JPH1171213A - 工業用殺菌・静菌剤及び工業的殺菌・静菌方法 - Google Patents

工業用殺菌・静菌剤及び工業的殺菌・静菌方法

Info

Publication number
JPH1171213A
JPH1171213A JP23271597A JP23271597A JPH1171213A JP H1171213 A JPH1171213 A JP H1171213A JP 23271597 A JP23271597 A JP 23271597A JP 23271597 A JP23271597 A JP 23271597A JP H1171213 A JPH1171213 A JP H1171213A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
industrial
bacteriostatic
bacteriostatic agent
component
agent according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP23271597A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3811710B2 (ja
Inventor
Katsuji Tsuji
勝次 辻
Yuko Tanaka
優子 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Katayama Chemical Inc
Original Assignee
Katayama Chemical Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Katayama Chemical Inc filed Critical Katayama Chemical Inc
Priority to JP23271597A priority Critical patent/JP3811710B2/ja
Publication of JPH1171213A publication Critical patent/JPH1171213A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3811710B2 publication Critical patent/JP3811710B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低添加量で種々の細菌に対して殺菌・静菌効
果を顕著に発揮する工業用殺菌・静菌剤を提供すること
を課題とする。 【解決手段】 特定のテトラキス(ヒドロキシメチル)
ホスホニウム塩からなる第1成分と、特定のニトロブロ
モ系またはシアノブロモ系化合物、特定のハロゲン化酢
酸エステル誘導体、グルタルアルデヒド、メチレンビス
チオシアネート、4,5−ジクロロ−1,2−ジチオー
ル−3−オン、特定のハロゲン化グリオキシム誘導体お
よび特定のイソチアゾロン系化合物から選択された少な
くとも1種の殺菌剤からなる第2成分とを、有効成分と
して含有することを特徴とする工業用殺菌・静菌剤によ
り、上記課題を解決する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、工業用殺菌・静
菌剤及び工業的殺菌・静菌方法に関する。さらに詳しく
は、この発明は、紙・パルプ工場における抄紙工程水や
パルプスラリー、各種工業用の冷却水や洗浄水、ならび
に重油スラッジ、金属加工油剤、繊維油剤、紙用塗工
液、澱粉スラリー、炭酸カルシウムスラリー、ペイント
類、接着剤、ラテックス類、セメント分散剤、合成樹脂
エマルション、泥水ポリマー、糊剤等の防腐・殺菌用と
して有用である工業用殺菌・静菌剤及び工業的殺菌・静
菌方法に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】近
年、微生物汚染に起因して各種工業用水のスライムによ
る障害が多発し、種々の弊害をもたらしている。ここで
スライムとは、主として微生物の繁殖によって生じる粘
性塊状〜泥状物質のことを表す。例えば、化学工場など
の冷却水系統の熱交換器や配管などにスライムが発生す
ると、冷却効率が低下し、ときには配管が閉塞してしま
う。特に、紙・パルプ工場の抄紙工程水やパルプスラリ
ーにスライムが発生すると、これが剥離して紙料やパル
プに混入し、紙切れの原因となるため、抄紙工程の運転
を中断せざるをえなくなる。また、紙やパルプに斑点や
着色が発生し、製品の品質が低下する。
【0003】また、表面サイズ剤やコーティングカラー
等に利用される澱粉スラリーは、スラリー溶解タンクで
調製され、その後ストレージタンク等に一時的にまたは
所定期間貯溜される。この貯溜期間の長期化または貯溜
温度の変動や、さらに他の経路からの微生物の混入等に
よって、スラリーが腐敗、変質する。これにより腐敗臭
の発生、pHの低下など性状の悪変が起こり、使用に耐
えなくなるばかりか、器壁にスライムが発生し、これが
剥離することによってストレーナーや経路を閉塞するな
どの作業上の障害をもたらす。
【0004】さらにまた、炭酸カルシウムスラリー、泥
水ポリマー、繊維油剤、切削油、ラテックス類、合成樹
脂エマルションや水をベースとするいわゆる水溶性タイ
プの金属加工油(クーラント)等の工業用途に供される
多くの水性液状物も上記澱粉スラリーと同様、微生物に
よって品質の低下や作業障害が起こりやすい。そこで、
前記微生物に起因する障害を防止するために各種工業用
殺菌・静菌剤が開発されている。
【0005】この発明の必須成分であるテトラキス(ヒ
ドロキシメチル)ホスホニウム塩は殺菌剤として知られ
ている(特公平5−50481号公報参照)。またテト
ラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウムサルフェート
と2−ピリジルチオールオキサイドナトリウム塩(Na
ピリチオン)および2−(チオシアノメチルチオ)ベン
ゾチアゾールのうちの少なくとも1種とを有効成分とす
る殺菌組成物が提案されている(特開平3−41009
号公報参照)。
【0006】しかしながら、テトラキス(ヒドロキシメ
チル)ホスホニウム塩単独あるいはテトラキス(ヒドロ
キシメチル)ホスホニウムサルフェートとNaピリチオ
ンおよび2−(チオシアノメチルチオ)ベンゾチアゾー
ルのうちの少なくとも1種との併用では、広範囲の細
菌、カビ等の微生物に対する効果が得られず、添加量を
多くしなければならないという問題があった。
【0007】この発明は、低添加量で種々の細菌に対し
て殺菌・静菌効果を顕著に発揮する工業用殺菌・静菌剤
を提供することを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明の発明者らは、
種々の工業用殺菌剤の組合せについて研究した結果、特
定のテトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム塩
と、特定のニトロブロモ系またはシアノブロモ系化合
物、特定のハロゲン化酢酸エステル誘導体、グルタルア
ルデヒド、メチレンビスチオシアネート、4,5−ジク
ロロ−1,2−ジチオール−3−オン、特定のハロゲン
化グリオキシム誘導体および特定のイソチアゾロン系化
合物から選択された少なくとも1種の殺菌剤とを組み合
わせることにより、低添加量で種々の細菌に対する殺菌
・静菌効果が顕著に発揮されることを見出し、この発明
を完成するに至った。
【0009】かくしてこの発明によれば、一般式
(I):
【0010】
【化5】
【0011】(式中、nはMの原子価に等しく、MはS
4 2- 、PO4 3- 、NO3 -、ハロゲンイオンまたは炭素
数1〜7の有機カルボン酸の陰イオン)で表されるテト
ラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム塩からなる第
1成分と、ニトロブロモ系またはシアノブロモ系化合
物、ハロゲン化酢酸エステル誘導体、グルタルアルデヒ
ド、メチレンビスチオシアネート、4,5−ジクロロ−
1,2−ジチオール−3−オン、ハロゲン化グリオキシ
ム誘導体およびイソチアゾロン系化合物から選択された
少なくとも1種の殺菌剤からなる第2成分とを、有効成
分として含有することを特徴とする工業用殺菌・静菌剤
が提供される。
【0012】また、この発明によれば、殺菌・静菌対象
系に、上記の工業用殺菌・静菌剤を、有効成分の合計濃
度として1〜1000mg/リットルとなるように同時に
または別々に添加することを特徴とする工業的殺菌・静
菌方法が提供される。
【0013】
【発明の実施の形態】この発明において有効成分として
用いられるテトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウ
ム塩は、一般式(I)で表される。式中、ハロゲンイオ
ンとしては、塩素イオン、臭素イオン、フッ素イオンな
どが挙げられ、炭素数1〜7の有機カルボン酸の陰イオ
ンとしては、酢酸陰イオン、安息香酸陰イオンなどが挙
げられる。
【0014】この発明に用いられるテトラキス(ヒドロ
キシメチル)ホスホニウム塩としては、例えば、テトラ
キス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム硫酸塩、テトラ
キス(ヒドロキシメチル)ホスホニウムリン酸塩、テト
ラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム硝酸塩、テト
ラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム塩酸塩、テト
ラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム臭酸塩、テト
ラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウムフッ酸塩およ
び、テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム酢酸
塩、テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム安息
香酸塩等の炭素数1〜6のテトラキス(ヒドロキシメチ
ル)ホスホニウム有機カルボン酸塩等が挙げられ、これ
らの中でもテトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウ
ム硫酸塩を好適に用いることができる。
【0015】この発明において有効成分として用いられ
る化合物、グルタルアルデヒド、メチレンビスチオシア
ネートおよび4,5−ジクロロ−1,2−ジチオール−
3−オンは、いずれも公知の殺菌剤であり、市販のもの
を使用することができる。
【0016】この発明において有効成分として用いられ
るニトロブロモ系またはシアノブロモ系化合物は、一般
式(II):
【0017】
【化6】
【0018】〔式中、Xはニトロ基またはシアノ基、Y
1 およびY2 は同一または異なって臭素原子、アミノカ
ルボニル基、−CH2 −OCOR1 で表される基(R1
は炭素数1〜4の低級アルキル基または水素原子)また
はヒドロキシル基、臭素原子もしくはシアノ基で置換さ
れている炭素数1〜6の低級アルキル基、またはY1
2 が共同して式(III):
【0019】
【化7】
【0020】で示される基を構成するか、あるいはY1
とY2 が結合して低級アルキル基によって置換されてい
てもよいジオキサン残基を示す〕で表される。
【0021】一般式(II)で表されるニトロブロモ系ま
たはシアノブロモ系化合物の具体例としては、2,2−
ジブロモ−2−ニトロエタノール、2−ブロモ−2−ニ
トロ−1,3−プロパンジオール、2−ブロモ−2−ニ
トロ−1,3−ジアセトキシプロパンおよび2,2−ジ
ブロモ−3−ニトリロプロピオンアミド、1,1−ジブ
ロモ−1−ニトロ−2−プロパノール、トリブロモニト
ロメタン、β−ブロモ−β−ニトロスチレン、5−ブロ
モ−5−ニトロ−1,3−ジオキサンおよび1,2−ジ
ブロモ−2,4−ジシアノブタン等が挙げられ、中でも
2,2−ジブロモ−2−ニトロエタノール、2−ブロモ
−2−ニトロ−1,3−プロパンジオール、2−ブロモ
−2−ニトロ−1,3−ジアセトキシプロパンおよび
2,2−ジブロモ−3−ニトリロプロピオンアミドを好
適に用いることができる。また、これらの化合物はいず
れも公知の殺菌剤であり、市販のものを使用することが
できる。
【0022】この発明において有効成分として用いられ
るハロゲン化酢酸エステル誘導体としては、1,4−ビ
ス(ブロモアセトキシ)−2−ブテン、1,2−ビス
(ブロモアセトキシ)エタン、1,2−ビス(ブロモア
セトキシ)プロパンおよび1,2,3−トリスブロモア
セトキシプロパンが挙げられ、中でも1,4−ビス(ブ
ロモアセトキシ)−2−ブテンを好適に用いることがで
きる。これらの化合物はいずれも公知の殺菌剤であり、
市販のものを使用することができる。
【0023】この発明において有効成分として用いられ
るハロゲン化グリオキシム誘導体は、一般式(IV):
【0024】
【化8】
【0025】(式中、Qはハロゲン原子、Rはハロゲン
原子、水素原子または炭素数1〜4の低級アルキル基)
で表される。
【0026】一般式(IV)で表されるハロゲン化グリオ
キシム誘導体の具体例としては、モノクロログリオキシ
ムおよびジクロログリオキシムが挙げられる。これらの
化合物はいずれも公知の殺菌剤であり、市販のものを使
用することができる。
【0027】この発明において有効成分として用いられ
るイソチアゾロン系化合物としては、2−メチルイソチ
アゾリン−3−オン、5−クロロ−2−メチル−4−イ
ソチアゾリン−3−オン、1,2−ベンズイソチアゾリ
ン−3−オン、4,5−ジクロロ−2−n−オクチル−
4−イソチアゾリン−3−オンおよび2−n−オクチル
−4−イソチアゾリン−3−オン挙げられ、中でも2−
メチルイソチアゾリン−3−オンおよび1,2−ベンズ
イソチアゾリン−3−オンを好適に用いることができ
る。また、これらの化合物はいずれも公知の殺菌剤であ
り、市販のものを使用することができる。
【0028】この発明における第1成分と第2成分との
配合割合は、重量比で20:1〜1:50、好ましくは
10:1〜1:20である。
【0029】この発明の有効成分は、通常液剤の形態に
製剤化して用いるのが好ましいが、これに限定されるも
のでなく、使用対象によっては粉剤や錠剤等の形態で用
いてもよい。また、製剤の長期貯蔵安定性などの点でそ
れぞれの有効成分を分離して保管するのが好ましい場合
には、有効成分をそれぞれ別々に製剤化し、使用に際し
てそれらを併用しても差し支えない。
【0030】殺菌対象系が製紙工程のプロセス水や工業
用冷却水等の各種水系や澱粉スラリー、合成樹脂エマル
ション等の場合には、有効成分の溶解、分散性を考慮し
て、水または親水性有機溶媒および分散剤を用いて液剤
とするのが好ましい。
【0031】親水性有機溶媒としては、N,N−ジメチ
ルホルムアミドのようなアミド類、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジ
プロピレングリコールのようなグリコール類、メチルセ
ロソルブ、フェニルセロソルブ、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエー
テルのようなグリコールエーテル類、炭素数8までのア
ルコール類もしくはメチルアセテート、エチルアセテー
ト、3−メトキシブチルアセテート、2−エトキシメチ
ルアセテート、2−エトキシエチルアセテート、プロピ
レンカーボネート、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメ
チル、アジピン酸ジメチルのようなエステル類が挙げら
れ、中でもN,N−ジメチルホルムアミド、ジエチレン
グリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、グルタル酸ジメチルが好ましい。
【0032】分散剤としては、カチオン性界面活性剤、
アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤または両
性界面活性剤のいずれも使用できるが、製剤の安定性の
点ではノニオン性界面活性剤が好ましい。
【0033】このノニオン性界面活性剤としては、高級
アルコールエチレンオキサイド付加物〔エチレンオキサ
イドは以下、(E.O)と略す〕、アルキルフェノール
(E.O)付加物、脂肪酸(E.O)付加物、多価アル
コール脂肪酸エステル(E.O)付加物、高級アルキル
アミン(E.O)付加物、脂肪酸アミド(E.O)付加
物、油脂の(E.O)付加物、プロピレンオキサイド
〔以下、(P.O)と略す〕(E.O)共重合体、アル
キルアミン(P.O)(E.O)共重合体付加物、グリ
セリンの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪
酸エステル、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エ
ステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのア
ルキルエーテル、アルキロールアミド等が挙げられる。
【0034】また、これらの界面活性剤の代わりにまた
はその補助剤として、キサンタンガム、アルギン酸ナト
リウム、ポリビニルアルコール、ゼラチン、CMC(カ
ルボキシメチルセルロース)等の水溶性高分子を用いて
もよい。
【0035】これら製剤の配合割合は、製剤を100重
量部としたとき、有効成分の合計量が1〜80重量部、
分散剤が該有効成分の合計1重量部に対して少なくとも
0.01重量部であり、残部を水または親水性有機溶媒
とするのが好ましい。
【0036】また、殺菌・静菌対象系が重油スラッジ、
切削油剤、油性塗料などの油系の場合には、灯油、重
油、スピンドル油のような炭化水素系溶媒を用いた液剤
とするのが好ましく、前記の界面活性剤を用いてもよ
い。さらに、この発明の有効成分を2〜3液に分けて製
剤化する場合も、それぞれの有効成分について上記の溶
媒や分散剤を用い、上記のような配合割合で製剤化する
ことができる。
【0037】この発明の有効成分が溶解または分散しう
る殺菌・静菌対象系に対しては、有効成分自体を直接、
または固体希釈剤(例えばカオリン、クレー、ベントナ
イト、CMC等)で希釈した粉剤、さらに成形した錠剤
として用いてもよく、前記の界面活性剤を同時に用いて
もよい。また、液剤の場合と同様に、粉剤をそれぞれの
有効成分に分けて製剤化してもよい。また、この発明の
製剤は、その効果を阻害しない限り、水や界面活性剤を
用いてエマルション製剤とすることもでき、さらに他の
公知の殺菌・静菌剤を含有させることもできる。
【0038】この発明の方法において、上記の有効成分
を殺菌・静菌対象系に同時に添加する場合には、前述の
ように単一製剤として用いるのが簡便であるが、製剤の
長期貯蔵安定性等の点で有効成分をそれぞれ分離してお
くのが好ましい場合や、殺菌・静菌対象系に別々に添加
する場合には、個々の製剤の形態で用いられる。この発
明の工業用殺菌・静菌剤は、有効成分が合計濃度として
1〜1000mg/リットル、好ましくは2〜500mg/
リットルとなるように、殺菌・静菌対象系に、同時にま
たは別々に添加される。
【0039】この発明の殺菌・静菌剤の添加量は、殺菌
・静菌対象系の種類や組み合わせた有効成分により異な
るが、ことに製紙工程のプロセス水系や工業用の冷却水
系に使用される場合には、通常有効成分の合計濃度とし
て1〜300mg/リットル程度の添加で充分である。ま
た、澱粉スラリーや切削油に添加する場合は、有効成分
の合計濃度として5〜1000mg/リットル程度で充分
である。
【0040】この発明において、工業用殺菌・静菌殺菌
対象系とは、紙・パルプ工場における抄紙工程水やパル
プスラリー、各種工業用の冷却水や洗浄水、ならびに重
油スラッジ、金属加工油剤(切削油剤、圧延油剤等)、
繊維油剤、紙用塗工液(コーティングカラー)、澱粉ス
ラリー、炭酸カルシウムスラリー、ペイント類(油性塗
料等)、接着剤、ラテックス類、セメント分散剤、合成
樹脂エマルション(SBRラテックス等)、泥水ポリマ
ー、糊剤等を意味する。
【0041】
【実施例】この発明を以下の製剤例および実施例により
具体的に説明するが、これらがこの発明の範囲を限定す
るものではない。
【0042】(製剤例)表1に表される製剤例はこの発
明の2または3種の有効成分からなる製剤である。製剤
は、各有効成分を各種親水性有機溶媒に混合し、攪拌溶
解することにより調製し、供試薬剤とした。なお、製剤
の各有効成分および各種親水性有機溶媒の化合物名と略
号を以下に示す。 THPS:テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウ
ムサルフェート DBNE:2,2−ジブロモ−2−ニトロエタノール BNPD:2−ブロモ−2−ニトロ−1,3−プロパン
ジオール(ブロノポール) GDA:グルタルアルデヒド(グルタルジアルデヒド) DCDOT:4,5−ジクロロ−1,2−ジチオール−
3−オン DBNPA:2,2−ジブロモ−3−ニトリロプロピオ
ンアミド BBAB:1,4−ビス(ブロモアセトキシ)−2−ブ
テン BNDAP:2−ブロモ−2−ニトロ−1,3−ジアセ
トキシプロパン
【0043】DCG:ジクロログリオキシム MCG:モノクロログリオキシム MBTC:メチレンビスチオシアネート BIT:1,2−ベンズイソチアゾリン−3−オン MIT:2−メチルイソチアゾリン−3−オン DMF:N,N−ジメチルホルムアミド DEG:ジエチレングリコール MDG:ジエチレングリコールモノメチルエーテル GAD:グルタル酸ジメチル
【0044】
【表1】
【0045】(実施例1)某製紙会社の酸化澱粉と工業
用水を用いて30%酸化澱粉スラリーを調製し、これを
L字管に分注した。次いで、このL字管に薬剤の全量が
10mg/リットルとなるように添加した後、30℃で振
とうし、3日後の生菌数を測定した。なお、薬剤を添加
しなかったブランクの生菌数は4.3×106 CFU/
ml(pH:4.8)であった。得られた結果を図1〜3
に示す。
【0046】(実施例2)某製紙会社の酸化澱粉と工業
用水を用いて30%酸化澱粉スラリーを調製し、これを
L字管に分注した。次いで、このL字管に薬剤の全量が
3mg/リットルとなるように添加した後、30℃で振と
うし、3日後の生菌数を測定した。なお、薬剤を添加し
なかったブランクの生菌数は4.1×106 CFU/ml
(pH:4.8)であった。得られた結果を図4〜6に
示す。この結果より、THPSとMBTCを必須成分と
する3成分の併用により2成分併用よりもさらに優れた
殺菌・静菌効果が得られることがわかる。
【0047】(実施例3)某社の切削油を充分に腐敗さ
せたものを試料とし、20gずつポリ瓶に分注した。次
いで、各薬剤を所定の濃度になるようにそれぞれ添加し
た後、30℃で静置培養し、経時的に生菌数を測定し
た。なお、初期の生菌数は8.9×106 CFU/ml
(pH:6.7)であった。得られた結果を表2に示
す。
【0048】
【表2】
【0049】(実施例4)某製紙会社の酸化澱粉と工業
用水を用いて25%酸化澱粉スラリーを調製し、これを
L字管に分注した。次いで、各薬剤を所定の濃度になる
ようにそれぞれ添加した後、30℃で振とう培養し、経
時的に生菌数を測定した。なお、初期の生菌数は1.2
×105 CFU/ml(pH:5.83)であった。得ら
れた結果を表3に示す。
【0050】
【表3】
【0051】(実施例5)某製紙会社の白水を500m
lビーカーに秤量し、ジャーテスターで一律に攪拌し
た。次いで、この中に各薬剤を所定の濃度になるように
それぞれ添加し、一定時間接触させた。このような作業
を1日2〜3回繰り返し、ビーカーの内部に付着したス
ライム量を肉眼で観察した。なお、初期の生菌数は1.
0×107 CFU/ml(pH:6.82)であった。得
られた結果を表4に示す。
【0052】
【表4】
【0053】(実施例6)某製紙会社の白水を10ml
ずつL字管に分注した。次いで、このL字管に各薬剤を
所定の濃度になるようにそれぞれ添加し、30分後およ
び60分後の生菌数を測定した。なお、初期の生菌数は
1.1×107 CFU/ml(pH:5.41)であっ
た。得られた結果を表5に示す。
【0054】
【表5】
【0055】(実施例7)某製紙会社の白水をL字管に
分注した。次いで、このL字管に各薬剤を所定の濃度に
なるようにそれぞれ添加した後、30℃で振とう培養
し、経時的に生菌数を測定した。また、同様にして各薬
剤のバクテリアに対する増殖抑制時間を調べた。なお、
初期の生菌数は2.1×107 CFU/ml(pH:7.
7)であった。得られた結果を表6に示す。
【0056】
【表6】
【0057】
【発明の効果】この発明の工業用殺菌・静菌剤は、特定
のテトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウム塩から
なる第1成分と、特定のニトロブロモ系またはシアノブ
ロモ系化合物、特定のハロゲン化酢酸エステル誘導体、
グルタルアルデヒド、メチレンビスチオシアネート、
4,5−ジクロロ−1,2−ジチオール−3−オン、特
定のハロゲン化グリオキシム誘導体および特定のイソチ
アゾロン系化合物から選択された少なくとも1種の殺菌
剤からなる第2成分とを、有効成分として含有すること
を特徴とする。したがって、低添加量で種々の細菌に対
して殺菌・静菌効果を顕著に発揮する工業用殺菌・静菌
剤を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の工業用殺菌・静菌剤のTHPSとD
BNEとの併用による相乗効果を示すグラフである。
【図2】この発明の工業用殺菌・静菌剤のTHPSとB
NPDとの併用による相乗効果を示すグラフである。
【図3】この発明の工業用殺菌・静菌剤のTHPSとG
DAとの併用による相乗効果を示すグラフである。
【図4】この発明の工業用殺菌・静菌剤の(THPS:
DBNE=1:1)とMBTCとの併用による相乗効果
を示すグラフである。
【図5】この発明の工業用殺菌・静菌剤の(THPS:
BNPD=1:1)とMBTCとの併用による相乗効果
を示すグラフである。
【図6】この発明の工業用殺菌・静菌剤の(THPS:
GDA=1:1)とMBTCとの併用による相乗効果を
示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C02F 1/50 532 C02F 1/50 532H 540 540B //(A01N 57/20 33:18 35:02 43:80 47:48)

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I): 【化1】 (式中、nはMの原子価に等しく、MはSO4 2- 、PO
    4 3- 、NO3 -、ハロゲンイオンまたは炭素数1〜7の有
    機カルボン酸の陰イオン)で表されるテトラキス(ヒド
    ロキシメチル)ホスホニウム塩からなる第1成分と、ニ
    トロブロモ系またはシアノブロモ系化合物、ハロゲン化
    酢酸エステル誘導体、グルタルアルデヒド、メチレンビ
    スチオシアネート、4,5−ジクロロ−1,2−ジチオ
    ール−3−オン、ハロゲン化グリオキシム誘導体および
    イソチアゾロン系化合物から選択された少なくとも1種
    の殺菌剤からなる第2成分とを、有効成分として含有す
    ることを特徴とする工業用殺菌・静菌剤。
  2. 【請求項2】 テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホ
    ニウム塩が、テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニ
    ウム硫酸塩である請求項1記載の工業用殺菌・静菌剤。
  3. 【請求項3】 第2成分が、一般式(II): 【化2】 〔式中、Xはニトロ基またはシアノ基、Y1 およびY2
    は同一または異なって臭素原子、アミノカルボニル基、
    −CH2 −OCOR1 で表される基(R1 は炭素数1〜
    4の低級アルキル基または水素原子)またはヒドロキシ
    ル基、臭素原子もしくはシアノ基で置換されている炭素
    数1〜6の低級アルキル基、またはY1 とY2 が共同し
    て式(III): 【化3】 で示される基を構成するか、あるいはY1 とY2 が結合
    して低級アルキル基によって置換されていてもよいジオ
    キサン残基を示す〕で表されるニトロブロモ系またはシ
    アノブロモ系化合物である請求項1または2に記載の工
    業用殺菌・静菌剤。
  4. 【請求項4】 ニトロブロモ系またはシアノブロモ系化
    合物が、2,2−ジブロモ−2−ニトロエタノール、2
    −ブロモ−2−ニトロ−1,3−プロパンジオール、2
    −ブロモ−2−ニトロ−1,3−ジアセトキシプロパン
    および2,2−ジブロモ−3−ニトリロプロピオンアミ
    ドから選択された化合物である請求項3記載の工業用殺
    菌・静菌剤。
  5. 【請求項5】 第2成分が、1,4−ビス(ブロモアセ
    トキシ)−2−ブテン、1,2−ビス(ブロモアセトキ
    シ)エタン、1,2−ビス(ブロモアセトキシ)プロパ
    ンおよび1,2,3−トリスブロモアセトキシプロパン
    から選択されたハロゲン化酢酸エステル誘導体である請
    求項1または2に記載の工業用殺菌・静菌剤。
  6. 【請求項6】 第2成分が、グルタルアルデヒドである
    請求項1または2に記載の工業用殺菌・静菌剤。
  7. 【請求項7】 第2成分が、メチレンビスチオシアネー
    トである請求項1または2に記載の工業用殺菌・静菌
    剤。
  8. 【請求項8】 第2成分が、4,5−ジクロロ−1,2
    −ジチオール−3−オンである請求項1または2に記載
    の工業用殺菌・静菌剤。
  9. 【請求項9】 第2成分が、一般式(IV): 【化4】 (式中、Qはハロゲン原子、Rはハロゲン原子、水素原
    子または炭素数1〜4の低級アルキル基)で表されるハ
    ロゲン化グリオキシム誘導体である請求項1または2に
    記載の工業用殺菌・静菌剤。
  10. 【請求項10】 ハロゲン化グリオキシム誘導体が、モ
    ノクロログリオキシムおよび/またはジクロログリオキ
    シムである請求項9記載の工業用殺菌・静菌剤。
  11. 【請求項11】 第2成分が、2−メチルイソチアゾリ
    ン−3−オン、5−クロロ−2−メチル−4−イソチア
    ゾリン−3−オン、1,2−ベンズイソチアゾリン−3
    −オン、4,5−ジクロロ−2−n−オクチル−4−イ
    ソチアゾリン−3−オンおよび2−n−オクチル−4−
    イソチアゾリン−3−オンから選択されたイソチアゾロ
    ン系化合物である請求項1または2に記載の工業用殺菌
    ・静菌剤。
  12. 【請求項12】 第1成分と第2成分との配合割合が重
    量比で20:1〜1:50である請求項1〜11のいず
    れかに記載の工業用殺菌・静菌剤。
  13. 【請求項13】 殺菌・静菌対象系に、請求項1〜12
    のいずれかに記載の工業用殺菌・静菌剤を、有効成分の
    合計濃度として1〜1000mg/リットルとなるように
    同時にまたは別々に添加することを特徴とする工業的殺
    菌・静菌方法。
JP23271597A 1997-08-28 1997-08-28 工業用殺菌・静菌剤及び工業的殺菌・静菌方法 Expired - Fee Related JP3811710B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23271597A JP3811710B2 (ja) 1997-08-28 1997-08-28 工業用殺菌・静菌剤及び工業的殺菌・静菌方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23271597A JP3811710B2 (ja) 1997-08-28 1997-08-28 工業用殺菌・静菌剤及び工業的殺菌・静菌方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1171213A true JPH1171213A (ja) 1999-03-16
JP3811710B2 JP3811710B2 (ja) 2006-08-23

Family

ID=16943658

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23271597A Expired - Fee Related JP3811710B2 (ja) 1997-08-28 1997-08-28 工業用殺菌・静菌剤及び工業的殺菌・静菌方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3811710B2 (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100454033B1 (ko) * 2002-08-16 2004-10-26 주식회사 한 수 수계의 부식, 스케일 및 슬라임의 형성을 방지하기 위한수처리제 조성물
JP2007291052A (ja) * 2006-04-25 2007-11-08 K I Chemical Industry Co Ltd 工業用殺菌防腐剤
WO2009015089A3 (en) * 2007-07-24 2009-11-26 Dow Global Technologies Inc. Methods of and formulations for reducing and inhibiting the growth of the concentration of microbes in water-based fluids and systems used with them
WO2011016909A1 (en) * 2009-07-27 2011-02-10 Dow Global Technologies Inc. Synergistic antimicrobial composition
US8182942B2 (en) 2009-04-29 2012-05-22 Byd Company Limited Anode and lithium battery with the anode
WO2011049761A3 (en) * 2009-10-20 2012-06-21 Dow Global Technologies Llc Synergistic antimicrobial composition
WO2013055665A1 (en) * 2011-10-13 2013-04-18 Dow Global Technologies Llc Biocidal compositions and methods of use
JP2014205636A (ja) * 2013-04-12 2014-10-30 株式会社片山化学工業研究所 工業用殺菌・静菌剤および工業用殺菌・静菌方法
CN104430494A (zh) * 2014-12-05 2015-03-25 中国石油天然气股份有限公司 一种适合化学驱的杀菌剂及其制备方法与应用
CN104488957A (zh) * 2014-12-10 2015-04-08 山东天庆科技发展有限公司 循环水系统用高效复合杀菌剂及其制备方法
US9139796B2 (en) 2007-07-24 2015-09-22 Dow Global Technologies Llc Methods of and formulations for reducing and inhibiting the growth of the concentration of microbes in water-based fluids and systems used with them
JP2016539111A (ja) * 2013-11-25 2016-12-15 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー ジブロモマロンアミドの組成物及び殺生物剤としてのその使用

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120034313A1 (en) * 2010-08-06 2012-02-09 Baker Hughes Incorporated Microbiocide/Sulfide Control Blends

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100454033B1 (ko) * 2002-08-16 2004-10-26 주식회사 한 수 수계의 부식, 스케일 및 슬라임의 형성을 방지하기 위한수처리제 조성물
JP2007291052A (ja) * 2006-04-25 2007-11-08 K I Chemical Industry Co Ltd 工業用殺菌防腐剤
WO2009015089A3 (en) * 2007-07-24 2009-11-26 Dow Global Technologies Inc. Methods of and formulations for reducing and inhibiting the growth of the concentration of microbes in water-based fluids and systems used with them
US9139796B2 (en) 2007-07-24 2015-09-22 Dow Global Technologies Llc Methods of and formulations for reducing and inhibiting the growth of the concentration of microbes in water-based fluids and systems used with them
US8952199B2 (en) 2007-07-24 2015-02-10 Dow Global Technologies Llc Methods of and formulations for reducing and inhibiting the growth of the concentration of microbes in water-based fluids and systems used with them
US8182942B2 (en) 2009-04-29 2012-05-22 Byd Company Limited Anode and lithium battery with the anode
JP2013500335A (ja) * 2009-07-27 2013-01-07 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー 相乗的抗微生物組成物
WO2011016909A1 (en) * 2009-07-27 2011-02-10 Dow Global Technologies Inc. Synergistic antimicrobial composition
AU2010281595B2 (en) * 2009-07-27 2013-09-19 Dow Global Technologies Llc Synergistic antimicrobial composition
WO2011049761A3 (en) * 2009-10-20 2012-06-21 Dow Global Technologies Llc Synergistic antimicrobial composition
EP2695518A1 (en) * 2009-10-20 2014-02-12 Dow Global Technologies LLC Synergistic antimicrobial composition
EP2681998A1 (en) * 2009-10-20 2014-01-08 Dow Global Technologies LLC Synergistic antimicrobial composition
US9686996B2 (en) 2009-10-20 2017-06-27 Dow Global Technologies Llc Synergistic antimicrobial composition
AU2010308421B2 (en) * 2009-10-20 2013-11-07 Dow Global Technologies Llc Synergistic antimicrobial composition
US9290710B2 (en) 2009-10-20 2016-03-22 Dow Global Technologies Llc Synergistic antimicrobial composition
RU2606278C2 (ru) * 2011-10-13 2017-01-10 Дау Глоубл Текнолоджиз Ллк Биоцидные композиции и способы применения
CN103841830A (zh) * 2011-10-13 2014-06-04 陶氏环球技术有限公司 杀生物组合物及使用方法
JP2014528476A (ja) * 2011-10-13 2014-10-27 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー 殺生物組成物および使用方法
WO2013055665A1 (en) * 2011-10-13 2013-04-18 Dow Global Technologies Llc Biocidal compositions and methods of use
US9961903B2 (en) 2011-10-13 2018-05-08 Dow Global Technologies Llc Biocidal compositions and methods of use
AU2012323419B2 (en) * 2011-10-13 2016-02-04 Dow Global Technologies Llc Biocidal compositions and methods of use
JP2014205636A (ja) * 2013-04-12 2014-10-30 株式会社片山化学工業研究所 工業用殺菌・静菌剤および工業用殺菌・静菌方法
JP2016539111A (ja) * 2013-11-25 2016-12-15 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー ジブロモマロンアミドの組成物及び殺生物剤としてのその使用
CN104430494A (zh) * 2014-12-05 2015-03-25 中国石油天然气股份有限公司 一种适合化学驱的杀菌剂及其制备方法与应用
CN104488957B (zh) * 2014-12-10 2016-08-24 山东天庆科技发展有限公司 循环水系统用高效复合杀菌剂及其制备方法
CN104488957A (zh) * 2014-12-10 2015-04-08 山东天庆科技发展有限公司 循环水系统用高效复合杀菌剂及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3811710B2 (ja) 2006-08-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH1171213A (ja) 工業用殺菌・静菌剤及び工業的殺菌・静菌方法
JPS5950642B2 (ja) 工業用殺菌剤
JPH1112109A (ja) 工業用殺菌剤及び工業的殺菌方法
JP4292257B2 (ja) 工業用殺菌・抗菌剤および工業的殺菌・抗菌方法
JP2584835B2 (ja) 工業用殺菌剤
KR20000029373A (ko) 상승작용을 하는 살균 배합물
JP3719738B2 (ja) 有害微生物撲滅剤
JP4665127B2 (ja) 工業用抗菌剤およびそれを用いた工業的抗菌方法
JP3081061B2 (ja) 工業用殺菌剤
JP2002003311A (ja) 抗菌剤およびそれを用いた抗菌方法
JP2007169222A (ja) 工業用抗菌剤およびそれを用いた工業的抗菌方法
JP2716044B2 (ja) 工業用殺菌、静菌剤
JP6086231B2 (ja) 工業用殺菌・静菌剤および工業用殺菌・静菌方法
JP2679937B2 (ja) 工業用殺菌・静菌剤
JP2005060351A (ja) 工業用抗菌剤および工業的抗菌方法
JP3848970B2 (ja) 工業用殺菌・静菌剤及び工業用殺菌・静菌方法
JP3754988B2 (ja) 工業用殺菌剤及び工業用殺菌方法
JP3769592B2 (ja) 工業用殺菌・静菌剤及び工業用殺菌・静菌方法
JP3355562B2 (ja) 工業用殺菌・静菌剤及び工業的殺菌・静菌方法
JP3848979B2 (ja) 工業用殺菌剤及び工業用殺菌方法
JP3814632B2 (ja) 持続性工業用殺菌・静菌剤及び持続性工業用殺菌・静菌方法
JPH11130604A (ja) 工業的殺菌方法
JPH11130610A (ja) 工業用殺菌剤および工業的殺菌方法
JP3388472B2 (ja) 工業用殺菌・静菌剤及び工業的殺菌・静菌方法
JP2959984B2 (ja) 工業用殺菌・静菌剤及び工業用殺菌・静菌方法1

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040805

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051101

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051124

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20051220

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060111

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R154 Certificate of patent or utility model (reissue)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R154

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100609

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100609

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110609

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120609

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120609

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130609

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130609

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140609

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees