JPH1160466A - 化粧料 - Google Patents
化粧料Info
- Publication number
- JPH1160466A JPH1160466A JP9242184A JP24218497A JPH1160466A JP H1160466 A JPH1160466 A JP H1160466A JP 9242184 A JP9242184 A JP 9242184A JP 24218497 A JP24218497 A JP 24218497A JP H1160466 A JPH1160466 A JP H1160466A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- ion
- cosmetic
- anionic surfactant
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】皮膚安全性、使用感に優れる化粧料を提供する
こと。 【解決手段】特定の分子構造からなる陰イオン界面活性
剤を含有する化粧料。
こと。 【解決手段】特定の分子構造からなる陰イオン界面活性
剤を含有する化粧料。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、毛髪及び皮膚化粧
料の基剤、洗浄剤、乳化剤、コンディショニング剤とし
て有用な陰イオン界面活性剤を含有する化粧料に関す
る。
料の基剤、洗浄剤、乳化剤、コンディショニング剤とし
て有用な陰イオン界面活性剤を含有する化粧料に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来より洗浄剤、乳化剤、コンディショ
ニング剤として有用な種々の陰イオン界面活性剤が知ら
れている。しかし、これらを詳細に検討すると、例えば
皮膚安全性、使用感（なじみ，伸び）などの点を総合的
に満足するものはなく、その改良が望まれていた。
ニング剤として有用な種々の陰イオン界面活性剤が知ら
れている。しかし、これらを詳細に検討すると、例えば
皮膚安全性、使用感（なじみ，伸び）などの点を総合的
に満足するものはなく、その改良が望まれていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、使用感（なじみ，伸び）、皮膚安全性に優
れる陰イオン界面活性剤を含有する化粧料を開発するこ
とである。
する課題は、使用感（なじみ，伸び）、皮膚安全性に優
れる陰イオン界面活性剤を含有する化粧料を開発するこ
とである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の事
情に鑑み鋭意研究した結果、後記特定の化粧料が使用感
（なじみ，伸び）、皮膚安全性に優れることを見出し、
本発明を完成した。
情に鑑み鋭意研究した結果、後記特定の化粧料が使用感
（なじみ，伸び）、皮膚安全性に優れることを見出し、
本発明を完成した。
【０００５】即ち、本発明の請求項１は、一般式
【０００６】
【化２】
【０００７】（式中、ｎは８〜２０、ＡＯは炭素数２〜
６のアルキレンオキシド、ｍは０〜５０、Ｘは（ＣＨ2)
ｐ又は（ＣＨ）ｐ、ｐは０〜４、Ｙは硫酸基、リン酸
基、メタンカルボキシル基、エタンスルホン酸基から選
択される１種、対イオンは水素イオン、１価又は２価の
アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモ
ニウムイオン又は有機アンモニウムイオンの１種又は２
種以上）で表される陰イオン界面活性剤を含有すること
を特徴とする化粧料である。
６のアルキレンオキシド、ｍは０〜５０、Ｘは（ＣＨ2)
ｐ又は（ＣＨ）ｐ、ｐは０〜４、Ｙは硫酸基、リン酸
基、メタンカルボキシル基、エタンスルホン酸基から選
択される１種、対イオンは水素イオン、１価又は２価の
アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモ
ニウムイオン又は有機アンモニウムイオンの１種又は２
種以上）で表される陰イオン界面活性剤を含有すること
を特徴とする化粧料である。
【０００８】また本発明の請求項２は、上記化２（式
中、ｎは８〜２０、ＡＯは炭素数２〜３のアルキレンオ
キシド、ｍは０〜５、Ｘは（ＣＨ2)ｐ又は（ＣＨ）ｐ、
ｐは０〜１、Ｙは硫酸基、リン酸基、メタンカルボキシ
ル基、エタンスルホン酸基から選択される１種、対イオ
ンは水素イオン、１価又は２価のアルカリ金属イオン、
アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン又は有機
アンモニウムイオンの１種又は２種以上）で表される陰
イオン界面活性剤を含有することを特徴とする化粧料で
ある。
中、ｎは８〜２０、ＡＯは炭素数２〜３のアルキレンオ
キシド、ｍは０〜５、Ｘは（ＣＨ2)ｐ又は（ＣＨ）ｐ、
ｐは０〜１、Ｙは硫酸基、リン酸基、メタンカルボキシ
ル基、エタンスルホン酸基から選択される１種、対イオ
ンは水素イオン、１価又は２価のアルカリ金属イオン、
アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン又は有機
アンモニウムイオンの１種又は２種以上）で表される陰
イオン界面活性剤を含有することを特徴とする化粧料で
ある。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に本発明の構成を説明する。本
発明に係る陰イオン界面活性剤は例えば化３の反応スキ
ームに従って得ることができる。
発明に係る陰イオン界面活性剤は例えば化３の反応スキ
ームに従って得ることができる。
【００１０】
【化３】
【００１１】化３において、しゅう酸ジエチルの代わり
にマロン酸ジエチル、フマル酸ジエチルなどの２塩基酸
低級アルコールエステルを用いることができる。また、
化３において、エチレンオキシドの代わりにプロピレン
オキシド、ブチレンオキシドなどを用いることができ
る。
にマロン酸ジエチル、フマル酸ジエチルなどの２塩基酸
低級アルコールエステルを用いることができる。また、
化３において、エチレンオキシドの代わりにプロピレン
オキシド、ブチレンオキシドなどを用いることができ
る。
【００１２】本発明に係る陰イオン界面活性剤は化２に
おいて次の分子構造を持つ。長鎖炭化水素基は炭素原子
数８〜２０のものが適用され、洗浄性を目的とする場合
では、１２、１４が好ましく、用途に応じて直鎖状、分
岐状のものが選択される。アルキレンオキシド（ＡＯ）
は経済性の点でエチレンオキシドが望ましい。ＡＯの付
加モル数は０〜５０が適用されるが、０〜５が望まし
い。スペーサー部Ｘは炭化水素鎖を意味し、その炭素原
子数は０〜４であるが、０〜１が望ましい。また、スペ
ーサー部Ｘの炭素原子数が２の場合、飽和であるのと不
飽和であるのを問わない。用途によっては不飽和のもの
も目的を達成する。極性基は硫酸イオン、リン酸イオン
（無水リン酸を使用）、メタンカルボキシレートイオン
（クロロ酢酸ナトリウムを使用）、エタンスルホン酸イ
オン（クロロエタンスルホン酸ナトリウムを使用）から
選択される１種で、対イオンは、水素イオン、１価又は
２価のアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、
アンモニウムイオン又は有機アンモニウムイオンから１
種又は２種以上が適宜選択される。
おいて次の分子構造を持つ。長鎖炭化水素基は炭素原子
数８〜２０のものが適用され、洗浄性を目的とする場合
では、１２、１４が好ましく、用途に応じて直鎖状、分
岐状のものが選択される。アルキレンオキシド（ＡＯ）
は経済性の点でエチレンオキシドが望ましい。ＡＯの付
加モル数は０〜５０が適用されるが、０〜５が望まし
い。スペーサー部Ｘは炭化水素鎖を意味し、その炭素原
子数は０〜４であるが、０〜１が望ましい。また、スペ
ーサー部Ｘの炭素原子数が２の場合、飽和であるのと不
飽和であるのを問わない。用途によっては不飽和のもの
も目的を達成する。極性基は硫酸イオン、リン酸イオン
（無水リン酸を使用）、メタンカルボキシレートイオン
（クロロ酢酸ナトリウムを使用）、エタンスルホン酸イ
オン（クロロエタンスルホン酸ナトリウムを使用）から
選択される１種で、対イオンは、水素イオン、１価又は
２価のアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、
アンモニウムイオン又は有機アンモニウムイオンから１
種又は２種以上が適宜選択される。
【００１３】このような陰イオン界面活性剤を含有する
本発明の化粧料は、後述の通り、従来汎用され、且つ分
子構造が類似する陰イオン界面活性を配合したものより
も保存安定性、皮膚安全性に優れる特徴を持つ。その含
有量は、化粧料（組成物）の総量を基準として０．０１
〜５０重量％が好ましく、１〜２０重量％が特に好まし
い。
本発明の化粧料は、後述の通り、従来汎用され、且つ分
子構造が類似する陰イオン界面活性を配合したものより
も保存安定性、皮膚安全性に優れる特徴を持つ。その含
有量は、化粧料（組成物）の総量を基準として０．０１
〜５０重量％が好ましく、１〜２０重量％が特に好まし
い。
【００１４】本発明の化粧料としては、皮膚、毛髪用化
粧品（洗浄用も含む）一般を意味する。例えば、スキン
ミルク、スキンクリーム、ファンデーションクリーム、
マッサージクリーム、クレンジング料（メイク落とし洗
浄剤）、洗顔クリーム、ローション、スカルプトリート
メント、ヘアークリーム、ヘアーシャンプー、ヘアーリ
ンス等の基礎化粧料、メイクアップ化粧料、頭髪化粧料
が挙げられる。
粧品（洗浄用も含む）一般を意味する。例えば、スキン
ミルク、スキンクリーム、ファンデーションクリーム、
マッサージクリーム、クレンジング料（メイク落とし洗
浄剤）、洗顔クリーム、ローション、スカルプトリート
メント、ヘアークリーム、ヘアーシャンプー、ヘアーリ
ンス等の基礎化粧料、メイクアップ化粧料、頭髪化粧料
が挙げられる。
【００１５】
【実施例】以下、実施例にて本発明を説明する。実施例
に記載の試験方法を下記に示す。
に記載の試験方法を下記に示す。
【００１６】皮膚安全性 女子２０人のパネラーが１週間連続使用した後、皮膚刺
激性の有無を下記の基準に従って評価した。 使用感 女子２０人のパネラーが１週間連続使用した後、使用感
（なじみ、のび）の良否を下記の基準に従って評価し
た。
激性の有無を下記の基準に従って評価した。 使用感 女子２０人のパネラーが１週間連続使用した後、使用感
（なじみ、のび）の良否を下記の基準に従って評価し
た。
【００１７】実施例１〜９、比較例２〔スキンミルク〕 表１、２に記載の如く種々の乳化剤成分と表３に記載の
如く種々の原料を用い、下記の調製方法にしたがって実
施例及び比較例のスキンミルクを調製し、特性の試験を
した。
如く種々の原料を用い、下記の調製方法にしたがって実
施例及び比較例のスキンミルクを調製し、特性の試験を
した。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【表２】
【００２０】（１）組成
【００２１】
【表３】
【００２２】（２）調製方法 成分（ａ）と成分（ｂ）を各々温度８０℃にて均一に溶
解し、成分（ａ）を撹拌しながら成分（ｂ）を注入して
乳化分散した後、撹拌しながら温度３０℃まで冷却して
調製する。 （３）特性 各実施例と比較例の前記特性を試験した結果を表１、２
に記載する。この結果から、本発明のスキンミルクは、
比較例のそれと比べて優れていることがわかる。
解し、成分（ａ）を撹拌しながら成分（ｂ）を注入して
乳化分散した後、撹拌しながら温度３０℃まで冷却して
調製する。 （３）特性 各実施例と比較例の前記特性を試験した結果を表１、２
に記載する。この結果から、本発明のスキンミルクは、
比較例のそれと比べて優れていることがわかる。
【００２３】
【発明の効果】以上記載の如く、本発明は、皮膚安全性
と官能特性（なじみ、伸び）に優れる化粧料を提供する
ことは明らかである。
と官能特性（なじみ、伸び）に優れる化粧料を提供する
ことは明らかである。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｆ 17/42 Ｂ０１Ｆ 17/42
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 （式中、ｎは８〜２０、ＡＯは炭素数２〜６のアルキレ
ンオキシド、ｍは０〜５０、Ｘは（ＣＨ2)ｐ又は（Ｃ
Ｈ）ｐ、ｐは０〜４、Ｙは硫酸基、リン酸基、メタンカ
ルボキシル基、エタンスルホン酸基から選択される１
種、対イオンは水素イオン、１価又は２価のアルカリ金
属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオ
ン又は有機アンモニウムイオンの１種又は２種以上）で
表される陰イオン界面活性剤を含有することを特徴とす
る化粧料。 - 【請求項２】 一般式 【化１】（式中、ｎは８〜２０、ＡＯは炭素数２〜３の
アルキレンオキシド、ｍは０〜５、Ｘは（ＣＨ2)ｐ又は
（ＣＨ）ｐ、ｐは０〜１、Ｙは硫酸基、リン酸基、メタ
ンカルボキシル基、エタンスルホン酸基から選択される
１種、対イオンは水素イオン、１価又は２価のアルカリ
金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイ
オン又は有機アンモニウムイオンの１種又は２種以上）
で表される陰イオン界面活性剤を含有することを特徴と
する化粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9242184A JPH1160466A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9242184A JPH1160466A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 化粧料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1160466A true JPH1160466A (ja) | 1999-03-02 |
Family
ID=17085565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9242184A Pending JPH1160466A (ja) | 1997-08-22 | 1997-08-22 | 化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1160466A (ja) |
-
1997
- 1997-08-22 JP JP9242184A patent/JPH1160466A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2906201B2 (ja) | 毛髪化粧料 | |
| JPS59172597A (ja) | 皮膚，頭皮および毛髪の衛生清浄用組成物 | |
| JPH1160437A (ja) | 化粧料 | |
| EP0166232A2 (en) | Foaming hair cleanser and conditioner | |
| JP3897923B2 (ja) | 毛髪化粧料の製造方法 | |
| JP2007503404A (ja) | ヘアトリートメント組成物 | |
| JPH0558848A (ja) | 乳化毛髪化粧料 | |
| JP2003012478A (ja) | 頭髪用乳化組成物 | |
| JPH1160466A (ja) | 化粧料 | |
| JP3426493B2 (ja) | 化粧料 | |
| JP2002114648A (ja) | 毛髪化粧料 | |
| JP4623784B2 (ja) | 第４級アンモニウム塩組成物 | |
| JP3426503B2 (ja) | 化粧料 | |
| JP2003113045A (ja) | 毛髪用組成物 | |
| JP3471150B2 (ja) | 毛髪処理剤 | |
| JPH0791555B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP3318371B2 (ja) | 毛髪化粧料 | |
| JP2955031B2 (ja) | 低刺激性洗浄剤組成物 | |
| JP3431642B2 (ja) | 毛髪化粧料 | |
| JPH06340523A (ja) | 毛髪化粧料 | |
| JP4219466B2 (ja) | ベタインエステル含有混合物の製法 | |
| JPH1160430A (ja) | 化粧料 | |
| JPH1160431A (ja) | 化粧料 | |
| JP2002114647A (ja) | 毛髪化粧料 | |
| JPH11100319A (ja) | 化粧料 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20040805 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20040806 |