−フェニレン基である請求項１
   記載の液晶性アクリレート化合物。
3. 【請求項３】 一般式（Ｉ）において、Ｒが一般式（I
   I）で表わされる基であり、Ｘ¹及びＸ²が水素原子であ
   り、Ｐ¹、Ｐ²、Ｐ³及びＰ⁴がそれぞれ独立的にメチレン
   基又はエチレン基であり、Ｙ¹及びＹ²がそれぞれ独立的
   に、単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−であり、ｊ及び
   ｋがそれぞれ独立的に０又は１であり、ｎは１であり、
   ６員環Ａ、Ｂ及びＣが、１，４−フェニレン基である請
   求項１記載の液晶性アクリレート化合物。
4. 【請求項４】 請求項１記載の一般式（Ｉ）で表わされ
   る液晶性（メタ）アクリレート化合物を含有し、液晶相
   を示すことを特徴とする液晶組成物。
5. 【請求項５】 少なくとも２つの６員環を有する液晶骨
   格を部分構造として有する環状アルコール、フェノール
   又は芳香族ヒドロキシ化合物のアクリル酸又はメタクリ
   ル酸エステルである単官能アクリレート又は単官能メタ
   クリレートを含有する請求項４記載の液晶組成物。
6. 【請求項６】 単官能アクリレート又は単官能メタクリ
   レートが一般式（II） 【化４】 （式中、Ｘ³は水素原子又はメチル基を表わし、ｒは０
   又は１の整数を表わし、６員環Ｄ、Ｅ及びＦはそれぞれ
   独立的に、 【化５】 （式中、ｐは１〜４の整数を表わす。）で表わされる６
   員環を表わし、Ｙ³及びＹ⁴はそれぞれ独立的に、単結
   合、−ＣＨ ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−Ｃ
   ＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−
   ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ
   −、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂ＣＨ
   ₂−又は−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−を表わし、 Ｙ⁵は水素原
   子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子１〜２０のアル
   キル基、アルコキシ基、アルケニル基又はアルケニルオ
   キシ基を表わす。）で表わされる化合物である請求項５
   記載の液晶組成物。
7. 【請求項７】 少なくとも２０℃〜３０℃の温度範囲で
   液晶相を発現する請求項４、５又は６記載の液晶組成
   物。
8. 【請求項８】 請求項４〜７のいずれか１項に記載の液
   晶組成物の重合体から構成されることを特徴とする光学
   異方体。