JPH117320A - ステージ装置 - Google Patents

ステージ装置

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JPH117320A
JPH117320A JP9161070A JP16107097A JPH117320A JP H117320 A JPH117320 A JP H117320A JP 9161070 A JP9161070 A JP 9161070A JP 16107097 A JP16107097 A JP 16107097A JP H117320 A JPH117320 A JP H117320A
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stage
suction
sucked
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leaf spring
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Shigeru Suzuki
繁 鈴木
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Ushio Inc
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Ushio Denki KK
Ushio Inc
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 位置決め後、ステージを固定するに際し、常
に安定した吸着が可能であり高精度な位置決めを実現す
ることができるステージ装置を提供すること。 【解決手段】 ステージ基台2上にステージ1を移動可
能に配置し、ステージ1を駆動手段3−1〜3−3で駆
動する。ステージ1の位置決め後、固定手段5の吸着部
材5aに負圧を供給し、被吸着部材5dを吸着してステ
ージ1を固定する。被吸着部材5dはステージ1に板ば
ね5eにより取り付けられ、その被吸着面はステージ1
の移動面と平行となるように配置される。また、吸着部
材5aの吸着面は上記被吸着面と平行に配置にされてい
る。板ばね5eは、被吸着部材5dに対してステージ1
の移動方向と平行な平面内で回転対称に取り付けられ、
被吸着部材5dが吸着部材5aにより吸着されたとき、
板ばね5eがたわみ方向に均等に伸び、被吸着部材5d
が平面方向に移動しないように配置されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は高精度の位置決めス
テージに関するものであり、さらに詳細には、移動ステ
ージを所定の位置に位置決めした後、振動等によりステ
ージの位置がずれるのを防止するため、一時的に移動ス
テージをステージ基台に固定する手段を備えたステージ
装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体、プリント基板、液晶画面の生産
のために露光装置が使用される。上記露光装置において
は、マスクとワークに記されたアライメントマークを用
いて露光前に両者の位置合わせを行うが、露光精度を良
くするためにはアライメントの高精度化が必要である。
このため、ワーク/マスクを保持して位置決めをする移
動ステージについても、0.1μm程度の高い位置決め
精度が要求されるようになっている。移動ステージの位
置決め精度が低くなる要因の一つに、移動ステージを駆
動部によって位置決めして停止させた際、外部から加わ
る振動、駆動部の制御系に不安定さにより、移動ステー
ジの位置がずれることが上げられる。
【0003】上記問題を解決するため、この種のステー
ジ装置には、通常、移動ステージを位置決めしたのち、
移動ステージを、ステージ基台(移動ステージが取り付
けられている基台)に対して固定する手段が設けられて
いる。図7は上記固定手段を備えた従来のステージ装置
の一例を示す図であり、同図(a)はステージ装置の上
面図、同図(b)は(a)におけるA−A断面、同図
(c)は(b)の点線で囲んだ部分の拡大図である。同
図において、100は移動ステージ(以下、ステージと
いう)であり、ステージ100は、ステージ基台101
上に移動案内103を介して移動可能に取り付けられて
おり、駆動部102によりXYθ方向(Xはステージ面
に平行な方向、Yはステージ面に平行でXに直交する方
向、θはXY平面に直交する軸の回りの回転)に移動す
る。
【0004】104は固定手段であり、同図(b)
(c)に示すように、板ばね104bを介してステージ
基台101に取り付けられた吸着部材104aを備えて
おり、吸着部材104aはステージ100の裏面に設け
られた被吸着部材100aに対向し、僅かに離間してい
る。また、吸着部材104aには凹部104cが設けら
れ、凹部104cは貫通孔104d、管路104eを介
して真空排気手段に連通している。同図において、駆動
部102により移動ステージ100を位置決めしたの
ち、真空排気手段により管路104e、貫通孔104d
を介して吸着部材104aの吸着口104cを負圧にす
る。これにより、板ばね104bにより取り付けられた
吸着部材104aは板ばね104bを変形させながら上
方に移動し、ステージ100の裏面の被吸着部材100
aに吸着する。その結果、ステージ100は移動しない
ように固定される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の位置決
めステージでは、吸着部材104aが板ばね104bに
固定されているため、吸着部材104aに直結する管路
104eにより板ばね104bに力が加わると、吸着部
材104aが傾き、下記のように吸着部材104aによ
り被吸着部材100aを吸着できなかったり、位置決め
精度が大きく低下する場合がある。
【0006】(1)板ばね104bに、垂直な方向の力
が加わるだけであれば、吸着部材104aの吸着面と被
吸着部材100aは平行状態を保ち問題が生じないが、
管路104eの支持の仕方によっては、ほとんどの場
合、板ばね104bに対して傾斜した力が加わる。その
結果、板ばね104bの面方向の分力が発生し、図8に
示すように板ばねが複雑にたわむ。このため、吸着面と
被吸着面の平行が保たれず、両者間に間隙の大きな部分
ができる。吸着面と被吸着面の間隙は5μm〜15μm
程度が望ましく、これ以上間隙が大きくなると、吸着面
と被吸着面との空間が充分減圧されず、吸着部材104
aが被吸着部材100aを吸着できない場合が生ずる。
【0007】(2)また、吸着部材104aが被吸着部
材100aを吸着できたとしても、吸着面が傾いている
と、吸着部材104aの一端が被吸着部材100aの被
吸着面に接触したのち、吸着面全体が被吸着面に吸着す
ることになり、被吸着部材100aを吸着する際、ステ
ージ100が位置決め位置からずれ、最悪の場合は、1
0μm程度、ステージが位置決め位置からずれる場合が
ある。 (3)さらに、管路104eの支持の仕方によっては、
吸着のために管路104eから排気する際、排気管内が
大気圧から真空になることにより、排気管104eが衝
撃的に動き、この力が吸着部材をさらに傾けることがあ
る。これがステージ100のずれ量をさらに大きくす
る。
【0008】本発明は上記した従来技術の問題点を考慮
してなされたものであって、位置決め後、ステージを固
定するに際し、常に安定した吸着が可能であり、高精度
な位置決めを実現することができ、しかも構造が簡潔な
ステージ装置を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明においては、上記
課題を次のようにして解決する。 (1)ステージ基台と、上記ステージ基台上に配置さ
れ、ステージ基台面に対して平行な平面内で移動可能に
案内されたステージと、上記ステージを移動および/ま
たは回転させるステージ駆動手段と、上記ステージとス
テージ基台を直接固定する固定手段とを備えたステージ
装置において、固定手段を次のように構成する。被吸着
面がステージの移動面と平行となるように配置された被
吸着部材を、上記移動面と平行な平面内で、回転対称に
取り付けられた板ばねを介してステージもしくはステー
ジ基台に固定する。また、これに対向する吸着部材を、
その吸着面が上記被吸着面と平行を成すようにステージ
基台もしくはステージに固定する。
【0010】ここで、板ばねを回転対称に取り付けると
は、板ばねを被吸着部材の中心を回転軸として2π/n
(n:2以上の整数)回転しても全く同じ状態に取り付
けられることである。これにより、板ばねのたわみによ
って板厚方向に発生する引張力が相殺され、被吸着部材
は吸着部材により吸着されるとき、上記平面に対して垂
直方向だけに平行移動し上記平面内では変位しない。上
記のような被吸着部材と吸着部材から構成される固定手
段を用いることにより、排気管の状態に影響を受けるこ
となく、吸着面と被吸着面を常に平行に保つことができ
る。このため、常に安定した吸着が可能となり、また、
吸着時にステージが位置ずれを起こすことがないので、
位置決め精度を向上することができる。
【0011】(2)上記板ばねとして、円環状もしくは
円板状のものを用いる。円環状もしくは円板状の板ばね
は、2枚の板ばねよりねじれに対して強いので、吸着
時、被吸着部材に不均等な力が加わっても被吸着部材が
傾くことがなく、一層、安定した吸着を可能とし、位置
決め精度の向上を図ることができる。 (3)上記ステージを多段構成とし、上記固定手段によ
り最上段のステージとステージ基台を固定する。
【0012】
【発明の実施形態】以下、本発明の実施の形態について
説明する。 (1)実施例1 図1は本発明の第1の実施例のステージ装置の構成を示
す図であり、図1(a)は本実施例のステージ装置を上
面から見た図、図1(b)は図1(a)のA−A断面図
である。図1(a)(b)において、1はステージ、2
はステージ基台であり、ステージ基台2上に移動案内4
−1,4−2,4−3が設けられ、移動案内4−1,4
−2,4−3を介してステージ1が移動可能に取り付け
られている。ステージ1は駆動部3−1,3−2,3−
3によりXYθ方向(Xはステージ面に平行な方向、Y
はステージ面に平行でXに直交する方向、θはXY平面
に直交する軸の回りの回転)に駆動される。
【0013】5は固定手段であり、固定手段5はステー
ジ1とステージ基台2の間に設けられており、固定手段
5によりステージ1とステージ基台2が相互に移動しな
いよに固定することができる。図2(a)(b)(c)
(d)は上記固定手段5の構成を示す図であり、同図
(a)は図1(b)に示した固定手段5を拡大した図、
同図(b)は図1(b)において、B−B方向からステ
ージ1の裏面を見た図、同図(c)(d)は他の実施例
を示している。固定手段5は、図2(a)に示すよう
に、ステージ基台2に取り付けられた吸着部材5aと、
ステージ1の裏面側に2枚の板ばね5eを介して対称に
取り付けられた被吸着部材5dから構成されており、吸
着部材5aと被吸着部材5dとは僅かに離間させてお
く。また、吸着部材5aの吸着面と被吸着部材5dの被
吸着面はステージ1の移動面と平行になるように配置さ
れる。
【0014】吸着部材5aの吸着面には吸着口5cが形
成され、吸着口5cは管路5bを介して図示しない真空
排気手段に連通している。また、被吸着部材5dは図2
(b)に示すように、ステージ1の裏面に設けられた凹
部1aに2枚の板ばね5eを介して取り付けられてい
る。板ばね5eの取り付け部分上には抑え板5fが設け
られ、板ばね5eは抑え板5fとともにねじ等でステー
ジ1および被吸着部材5dに固定されている。2枚の板
ばね5eは同一形状、同一材質であり、被吸着部材5d
が吸着されるとき、被吸着部材5dがステージ1の移動
面に対して垂直方向にのみ平行移動し、水平方向には変
位しないように回転対称に取り付けられ、位置ずれを起
こすことなく、ステージ1とステージ基台2を固定する
ことができる。
【0015】吸着部材5a、被吸着部材5dの材質とし
ては、相互の摩擦係数が大きいものを使用するのが望ま
しく、例えば、吸着部材5a、被吸着部材5dとしてと
もにステンレスを使用することができる。なお、図2
(a)(b)では2枚の板ばね5eにより被吸着部材5
dを取り付ける場合を示したが、図2(c)に示すよう
に1枚の板ばねを用い、1枚の板ばねの両端をステージ
1の裏面に設けられた凹部1aの両側に取り付け、上記
板ばねの中央部に被吸着部材5dを取り付けてもよい。
この場合、板ばねとして作用する部分は2箇所であるの
で、機能的には2枚の板ばねと同等である。
【0016】また、上記実施例では、被吸着部材として
方形状のものを使用する場合について説明したが、円形
の被吸着部材を用い、板ばねとして後述する円環状もし
くは円板状のものを用いてもよい。さらに、後述するよ
うに3枚の板ばねから構成してもよく、要は、被吸着部
材5dが吸着されるとき、被吸着部材5dがステージ1
の移動面に対して垂直方向にのみ移動し、水平方向には
変位しないように回転対称に取り付けられる板ばねを使
用すればよい。さらに、図2(d)に示すように、被吸
着部材5dの被吸着面と板ばね5eの面が略同一平面に
なるように取り付けてもよい。このような構成にするこ
とにより、吸着時、仮に被吸着部材5dが傾いたとして
も、図2(a)に示す被吸着面と板ばね5eの面が同一
面でない場合に比べ、ステージ1の位置ずれ量を小さく
することができる。
【0017】本実施例のステージ装置の位置決めは次の
ように行われる。 (a) 固定手段5によるステージ1とステージ基台2の固
定を解除する。 (b) 駆動部3−1,3−2,3−3を駆動して、ステー
ジ1をXYθ方向に移動させ、ステージ1の位置決めを
行う。 (c) 上記位置決め終了後、図示しない真空排気手段によ
り、管路5bを負圧にして、吸着部材5aにより被吸着
部材5dを吸着する。 板ばね5eはそれぞれ回転対称に取り付けられ、2枚の
板ばね5eは同一形状、同一材質であるので、被吸着部
材5dは吸着されるとき、被吸着面に直交する方向にの
み移動する。上記のように吸着部材5aにより被吸着部
材5dを吸着することにより、ステージ1はステージ基
台2に固定され、位置決め後、ステージ1が振動等によ
り移動することがない。
【0018】以上のように、本実施例においては、吸着
部材5aをその吸着面がステージ1の移動方向に平行な
平面上にあるようにステージ基台2に固定し、被吸着部
材5dを回転対称に取り付けられた同一形状、同一材質
の2枚の板ばね5eにより、その被吸着面がステージ1
の移動方向に平行な平面上にあるようにステージ1に取
り付けているので、被吸着部材5dをその被吸着面に対
して垂直方向にのみ移動させることができ、常に吸着部
材5aと被吸着部材5dの吸着面を平行に保つことがで
きる。また、板ばね5eで取り付けられた被吸着部材5
dには排気管が接続されていないので、排気管により板
ばね5eに傾斜した力が加わることがない。このため、
被吸着部材5dを吸着できないといった問題が生ずるこ
とがなく、また、吸着時にステージ1が位置ずれを起こ
すこともなく、高精度な位置決めを行うことが可能とな
る。
【0019】(2)実施例2 露光装置等に使用されるマスクを保持するステージにお
いては、ステージの中央部にマスクを介して露光光を透
過させるための窓部が設けられている。本実施例は上記
窓部を有するステージに適用するに好適な実施例を示し
ている。図3は本実施例のステージ装置の構成を示す図
であり、図3(a)は上面から見た図、図3(b)は図
3のA−A断面図である。図3において、1はステー
ジ、2はステージ基台であり、ステージ1、ステージ基
台2の中央には、露光光を透過させるための窓部1w,
2wが設けられ、ステージ1の裏面側に真空吸着手段等
のマスク保持手段が設けられている。ステージ基台2上
には、移動案内4−1,4−2,4−3が設けられ、移
動案内4−1,4−2,4−3を介してステージ1が移
動可能に取り付けられており、ステージ1は駆動部3−
1,3−2,3−3によりXYθ方向に駆動される。
【0020】5−1,5−2,5−3は固定手段であ
り、固定手段5−1,5−2,5−3はステージ1とス
テージ基台2の間に設けられており、固定手段5−1,
5−2,5−3によりステージ1とステージ基台2が相
互に移動しないように固定することができる。上記のよ
うに固定手段を複数設けることにより、ステージを回転
させるような、大きなモーメントの力が働いた場合で
も、確実にステージを固定することができる。本実施例
の固定手段5−1,5−2,5−3は前記した第1の実
施例の固定手段と同一の構成を備え、前記したように真
空排気手段より固定手段5−1,5−2,5−3に負圧
を供給することにより、ステージ1とステージ基台2を
吸着固定することができる。
【0021】本実施例のステージ装置の位置決め動作
は、前記した第1の実施例と同様であり、ステージ1と
ステージ基台2の固定を解除したのち、駆動部3−1〜
3−3によりステージ1を移動させステージ1の位置決
めを行う。ついで、固定手段5−1,5−2,5−3に
負圧を供給して、ステージ1とステージ基台2の固定を
行う。以上のように本実施例においては、露光光を透過
させる窓部を有するステージ装置において、被吸着部材
5dと吸着部材5aから構成される固定手段5をステー
ジ装置の窓部1w,2wの周辺部に配置し、上記固定手
段5の被吸着部材5dを、回転対称に取り付けられた同
一形状、同一材質のそれぞれ2枚の板ばね5eにより、
その被吸着面がステージ1の移動方向と平行な平面上に
ある吸着部材5aの吸着面と平行になるようにステージ
1に取り付けているので、第1の実施例と同様、被吸着
部材5dは、上記平面に対して垂直方向にのみ平行移動
し水平方向には変位せず、また、常に吸着部材5aと被
吸着部材5dの吸着面が平行に保たれるので、高精度な
位置決めを行うことができる。
【0022】(3)実施例3 本実施例は、XY方向に移動するステージの上に、回転
ステージが設置された多段構成のステージ装置に本発明
を適用した実施例を示している。図4、図5は本実施例
のステージ装置の構成を示す図であり、図4(a)は上
面から見た図、図4(b)は(a)のA−A断面図、図
5(a)は図4(b)をB−B方向から見た図である。
図4、図5において、ステージ基台2上には、移動案内
4−1,4−2,4−3が設けられ、移動案内4−1,
4−2,4−3を介して中間ステージ6が移動可能に取
り付けられており、中間ステージ6はステージ基台2に
取り付けられた駆動部3−1,3−2,3−3によりX
Y方向に駆動される。
【0023】また、中間ステージ6上には、回転案内7
−1,7−2,7−3が設けられており、回転案内7−
1,7−2,7−3によりステージ1が回転可能に支持
されている。さらに、中間ステージ6上には駆動部3−
4が設けられており、駆動部3−4の駆動端はステージ
1に設けられた突起部1pに係合しており、ステージ1
は、駆動部3−4により回転駆動される。5は固定手段
であり、固定手段5はステージ1とステージ基台2の間
に設けられており、固定手段5によりステージ1をステ
ージ基台2に固定することができる。なお、中間ステー
ジ6が移動できるように、中間ステージ6には開口部6
aが設けられており、固定手段5は開口部6aを貫通し
てステージ基台3上に立設されており、開口部6aの内
径は、固定手段5の外径より大きく形成されている。本
実施例の固定手段5の構成は基本的には前記第1の実施
例と同じであるが、本実施例においては板ばねとして円
環状のものを使用している。
【0024】図5は上記固定手段5の被吸着部材5dの
取り付け態様を示す図である。同図(a)に示すよう
に、ステージ1の裏面側の設けられた凹部1aに円環状
の板ばね5e’が取り付けられ、被吸着部材5dは上記
円環状の板ばね5e’の内周部に取り付けられている。
また、板ばね5e’の取り付け部分上には抑え板5fが
設けられ、板ばね5e’は抑え板5fとともにねじ等で
ステージ1および被吸着部材5dに固定されている。板
ばね5e’は第1の実施例と同様、回転対称に取り付け
られ、被吸着部材5dが吸着されたとき、被吸着部材5
dは被吸着面に垂直な方向にのみ移動する。
【0025】なお、上記説明では、円環状の板ばねを用
いる場合について説明したが、図5(b)に示すように
円板状の板ばねを使用し、円板状の板ばねの中央部に被
吸着部材5dを取り付けてもよい。さらに、板ばねとし
て図6に示すように、3枚の板ばねを120°の間隔で
配置したものを使用してもよい。本実施例のステージ装
置の位置決め動作は、前記した第1の実施例と同様であ
り、ステージ1とステージ基台2の固定を解除したの
ち、駆動部3−1,3−2によりステージ1を移動させ
るとともに、駆動部3−3によりステージを回転さステ
ージ1の位置決めを行う。ついで、固定手段5に負圧を
供給して、ステージ1とステージ基台2の固定を行う。
【0026】以上のように本実施例においては、XY方
向に移動するステージの上に、回転ステージが設置され
たステージ装置において、ステージ1とステージ基台2
の間に、被吸着部材5dと吸着部材5aから構成される
固定手段5を設け、上記固定手段5の被吸着部材5d
を、回転対称に取り付けられた円環状もしくは円板状の
板ばね5e’によりステージ1に取り付けているので、
第1に実施例と同様、常に吸着部材5aと被吸着部材5
dの吸着面を平行に保つことができ、高精度な位置決め
を行うことができる。特に、本実施例においては、円環
状もしくは円板状の板ばね5e’を使用して被吸着部材
5dを取り付けているので、前記第1、第2の実施例に
示した2枚の板ばねを使用する場合よりねじれに対して
強く、吸着固定に際して吸着時の板ばねによる保持力が
強化され、さらに全方位にわたって保持力が均一化され
る。
【0027】なお、上記第1〜第3の実施例において
は、ステージ側に板ばねを介して取り付けた被吸着部材
を設け、ステージ基台側に吸着部材を設ける場合につい
て説明したが、ステージ側に吸着部材を設け、ステージ
基台側に板ばねを介して取り付けた被吸着部材を設けて
も同様の効果を得ることができる。また、第1、第3の
実施例において、固定手段を第2の実施例のように複数
設けてもよい。固定手段を複数設けることにより、前記
したようにステージを回転させるような外力が加わった
場合でも、確実にステージを固定することができる。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、ステージ基台と、上記ステージ基台上に配置され、
ステージ基台面に対して平行な平面内を移動可能に案内
されたステージと、上記ステージを移動させるステージ
駆動手段と、上記ステージとステージ基台を直接固定す
る固定手段とを備えたステージ装置において、固定手段
を、真空排気手段に連通した管路と、該管路を負圧にす
ることにより近接する部材を吸着する吸着部材と、該吸
着部材に近接して配置された被吸着部材から構成し、吸
着部材をステージもしくはステージ基台の一方に直接取
り付け、被吸着部材が板ばねを介して上記ステージもし
くはステージ基台の他方に取り付け、また、吸着部材と
被吸着部材の吸着面を、上記ステージの移動方向に平行
な平面上に配置し、上記板ばねを前記したように回転対
称に取り付けたので、排気管の状態に影響を受けること
なく、吸着面と被吸着面を常に平行に保つことができ、
また吸着に際して被吸着部材の吸着面内での変位をほと
んどなくすことができる。このため、常に安定した吸着
が可能となり、また、吸着時にステージが位置ずれを起
こすことがないので、位置決め精度を向上することがで
きる。また、板ばねを円環状、円板状とすることによ
り、吸着時の板ばねによる力が強化され、さらに全方位
にわたって均一化され、一層、安定した吸着を可能と
し、位置決め精度の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示す図である。
【図2】図1に示した固定手段の構成を示す図である。
【図3】本発明の第2の実施例を示す図である。
【図4】本発明の第3の実施例を示す図である。
【図5】本発明の第3の実施例を示す図である。
【図6】板ばねを120°間隔で取り付けた実施例を示
す図である。
【図7】固定手段を備えた従来のステージ装置の構成を
示す図である。
【図8】図7において、吸着部材が傾いたときの板ばね
の状態を示す図である。
【符号の説明】
1 ステージ 1a 凹部 1p 突起部 1w,2w 窓部 2 ステージ基台 3−1,3−2,3−3 駆動部 4−1,4−2,4−3 移動案内 5,5−1,5−2,5−3 固定手段 5a 吸着部材 5b 管路 5c 吸着口 5d 被吸着部材 5e,5e’ 板ばね 5f 抑え板 6 中間ステージ 6a 開口部 7−1,7−2,7−3 回転案内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ステージ基台と、 上記ステージ基台上に配置され、ステージ基台面に対し
    て平行な平面内を移動可能に案内されたステージと、 上記ステージを移動させるステージ駆動手段と、 上記ステージとステージ基台を直接固定する固定手段と
    を備えたステージ装置であって、 上記固定手段は、真空排気手段に連通した管路と、該管
    路を負圧にすることにより近接する部材を吸着する吸着
    部材と、該吸着部材に近接して配置された被吸着部材か
    ら構成され、 上記固定手段の吸着部材がステージもしくはステージ基
    台の一方に直接取り付けられ、被吸着部材が板ばねを介
    して上記ステージもしくはステージ基台の他方に取り付
    けられており、 上記固定手段の吸着部材の吸着面と被吸着部材の被吸着
    面は、上記ステージの移動方向に平行な平面上にあり、 上記板ばねは、上記吸着部材により被吸着部材が吸着さ
    れ両者が接近するとき、被吸着部材が上記平面に対して
    垂直方向にのみ平行に移動し、上記平面内では変位しな
    いように上記被吸着部材に対して上記平面内で回転対称
    に取り付けられていることを特徴とするステージ装置。
  2. 【請求項2】 上記板ばねが円環状もしくは円板状であ
    ることを特徴とする請求項1のステージ装置。
  3. 【請求項3】 上記ステージが多段に構成されており、
    上記固定手段は、最上段のステージとステージ基台を固
    定するものであることを特徴とする請求項1または請求
    項2のステージ装置。
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WO2006068461A1 (en) * 2004-12-23 2006-06-29 Asml Netherlands B.V. Support structure and lithographic apparatus
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