JPH1160822A - ゴム組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 各種装置のゴム部材、たとえば、複写機、プ
リンター等の電子写真装置、静電記録装置等のゴム部材
として用いた場合に、電気特性、低硬度、ノンブリー
ド、非粘着性等の各特性に優れたゴム組成物を提供す
る。 【解決手段】 所定の有機ゴム（Ａ）１００重量部と、
所定のポリオルガノシロキサン（Ｂ）０．１〜１００重
量部および所定のポリオキシアルキレン（Ｃ）０．１〜
１００重量部、または所定のポリオルガノシロキサン
（Ｄ）０．１〜１００重量部とを反応させ、または剪断
変形を付与しながら反応させることによって得られるゴ
ム組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ゴム組成物に関す
る。さらに詳しくは、電子写真複写機、プリンター等に
用いられる帯電ロール、現像ロール、転写ロール、定着
ロール、ベルトに好適に用いられる、導電性、離型性、
低硬度、低圧縮永久歪みに優れたゴム組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子技術の進歩に伴い、電子写真
プロセスで利用する半導電性部材に対する要求も高まっ
ており、とりわけ、現像叉は転写等のプロセスに利用さ
れる弾性ロールが注目されている。このような用途に用
いられる半導電性部材は、所定の電気抵抗値を有するこ
とのみならず、電気抵抗の位置ばらつきが少なく、低温
低湿時と高温高湿時の電気抵抗の変動幅が少なく、かつ
連続して通電した際の電気抵抗の変動幅が少ないことが
必要である。また、上記電気特性に加えて、低硬度であ
ること、圧縮永久ひずみの小さいこと、さらに、感光体
ドラムと接触するときに離型性、非汚染性に優れること
が必要とされる。従来、このような用途に用いられる半
導電性部材としては、高分子エラストマーや高分子フォ
ーム等の高分子物質に金属や金属酸化物の粉末、ウィス
カーを混入したり、カーボンブラック等のフィラーを混
入することにより所定の抵抗値に調整した高分子部材が
用いられているが、この種の高分子部材は電気抵抗の位
置ばらつきが大きく、電気抵抗の測定電圧依存性が大き
いという問題があった。また、過塩素酸リチウム、過塩
素酸ナトリウム、過塩素酸カルシウムのような無機イオ
ン物質及び／またはラウリルトリメチルアンモニウムク
ロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、オクタデシルトリメチルアンモニウムクロライド、
ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ヘキサデ
シルトリメチルアンモニウムクロライド、変性脂肪族ジ
メチルエチルアンモニウムエトサルフェートのような陽
イオン性界面活性剤、ラウリルベタイン、ステアリルベ
タイン、ジメチルアルキルラウリルベタインのような両
性イオン界面活性剤、過塩素酸テトラエチルアンモニウ
ム、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、ほうフッ化テ
トラブチルアンモニウムなどの４級アンモニウム塩のよ
うな有機イオン物質よりなる導電剤及び／または親水性
のポリエーテルやポリエステルのような帯電防止剤を高
分子エラストマーや高分子フォーム等の高分子物質に混
入して所定の抵抗値に調整した高分子部材も知られてい
るが、この種の高分子部材は低温低湿時と高温高湿時の
電気抵抗の変動幅が大きいという問題があった。一方、
低硬度化に対しては、発泡体、または組成物に可塑剤、
伸展油等を配合して、相対的な高分子含有量を減少させ
て硬度を低下させる方法があるが、可塑剤、伸展油等の
低分子物はブリードアウトや感光体ドラムに粘着すると
いう問題があり、感光体や記録紙を汚染してしまうため
電子写真プロセスの部材としては必ずしも適当とは言え
なかった。またブリードアウトによる汚染の問題を解決
するために、感光体や記録紙に直接接触する外層のみを
非汚染性の樹脂あるいはゴムで被覆するという方法も提
案されているが製造プロセス等が複雑になり、また安価
な電子写真ゴム材料を提供することが困難であった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述の問題
に鑑みてなされたものであり、各種装置のゴム部材、た
とえば、複写機、プリンター等の電子写真装置、静電記
録装置等のゴム部材として用いた場合に、電気特性、低
硬度、ノンブリード、非粘着性等の各特性に優れたゴム
組成物を提供することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明によれば、下記を要旨とするゴム組成物が提供さ
れる。 ［１］下記有機ゴム（Ａ）１００重量部と、下記ポリオ
ルガノシロキサン（Ｂ）０．１〜１００重量部および下
記ポリオキシアルキレン（Ｃ）０．１〜１００重量部、
または下記ポリオルガノシロキサン（Ｄ）０．１〜１０
０重量部とを反応させることによって得られるゴム組成
物。有機ゴム（Ａ） ：一分子中に、一以上の不飽和基と、水
酸基，アミノ基，エポキシ基，カルボキシル基，メルカ
プト基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる一以
上の官能基とを有する有機ゴム、ポリオルガノシロキサン（Ｂ） ：一分子中に、上記有機
ゴム（Ａ）の有する官能基と反応する官能基であって、
水酸基，アミノ基，エポキシ基，カルボキシル基，メル
カプト基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる一
以上の官能基を有するポリオルガノシロキサン、ポリオキシアルキレン（Ｃ） ：一分子中に、上記有機ゴ
ム（Ａ）の有する官能基と反応する官能基であって、水
酸基，アミノ基，エポキシ基，カルボキシル基，メルカ
プト基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる一以
上の官能基を有するポリオキシアルキレン、ポリオルガノシロキサン（Ｄ） ：一分子中に、一以上
の、アルキル基を介したアルキレンオキシ基と、上記有
機ゴム（Ａ）の有する官能基と反応する官能基であっ
て、水酸基，アミノ基，エポキシ基，カルボキシル基，
メルカプト基およびハロゲン原子からなる群から選ばれ
る一以上の官能基を有するポリオルガノシロキサン。 ［２］前記有機ゴム（Ａ）１００重量部と、前記ポリオ
ルガノシロキサン（Ｂ）０．１〜１００重量部および前
記ポリオキシアルキレン（Ｃ）０．１〜１００重量部、
または前記ポリオルガノシロキサン（Ｄ）０．１〜１０
０重量部とを、剪断変形を付与しながら、反応させるこ
とによって得られる［１］記載のゴム組成物。 ［３］前記有機ゴム（Ａ）１００重量部と、前記ポリオ
ルガノシロキサン（Ｂ）０．１〜１００重量部および前
記ポリオキシアルキレン（Ｃ）０．１〜１００重量部、
または前記ポリオルガノシロキサン（Ｄ）０．１〜１０
０重量部とを、剪断変形を付与しながら、反応させて得
られるゴム組成物にさらに前記有機ゴム（Ａ）の架橋剤
（Ｅ）０．０１〜５重量部を配合した［２］記載のゴム
組成物。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を具体
的に説明する。本発明のゴム組成物は、有機ゴム（Ａ）
と、ポリオルガノシロキサン（Ｂ）およびポリオキシア
ルキレン（Ｃ）、またはポリオルガノシロキサン（Ｄ）
との所定量を反応させて、または必要に応じて、所定量
を剪断変形を付与しながら反応させることにより得られ
るものである。 Ｉ．反応，剪断変形 本発明のゴム組成物は、たとえば、有機ゴム（Ａ）と、
ポリオルガノシロキサン（Ｂ）およびポリオキシアルキ
レン（Ｃ）、またはポリオルガノシロキサン（Ｄ）とを
同時、または順次、必要に応じて剪断変形を付与するた
め、たとえばバンバリーミキサー、ニーダー、または二
本ロール等の混練り機器により投入し、所定の温度（６
０℃未満）、所定の回転数で混練りし、トルクが安定し
た後、設定温度を上昇（６０℃〜１２０℃）させ両成分
を反応させる（付加反応）。６０℃未満では、反応が進
行せず、または極めて遅くなる。一方、１２０℃を越え
ると反応が急激に進行しえられるゴム組成物がゲル化し
たり、（Ｂ）成分が反応以前に揮発する恐れがある。

【０００６】II．反応成分、添加成分 以下、各反応成分および添加成分を具体的に説明する。

【０００７】１．有機ゴム（Ａ） 本発明に用いられる有機ゴム（Ａ）は、一分子中に、水
酸基，アミノ基，エポキシ基，カルボキシル基，メルカ
プト基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる一以
上の官能基とを有している。本発明に用いられる有機ゴ
ム（Ａ）の具体例としては、官能基を有する天然ゴム、
イソプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、クロロプ
レンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジ
エンゴム、水素化ニトリルゴム、エチレン−α−オレフ
ィン系ゴム、ブチルゴム、フッ素ゴム、アクリルゴム、
エピクロルヒドリンゴム、エチレン−酢酸ビニルゴム、
エチレン−アクリルゴム、ウレタンゴム等を挙げること
ができる。このうちでも、アクリルゴム、エピクロルヒ
ドリンゴム、ウレタンゴム、アクリロニトリル−ブタジ
エンゴム、水素化ニトリルゴムが電気抵抗の面で好まし
い、さらに、耐候性、低硬度、低圧縮ひずみの特性を兼
備したゴム組成物を得るには、アクリルゴムが好適であ
る。

【０００８】このアクリルゴムとしては、（メタ）アク
リル酸アルキルエステルの重合体、または該アルキルエ
ステルを主成分とし、これに、後述の官能基を有する成
分を共重合した共重合体を挙げることができる。このう
ち、（メタ）アクリル酸のアルキルエステルとしては、
（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピ
ル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メ
トキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシエチル、等
の１種または２種以上を挙げることができる。また、こ
のアクリルゴム中にはアクリロニトリル、スチレン、
１，３−ブタジエン、イソプレン、イソブチレン、クロ
ロプレン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニル、アクリ
ル酸等の単量体の１種または２種以上を４０重量％以下
程度併用することも可能である。この有機ゴム（Ａ）の
有するエポキシ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、水
酸基およびアミノ基の群から選ばれる１以上の官能基
は、後述するポリオルガノシロキサン（Ｂ）および
（Ｄ）中の官能基およびポリオキシアルキレン（Ｃ）中
の官能基と反応する。更には、前記のポリオルガノシロ
キサン（Ｂ）および（Ｄ）中の官能基およびポリオキシ
アルキレン（Ｃ）中の官能基と反応しない官能基を含ん
でいてもよい。この官能基は、有機ゴム（Ａ）の架橋基
成分であり、アクリルゴムの場合、具体的には、ビニル
クロルアセテート、アリルクロルアセテート、２−クロ
ロエチルビニルエーテル、アリルグリシジリルエーテ
ル、グリシジルメタアクリレート、アクリル酸、アレイ
ン酸、フマル酸、イタコン酸、５−エチリデン−２−ノ
ルボルネン、ジシクロペンタジエン、ビニルアクリレー
ト、アリルメタクリレート、ジシクロペンテニルアクリ
レート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレー
ト、ｐ−ビニルフェニル（ジメチル）ビニルシラン、３
−メタクリロキシプロピルジメチルビニルシランなどを
挙げることができる。

【０００９】２．ポリオルガノシロキサン（Ｂ） 本発明に用いられるポリオルガノシロキサン（Ｂ）は、
一分子中に、上記有機ゴム（Ａ）の有する官能基と反応
する官能基であって、水酸基，アミノ基，エポキシ基，
カルボキシル基および不飽和基からなる群から選ばれる
一以上の官能基とを有している。本発明に用いられるポ
リオルガノシロキサン（Ｂ）の具体例としては、下記式
（１）に示すものを挙げることができる。

【００１０】

【化１】 〔式（１）中、 Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³はアミノ基、エポキシ
基、カルボキシル基、水酸基，メルカプト基、およびハ
ロゲン原子からなる群から選ばれる一以上の官能基、Ｒ
は炭素数１〜２０のアルキル基を示し、ｍ，ｎは、それ
ぞれ以下の関係を満たす整数である。ｍ＞０、ｎ≧０〕

【００１１】Ｒに示す炭素数１〜２０のアルキル基とし
ては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、第２ブチル基、第３ブチル基、イ
ソブチル基、アミル基、第３アミル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、イソオクチル基、２エチルヘキ
シル基、第３オクチル基、ノニル基、第３ノニル基、デ
シル基、イソデシル基、ドデシル基、テトラドデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基等
が挙げられる。

【００１２】本発明に用いられるポリオルガノシロキサ
ン（Ｂ）の配合割合は、有機ゴム（Ａ）１００重量部に
対して、通常、０．１〜１００重量部、好ましくは０．
５〜７０重量部、さらに好ましくは１〜５０重量部であ
る。０．１重量部未満では離型性が十分に発現されず、
一方１００重量部を越えると得られる組成物の粘度低下
が大きくなり、強度低下を招き、製品の成形に支障を来
し、好ましくない。

【００１３】３．ポリオキシアルキレン（Ｃ） 本発明に用いられるエポキシアルキレン（Ｃ）は、一分
子中に、上記有機ゴム（Ａ）の有する官能基と反応する
官能基であって、水酸基，アミノ基，エポキシ基，カル
ボキシル基，メルカプト基およびハロゲン原子からなる
群から選ばれる一以上の官能基とを有している。本発明
に用いられるポリオキシアルキレン（Ｃ）の具体例とし
ては、下記式（２）に示すものを挙げることができる。

【００１４】

【化２】 〔式（２）中、Ｒは、炭素数１〜２０のアルキル基、Ｒ
⁴ はアミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基、
メルカプト基、およびハロゲン原子から選ばれる一以上
の官能基を示し、ｒ，ｑは、それぞれ以下の関係を満た
す整数である。ｒ≧０、ｑ≧０、ｒ＋ｑ＞０〕

【００１５】Ｒに示す炭素数１〜２０のアルキル基とし
ては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、第２ブチル基、第３ブチル基、イ
ソブチル基、アミル基、第３アミル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、イソオクチル基、２エチルヘキ
シル基、第３オクチル基、ノニル基、第３ノニル基、デ
シル基、イソデシル基、ドデシル基、テトラドデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基等
が挙げられる。本発明に用いられるポリオキシアルキレ
ン（Ｃ）の配合割合は、有機ゴム（Ａ）１００重量部に
対して、通常、０．１〜１００重量部、好ましくは０．
５〜７０重量部、さらに好ましくは１〜５０重量部であ
る。０．１重量部未満では電気特性が十分に発現され
ず、一方１００重量部を越えると得られる組成物の粘度
低下が大きくなり、強度低下を招き、製品の成形に支障
を来し、好ましくない。

【００１６】４．ポリオルガノシロキサン（Ｄ） 本発明に用いられるポリオルガノシロキサン（Ｄ）は、
一分子中に、一以上の、アルキル基を介したアルキレン
オキシ基と、上記有機ゴム（Ａ）の有する官能基と反応
する官能基であって、水酸基，アミノ基，エポキシ基，
カルボキシル基，メルカプト基およびハロゲン原子から
なる群から選ばれる一以上の官能基とを有している。本
発明に用いられるポリオルガノシロキサン（Ｄ）の具体
例としては、下記式（３）〜（５）に示すものを挙げる
ことができる。

【００１７】

【化３】

【００１８】

【化４】

【００１９】

【化５】

【００２０】〔式（３），（４），（５）中、 Ｒ^* は
官能基、Ｒは炭素数１〜２０のアルキル基、Ａ¹ 、Ａ²
はアルキレンオキシ基を示し、ｍ，ｎ，ｒ，ｓは、それ
ぞれ以下の関係を満たす整数である。ｍ＞０、ｎ＞０、
ｒ≧０、ｓ≧０、ｒ＋ｓ≧１〕

【００２１】Ｒに示す炭素数１〜２０のアルキル基とし
ては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、第２ブチル基、第３ブチル基、イ
ソブチル基、アミル基、第３アミル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、イソオクチル基、２エチルヘキ
シル基、第３オクチル基、ノニル基、第３ノニル基、デ
シル基、イソデシル基、ドデシル基、テトラドデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基等
が挙げられる。Ａ¹ またはＡ² に示す炭素数２〜４のア
ルキレンオキシ基としては、例えばエチレンオキシ基、
１，２−プロピレンオキシ基、１，３プロピレンオキシ
基、１，３−ブチレンオキシ基、１，４−ブチレンオキ
シ基等が挙げられる。本発明に用いられるポリオルガノ
シロキサン（Ｄ）の配合割合は、有機ゴム（Ａ）１００
重量部に対して、通常、０．１〜１００重量部、好まし
くは０．５〜７０重量部、さらに好ましくは１〜５０重
量部である。０．１重量部未満では電気特性が十分に発
現されず、一方１００重量部を越えると得られる組成物
の粘度低下が大きくなり、強度低下を招き、製品の成形
に支障を来し、好ましくない。

【００２２】５．架橋剤（Ｅ） 本発明のゴム組成物を架橋するに際しては、必要に応じ
て有機ゴム（Ａ）の架橋剤、架橋助剤、促進助剤、架橋
遅延剤等を併用してもよい。また架橋は、熱、電子線、
紫外線、電磁波などのエネルギーを加えることにより行
われる。 （１）有機ゴム（Ａ）の架橋剤 有機ゴム（Ａ）の加硫、架橋剤としては、用いられるゴ
ムの種類により、硫黄系加硫剤、有機過酸化物、キノイ
ド加硫剤、樹脂加硫剤、金属酸化物加硫剤、含硫黄有機
化合物、アミン加硫剤、トリアジン加硫剤、ポリオール
加硫剤、金属石けん加硫剤、マレイミド系加硫剤等を適
宜選択して用いることができる。 （ｉ）硫黄素加硫剤 硫黄系加硫剤としては、例えば粉末硫黄、硫黄華、高分
散性硫黄、不溶性硫黄、沈降硫黄、表面処理硫黄、コロ
イド硫黄、塩化硫黄、一塩化硫黄、二塩化硫黄等が挙げ
られる。これらの硫黄系加硫剤は、単独でまたは２種以
上を混合して使用することができる。また、加硫、架橋
剤として硫黄系加硫剤を使用する場合には、加硫促進剤
を併用することができる。加硫促進剤としては、たとえ
ばヘキサメチレンテトラミン、アセトアルデヒド・アン
モニア等のアルデヒドアンモニア類；ｎ−ブチルアルデ
ヒド−アニリン縮合品、ブチルアルデヒド−モノブチル
アミン縮合品、ヘプトアルデヒド−アニリン反応品、ト
リクロトニリデン・テトラミン等のアルデヒドアミン
類；ジフェニルグアニジン、ジ−ｏ−トリルグアニジ
ン、オルト・トリル・ビグアニド、ジカテコール・ホウ
酸のジオルト・トリル・グアニジン塩等のグアニジン塩
類；２−メルカプトイミダゾリン等のイミダゾリン類；
２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトチア
ゾリン、ジベンゾチアゾール・ジスルフィド、２−メル
カプトベンゾチアゾールの亜鉛塩、２−メルカプトベン
ゾチアゾールのナトリウム塩、２−メルカプトベンゾチ
アゾールのシクロヘキシルアミン塩、２−（２、４−ジ
ニトロフェニルチオ）ベンゾチアゾール、２−（Ｎ，Ｎ
´−ジエチルチオ・カルバモイルチオ）ベンゾチアゾー
ル、２−（４´−モルホリノ・ジチオ）ベンゾチアゾー
ル、４−モルホニル−２−ベンゾチアジル・ジスルフィ
ド等のチアゾール類；Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾ
チアジル・スルフェンアミド、Ｎ、Ｎ−ジシクロヘキシ
ル−２−ベンゾチアジル・スルフェンアミド、Ｎ−オキ
シジエチレン−２−ベンゾチアジル・スルフェンアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−２−ベンゾチアジル・ス
ルフェンアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル −２−ベンゾ
チアジル・スルフェンアミド等のスルフェンアミド類；
チオカルバニド、エチレン・チオ尿素（２−メルプトイ
ミダゾリン）、ジエチル・チオ尿素、ジブチル・チオ尿
素、混合アルキルチオ尿素、トリメチルチオ尿素、ジラ
ウリルチオ尿素等のチオ尿素類；ジメチル・ジチオカル
バミン酸ナトリウム、ジエチル・ジチオカルバミン酸ナ
トリウム、ジ−ｎ−ブチル・カルバミン酸ナトリウム、
ジメチル・ジチオカルバミン酸鉛、ジアミル・ジチオカ
ルバミン酸鉛、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジア
ミル・ジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチル・ジチオカル
バミン酸亜鉛、ジ−ｎ−ブチル・ジチオカルバミン酸亜
鉛、ジベンジル・ジチオカルバミン酸亜鉛、Ｎ−ペンタ
メチレン・ジチオカルバミン酸亜鉛、エチルフェニル・
ジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチル・ジチオカルバミン
酸セレン、ジエチル・ジチオカルバミン酸セレン、ジエ
チル・ジチオカルバミン酸テルル、ジエチル・ジチオカ
ルバミン酸カドミウム、ジメチル・ジチオカルバミン酸
銅、ジメチル・ジチオカルバミン酸ピペリジン、メチル
ペンタメチレン・ジチオカルバミン酸ピペコリン、活性
化ジチオカルバメート等のジチオカルバミン酸塩類；テ
トラメチルチウラム・モノスルフィド、テトラメチルチ
ウラム・ジスルフィド、活性テトラメチルチウラム・ジ
スルフィド、Ｎ，Ｎ´−ジメチル−Ｎ，Ｎ´−ジフェニ
ルチウラム・ジスルフィド、ジペンタメチレンチウラム
・ジスルフィド、ジペンタメチレンチウラム・テトラス
ルフィド、混合アルキル・チウラム・ジスルフィド等の
チウラム類；イソプロピル・キサントゲン酸ナトリウ
ム、イソプロピル・キサントゲン酸亜鉛、ブチル・キサ
ントゲン酸亜鉛等のザンテート類；４，４´−ジチオモ
ルホリン、アミノジアルキルジチオホスフェート、亜鉛
−ｏ，ｏ−ｎ−ブチル・ホスホロジチオエート、３−メ
ルカプトイミダゾリン−チオン−２、チオグリコール酸
エステル等が挙げられる。これらの加硫促進剤は、単独
でまたは２種以上を混合して使用することができる。

【００２３】（ii）有機酸化物 有機過酸化物としては、例えば１，１−ジ第三ブチルパ
ーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ジ
第三ブチルパーオキサイド、第三ブチルクミルパーオキ
サイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−
２−，５−ジ（第三ブチルパーオキシ）ヘキサン）、
２，５−ジメチル−２，５−ジ（第三ブチルパーオキ
シ）ヘキシン、１，３−ビス（第三ブチルパーオキシー
イソプロピル）ベンゼン、第三ブチルパーオキシ−イソ
プロピルカーボネート、アセチルシクロヘキシルスルフ
ォニルパーオキサイド、イソブチルパーオキサイド、ジ
イソプロピルパーオキシジカーボネート、ジアリルパー
オキシジーカーボネート、ジプロピルパーオキシジカー
ボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカー
ボネート、ジ（メトキシイソプロピル）パーオキシジカ
ーボネート、ジ（２−エチルヘキシル）パーオキシジカ
ーボネート、第三ヘキシルパーオキシネオヘキサネー
ト、ジ（３−メチル−３−メチロキシブチル）パーオキ
シジカーボネート、第三ブチルパーオキシネオデカネー
ト、第三ヘキシルパーオキシネオデカネート、第三ブチ
ルパーオキシネオヘキサネート、２，４−ジクロロベン
ゾイルパーオキシド、第三ヘキシルパーオキシピバレー
ト、第三ブチルパーヘキシピバレート、３，３，５−ト
リメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパ
ーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイル
パーオキサイド、クミルパーオキシオクテート、アセチ
ルパーオキサイド、第三ブチルパーオキシ（２−エチル
ヘキサーネート）、ベンゾイルパーオキサイド、第三ブ
チルパオキシイソブチレート、１，１−ビス（第三ブチ
ルパーオキシ）シクロヘキサン、第三ブチルパーオキシ
マレイックアシッド、第三ブチルパーオキシラウレー
ト、第三ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルヘ
キサネート、シクロヘキサノンパーオキサイド、第三ブ
チルパーオキシアリルカーボネート、２，５−ジメチル
−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、２，
２−ビス（第三ブチルパーオキシ）オクタン、第三ブチ
ルパーオキシアセテート、２，２−ビス（第三ブチルパ
ーオキシ）ブタン、第三ブチルパーオキシベンゾエー
ト、ブチル−４，４−ビス（第三ブチルパーオキシ）バ
レレート、ジ第三ブチルジパーオキシイソフタレート、
メチルエチルケトンパーオキサイド、α，α´−ビス
（第三ブチルパーオキシ−ｍ−イソプロピル）シクロヘ
キサン、じイソプロピルベンゼン−ヒドロパーオキサイ
ド、ｐ−メンタンヒドロパーオキサイド、１，１，３，
３−テトラメチルブチルヒドロパーオキサイド、２，５
−ジメチルヘキサン−２，５−ジヒドロパーオキサイ
ド、クメンホドロパーオキサイド、第三ブチルヒドロパ
ーオキサイド等が挙げられる。これらの有機過酸化物
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。また、加硫・架橋剤として有機過酸化物を使用す
る場合には、共架橋剤を併用することもできる。

【００２４】共架橋剤としては、例えば硫黄、ｐ−キノ
ンジオキシム、ｐ−ベンゾキノンジオキシム、ｐ，ｐ´
−ジベンゾイルキノンジオキシム、Ｎ，Ｎ−ｍ−フェニ
レンジマレイミド、Ｎ−メチル−Ｎ´−４−ジニトロア
ニリン、ジペンタメチレンチウラムペンタスルフィド、
ジニトロベンゼン、ジビニルベンゼン、トリアリルシア
ヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリアジンチ
オール、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグ
リコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ（メタ）アクリレート、エリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ジアリルメラミン、ジビニルアジペ
ート、ビニルブチラート、ビニルステアレート、液状ポ
リブタジエンゴム、液状ポリイソプレンゴム、液状スチ
レン−ブタジエンゴム、液状アクリロニトリル−ブタジ
エンゴム、（メタ）アクリル三マグネシウム、（メタ）
アクリル三カルシウム、（メタ）アクリル三アルミニウ
ム、（メタ）アクリル酸亜鉛、（メタ）アクリル酸第一
錫、（メタ）アクリル酸マグネシウム等が挙げられる。
これらの共架橋剤は、単独でまたは２種以上を混合して
使用することができる。

【００２５】（iii） キノイド加硫剤 キノイド加硫剤としては、例えばｐ−キノンジオキシ
ム、ｐ，ｐ´−ジベンゾイルキノンジオキシム、テトラ
クロロ−ｐ−ベンゾキノン、ポリ−ｐ−ジニトロベンゼ
ン等が挙げられる。これらのキノイド加硫剤は、単独で
または２種以上を混合して使用することができる。

【００２６】（iv）樹脂加硫剤 樹脂加硫剤としては、例えばアルキルフェノール・ホル
ムアルデヒド樹素、メラミン−ホルムアルデヒド縮合
物、トリアジン−ホルムアルデヒド縮合物、オクチルフ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、アルキルフェノール
・スルフィド樹脂、ヘキサメトキシメチル・メラミン樹
脂等が挙げられる。これらの樹脂加硫剤は、単独でまた
は２種以上を混合して使用することができる。

【００２７】（ｖ）金属酸化物加硫剤 金属酸化物加硫剤としては、酸化亜鉛、酸化マグネシウ
ム、一酸化鉛等が挙げられる。これらの金属酸化物加硫
剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することが
できる。

【００２８】（vi）含硫黄有機加硫剤 含硫黄有機加硫剤としては、例えばモルホリンジスルフ
ィド、アルキルフェノールジスルフィド、Ｎ，Ｎ´−ジ
チオ−ビスヘキサヒドロ−２Ｈ−アゼピノン−２）、チ
ウラムポリスルフィド、２−（４´−モルホリノ・ジチ
オ）ベンゾチアゾール等が挙げられる。これらの含硫黄
有機加硫剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用す
ることができる。

【００２９】（vii） ポリアミン系加硫剤 ポリアミン系加硫剤としては、例えばヘキサメチレンジ
アミンカルバメート、ヘキサメチレンジアミン、トリエ
チレン・テトラミン、テトラエチレン・ペンタミン、
４，４´−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）カル
バメート、Ｎ，Ｎ´−ジシンナミリデン−１，６−ヘキ
サジアミン、アンモニウムベンゾエート等が挙げられ
る。これらのポリアミン系加硫剤は、単独でまたは２種
以上を混合して使用することができる。

【００３０】（viii）トリアジン系加硫剤 トリアジン系加硫剤としては、例えば２，４，６−トリ
メルカプト−ｓ−トリアジン、２−ジ−ｎ−ブチルアミ
ノ−４，６−ジメルカプト−ｓ−トリアジン等が挙げら
れる。これらのトリアジン系加硫剤は、単独でまたは２
種以上を混合して使用することができる。

【００３１】（ix）ポリオール加硫剤 ポリオール加硫剤としては、例えばビスフェノールａ、
ビスフェノールａｆ、ハイドロキノン、ペンタエリトリ
トール等が挙げられる。これらのポリオール系加硫剤
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。

【００３２】（ｘ）マレイミド系加硫剤 マレイミド系加硫剤としては、たとえばＮ，Ｎ´−ｍ−
フェニレンジマレイミド等が挙げられる。

【００３３】前記架橋可能なゴム組成物を架橋（加硫）
するには、通常行われている加熱加圧加硫（プレス加
硫）紫外線架橋、放射線架橋、インジェクション架橋、
高周波架橋等が利用できる。加熱加圧架橋の場合には、
８０〜２００℃で数分間〜３時間、２０〜２００ｋｇ／
ｃｍ² の加圧下で一次加硫を行い、さらに必要に応じて
８０〜２００℃で１〜４８時間、二次加硫してゴム製品
とする。

【００３４】６．触媒 本発明のゴム組成物の製造段階において、反応を円滑に
進行させるための触媒を添加することもできる。このよ
うな触媒としては、有機Ｓｎ化合物、有機アミン化合物
等が挙げられる。好ましくは有機Ｓｎ化合物である。有
機Ｓｎ化合物として、ジブチルスズラウレート、ジブチ
ルスズジマレート、モノブチルスズメルカプチド、ジブ
チルスズオキシド、ジブチルスズ２-エチルヘキサノエ
ート、ジブチルスズカルボキシレート、ジ-ｎ-オクチル
スズマレート、ジオクチルスズラウレート、ジオクチル
スズメルカプト等を一種または２種以上を添加すること
ができる。

【００３５】７．他の添加物 また、本発明のゴム組成物は、（Ａ）成分と、（Ｂ）お
よび（Ｃ）成分，または（Ｄ）成分と、必要に応じて
（Ｅ）成分とを主成分とするが、これ以外に、その特長
に支障を来さない範囲において、他の天然ゴム、合成ゴ
ム（シリコーンゴムを含む）を添加することができる。
また、これ以外に、天然ゴム、合成ゴム（シリコーンゴ
ムを含む）に通常使用される従来公知導電付与物質を添
加することができる。このような添加剤としては、通常
の電気伝導機構による導電性付与物質であるカーボンや
グラファイト系の粉末あるいは繊維状物質、銅、ニッケ
ル、銀等の導電性金属粉末あるいは繊維物質、酸化ス
ズ、酸化チタン、酸化インジュウム等の金属酸化物の粉
末あるいは繊維状物質、各種フィラーに金属メッキを施
して導電性を付与した物質、ポリアセチレン、ポリピロ
ール、ポリアニリン等の有機系の導電性微粉末や繊維状
物質、あるいは、イオン伝導機構による導電性付与物質
は、陽イオン性界面活性剤、陰イオン界面活性剤、両性
界面活性剤、非イオン界面活性剤、等の帯電防止剤、リ
チウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、バリウム
等の金属塩及びその錯体、またはそれらの複合体等を単
独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
上記導電性付与物質の配合量としては、ゴム１００重量
部に対し、０．１〜２００重量部、好ましくは０．５〜
１００重量部である。

【００３６】さらに、本発明のゴム組成物には、通常の
ゴム組成物で使用されている各種の添加剤を配合するこ
とができる。このような添加剤としては、例えば充填
材、可塑剤、軟化剤、滑剤、金属酸化物、老化防止剤、
着色剤等が挙げられる。充填材としては、例えばフュー
ムドシリカ、湿式シリカ、石英微粉末、ケイソウ土、カ
ーボンブラック、亜鉛華、塩基性炭酸マグネシウム、重
質炭酸カルシウム、胡粉、軽微性炭酸カルシウム、極微
細活性化炭酸カルシウム、特殊炭酸カルシウム、カオリ
ンクレー、焼成クレー、パイロフライトクレー、シラン
処理クレー、カオリン、セリサイト、微粉タルク、ウォ
ラストナイト、ゼオライト、ゾーノトナイト、ＰＭＦ
（Processed Mineral Fiber ：加工鉱物繊維）、セピオ
ライト、炭酸カリウム、エレスタダイト、石膏繊維、ガ
ラスバルン、シリカバルン、ハイドロタルサイト、フラ
イアシュバルンシラスバルン、カーボン系バルン、フェ
ノール樹脂、尿素樹脂、スチレン系樹脂、サラン樹脂等
の有機系バルン、アルミナ、ケイ酸マグネシウム、ケイ
酸アルミニウム、二酸化チタン、タルク、雲母粉末、硫
酸アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、マイ
カ、アスベスト、ガラス繊維、炭酸繊維、芳香族ポリア
ミド繊維、チタン酸カリウム繊維、再生ゴム粉末、エボ
ナイト粉末、有機補強剤、有機充填剤等を挙げることが
できる。前記充填材は、単独でまたは２種以上を混合し
て使用することができる。充填材の配合量は、ゴム１０
０重量部に対して、通常、５〜４００重量部、好ましく
は１０〜３００重量部である。前記可塑剤としては、例
えばフタル酸系、イソフタル酸系、テトラヒドロフタル
酸系、アジピン酸系、アゼライン酸系、セバシン酸系、
ドデカン−２−酸系、マレイン酸系、フマル酸系、トリ
メリット酸系、、クエン酸系、イタコン酸系、リシノー
ル酸系、ステアリン酸系、ポリエーテル系、ポリエステ
ル系、フォスフェート系、グリコール系、エポキシ系、
エーテル−エステル系等の可塑剤が挙げられる。これら
の可塑剤は、単独であるいは２種以上を混合して使用す
ることができる。前記軟化剤としては、例えばアロマテ
ィック系、ナフテン系、パラフィン系、軟化剤等の石油
系軟化剤；ひまし油、綿実油、あまに油、なたね油、大
豆油、パーム油、やし油、落花生油、木ろう油等の植物
系軟化剤；黒サブ、白サブ、飴サブ等が挙げられる。こ
れらの軟化剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用
することができる。前記老化防止剤としては、例えばナ
フチルアミン系、ジフェニルアミン系、ｐ−フェニレン
ジアミン系、キノリン系、ヒドロキノン誘導体系、モノ
−、ビス−、トリス−またはポリ−フェノール系、チオ
ビスフェノール系、ヒンダードフェノール系、亜リン酸
エステル系、イミダゾール系、ジチオカルバミン酸ニッ
ケル塩系、リン酸系等の老化防止剤が挙げられる。これ
らの老化防止剤は、単独でまたは２種以上を混合して使
用することができる。前記滑剤としては、たとえばステ
アリン酸、オレイン酸、ラウリル酸、ジブチルアンモニ
ウム・オレート、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カル
シウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸ナトリウ
ム等が挙げられる。これらの滑剤は、単独でまたは２種
以上を混合して使用することができる。前記金属酸化物
としては、たとえば亜鉛華、活性弌鉛華、表面処理亜鉛
華、イY酸亜鉛、複合亜鉛華、複合活性亜鉛華、表面処理
酸化マグネシウム、酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム、極微細水酸化カルシウム、一酸化鉛、鉛丹、鉛白等
が挙げられる。これらの金属酸化物は、単独でまたは２
種以上を混合して使用することができる。そのほか着色
剤、紫外線吸収剤、難燃剤、耐油性向上剤、発泡剤、発
泡助剤、スコーチ防止剤、粘着付与剤、活性剤、奪水
剤、ワックス、光安定剤、カップリング剤、内部理系
剤、抗菌剤、素練り促進剤等を配合することもできる。

【００３７】以上の配合剤は、必要に応じて本発明のゴ
ム組成物を製造する過程において添加されても良いし、
ゴム組成物製造後に架橋可能なゴム組成物を作製する際
に添加されても良い。これらの配合ゴム組成物は、ロー
ル、バンバリーミキサー、ニーダーなどの通常の混練り
機によって、有機ゴムの架橋剤等を添加混練りし、架橋
可能なゴム組成物とした後、成形、加硫を行うことがで
きる。

【００３８】III ．ゴム組成物の物性および用途 １．物性 本発明のゴム組成物は、時間が経過しても単に有機ゴム
とシリコーンオイルを混練りした場合に生じるような相
分離、ブリード現象を起こすことがない。また、ロール
による架橋剤、架橋促進剤などの添加作業に際して、単
に有機ゴムとシリコーンオイル（充填剤などの配合剤を
添加したものを含む）では、ロール巻き付き性に多大の
時間を要するが、本発明のゴム組成物は、ロール作業性
が容易である。

【００３９】また、本発明の架橋可能なゴム組成物を架
橋（加硫）したゴム弾性体は、導電性、離型性、低硬
度、低圧縮永久歪みに優れた特徴を有しており、一般工
業、電子、化学分野への利用が可能である。とりわけ、
導電特性は、所定の電気抵抗値を与えるのみならず、電
気抵抗の位置ばらつきが少なく、低温低湿時と、高温高
湿時の電気抵抗の変動幅が少なく、かつ連続して通電し
た際の電気抵抗の変動幅が少ないこと、 また、上記電
気特性に加えて、低硬度であること、圧縮永久ひずみの
小さいこと、さらに、離型性、非汚染性に優れるてい
る。また、更なる低硬度を必要とする場合には、電気特
性を阻害しない範囲内で発泡体構造としてもよい。

【００４０】２．用途 上記物性を有することから、本発明のゴム組成物は、電
子写真複写機、プリンター等に用いられる、帯電ロー
ル、現像ロール、転写ロール、定着ロール、ベルト等の
用途に好適である。本発明の架橋可能なゴム組成物が電
子写真機、プリンター等のロール用途に用いる場合に
は、芯金に対して一層構造としてもよく、また他のゴ
ム、樹脂等との多層構造を形成してもよい。この際、当
該加硫可能なゴム組成物は内層、中間層、外層のいづれ
の層に用いてもよい。

【００４１】

【実施例】以下、実施例によって、本発明をさらに具体
的に説明する。なお、実施例中、各種の測定は、下記の
方法によった。 １．ロール加工性 ロール加工性のうち、巻きつくまでの所要時間は、６イ
ンチロールを用い、表面温度５０℃、回転数（rpm、前
／後）＝２０／２８、ロール間隙２mmの条件で配合ゴム
を投入した後、完全に巻きつくまでの時間とした。ま
た、ロール加工性のうち、シリコーンオイルのブリード
状況は、上記のロール練り後のシートを室温で１６時間
放置した後、このシートについて、表面の光沢度を目視
検査し、ブリードの有無を評価した。 ２．初期物性、圧縮永久歪み 初期物性、圧縮永久歪みは、JIS K6301に準拠した。 ３．体積固有抵抗試験 体積固有抵抗試験は、位置バラツキは加硫シート表面を
１６分割し、ダイアインスツルメンツ社製のＭＣＰテス
ターを用いてその各点で測定した。 ４．環境依存性、通電劣化性 環境依存性、通電劣化性についてはアイランド工業社製
の体積固有抵抗環境依存性測定装置を用いて、JIS K69
11に準拠して測定した。 ５．汚染性 汚染性の評価については、感光体ドラム表面の材質（ポ
リカーボネート）に合わせて、ポリカーボネートシート
表面に、加硫ゴムシートを３ｋｇ／ｃｍ² で７０℃で２
２時間、各種環境条件下で圧着した後、ポリカーボネー
トシート表面状態を目視観察し評価した。 ６．離型性 ポリカーボネートのシートとの離型性の評価は、ピクマ
タックメーターを用いて測定した。

【００４２】［実施例１］ポリオルガノシロキサン
（Ｂ）として、水酸基含有のチッソ社製ＦＭ−４４２１
を用い、有機ゴム（Ａ）としてアクリルゴム*1（ エチ
ルアクリレート／ブチルアクリレート／アリルメタクリ
レート／グリシジルメタクリレート＝５０／４５／３／
２モル比の共重合体、重量平均分子量；５０００００）
を用い、ポリオキシアルキレン（Ｃ）として、水酸基含
有の日本油脂社製ユニセーフ ＤＣ-１８００を用い表１
に示す割合でアクリルゴム、ポリオルガノシロキサン、
ポリオキシアルキレンをゴムミキサー（４０〜６０℃に
加熱し、６０rpmに設定）内に投入、混練りしトルクが
一定になった時点でミキサーの温度を１００℃に上昇さ
せ、付加反応を進行（トルク上昇で確認）させた。トル
クがピークを越えた時点で反応を停止しミキサーからゴ
ム組成物を取り出した。次に二本ロールを用いて本発明
のゴム組成物に表１中の架橋剤、充填剤等をを添加混練
りした。このようにして、得られた架橋可能なゴム組成
物をプレス加硫（１００〜１５０ｋｇ／ｃｍ² ）して物
性の評価に供した。結果を表１に示す。

【００４３】［実施例２］有機ゴム（Ａ）として、カル
ボキシル基含有のアクリルゴム*2（ エチルアクリレー
ト／ブチルアクリレート／ジシクロペンテニルオキシエ
チルアクリレート／メタクリル酸＝７０／２５／３／２
モル比の共重合体、重量平均分子量；３７００００）を
用い、ポリオルガノシロキサン（Ｂ）として、アミノ基
含有のチッソ社製ＦＭ−３３２５を用い、ポリオキシア
ルキレン（Ｃ）として、アミノ基含有の日本油脂社製Ｐ
ＥＧ−１０００ジアミンを用い、実施例１と同様の工程
により架橋可能なゴム組成物を作製し評価した。

【００４４】［実施例３］有機ゴム（Ａ）として、カル
ボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴム（日本
合成ゴム社製ＪＳＲ−Ｎ６３２Ｓ）を用い、ポリオルガ
ノシロキサン（Ｂ）として、アミノ基含有のチッソ社製
ＦＭ−３３２５を用い、ポリオキシアルキレン（Ｃ）と
して、アミノ基含有の日本油脂社製ＰＥＧ−１０００ジ
アミンを用い、実施例１と同様の工程により架橋可能な
ゴム組成物を作製し評価した。

【００４５】［実施例４］ポリオルガノシロキサン
（Ｂ）として、エポキシ基含有のチッソ社製ＦＭ−Ｄ４
２５を用いたほかは実施例１と同様の工程により架橋可
能なゴム組成物を作製し評価した。

【００４６】［実施例５］有機ゴム（Ａ）として、アミ
ノ基含有のアクリロニトリルブタジエンゴム（日本合成
ゴム社製JSR T4631 ）を用い、ポリオルガノシロキサン
（Ｂ）として、カルボキシル基含有のチッソ社製ＦＭ−
０５２５を用い、ポリオキシアルキレン（Ｃ）として、
カルボキシル基含有の共栄社化学社製エポライト４００
Ｅを用い、実施例１と同様の工程により架橋可能なゴム
組成物を作製し評価した。

【００４７】［比較例１］ポリオルガノシロキサン
（Ｂ）として、官能基を持たない東芝シリコーン社製Ｔ
ＳＦ４５１−１０００を用いたこと以外は、実施例１と
同様の工程により架橋可能なゴム組成物を作製し評価し
た。

【００４８】［比較例２］実施例１と同じ成分（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｃ）を用い、表２に示す配合により用いたこ
と以外は、実施例１と同様の工程により架橋可能なゴム
組成物を作製し評価した。

【００４９】［比較例３］有機ゴムとして、不飽和基含
有のアクリルゴム（日本合成ゴム社製JSR AREX100 ）を
用いた以外は、表２に示す配合で実施例１と同様の工程
により架橋可能なゴム組成物を作製し評価した。

【００５０】［比較例４］有機ゴム（Ａ）として、アミ
ノ基含有のアクリロニトリルブタジエンゴム（日本合成
ゴム社製JSR T4631 ）を用いたこと、ポリオルガノシロ
キサン（Ｂ）として、エポキシ基含有のチッソ社製ＦＭ
−０５２５を用い、ポリオキシアルキレン（Ｃ）は添加
しないで、実施例１と同様の工程により架橋可能なゴム
組成物を作製し評価した。

【００５１】［実施例６］ポリオルガノシロキサン
（Ｄ）として、ポリオルガノシロキサン*1〔珪素原子に
結合した有機基のうち、両末端が水酸基で、残余がメチ
ル基であるエチレンオキシ基含有ポリオルガノシロキサ
ン（シロキサン単位で５０モル％）で粘度が１０００
Ｃｓｔのもの〕を用い、有機ゴム（Ａ）として前記アク
リルゴム*1を用いて、表３に示す割合でアクリルゴム、
ポリオルガノシロキサン（Ｄ）をゴムミキサー（４０〜
６０℃に加熱し、６０rpm に設定）内に投入、混練りし
トルクが一定になった時点でミキサーの温度を１００℃
に上昇させ、付加反応を進行（トルク上昇で確認）させ
た。トルクがピークを越えた時点で反応を停止しミキサ
ーからゴム組成物を取り出した。次に二本ロールを用い
て本発明のゴム組成物に表３中の架橋剤、充填剤等をを
添加混練りした。このようにして、得られた架橋可能な
ゴム組成物をプレス加硫（１００〜１５０ｋｇ／ｃ
ｍ² ）して物性の評価に供した。結果を併せ表３に示し
た。

【００５２】［実施例７］有機ゴム（Ａ）として前記ア
クリルゴム*2を用いたこと以外は実施例６と同様の工程
により架橋可能なゴム組成物を作製し評価した。

【００５３】［実施例８］ポリオルガノシロキサン
（Ｄ）として、水酸基含有の東芝シリコーン社製TSF444
6 を用いたこと以外は、実施例６と同様の工程により架
橋可能なゴム組成物を作製し評価した。

【００５４】［実施例９］ポリオルガノシロキサン
（Ｄ）として、水酸基含有の東芝シリコーン社製TSF445
3 を用いたこと以外は実施例６と同様の工程により架橋
可能なゴム組成物を作製し評価した。

【００５５】［実施例１０］有機ゴム（Ａ）として、ハ
ロゲン原子含有のエピクロルヒドリンゴム（大阪曹達社
製エピクロマーCG）を用い、ポリオルガノシロキサン
（Ｄ）として、水酸基含有の東芝シリコーン社製TSF445
3 を用い実施例６と同様の工程により架橋可能なゴム組
成物を作製し評価した。

【００５６】［実施例１１］有機ゴム（Ａ）として、ハ
ロゲン原子含有のポリエーテル系ゴム（日本ゼオン社製
ゼオスパン３０３）を用い、ポリオルガノシロキサン
（Ｄ）として、水酸基含有の東芝シリコーン社製TSF445
3 を用い実施例６と同様の工程により架橋可能なゴム組
成物を作製し評価した。

【００５７】［比較例５］ポリオルガノシロキサン
（Ｄ）として、官能基を持たない チッソ社製DBE224を
用いたこと以外は、実施例６と同様の工程により架橋可
能なゴム組成物を作製し評価した。

【００５８】［比較例６］実施例６と同じ成分（Ａ），
（Ｄ）を表４に示す配合により用いたこと以外は、実施
例６と同様の工程により架橋可能なゴム組成物を作製し
評価した。

【００５９】［比較例７］有機ゴム（Ａ）として、日本
合成ゴム社製JSR AREX100 を用い、ポリオルガノシロキ
サン（Ｄ）として、東芝シリコーン社製TSF4453 を用
い、表４に示す配合で実施例６と同様の工程により架橋
可能なゴム組成物を作製し評価した。

【００６０】

【発明の効果】以上説明したように本発明によって、未
加硫状態において従来のものに比較してロール加工性が
極めて優れ、ポリオルガノシロキサンのブリード現象が
なく、成型加工性が容易であり、また加硫物についても
機械的強度、圧縮永久歪性にも優れており、かつ、電気
特性については、電気抵抗値の制御が容易であり、所定
の電気抵抗値であるのみならず、電気抵抗の位置ばらつ
きが少なく、低温低湿時と高温高湿時の電気抵抗の変動
幅が少なく、さらに連続して通電した際の電気抵抗の変
動幅が少ないゴム組成物を提供することができる。この
ような優れた物性を有する本発明のゴム組成物は、特に
電子写真複写機、プリンター等に用いられる、帯電ロー
ル、現像ロール、転写ロール、定着ロール、ベルト等の
分野において好適に使用することができる。

【００６１】

【表１】

【００６２】

【表２】

【００６３】

【表３】

【００６４】

【表４】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森川 明彦 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記有機ゴム（Ａ）１００重量部と、下
   記ポリオルガノシロキサン（Ｂ）０．１〜１００重量部
   および下記ポリオキシアルキレン（Ｃ）０．１〜１００
   重量部、または下記ポリオルガノシロキサン（Ｄ）０．
   １〜１００重量部とを反応させることによって得られる
   ゴム組成物。有機ゴム（Ａ） ：一分子中に、水酸基，アミノ基，エポ
   キシ基，カルボキシル基，メルカプト基およびハロゲン
   原子からなる群から選ばれる一以上の官能基とを有する
   有機ゴム、ポリオルガノシロキサン（Ｂ） ：一分子中に、上記有機
   ゴム（Ａ）の有する官能基と反応する官能基であって、
   水酸基，アミノ基，エポキシ基，カルボキシル基，メル
   カプト基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる一
   以上の官能基を有するポリオルガノシロキサン、ポリオキシアルキレン（Ｃ） ：一分子中に、上記有機ゴ
   ム（Ａ）の有する官能基と反応する官能基であって、水
   酸基，アミノ基，エポキシ基，カルボキシル基，メルカ
   プト基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる一以
   上の官能基を有するポリオキシアルキレン、ポリオルガノシロキサン（Ｄ） ：一分子中に、一以上
   の、アルキル基を介したアルキレンオキシ基と、上記有
   機ゴム（Ａ）の有する官能基と反応する官能基であっ
   て、水酸基，アミノ基，エポキシ基，カルボキシル基，
   メルカプト基およびハロゲン原子からなる群から選ばれ
   る一以上の官能基を有するポリオルガノシロキサン。
2. 【請求項２】 前記有機ゴム（Ａ）１００重量部と、前
   記ポリオルガノシロキサン（Ｂ）０．１〜１００重量部
   および前記ポリオキシアルキレン（Ｃ）０．１〜１００
   重量部、または前記ポリオルガノシロキサン（Ｄ）０．
   １〜１００重量部とを、剪断変形を付与しながら、反応
   させることによって得られる請求項１記載のゴム組成
   物。
3. 【請求項３】 前記有機ゴム（Ａ）１００重量部と、前
   記ポリオルガノシロキサン（Ｂ）０．１〜１００重量部
   および前記ポリオキシアルキレン（Ｃ）０．１〜１００
   重量部、または前記ポリオルガノシロキサン（Ｄ）０．
   １〜１００重量部とを、剪断変形を付与しながら、反応
   させて得られるゴム組成物にさらに前記有機ゴム（Ａ）
   の架橋剤（Ｅ）０．０１〜５重量部を配合した請求項２
   記載のゴム組成物。