JPH11100319A - 化粧料 - Google Patents
化粧料Info
- Publication number
- JPH11100319A JPH11100319A JP20600997A JP20600997A JPH11100319A JP H11100319 A JPH11100319 A JP H11100319A JP 20600997 A JP20600997 A JP 20600997A JP 20600997 A JP20600997 A JP 20600997A JP H11100319 A JPH11100319 A JP H11100319A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- carbon chain
- cosmetic
- anionic surfactant
- metal ion
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】使用感にすぐれ、広い範囲のｐＨ域で使用が可
能であり、物理的安定性に優れる化粧料を提供するこ
と。 【解決手段】硫酸基又はリン酸基を持ち、特定の分子構
造からなる陰イオン界面活性剤を含有する化粧料。
能であり、物理的安定性に優れる化粧料を提供するこ
と。 【解決手段】硫酸基又はリン酸基を持ち、特定の分子構
造からなる陰イオン界面活性剤を含有する化粧料。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、毛髪及び皮膚化粧
料の基剤、洗浄剤、乳化剤、コンディショニング剤とし
て有用な陰イオン界面活性剤を含有する化粧料に関す
る。
料の基剤、洗浄剤、乳化剤、コンディショニング剤とし
て有用な陰イオン界面活性剤を含有する化粧料に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来より（イ）脂肪族高級アルコールの
硫酸エステル、脂肪族高級アルコールのリン酸エステ
ル、Ｎ−長鎖アシルグルタミン酸等と苛性ソーダ、苛性
カリ、トリエタノールアミン等の塩基性物質からなる塩
であるアニオン型界面活性剤、（ロ）脂肪族高級アルコ
ールの酸化エチレン付加物等のエーテル型非イオン界面
活性剤、（ハ）高級脂肪酸と多価アルコールとからなる
エステル型非イオン界面活性剤等を乳化剤主成分とする
皮膚化粧料が知られている。しかし、これらの皮膚化粧
料は、比較的広い範囲のｐＨの設定が可能ではあるが、
十分な使用感を持つとは言えず、その改良が望まれてい
た。
硫酸エステル、脂肪族高級アルコールのリン酸エステ
ル、Ｎ−長鎖アシルグルタミン酸等と苛性ソーダ、苛性
カリ、トリエタノールアミン等の塩基性物質からなる塩
であるアニオン型界面活性剤、（ロ）脂肪族高級アルコ
ールの酸化エチレン付加物等のエーテル型非イオン界面
活性剤、（ハ）高級脂肪酸と多価アルコールとからなる
エステル型非イオン界面活性剤等を乳化剤主成分とする
皮膚化粧料が知られている。しかし、これらの皮膚化粧
料は、比較的広い範囲のｐＨの設定が可能ではあるが、
十分な使用感を持つとは言えず、その改良が望まれてい
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、使用感が十分に優れ、広範囲のｐＨ域で使
用が可能であり、物理的安定性にも優れる化粧料を開発
することである。
する課題は、使用感が十分に優れ、広範囲のｐＨ域で使
用が可能であり、物理的安定性にも優れる化粧料を開発
することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の事
情に鑑み鋭意研究した結果、後記特定の化粧料が使用感
が十分に優れ、広範囲のｐＨ域で使用が可能であり、物
理的安定性にも優れることを見出し、本発明を完成し
た。
情に鑑み鋭意研究した結果、後記特定の化粧料が使用感
が十分に優れ、広範囲のｐＨ域で使用が可能であり、物
理的安定性にも優れることを見出し、本発明を完成し
た。
【０００５】即ち、本発明の請求項１は、一般式
【０００６】
【化２】
【０００７】（式中、Ｒ1 は炭素数１〜３の炭素鎖、Ｒ
2 は炭素数７〜１７の炭素鎖、Ｘは硫酸基又はリン酸
基、ｍ及びｎは２〜６の整数であり、対イオンが１価又
は２価のアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオ
ン、アンモニウムイオン又は有機アンモニウムイオンで
ある。但し、Ｘがリン酸基のとき、Ｒ1 は水素原子の場
合も含まれる。）で表される陰イオン界面活性剤を含有
することを特徴とする化粧料である。
2 は炭素数７〜１７の炭素鎖、Ｘは硫酸基又はリン酸
基、ｍ及びｎは２〜６の整数であり、対イオンが１価又
は２価のアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオ
ン、アンモニウムイオン又は有機アンモニウムイオンで
ある。但し、Ｘがリン酸基のとき、Ｒ1 は水素原子の場
合も含まれる。）で表される陰イオン界面活性剤を含有
することを特徴とする化粧料である。
【０００８】
【発明の実施の形態】次に本発明の構成を説明する。
【０００９】本発明に係る陰イオン界面活性剤は例えば
化３の反応スキームに従って合成することができる。
化３の反応スキームに従って合成することができる。
【００１０】
【化３】
【００１１】本発明に係る陰イオン界面活性剤は次のよ
うな分子構造を持つ。長鎖疎水基Ｒ 2 の炭素数は７〜１
７のものが適用され、特に１１、１３のものが好まし
い。Ｒ 1 はメチル基、エチル基、プロピル基が適用さ
れ、メチル基が好ましく、特に水素原子が好ましい。極
性基は硫酸基又はリン酸基である。ｍは２〜６の整数が
適用され、２が最も好ましい。ｎは目的に応じて任意に
選択される。対イオンは１価又は２価のアルカリ金属イ
オン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン又
は有機アンモニウムイオンが適用される。このような陰
イオン界面活性剤を含有する化粧料は、従来知られてい
る陰イオン界面活性を配合したものよりも好ましい感触
を与え、かつすぐれた洗浄力、起泡力を有するばかりで
なく、広範囲のｐＨ域で使用が可能であり、物理的安定
性にも優れる特徴を持つ。したがって、皮膚、毛髪など
の各種洗浄剤等に、乳化剤、コンデイショニング剤等と
して皮膚、毛髪用化粧品に配合することができる。その
場合の含有量は、化粧料（組成物）の総量を基準として
０．０１〜５０重量％が好ましく、１〜２０重量％が特
に好ましい。
うな分子構造を持つ。長鎖疎水基Ｒ 2 の炭素数は７〜１
７のものが適用され、特に１１、１３のものが好まし
い。Ｒ 1 はメチル基、エチル基、プロピル基が適用さ
れ、メチル基が好ましく、特に水素原子が好ましい。極
性基は硫酸基又はリン酸基である。ｍは２〜６の整数が
適用され、２が最も好ましい。ｎは目的に応じて任意に
選択される。対イオンは１価又は２価のアルカリ金属イ
オン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン又
は有機アンモニウムイオンが適用される。このような陰
イオン界面活性剤を含有する化粧料は、従来知られてい
る陰イオン界面活性を配合したものよりも好ましい感触
を与え、かつすぐれた洗浄力、起泡力を有するばかりで
なく、広範囲のｐＨ域で使用が可能であり、物理的安定
性にも優れる特徴を持つ。したがって、皮膚、毛髪など
の各種洗浄剤等に、乳化剤、コンデイショニング剤等と
して皮膚、毛髪用化粧品に配合することができる。その
場合の含有量は、化粧料（組成物）の総量を基準として
０．０１〜５０重量％が好ましく、１〜２０重量％が特
に好ましい。
【００１２】本発明の化粧料としては、スキンミルク、
スキンクリーム、ファンデーションクリーム、マッサー
ジクリーム、クレンジング料、メイク落とし洗浄剤、洗
顔クリーム、ローション、スカルプトリートメント、ヘ
アークリーム、ヘアーシャンプー、ヘアーリンス等の基
礎化粧料、メイクアップ化粧料、頭髪化粧料が挙げられ
る。
スキンクリーム、ファンデーションクリーム、マッサー
ジクリーム、クレンジング料、メイク落とし洗浄剤、洗
顔クリーム、ローション、スカルプトリートメント、ヘ
アークリーム、ヘアーシャンプー、ヘアーリンス等の基
礎化粧料、メイクアップ化粧料、頭髪化粧料が挙げられ
る。
【００１３】
【実施例】以下、実施例にて本発明を説明する。実施例
に記載の保存安定性試験及び使用感の試験方法を下記に
示す。
に記載の保存安定性試験及び使用感の試験方法を下記に
示す。
【００１４】保存安定性試験 試料を５０℃の恒温槽に入れ、１年間放置後の乳化状
態、外観を観察し、異常が認められない場合（乳化状態
が均一で、エマルションが形成している）は良好とし、
異常が認められる場合（油が分離した場合、粒子が粗大
になった場合等）は不良とした。
態、外観を観察し、異常が認められない場合（乳化状態
が均一で、エマルションが形成している）は良好とし、
異常が認められる場合（油が分離した場合、粒子が粗大
になった場合等）は不良とした。
【００１５】使用感 女子２０人のパネラーが１週間連続使用した後、使用感
（なじみ、のび）の良否を下記の基準に従って評価し
た。
（なじみ、のび）の良否を下記の基準に従って評価し
た。
【００１６】実施例１〜４、比較例１〔スキンミルク〕 表１に記載の如く種々の乳化剤成分を配合して、表２に
記載の如く種々の原料を配合して実施例及び比較例のス
キンミルクを調製し、特性の試験をした。
記載の如く種々の原料を配合して実施例及び比較例のス
キンミルクを調製し、特性の試験をした。
【００１７】
【表１】
【００１８】（１）組成
【００１９】
【表２】
【００２０】（２）調製方法 成分（ａ）と成分（ｂ）を各々温度８０℃にて均一に溶
解し、成分（ａ）を撹拌しながら成分（ｂ）を注入して
乳化分散した後、撹拌しながら温度３０℃まで冷却して
調製する。なお、このときのｐＨはいずれもほぼ７であ
った。 （３）特性 各実施例と比較例の前記特性を試験した結果を表１に記
載する。この結果から、本発明のスキンミルクは、使用
感と保存安定性に優れることが明らかである。また、実
施例１〜４のスキンミルクは、ｐＨを６〜９の広い範囲
で調整したときも保存安定性に優れていた。尚、本発明
の界面活性剤を１重量％配合したスキンミルクは、上記
一般式でＲ 1 が水素原子、Ｒ2 はＣ11Ｈ23で、ｍとｎが
１で、Ｘが硫酸基で、対イオンがＮａイオンである陰イ
オン界面活性剤を１重量％配合したものよりも使用感に
すぐれていた。また、実施例３のスキンミルクは、上記
一般式でＲ1 が水素原子、Ｒ 2 はＣ11Ｈ23で、ｍとｎが
１で、Ｘが硫酸基で、対イオンがＮａイオンである陰イ
オン界面活性剤を１重量％配合したものよりも皮膚安全
性において優れていた。
解し、成分（ａ）を撹拌しながら成分（ｂ）を注入して
乳化分散した後、撹拌しながら温度３０℃まで冷却して
調製する。なお、このときのｐＨはいずれもほぼ７であ
った。 （３）特性 各実施例と比較例の前記特性を試験した結果を表１に記
載する。この結果から、本発明のスキンミルクは、使用
感と保存安定性に優れることが明らかである。また、実
施例１〜４のスキンミルクは、ｐＨを６〜９の広い範囲
で調整したときも保存安定性に優れていた。尚、本発明
の界面活性剤を１重量％配合したスキンミルクは、上記
一般式でＲ 1 が水素原子、Ｒ2 はＣ11Ｈ23で、ｍとｎが
１で、Ｘが硫酸基で、対イオンがＮａイオンである陰イ
オン界面活性剤を１重量％配合したものよりも使用感に
すぐれていた。また、実施例３のスキンミルクは、上記
一般式でＲ1 が水素原子、Ｒ 2 はＣ11Ｈ23で、ｍとｎが
１で、Ｘが硫酸基で、対イオンがＮａイオンである陰イ
オン界面活性剤を１重量％配合したものよりも皮膚安全
性において優れていた。
【００２１】
【発明の効果】以上記載の如く、本発明は、使用感に優
れ、広範囲のｐＨ域で使用が可能であり、物理的安定性
にも優れる化粧料を提供することは明らかである。
れ、広範囲のｐＨ域で使用が可能であり、物理的安定性
にも優れる化粧料を提供することは明らかである。
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 （式中、Ｒ1 は炭素数１〜３の炭素鎖、Ｒ2 は炭素数７
〜１７の炭素鎖、Ｘは硫酸基又はリン酸基、ｍ及びｎは
２〜６の整数であり、対イオンが１価又は２価のアルカ
リ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウム
イオン又は有機アンモニウムイオンである、但し、Ｘが
リン酸基のとき、Ｒ1 は水素原子の場合も含まれる。）
で表される陰イオン界面活性剤を含有することを特徴と
する化粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20600997A JPH11100319A (ja) | 1997-07-28 | 1997-07-31 | 化粧料 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-201875 | 1997-07-28 | ||
| JP20187597 | 1997-07-28 | ||
| JP20600997A JPH11100319A (ja) | 1997-07-28 | 1997-07-31 | 化粧料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11100319A true JPH11100319A (ja) | 1999-04-13 |
Family
ID=26513047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20600997A Pending JPH11100319A (ja) | 1997-07-28 | 1997-07-31 | 化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11100319A (ja) |
-
1997
- 1997-07-31 JP JP20600997A patent/JPH11100319A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20040805 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20040806 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 |