JPH1161480A - 亜硫酸金めっき浴及びそのめっき浴の金塩補充液 - Google Patents
亜硫酸金めっき浴及びそのめっき浴の金塩補充液Info
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- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 87
- JAJIPIAHCFBEPI-UHFFFAOYSA-N 9,10-dioxoanthracene-1-sulfonic acid Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2S(=O)(=O)O JAJIPIAHCFBEPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract 6
- SRCZENKQCOSNAI-UHFFFAOYSA-H gold(3+);trisulfite Chemical compound [Au+3].[Au+3].[O-]S([O-])=O.[O-]S([O-])=O.[O-]S([O-])=O SRCZENKQCOSNAI-UHFFFAOYSA-H 0.000 title claims description 9
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims abstract description 56
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims abstract description 55
- -1 sulfurous acid ion Chemical class 0.000 claims abstract description 28
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims abstract description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 27
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- GABPAXJCPQEORA-UHFFFAOYSA-K azanium;gold(3+);disulfite Chemical compound [NH4+].[Au+3].[O-]S([O-])=O.[O-]S([O-])=O GABPAXJCPQEORA-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 6
- VYWYYJYRVSBHJQ-UHFFFAOYSA-N 3,5-dinitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C1 VYWYYJYRVSBHJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- SDKPSXWGRWWLKR-UHFFFAOYSA-M sodium;9,10-dioxoanthracene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2S(=O)(=O)[O-] SDKPSXWGRWWLKR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- ASPXBYAQZVXSNS-UHFFFAOYSA-N azane;sulfurous acid;hydrate Chemical compound N.N.O.OS(O)=O ASPXBYAQZVXSNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MXZVHYUSLJAVOE-UHFFFAOYSA-N gold(3+);tricyanide Chemical compound [Au+3].N#[C-].N#[C-].N#[C-] MXZVHYUSLJAVOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical compound [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- OWWJNSGFFXKDTL-UHFFFAOYSA-L gold(3+);cyanide;sulfite Chemical compound [Au+3].N#[C-].[O-]S([O-])=O OWWJNSGFFXKDTL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 2
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- RMBFBMJGBANMMK-UHFFFAOYSA-N 2,4-dinitrotoluene Chemical compound CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O RMBFBMJGBANMMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOFVPNPAVMKHCX-UHFFFAOYSA-N N#C[Au](C#N)C#N Chemical class N#C[Au](C#N)C#N WOFVPNPAVMKHCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKYNGSVDQZFBIK-UHFFFAOYSA-N N.[Au+3] Chemical compound N.[Au+3] KKYNGSVDQZFBIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAWPVFSZFWBVPT-UHFFFAOYSA-L [O-]S([O-])=O.N.[Au+3].[Au+3] Chemical compound [O-]S([O-])=O.N.[Au+3].[Au+3] UAWPVFSZFWBVPT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJVURKKXFWFCAR-UHFFFAOYSA-N azane;sulfuric acid;hydrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].O.[O-]S([O-])(=O)=O PJVURKKXFWFCAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000002343 gold Chemical class 0.000 description 1
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229940080262 sodium tetrachloroaurate Drugs 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
めっき操業が可能で、人体に悪影響を与える光沢剤を使
用すること無く、硬度の点において従来にない特質を有
する金めっきが可能な亜硫酸金めっき浴及びその金塩補
充液を提供する。 【解決手段】 金塩、アンモニウムイオン、亜硫酸イオ
ンおよび芳香族ニトロ化合物を必須成分として、浴中の
金とこれらの各成分とのモル比を以て、亜硫酸金めっき
浴の調整を行うことによる。金塩補充液は、亜硫酸金め
っき浴の溶液安定性を害することのない成分に調整した
ものを使用する。
Description
そのめっき浴の金塩補充液に関する。
金めっき浴に比べ、めっき時の被めっき物およびレジス
トの損傷が少ないため、電子部品用のめっきとして広く
用いられている。中でも、半導体ウエハー、TAB等の
バンプに用いる金めっきには、良好なボンディング性能
が要求される。従って、ボンディング性能を向上させる
ため低硬度の金めっき層が求められ、このような金めっ
き層の形成の可能な非シアン系のめっき浴が使用されて
おり、これらのめっき浴の組成成分として一般的に亜硫
酸金塩が使用されている。
は、シアン化金塩を用いた浴にくらべると溶液安定性に
欠け、めっき槽の攪拌ポンプ及び溶液加熱ヒータ上で金
沈を生じやすく、安定しためっき条件の確保が困難であ
った。
点は、60℃以上の中温域から高温域の浴温での操業が
一般的であることに起因している。即ち、延展性に優れ
た低硬度の金めっき層の形成を可能とするため、操業温
度を高くすることにより、めっき液の分解が速くなり、
溶液安定性に欠け、金沈を生じやすくなるのである。
ためには、表面の粗いめっき層よりも表面が平滑で均一
なめっき層である必要がある。このため、従来の非シア
ン系の金めっき浴は、タリウム、鉛、砒素等をめっき表
面の光沢剤として、浴中に添加していた。しかし、近年
は、これらの光沢剤として使用される元素が、一般的に
人体に悪影響を与えるものとして、その使用が制限を受
ける傾向にある。
されてきた非シアン系の金めっき浴に代わり、浴温が6
0℃以下の低温域での安定しためっき操業が可能で、し
かも析出した金めっき層が平滑でかつ延展性に優れた低
硬度であり、かつ人体に悪影響を与える光沢剤を使用す
ることのない新たな非シアン系の金めっき浴が望まれて
いた。
金めっき浴に見られる問題点に着目してなされたもので
あり、人体に悪影響を与える光沢剤を使用することな
く、浴温60℃以下の低温域での安定しためっき操業を
可能とし、ボンディングに適した延展性に優れた低硬度
のめっき層の形成を可能とする非シアン系の亜硫酸金め
っき浴及びそのめっき浴の金塩補充液を提供するもので
ある。
は、金塩、アンモニウムイオン、亜硫酸イオン及び芳香
族ニトロ化合物を必須成分とし、その浴組成を、金が3
〜30g/lの範囲に調整し、金に対するモル比でアン
モニウムイオンが40倍以上、亜硫酸イオンが20倍以
上、芳香族ニトロ化合物が0.1倍以上に調整してなる
亜硫酸金めっき浴である。ここでは、金塩、アンモニウ
ムイオン、亜硫酸イオン及び芳香族ニトロ化合物でめっ
き液を構成することで、非シアン系の亜硫酸金めっき浴
とし、金と他のイオンまたは元素とのモル比をもって組
成を調整したことに特徴を有するものである。
テトラクロロ金(III)酸ナトリウムに限定するもの
ではなく、水溶液中で錯イオンとして存在する金化合物
を含むものである。めっき液中に添加される金塩の量
は、金に換算して、3g/lから30g/lの範囲とな
るよう調整する。この範囲は、めっき操業における経済
的観点から定めた範囲である。即ち、めっき液の金含有
量が3g/l以下の場合でも実質的に金めっきする事は
可能であるが、電着速度が遅く生産効率が低くなるため
であり、一方で、めっき液の金含有量を増加させていく
と30g/lあたりまでは、めっき液中の金含有量に比
例して金の電着速度が増加するが、それ以上に含有量を
増やすことは、被めっき物に付着した金めっき液のくみ
出しによる消耗が増加し、30g/lを越える金含有量
の増加は不経済となる。
酸アンモニウムまたは塩化アンモニウム等の水溶液中で
アンモニウムイオンを生じる化合物により供給される。
また、亜硫酸イオンは、金塩である亜硫酸金アンモニウ
ム、亜硫酸アンモニウム・1水和物、亜硫酸ナトリウム
および亜硫酸カリウムの如き水溶液中で亜硫酸イオンを
生じる化合物により供給されるものである。このアンモ
ニウムイオンと亜硫酸イオンは、金めっき層表面の光沢
に寄与するものであり、その存在量が多いほど光沢のあ
る平滑な金めっき表面を得やすくなる。良好なボンディ
ング性能を確保するためには目視でめっき表面を観察し
た際に、少なくとも、曇りがなく滑らかで平滑と認識で
きる程度のめっき表面が達成できていなければならな
い。そこで、めっき液中の金とアンモニウムイオンおよ
び亜硫酸イオンとのモル比に着目し、目視で金めっき表
面の光沢を観察した結果、表1に示すような関係が得ら
れた。
と亜硫酸アンモニウム・1水和物を使用して建浴する場
合であって、金塩である亜硫酸金アンモニウムをAu1
0g/lとなるように添加し、このときの金に対するモ
ル比である〔アンモニウムイオン〕/〔金〕の値は、
〔亜硫酸イオン〕/〔金〕の値の約2倍になる(図1に
は、2倍になったとしてプロットした。)。表1から分
かるように、〔アンモニウムイオン〕/〔金〕の値が4
0以上、〔亜硫酸イオン〕/〔金〕の値が20以上とい
う条件を満たせば、従来の有害な光沢剤を使用すること
無く、金めっき層の良好な光沢を得ること可能となる。
このモル比を基に、亜硫酸アンモニウム・1水和物の最
低必要な添加量を算出すると、130g/lあれば実用
に耐える光沢が得られる。一方、市販の試薬濃度、経済
性等を考慮し、極めて満足のいく光沢を持つ金めっき層
を得るためには400g/lの添加量があれば十分であ
る。従って、研究の段階においては、硫酸アンモニウム
・1水和物400g/lまで金めっき光沢を観察した
が、良好な結果が得られた。
0g/lの場合に、〔アンモニウムイオン〕/〔金〕の
値が40以上、〔亜硫酸イオン〕/〔金〕の値が20以
上とするためには、最低400g/lの亜硫酸アンモニ
ウム・1水和物が必要となり、亜硫酸アンモニウム・1
水和物の溶解度および経済的理由より800g/lの亜
硫酸アンモニウム・1水和物の使用が限度である。ま
た、亜硫酸イオンの添加を亜硫酸ナトリウムの如き必須
成分以外の元素が含まれる場合であっても、何らめっき
性能に支障は生じない。このようにすると、金の最高添
加量であるAu3g/lの場合には、40〜80g/l
の亜硫酸アンモニウム・1水和物を使用することにな
る。
は、3,5−ジニトロ安息香酸、2,4−ジニトロトル
エン等が用いられる。この芳香族ニトロ化合物は、溶液
安定性を確保する目的で使用するものである。即ち、め
っき溶液の劣化にともなう、金沈の発生を抑制する働き
をするのである。そこで、前述したと同じく、めっき液
中の金と芳香族ニトロ化合物とのモル比(〔芳香族ニト
ロ化合物〕/〔金〕)に着目し、このモル比と金沈発生
の関係を調べ、表2に示した。
化合物〕/〔金〕の値が0.1以上であれば極めて優れ
た溶液安定性を示し、建浴後4週間経過しても、金沈は
発生しないことが分かる。この芳香族ニトロ化合物の最
大添加量は、20g/lである。この量を越えて芳香族
ニトロ化合物を添加しても溶液安定性の大きな改善効果
は見られず、芳香族ニトロ化合物の溶解度の面で制限を
受けるためである。
層は、その硬度の点においても特徴を有する。即ち、従
来の非シアン系金めっき浴を使用すると、めっき層の硬
度がめっき浴温度に依存していた。これに対し、本発明
にかかる非シアン系の亜硫酸金めっき浴は、そのめっき
浴温度が変化しても、安定してHv(ビッカース硬度:
荷重1g)の値が、表3に示す如く90以下を示すもの
となる。
ス硬度の値が一定しているため、浴温を変化させて金め
っきを行った場合でも、ボンダーのボンディング圧を変
化させること無く、ボンディングを行うことが可能であ
り、工程管理を単純化することが出来る。特に、ウエハ
ー、TAB、プリント配線板等の配線パターンの微細化
により、ファインピッチでアスペクト比の大きなバンプ
が要求されてきており、ボンディング時におけるバンプ
の変形を小さくしたい場合や回路をアディティブ法で形
成する等の場合に有効なものとなる。
は、塩化金酸とアンモニアが反応することにより得られ
る沈殿を、亜硫酸アンモニウムと芳香族ニトロ化合物の
混合溶液に溶解したものである請求項1記載の亜硫酸金
めっき浴である。ここで、塩化金酸とアンモニアが反応
することにより得られる沈殿は、乾燥させずに使用する
ことが安全上好ましい。雷金が生成している可能性があ
るからである。このような組成の金塩を使用すると、請
求項1記載の金めっき浴の必須成分のバランスを損なう
ことがないためである。
1または請求項2記載のめっき浴の調整液であり、芳香
族ニトロ化合物を金塩に対しモル比で0.01倍以上含
むものである亜硫酸金アンモニウム溶液である金塩補充
液である。ここで、芳香族ニトロ化合物を金塩に対しモ
ル比で0.01倍以上含ませたのは、請求項1または請
求項2記載のめっき浴に必須成分以外の構成成分の混入
を避け、めっき液の溶液安定性を維持するためである。
即ち、この金塩補充液中の芳香族ニトロ化合物が金塩に
対しモル比で0.01倍以下であると、めっきによる芳
香族ニトロ化合物の消費速度と供給速度のバランスがと
れず、溶液安定性を阻害するからである。このときの、
芳香族ニトロ化合物は多いほど良いが、その溶解度に上
限が左右されるため、溶液中の金含有量に応じて、0.
5g/lから20g/lの範囲が使用され、好ましくは
1.0〜10g/lの範囲で添加される。最低限を0.
5g/lとしたのは、これ以下だとめっき液の溶液安定
性を維持できないためである。
酸金めっき浴組成で、金めっきを行い、ビッカース硬度
および光沢度を測定した。
ース硬度はめっき直後およびアニール後ともに75前後
となり、良好なボンディング性能の確保が可能な値であ
る。また、光沢度計で測定した光沢度は1.7となり、
十分平滑なめっき表面が得られている。
アン系の亜硫酸金めっき浴組成で、金めっきを行い、ビ
ッカース硬度および光沢度を測定した。
ース硬度はめっき直後およびアニール後ともに81前後
となり、良好なボンディング性能の確保が可能な値であ
る。また、光沢度計で測定した光沢度は1.9となり、
十分平滑なめっき表面が得られている。
金めっき浴及びそのめっき浴を用いた金めっき液は、溶
液安定性に優れめっき工程の経費の節減を可能とし、有
害な元素からなる光沢剤を含まないため人体及び環境に
与える影響が少ないものとなる。また、この溶液を使用
して行った金めっきは、回路のランドめっきとして使用
した場合には、その適度で安定した硬度および優れた表
面平滑性より、品質の安定したボンディングを可能とす
る。
Claims (3)
- 【請求項1】 金塩、アンモニウムイオン、亜硫酸イオ
ン及び芳香族ニトロ化合物を必須成分とし、その浴組成
を、金が3〜30g/lの範囲に調整し、金に対するモ
ル比でアンモニウムイオンが40倍以上、亜硫酸イオン
が20倍以上、芳香族ニトロ化合物が0.1倍以上に調
整してなる亜硫酸金めっき浴。 - 【請求項2】 金塩は、塩化金酸とアンモニアが反応す
ることにより得られる沈殿を、亜硫酸アンモニウムと芳
香族ニトロ化合物の混合溶液に溶解したものである請求
項1記載の亜硫酸金めっき浴。 - 【請求項3】 請求項1または請求項2記載のめっき浴
の調整液であり、芳香族ニトロ化合物を金に対しモル比
で0.01倍以上含むものである亜硫酸金アンモニウム
溶液である金塩補充液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21521697A JP3692454B2 (ja) | 1997-08-08 | 1997-08-08 | 亜硫酸金めっき浴及びそのめっき浴の金塩補充液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21521697A JP3692454B2 (ja) | 1997-08-08 | 1997-08-08 | 亜硫酸金めっき浴及びそのめっき浴の金塩補充液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1161480A true JPH1161480A (ja) | 1999-03-05 |
JP3692454B2 JP3692454B2 (ja) | 2005-09-07 |
Family
ID=16668629
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21521697A Expired - Fee Related JP3692454B2 (ja) | 1997-08-08 | 1997-08-08 | 亜硫酸金めっき浴及びそのめっき浴の金塩補充液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3692454B2 (ja) |
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WO2010024099A1 (ja) * | 2008-08-25 | 2010-03-04 | 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社 | 硬質金系めっき液 |
JP2010077527A (ja) * | 2008-08-25 | 2010-04-08 | Electroplating Eng Of Japan Co | 硬質金系めっき液 |
JP2014139348A (ja) * | 2008-08-25 | 2014-07-31 | Electroplating Eng Of Japan Co | 硬質金系めっき液 |
JP2011012314A (ja) * | 2009-07-02 | 2011-01-20 | Ne Chemcat Corp | 電極形成用金めっき浴及びそれを用いた電極形成方法 |
JP2011021217A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Ne Chemcat Corp | 電解硬質金めっき液及びこれを用いるめっき方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3692454B2 (ja) | 2005-09-07 |
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R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
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