JPS5864393A - 錫−亜鉛合金めつき浴 - Google Patents
錫−亜鉛合金めつき浴Info
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- JPS5864393A JPS5864393A JP16486781A JP16486781A JPS5864393A JP S5864393 A JPS5864393 A JP S5864393A JP 16486781 A JP16486781 A JP 16486781A JP 16486781 A JP16486781 A JP 16486781A JP S5864393 A JPS5864393 A JP S5864393A
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- plating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は錫一亜鉛合金めっき浴に関する。
周知のように、錫は大気作用によく耐えるが、これを鉄
表面Ｋめっきしたものは鉄素材の防食皮膜として必ずし
も適当でない。これは、餌めつきがかなり多孔質であり
又錫は鉄よりも電気化学的ｋ貴な金属であるため鉄ｋ対
してカソード皮膜となるためビンホールよりの腐食が避
けられないからである。一方亜鉛は鉄よりも電気化学的
ｋＪｋな金属であるため、亜鉛めっきは鉄ｋ対してアノ
ード皮膜となり鉄を防食する。しかし苛酷な気象条件で
使用すると塩基性塩を生威しながら溶解する。
表面Ｋめっきしたものは鉄素材の防食皮膜として必ずし
も適当でない。これは、餌めつきがかなり多孔質であり
又錫は鉄よりも電気化学的ｋ貴な金属であるため鉄ｋ対
してカソード皮膜となるためビンホールよりの腐食が避
けられないからである。一方亜鉛は鉄よりも電気化学的
ｋＪｋな金属であるため、亜鉛めっきは鉄ｋ対してアノ
ード皮膜となり鉄を防食する。しかし苛酷な気象条件で
使用すると塩基性塩を生威しながら溶解する。
一般ｋ亜鉛めつき厚は数ミクロンであるのでめっき皮膜
が腐食消耗してしまった移では鉄素材の腐食は避けられ
ない。又値はハンダ付け性能が良好であるがホイスカー
を発生しやすいという欠点があり、亜鉛はハンダ付け性
能が極めて悪いという欠点がある。
が腐食消耗してしまった移では鉄素材の腐食は避けられ
ない。又値はハンダ付け性能が良好であるがホイスカー
を発生しやすいという欠点があり、亜鉛はハンダ付け性
能が極めて悪いという欠点がある。
これｋ対し鐸を６０〜ｇθ％、亜鉛を一〇〜４ＩＯ％含
有する錫一亜鉛合金めっきは、両金属の肯定的性質を１
＃揮させる。すなわち、気孔度の減少と皮膜自身の腐食
速度の低下を可能にし、ヌ鉄に対して電気化学的に弱い
アノードとなりアノード防食する。更にハンダ付は性能
が良好であり、ホイスカーの発生もない。尚亜鉛含有量
が３０％を超えるとその耐食性は純亜鉛に近づき、−含
有量が７０％以下では錫めっきに近づきマ゛気化学的に
鉄を腐食から保膵できない。
有する錫一亜鉛合金めっきは、両金属の肯定的性質を１
＃揮させる。すなわち、気孔度の減少と皮膜自身の腐食
速度の低下を可能にし、ヌ鉄に対して電気化学的に弱い
アノードとなりアノード防食する。更にハンダ付は性能
が良好であり、ホイスカーの発生もない。尚亜鉛含有量
が３０％を超えるとその耐食性は純亜鉛に近づき、−含
有量が７０％以下では錫めっきに近づきマ゛気化学的に
鉄を腐食から保膵できない。
このような鉄系金属表面めっきに好適な性質を有する錫
−亜鉛合金めっき浴としては従来アルカリシアン浴、硼
弗酸浴、♂ロリン酸浴、有機酸浴なとが研究されている
。しかしアルカリシアン浴、硼弗酸浴ゆ有害物質を含有
するため、その廃水が一ロリン酸浴、くえん酸等の有機
酸浴からのめつき浴は均在のところ金属イオンが不安宇
である（沈殿しやすい）、平滑緻密なめっきが得られる
電流密度の範囲が狭い、および電流密−の変化により合
金＃ｌ或が変動しやすいなどの欠゛点を有している。
−亜鉛合金めっき浴としては従来アルカリシアン浴、硼
弗酸浴、♂ロリン酸浴、有機酸浴なとが研究されている
。しかしアルカリシアン浴、硼弗酸浴ゆ有害物質を含有
するため、その廃水が一ロリン酸浴、くえん酸等の有機
酸浴からのめつき浴は均在のところ金属イオンが不安宇
である（沈殿しやすい）、平滑緻密なめっきが得られる
電流密度の範囲が狭い、および電流密−の変化により合
金＃ｌ或が変動しやすいなどの欠゛点を有している。
またグルコン酸等の有機酸浴も知られているが、この浴
ではノニルフェニルエーテル系非イオン界面活性剤が使
用されており、恢電流密度におけるつｐ！マリ性炒が悪
く、また高電流密度において平滑級密なめっきが得られ
ない等の欠点を有している。
ではノニルフェニルエーテル系非イオン界面活性剤が使
用されており、恢電流密度におけるつｐ！マリ性炒が悪
く、また高電流密度において平滑級密なめっきが得られ
ない等の欠点を有している。
本発明の目的は上ｒ従来の餌−亜鉛合金めっき浴の欠点
に修み、公害問題がなく、かつ電撃皮膜特性の優れた鋸
−亜鉛合金めっき浴を捷供することである。
に修み、公害問題がなく、かつ電撃皮膜特性の優れた鋸
−亜鉛合金めっき浴を捷供することである。
本発明は
第−一塩及び亜鉛塩。
グルコン酸、グルコヘプトン酸、これらのアルカリ金属
塩、グルコノラクトン、及びグルコノへブトノラクトン
から成る群から選ばれる少くとも一種。
塩、グルコノラクトン、及びグルコノへブトノラクトン
から成る群から選ばれる少くとも一種。
一般式：
（式中、Ｒは脚素数／−〜／ｇのアルキル基。
Ｘ＋ｌ＝ｇ〜６０）で示されるポリオキシエチレンアル
キルアミンの少＜トモ−ｍ”。
キルアミンの少＜トモ−ｍ”。
無榛酸のナトリウム塙、カリウム壇、アンモニウム塩の
少くとも一種 を含有することを特徴とする鯉−亜鉛合金めっき浴に間
するものである。本発明はまた、さらにアルデヒド化合
物を含有している前記鋼−亜鉛合金めつ鎗浴に関するも
のである。
少くとも一種 を含有することを特徴とする鯉−亜鉛合金めっき浴に間
するものである。本発明はまた、さらにアルデヒド化合
物を含有している前記鋼−亜鉛合金めつ鎗浴に関するも
のである。
即ち本発明のｍ−亜鉛合金めっき浴は炉−縮環及び亜鉛
塩を含有し、グルコン酸、グルコヘプトン酸、グルコノ
ラクトン、グルコヘプトノラクトン及びこれらのアルカ
リ金Ｊ！Ｊ塩からなる群から選ばれる少くとも一種を錯
化剤として含有する基本及び塩類を配合してなるもので
ある。さらにアルデヒド化合物を添加して光沢めっきな
らしめた錫−亜鉛合金めっき浴である。
塩を含有し、グルコン酸、グルコヘプトン酸、グルコノ
ラクトン、グルコヘプトノラクトン及びこれらのアルカ
リ金Ｊ！Ｊ塩からなる群から選ばれる少くとも一種を錯
化剤として含有する基本及び塩類を配合してなるもので
ある。さらにアルデヒド化合物を添加して光沢めっきな
らしめた錫−亜鉛合金めっき浴である。
本発°明に使用される金属塩類は特に限定されることな
く一般に錫、亜鉛のめつき浴に′使用されているもので
ある。
く一般に錫、亜鉛のめつき浴に′使用されているもので
ある。
例えば、第−一塩としては塩化第一一、−酸第−ｇ、酢
醗第−錫などが用いられ、亜鉛塩としては塩化亜鉛、硫
駿亜鉛、酢酸亜鉛郷が用いられる。
醗第−錫などが用いられ、亜鉛塩としては塩化亜鉛、硫
駿亜鉛、酢酸亜鉛郷が用いられる。
上記金゛Ｓ塩のめつ會液中の使用濃度は金属−として／
〜！ ０９／ｌ ｆＦましくはｊ−コ３２／Ｉが適当で
あり、金Ｓ亜鉛としてＯｏ−〜コ０９／ｌ好ましくは／
−／ Ｑ ９／ｌが適当である。
〜！ ０９／ｌ ｆＦましくはｊ−コ３２／Ｉが適当で
あり、金Ｓ亜鉛としてＯｏ−〜コ０９／ｌ好ましくは／
−／ Ｑ ９／ｌが適当である。
本発明において使用されるグルコン酸、またはグルコヘ
プトン酸、これらのアルカリ金属塩、グルコノラクトン
、グルコヘプトノラクトンの働きは、金属を一塩として
溶解し、又錫及び亜鉛の析出電位を接近させ合金析出を
可能ならしめることである。ラクトンとはエステルの官
能基を環内に含む化合物をいい、環を構成する原子の数
によってβ−ラクトン、ｒ−ラクトン、−一ラクトンな
どの別がある。グルコン酸、ベルコヘプ）ｙｉｌ？Ｆ）
如く分子内に水１１ｆ−とカル？キシル基をもつ化合物
は、加熱勢により容易に分子内エステルを生成してラク
トンとなる。水溶液では遊離のグルコン９、ｒ及び−一
ラクトンはいずれも単動では存在せず一部互に仙の王者
に変わり王者の平衡混合物で存在する。
プトン酸、これらのアルカリ金属塩、グルコノラクトン
、グルコヘプトノラクトンの働きは、金属を一塩として
溶解し、又錫及び亜鉛の析出電位を接近させ合金析出を
可能ならしめることである。ラクトンとはエステルの官
能基を環内に含む化合物をいい、環を構成する原子の数
によってβ−ラクトン、ｒ−ラクトン、−一ラクトンな
どの別がある。グルコン酸、ベルコヘプ）ｙｉｌ？Ｆ）
如く分子内に水１１ｆ−とカル？キシル基をもつ化合物
は、加熱勢により容易に分子内エステルを生成してラク
トンとなる。水溶液では遊離のグルコン９、ｒ及び−一
ラクトンはいずれも単動では存在せず一部互に仙の王者
に変わり王者の平衡混合物で存在する。
グルコヘプトン酸についても同様である。
上Ｐグルコン酸、グルコヘプトン酸、それらの埠、ラク
トンまたはそれらの混合物の使用製置はコ０〜ｑＯＯり
／ｌであり金属塩濃度によって前配藺囲内で使用される
。
トンまたはそれらの混合物の使用製置はコ０〜ｑＯＯり
／ｌであり金属塩濃度によって前配藺囲内で使用される
。
本発明に使用されるＩリオキシエチレンアルキルアミン
は一般式： ％式％ ここにＲは炭素数／２〜ｌざのアルキル基であざ〜６０
である。一般に上記ポリオキシエチレンることにより得
られる。
は一般式： ％式％ ここにＲは炭素数／２〜ｌざのアルキル基であざ〜６０
である。一般に上記ポリオキシエチレンることにより得
られる。
高級脂肪族アミンとしてはラウリルアミン、ステアリル
アミン、オレイルアミン、リル゛イルアミン、ラウリル
アミンが主成分のヤシア２ン、オレイルアミンが主成分
である牛脂アミン、リルイルアミンが主成分である大豆
アミンなどが適当である。
アミン、オレイルアミン、リル゛イルアミン、ラウリル
アミンが主成分のヤシア２ン、オレイルアミンが主成分
である牛脂アミン、リルイルアミンが主成分である大豆
アミンなどが適当である。
本発明に使用されるぼりオキシエチレンアルキルアミン
のエチレンオキサイド付加モル数は、ｇ、〜６０が好ま
しい。３未満であると水溶性に乏しくメッキ液が白濁し
、又６ｏを超えるとカチオン性の性質が失われ効果が低
下する。ぼりオキシエチレンアルキルアミンは析出粒子
を微細化し緻密なめつき皮膜を得るために有効であり、
樹枝状またはス４ンジ状皮膜、ビット、ピンホール岬の
発生を抑制する働きをする。又っき廻り性峠を飛躍的に
向上させる。上Ｐプリオキシエチレンアルキルアミンは
一種または二種以上組合せて使用することができる。使
用濃度は０．０ Ａ〜コＯり／Ｉ好ましくけ／〜／ Ｏ
ｆｉ／ｌが適当である。０．０３ ｆｌ／ｌ未渉では緻
密なめつき皮膜を得る効果が十分でなく。
のエチレンオキサイド付加モル数は、ｇ、〜６０が好ま
しい。３未満であると水溶性に乏しくメッキ液が白濁し
、又６ｏを超えるとカチオン性の性質が失われ効果が低
下する。ぼりオキシエチレンアルキルアミンは析出粒子
を微細化し緻密なめつき皮膜を得るために有効であり、
樹枝状またはス４ンジ状皮膜、ビット、ピンホール岬の
発生を抑制する働きをする。又っき廻り性峠を飛躍的に
向上させる。上Ｐプリオキシエチレンアルキルアミンは
一種または二種以上組合せて使用することができる。使
用濃度は０．０ Ａ〜コＯり／Ｉ好ましくけ／〜／ Ｏ
ｆｉ／ｌが適当である。０．０３ ｆｌ／ｌ未渉では緻
密なめつき皮膜を得る効果が十分でなく。
またコ０９／ｌを超えても特に電着皮膜の性静の向上は
Ｖめられずまためっき液の発泡性が着しくなり適当でな
い。
Ｖめられずまためっき液の発泡性が着しくなり適当でな
い。
本発明に使用される無機酸のナトリウム塩、カリウム塙
、アンモニウム填としては、例えば、硫酸ナトリウム、
硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、塩化ナトリウム、塩
化カリウム、塩化アンモニウム、硝酸ナトリウム、硝酸
カリウム、硝酸アンモニウムに リン酸ナトリウム、も
つ酸ナトリウム尋。
、アンモニウム填としては、例えば、硫酸ナトリウム、
硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、塩化ナトリウム、塩
化カリウム、塩化アンモニウム、硝酸ナトリウム、硝酸
カリウム、硝酸アンモニウムに リン酸ナトリウム、も
つ酸ナトリウム尋。
をあげることかできる。
これらの塩を添加することにより電導性が向上し浴電圧
が低くなり電力の節約となり、又特に高電流密度での皮
膜の外観が改善され＃−なめつ伊皮膜となるので、高電
流密度でのめつ°き作業が可能になり析出速度を早くす
ることができる。これらの塩の使用濃度はコ３〜３００
９／ｌが適当であり好ｔ ’Ｌ、 ＜ ハ！ＩＯ〜／
！ｔ Ｏｙ／ｌ テある。ｘａｐ／／未清では効果が少
く又３００ ｆｌ／ｌを超えても特に性−の゛向上は認
められない。
が低くなり電力の節約となり、又特に高電流密度での皮
膜の外観が改善され＃−なめつ伊皮膜となるので、高電
流密度でのめつ°き作業が可能になり析出速度を早くす
ることができる。これらの塩の使用濃度はコ３〜３００
９／ｌが適当であり好ｔ ’Ｌ、 ＜ ハ！ＩＯ〜／
！ｔ Ｏｙ／ｌ テある。ｘａｐ／／未清では効果が少
く又３００ ｆｌ／ｌを超えても特に性−の゛向上は認
められない。
本発明の鑵−亜鉛合金めっき浴にさらにアルデヒド化合
物を添加することにより光沢錫−亜鉛合金めっきが得ら
ｈる。アルデヒド化合物としてはグリオキサール、スク
シンアルデヒド、アクロレイン、クロトンアルデヒド、
ベンズアルデヒド、トルアルデにド、サリチルアルデヒ
ド、シンナ工アルデヒド、ペラトルムアルデヒド、アニ
スアルデヒド、ピベロナール、バニリン、フルフラール
などが少くとも一種使用され、その使用濃度は０．０
／ 〜０．！ｉ ｆｌ／ｌ テあ６．０．０ ／ ９！
１未満では光沢作用が不充分であり０．３ ｆｌ／ｌを
超えると条痕が発生し不均一なめっきとなる。
物を添加することにより光沢錫−亜鉛合金めっきが得ら
ｈる。アルデヒド化合物としてはグリオキサール、スク
シンアルデヒド、アクロレイン、クロトンアルデヒド、
ベンズアルデヒド、トルアルデにド、サリチルアルデヒ
ド、シンナ工アルデヒド、ペラトルムアルデヒド、アニ
スアルデヒド、ピベロナール、バニリン、フルフラール
などが少くとも一種使用され、その使用濃度は０．０
／ 〜０．！ｉ ｆｌ／ｌ テあ６．０．０ ／ ９！
１未満では光沢作用が不充分であり０．３ ｆｌ／ｌを
超えると条痕が発生し不均一なめっきとなる。
本発明のめっき浴を用いてめっきを行なう際、−の範囲
はｙ、ｏ〜９．０好ましくはす、ｏ〜ｇ、０が適当であ
る。ｐＨ４！、０未満では亜鉛が析出しＫくく。
はｙ、ｏ〜９．０好ましくはす、ｏ〜ｇ、０が適当であ
る。ｐＨ４！、０未満では亜鉛が析出しＫくく。
又９Ｍ９．０を超えると高電流部゛分ｉ＝ｒ？、ヤクを
生じる。ｐＨ＠ ＩＩには水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、アンモニア水または塩酸、硫酸、硝酸、リン酸
等が適宜使用される。
生じる。ｐＨ＠ ＩＩには水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、アンモニア水または塩酸、硫酸、硝酸、リン酸
等が適宜使用される。
陰極電流密度はθ、／〜６＾／ｄｍ２、好ましくは０．
３〜３＾、／ｄｉｍ’が適当である。浴温は／３〜６０
Ｃ１好ましくは２０〜３．５Ｃが適当である。攪拌はカ
ソードロッカー−の流動攪拌が望ましく、空気攪拌は第
−一塩が第二−塩ｋｌｌ化されるので不適当である。陽
極は銅板、亜鉛板、重着皮膜の合金組成と同じ組成の銅
−亜鉛合金板、あるいは不溶性陽極であるステンレス板
、カーがン板を使用する。０ 本発明の錫−亜鉛合金めっき浴は、有害物質を含まず廃
水処理が容易であり１．Ｐ食性がないという特命を有す
る。また、液中の金属濃度の割合を蜜えることにより、
目的とする組成のめつき皮膜が容易に得られ、しかも環
流密度変化による合金組成の変動が小さいという特徴が
ある。°さらに本発明のめつき浴は、つき廻り性能、均
ム電着性訃に優れているため複雛な形状の品物にめっき
を施さい。得られるめっき皮膜は広範囲の電流密度にわ
たって平滑緻密であり、更にアルデヒド化合物を添加し
なし鵠からは無光沢ないし半光沢のめつき１添加した浴
からは光沢あるめっき皮膜を得ることができる。
３〜３＾、／ｄｉｍ’が適当である。浴温は／３〜６０
Ｃ１好ましくは２０〜３．５Ｃが適当である。攪拌はカ
ソードロッカー−の流動攪拌が望ましく、空気攪拌は第
−一塩が第二−塩ｋｌｌ化されるので不適当である。陽
極は銅板、亜鉛板、重着皮膜の合金組成と同じ組成の銅
−亜鉛合金板、あるいは不溶性陽極であるステンレス板
、カーがン板を使用する。０ 本発明の錫−亜鉛合金めっき浴は、有害物質を含まず廃
水処理が容易であり１．Ｐ食性がないという特命を有す
る。また、液中の金属濃度の割合を蜜えることにより、
目的とする組成のめつき皮膜が容易に得られ、しかも環
流密度変化による合金組成の変動が小さいという特徴が
ある。°さらに本発明のめつき浴は、つき廻り性能、均
ム電着性訃に優れているため複雛な形状の品物にめっき
を施さい。得られるめっき皮膜は広範囲の電流密度にわ
たって平滑緻密であり、更にアルデヒド化合物を添加し
なし鵠からは無光沢ないし半光沢のめつき１添加した浴
からは光沢あるめっき皮膜を得ることができる。
次に本発明を実施例により更に詳細に説、明する。
実施例１
硫１１１Ｅ−ＩＩ 、？ Ｏｆ
／１ａｗ／ＶＴｊ鉛−を水塩ａｏ ’ ダルコヘデトン酸ナトリウム １００ １硫酸アｙ
モニウム １００ ＃ｐｉ
７０からなるめっき浴を使用して２０
Ｃの温度で鋼板上＃Ｃコ＾Ａ−の電流密度でｌＯ０分間
通電亜鉛含有量コＯ％の半光沢のめつき皮膜を得た。
／１ａｗ／ＶＴｊ鉛−を水塩ａｏ ’ ダルコヘデトン酸ナトリウム １００ １硫酸アｙ
モニウム １００ ＃ｐｉ
７０からなるめっき浴を使用して２０
Ｃの温度で鋼板上＃Ｃコ＾Ａ−の電流密度でｌＯ０分間
通電亜鉛含有量コＯ％の半光沢のめつき皮膜を得た。
実施例コ
塩化第−錨・コ水塩 、２０ ｆ、り塩
化亜鉛 ／３ ＃グルコン酸
ナトリウム ７３ ｌ塩化アンモニウム
ｉｏｏ ｅｐｌ
ｇ、 ０からなるめつき浴を使用して３
ＡＣのｉ！変で鋼板上にＯ０β礒／ｄｔｒｌの電流密度
で３００分間通電亜鉛含有量３３％の半光沢のめつき皮
膜を得た。
化亜鉛 ／３ ＃グルコン酸
ナトリウム ７３ ｌ塩化アンモニウム
ｉｏｏ ｅｐｌ
ｇ、 ０からなるめつき浴を使用して３
ＡＣのｉ！変で鋼板上にＯ０β礒／ｄｔｒｌの電流密度
で３００分間通電亜鉛含有量３３％の半光沢のめつき皮
膜を得た。
実施例３
硫酸第一錫 ３ ｊ ｆｌ／１
酢酸亜鉛・コ水塩 コｏ’グルコノ一
一−ラクトン ／３θ硫−ナトリウム
りｊＩアニスアルデヒド
ａコ ＩＨＩＡ１３ からなるめっき浴を使用して一〇での温度も鋼板上Ｋ
／ Ａ／ｄｔｔｌの電流密度で２Ｃ分間通電し亜鉛含有
量コｊ％の光沢のめつき皮膜を得た。
酢酸亜鉛・コ水塩 コｏ’グルコノ一
一−ラクトン ／３θ硫−ナトリウム
りｊＩアニスアルデヒド
ａコ ＩＨＩＡ１３ からなるめっき浴を使用して一〇での温度も鋼板上Ｋ
／ Ａ／ｄｔｔｌの電流密度で２Ｃ分間通電し亜鉛含有
量コｊ％の光沢のめつき皮膜を得た。
奥論例ヶ
酢Ｗ第一−コｏ２μ
酢階亜鉛 −’１０９／１グ
ルコヘプトツーーラクトン ２００ １硝酸アンそ
ニウム ＳＯａ♂ペロナール
ａｌｌｐｉ
ムｊからなるめっき浴を使用してＪＯＣの温度
で鋼板上Ｋ Ｊ ｓ、Ｙｖｌの電流密度で７３分間通電
し亜鉛含有量３１％の光沢のめつき皮膜を得た。
ルコヘプトツーーラクトン ２００ １硝酸アンそ
ニウム ＳＯａ♂ペロナール
ａｌｌｐｉ
ムｊからなるめっき浴を使用してＪＯＣの温度
で鋼板上Ｋ Ｊ ｓ、Ｙｖｌの電流密度で７３分間通電
し亜鉛含有量３１％の光沢のめつき皮膜を得た。
実施例Ｓ
塩化第一錫 、 ４Ｉｏｔ；
μ硫酸亜鉛 ４！０ １グル
コン酸 ／３０ ＃リン酸ナ
トリウム ７３ ＃オルトバニリン
０．１１１９ＨムＯ からなるめっき浴を使用して１５Ｃの塩度で鋼板上に２
＾Ａ−の電流密廖で：ＩＯ分間通嘗し亜鉛含有量３０％
の光釈のめつき皮膜を得た。
μ硫酸亜鉛 ４！０ １グル
コン酸 ／３０ ＃リン酸ナ
トリウム ７３ ＃オルトバニリン
０．１１１９ＨムＯ からなるめっき浴を使用して１５Ｃの塩度で鋼板上に２
＾Ａ−の電流密廖で：ＩＯ分間通嘗し亜鉛含有量３０％
の光釈のめつき皮膜を得た。
比較例／
硫酸第一＃！ コア ｆｌ／１硫
酸亜鉛 ３６ ＃７グルコン
酸ナトリウム ／１０ ＃トリエタノール
アミン コロ ＃ペプトン
θ３１オルトバニリン
ＱＯ’ｌ ＃ｐＨムＯ＃ 比較例コ 硫ＩＩ第一＃ｌ ３クルｑ硫醗
亜鉛 、２コ Ｉグルコン酸
ナトリウム ／１０ ＃トリエタノールア
ミン ２４ ’ペプトン
０．８ｇオルトバニリン
０．０３１ｐｉｔ
よ３実施例／−ｊおよび比較例１−コにより得られた
めつ？！に′ｆ１Ｎを用いて、ハルセルテストを行った
。
酸亜鉛 ３６ ＃７グルコン
酸ナトリウム ／１０ ＃トリエタノール
アミン コロ ＃ペプトン
θ３１オルトバニリン
ＱＯ’ｌ ＃ｐＨムＯ＃ 比較例コ 硫ＩＩ第一＃ｌ ３クルｑ硫醗
亜鉛 、２コ Ｉグルコン酸
ナトリウム ／１０ ＃トリエタノールア
ミン ２４ ’ペプトン
０．８ｇオルトバニリン
０．０３１ｐｉｔ
よ３実施例／−ｊおよび比較例１−コにより得られた
めつ？！に′ｆ１Ｎを用いて、ハルセルテストを行った
。
ハルセルめっき条件：
全電流 コ＾
時 間 ３分
浴温 コ３Ｃ
添付図面に示されているように１本発明のめっき浴を用
いると高電流密度まで平滑紗密なめっきが得られる（Ａ
〜［）が、比較例１および−ではそれぞれ電流密度が約
ＩＯＡ／ｄＩ＋／！およびＦｌ ｇ Ａ／ｃｂ／以上に
なると樹枝状のＩ！雷着めっきとなり、実用上支障があ
ることがわかる。
いると高電流密度まで平滑紗密なめっきが得られる（Ａ
〜［）が、比較例１および−ではそれぞれ電流密度が約
ＩＯＡ／ｄＩ＋／！およびＦｌ ｇ Ａ／ｃｂ／以上に
なると樹枝状のＩ！雷着めっきとなり、実用上支障があ
ることがわかる。
添付図面は、本発明および比較例めっき浴のハルセルテ
スト結果を示すものである。 Ａ〜Ｅは、実施例／−１のめつき浴、ＦおよびＧは比較
例／および−のめつき浴を用いてそれぞれ得られた結果
を示している。 （Ａ／ｄｍす
スト結果を示すものである。 Ａ〜Ｅは、実施例／−１のめつき浴、ＦおよびＧは比較
例／および−のめつき浴を用いてそれぞれ得られた結果
を示している。 （Ａ／ｄｍす
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 〔１〕 第一錫塩及び亜鉛塩； グルコン酸，グルコヘデトン暖，これらのアルカリ金属
塩，グルコノラクトン．及びグルコ■へデトノラクトン
から成る群から選ばれる少くとも一積； 一般式： （式中Ｒは炭素数ｌコ〜ｌざのアルキル基，Ｘ＋ｙ＝ｇ
〜６θ） で示される？リオキシエチレ．ンアルキルアき冫．の少
くとも一種；無機酸のナトリウム塩，カリウム塩，アン
モニウム塩の少くとも一種を含有することを特命とする
銅一亜鉛合金めっき浴。 〔２〕゛さらｋアルデヒド化合物を含有している特゛許
請求の範囲第〔１〕項記軟の一一亜壽合金めつき浴。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56164867A JPS5952237B2 (ja) | 1981-10-14 | 1981-10-14 | 錫−亜鉛合金めつき浴 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56164867A JPS5952237B2 (ja) | 1981-10-14 | 1981-10-14 | 錫−亜鉛合金めつき浴 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5864393A true JPS5864393A (ja) | 1983-04-16 |
| JPS5952237B2 JPS5952237B2 (ja) | 1984-12-18 |
Family
ID=15801423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56164867A Expired JPS5952237B2 (ja) | 1981-10-14 | 1981-10-14 | 錫−亜鉛合金めつき浴 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5952237B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998013533A1 (de) * | 1996-09-27 | 1998-04-02 | Atotech Deutschland Gmbh | Datenträger zur speicherung von binärdaten und verfahren zur herstellung des datenträgers |
| KR100467711B1 (ko) * | 2000-07-05 | 2005-01-24 | 주식회사 포스코 | 고전류밀도 도금 및 표면외관이 양호한 주석-아연합금도금액 첨가제 및 이 첨가제가 함유된 도금액에 의해도금된 주석-아연 도금강판 |
| WO2018180192A1 (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-04 | 三菱マテリアル株式会社 | めっき液 |
| JP2018162512A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | 三菱マテリアル株式会社 | めっき液 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4829458A (ja) * | 1971-07-30 | 1973-04-19 | ||
| JPS5175633A (en) * | 1974-12-27 | 1976-06-30 | Dipsol Chem | Suzu aengokinmetsukyoku |
| JPS5469534A (en) * | 1977-11-16 | 1979-06-04 | Dipsol Chem | Citric acid brilliant tin or tin alloy plating bath |
-
1981
- 1981-10-14 JP JP56164867A patent/JPS5952237B2/ja not_active Expired
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4829458A (ja) * | 1971-07-30 | 1973-04-19 | ||
| JPS5175633A (en) * | 1974-12-27 | 1976-06-30 | Dipsol Chem | Suzu aengokinmetsukyoku |
| JPS5469534A (en) * | 1977-11-16 | 1979-06-04 | Dipsol Chem | Citric acid brilliant tin or tin alloy plating bath |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998013533A1 (de) * | 1996-09-27 | 1998-04-02 | Atotech Deutschland Gmbh | Datenträger zur speicherung von binärdaten und verfahren zur herstellung des datenträgers |
| KR100467711B1 (ko) * | 2000-07-05 | 2005-01-24 | 주식회사 포스코 | 고전류밀도 도금 및 표면외관이 양호한 주석-아연합금도금액 첨가제 및 이 첨가제가 함유된 도금액에 의해도금된 주석-아연 도금강판 |
| WO2018180192A1 (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-04 | 三菱マテリアル株式会社 | めっき液 |
| JP2018162512A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | 三菱マテリアル株式会社 | めっき液 |
| CN110462108A (zh) * | 2017-03-27 | 2019-11-15 | 三菱综合材料株式会社 | 电镀液 |
| US11174565B2 (en) | 2017-03-27 | 2021-11-16 | Mitsubishi Materials Corporation | Plating liquid |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5952237B2 (ja) | 1984-12-18 |
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