JPH115221A - 未加硫ゴム加熱装置 - Google Patents
未加硫ゴム加熱装置Info
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Abstract
も効率よく加熱できる未加硫ゴム加熱装置を提供する。 【解決手段】 誘導コイル1を積層体20から離れた位
置に設置するとともに、前記誘導コイル1の内周側で発
生した磁界を前記積層体20に導く磁気回路手段21を
設けてなるものである。
Description
板を交互に積層した積層体を、電磁誘導を利用して加熱
する未加硫ゴム加熱装置に関する。
される加硫ゴム成形品は、未加硫ゴムをモールド内に装
着したあと、ゴムが架橋構造のゴム組織となるように蒸
気などの高温媒体により加熱して加硫成形なされてい
る。近年では、未加硫ゴムを高効率で加熱および加硫可
能な電磁誘導式の加硫方法が提案されている(未公
開)。
に示されるように、未加硫ゴムと金属板を交互に積層し
た積層体61の外周に誘導コイル63を配置し(図6に
示されるように、モールド62を介して誘導コイル63
を配置したものもある)、誘導コイル63に交流電流を
通電して積層体61内部の積層方向に磁界を発生させ、
積層体61内部の金属板(一般には鋼板)にジュール熱
を発生させて、積層体61内部の未加硫ゴムを加熱す
る。このとき、積層体61を矢印方向に加圧して、加熱
と同時に加硫ができるようにしたものもあり、そのばあ
い、その加熱装置は、図6に示されるように、枠68に
固定される支柱66と、その支柱66に固定される固定
プラテン64と、加圧シリンダ67に連結される可動プ
ラテン65を有しており、モールド62に外周を拘束さ
れた積層体61が、固定プラテン64と可動プラテン6
5のあいだに載置される。
61の形状は、円柱または円筒状のもののほか角柱状の
ものもあり、大きさも、円筒状のもので、外径:約50
0〜1300mm 高さ:約200〜500mm と様
々である。したがって、設備コストなどを低減するた
め、1つの誘導コイルを用いて各種サイズの加硫ゴム成
形品を製造しようとすると小さなサイズの加硫ゴム成形
品を製造する際に加熱効率が低下することがある。
置されており、各種サイズの加硫ゴム成形品に対応させ
ようとすると、最大径のモールドに対応した径および形
状に設定する必要がある。ところが、電磁誘導加熱は、
誘導コイルにより生成された磁界の磁束密度に比例して
加熱効率が増減するものであり、磁束密度は、誘導コイ
ルから離れる程低下するという性質を有している。従っ
て、最大径のモールドを用いて加硫成形する場合には、
モールドが誘導コイルに近接しているため、大きな磁束
密度により高い加熱効率を得ることができるが、小さな
径のモールドを用いて加硫成形する場合には、モールド
が誘導コイルから離隔するため、磁束密度の減少により
加熱効率が低下することになる。これにより、図6に示
される従来の構成では、小さなサイズの加硫ゴム成形品
を製造する際に、未加硫ゴムを効率良く加熱することが
できないものとなっている。
のであり、その目的とするところは、どのような形状お
よび大きさの未加硫ゴムでも効率よく電磁誘導で加熱で
きる未加硫ゴム加熱装置を提供することである。
め、請求項1にかかる発明は、未加硫ゴムと金属板を交
互に積層した積層体に対して、積層方向に交番磁界を浸
透させ、積層体内部の金属板にジュール熱を発生させる
ことによって未加硫ゴムの加熱を行う装置であって、積
層体から離れた位置に設置された誘導コイルと、該誘導
コイルで発生した磁界を積層体の積層方向両端面略中央
部に導き、積層方向に交番磁界を浸透させるように閉ル
ープを形成する磁気回路手段を設けてなることを特徴と
するものである。誘導コイルを積層体から離れた位置に
設置しており、積層体が、誘導コイルに干渉されないの
で、加熱装置の仕様を変更することなく、積層体の大き
さ、高さ、および形状を自由に変更することができる。
の発明に加えて、前記磁気回路手段が、珪素鋼板を磁界
方向と平行となるように積層してなるものである。珪素
鋼板は、透磁性があり、積層することにより渦電流の発
生を抑えることができる。積層の方法は、非被磁性体
(例えば、樹脂)を間に挟んで積層することが好まし
い。
に記載の発明に加えて、モールドにより少なくとも外周
を拘束された前記積層体を積層方向端面側から加圧でき
る固定プラテンおよび可動プラテンを有する加熱および
加硫装置であって、前記磁気誘導回路手段が、前記固定
プラテンおよび可動プラテンに連結されているものであ
る。固定プラテンおよび可動プラテンは、上下プラテン
のうちのどちらかである。図示例では、下プラテンが加
圧シリンダに連結されているので可動プラテンであり、
上プラテンはフレームに固定されているので固定プラテ
ンである。この上プラテンは、積層体の高さの変更に伴
って上下方向の位置を変更できるものもあるが、加硫中
には移動しないので固定プラテンである。モールドは、
少なくとも外周側から拘束するモールド胴部を必要とす
るが、積層方向両端面側を拘束するモールド蓋部とモー
ルド底部を有しているものでもよい。
の発明に加えて、前記磁気回路手段が、前記固定プラテ
ンに連結される固定部と、前記可動プラテンに連結され
る可動部とからなり、前記固定部と可動部のあいだに前
記固定部と可動部を分断する可動方向に平行な非常に狭
いギャップを設け、前記可動プラテンを移動可能とした
ものである。
の発明に加えて、前記固定プラテンが前記固定部によっ
て装置に固定され、前記可動部が前記可動プラテンを駆
動させる駆動手段を兼ねているものである。
もに説明する。図1は本発明の未加硫ゴム加熱装置の一
実施例の概略説明図、図2は図1の平面図、図3は動作
説明図、図4は他の実施例の概略説明図、図5は図4の
平面図である。
置は、誘導コイル1を積層体20の外周ではなくて、離
れた位置に設け、誘導コイル1の内周を貫通する磁気回
路手段2を設けて積層体20に対して交番磁界を積層方
向に浸透させるよう構成されたものである。
が並設されて予熱およびその後の加硫も行うことのでき
るものであり、誘導コイル1、固定部3、4および可動
部5からなる磁気回路手段2、固定および可動プラテン
6、7、支柱8、シリンダ9枠型フレーム10を備えて
おり、積層体20は、モールド21により外周を拘束さ
れている。
置に設置される。つまり、従来のように、積層体20の
外周に配置されないので、積層体20の、形状、大きさ
の変化に対応して付け変える必要がない。誘導コイル1
の内周には、磁気回路手段2が貫通状に設けられ、誘導
コイル1で発生する交番磁界を固定および可動プラテン
6、7を介して積層体20に作用させる。なお、誘導コ
イル1の位置は、磁気回路手段2の一部分を取り囲む位
置であれば何処でもよく、固定部3、4の他、可動部5
に設けることも可能である。誘導コイル1には、交流電
源が接続されて所定の周波数で誘導コイルの周囲に任意
の強度の磁界を発生させる。
た磁界を積層体に導くものであり、積層体20を固定お
よび可動プラテン6、7を介して積層方向に挟み込み、
全体として閉回路を構成する。可動プラテン7を可動可
能とするために、固定部3、4のほか、可動部5を有し
ている。第1固定部3は、固定プラテン6の上面中央に
積層方向(矢印22方向)上向きに延設されており、可
動部5は、可動プラテン7の下面中央に積層方向に積層
方向下向きに延設される。第2固定部4は、第1固定部
3の上端付近と、可動部5の下端付近を連結するもので
あり、コの字形を有し、垂直部4aの略中央に誘導コイ
ル1を配設している。第1固定部3の上端付近と第2固
定部は接触して取付けられるか、固定部3、4は一体も
のであってもよい。可動部5の下端付近と第2固定部4
の間には、これらを分断するギャップgが設けられてい
る。このギャップgは、可動方向(積層方向)22に平
行で、可動部5が固定部3、4に対して移動できるよう
に設けられるものであり、磁界に影響を与えないように
非常に狭くなっている。なお、図示されないが、固定部
3、4は枠型フレーム10に支持されるように構成され
ることが好ましい。
に、4角柱形状であり、0.1mm厚程度の珪素鋼板を
樹脂で接合しながら積層することにより形成されてお
り、交番磁界で励起される渦電流が極力小さくなるよう
になっている。また、各珪素鋼板の板面は、磁界方向に
対して平行となるように設定されている。なお、磁気回
路手段2としては、このほかに、いわゆる非晶質構造の
アモルファスリボン等の板材を積層したものによっても
形成することができる。また、珪素鋼板の表面には、渦
電流を抑えるため、Si系樹脂、テフロン等の電気絶縁
被膜を施すようにしてもよい。
って、加熱および加圧時にはモールド蓋部15と接触す
るように、支柱8により枠型フレーム10に固定され
る。可動プラテン7は積層体20の下側にあって、モー
ルド底部17と接触し、積層体20およびモールド21
を載置する。可動プラテン7は、油圧等の流体圧を利用
した加圧シリンダ9に支持されている。加圧シリンダ9
は、軸心が鉛直方向に設定された加圧ロッドを有してお
り、加圧ロッドを進退移動させることによって、下部プ
ラテン7を昇降させるようになっている。固定および可
動プラテン6、7は、磁性材料から形成されるのが好ま
しい。磁性材料の方が珪素鋼板で形成される磁気回路の
磁性抵抗を少なくすることができるため、非磁性材料よ
りも好ましい。
あり、固定プラテン6の4隅に設けられてこれを支持す
るように、枠型フレーム10から垂下されている。加圧
シリンダー9は枠型フレーム10の底面側に立設されて
いる。支柱8および加圧シリンダー9は非磁性材料(S
US等)である。その理由は、誘導した磁界が支柱や加
圧シリンダに集束し、積層体を通過する磁界が低下する
ことを防ぐためである。なお、図示されないが、支柱8
の長さを容易に変更可能な変更手段を設けて、積層体2
0の高さの変化に容易に対応できるように構成されてい
ることが好ましい。
の多数と、厚みが数mmの未加硫ゴム11とを平行状態
に保ったまま交互に積層し、金属板12を未加硫ゴム1
1で挟んで埋設状態とし、さらに、積層方向(矢印22
方向)の両端にフランジ13、14を張り付けたもので
ある。積層体20の積層方向と直行する方向の平面形状
は、円、円環、角、角筒など、用途、設置場所によって
様々であり、本発明では、高さや大きさも含めて限定さ
れない。図6に示されるような従来例では、積層体は、
誘導コイルの内周側にあり、積層体の大きさ、形状、高
さが、誘導コイルの大きさ、形状、幅に影響されていた
が、本発明では、誘導コイルを積層体から離して設置し
たため、誘導コイルに干渉されずに、同一の加熱装置
で、加熱装置の仕様を変更することなく、様々な形状、
大きさおよび高さの積層体を加熱することができる。
あり、断熱材でもある未加硫ゴム3に埋設された良好な
熱伝導体である。したがって、積層体20の積層方向に
発生する交番磁界によって、まず、外周側が加熱され、
中心部に向かって昇温が進み、全体が発熱しているのと
略等価な状態になる。そして、金属板12の全体からじ
わじわと断熱材でもある未加硫ゴム11に向かって熱伝
導が行われ、積層体20はその内部から全体が加熱され
る。
に磁性板からなるが、取付けプレート等をネジ止めする
ための取付け接続板として機能する。そのため、金属板
12よりも厚く、径も大きくなっている。金属板12
は、加硫成形品の積層方向の剛性を高めるためのもので
あり、未加硫ゴム11と略同等の厚みを有している。ま
た、金属板12は、図1に示されるように、外周に配設
された筒状ゴム11aによって未加硫ゴム11内に埋設
状態になるようにされることが、防錆の観点から好まし
いが、所定に間隔を隔てて積層されていればよく、外周
端面が露出していてもよい。外周端面が露出してモール
ド胴部に接触するようなものであれば、モールド胴部の
加熱によっても昇温させることができ、冷却時において
も効率良く冷却することができる。なお、積層体20の
形状としては、図示の中実円柱に限らず、中空円筒柱、
四角柱や立方体柱であってもよい。
5と、円筒状のモールド胴部16と、円板状のモールド
底部17の三分割になっている。尚、三分割に限らず四
分割、六分割又は八分割とすることもできる。モールド
底部17とモールド胴部16との間にて、積層体20の
フランジ14が保持され、モールド胴部16の内周に
て、金属板12と未加硫ゴム11の交互積層部分の外周
が規制されている。モールド蓋部15とモールド胴部1
6との間にて積層体20のフランジ15が保持されると
もに、これらモールド胴部16とモールド蓋部15の間
には押し込み可能な加圧代ε(図3参照)が設けられて
いる。
抗を少なくする観点より、磁性材料(銅など)であるこ
とが好ましい。モールド蓋部15とモールド底部17
は、固定および可動プラテン6、7との相互関連性も含
めて、磁気回路手段2によって導かれた磁界を積層体2
0に浸透させやすいように、材料および厚さが選定され
る。モールド胴部16は、蒸気等の加熱媒体や電気ヒー
タなどによって昇温可能な構成としてもよい。その場
合、磁気回路手段によって導かれる積層方向の交番磁界
によるジュール熱を外周側から補って、加熱が促進され
る。モールド蓋部15とモールド底部17、固定および
可動プラテン6、7にも、磁界を弱めない範囲で同様に
加熱手段を設けてもよい。
の加硫成形を説明する。図3に示されるように、加硫前
の積層体20は、その外周をモールド21で拘束され
て、矢印23に示される水平方向から、下方に下げられ
た可動プラテン7の上に載置され、そののち、加圧シリ
ンダ9により上方に移動し、固定プラテン6と接触状態
になる。未加硫ゴムを適温まで昇温させる予熱工程で
は、加圧を伴わず、加圧代εを残したまま、誘導コイル
1に所定周波数の交流を通電する。誘導コイル1は、交
流と同期して向きが変わる磁束を形成し、形成された磁
界は、磁気回路手段2により固定・可動プラテン6、7
およびモールド21を介して積層体20に導かれ、積層
体20の積層方向に浸透する。この磁界は、積層体20
内部における未加硫ゴム11の上面および下面に接合さ
れたフランジ13、14および未加硫ゴム11中に埋設
された金属板12に印加され、これらのフランジ13、
14および金属板12に渦電流を発生させてジュール熱
が発生し、加熱する。そして、このフランジ13、14
および金属板12の加熱により未加硫ゴム11を上下面
および内部から加熱する。さらに固定プラテン6、可動
プラテン7、およびモールド21に加熱手段が設けられ
ている場合には、これらにより未加硫ゴム3への加熱が
促進され、未加硫ゴム11を外部および内部から加熱す
る。未加硫ゴム11が適温に昇温したところで、加圧シ
リンダ9を稼動し、モールド胴部16とモールド蓋部1
5が密着して図1の状態になるまで加圧し加硫工程に入
る。この後、積層体20の加硫成形が完了すると、モー
ルド21と共に積層体を加熱装置から搬出し、冷却工程
等の次工程に移行する。
明の他の実施例を説明する。本発明では、図1に示され
る支柱8のかわりに、磁気回路手段2の固定部3を用い
て固定プラテン6を枠型フレーム10に固定するように
してもよい。その場合、図5に示されるように、固定部
30は、強度の観点から角柱の磁性体を用いて、スリッ
ト31を中心から固定部4に向けて開口するように形成
し、大きな渦電流の発生を防止するようにすることが好
ましい。このスリット31は、図4に示されるように、
枠型フレーム10から固定プラテン6まで連続してい
る。なお、図1および図2のものと同様に、渦電流の発
生を防ぐという観点からは、固定部30も、珪素鋼板な
どの磁性板を磁界と平行な向きに並べて、磁界に垂直な
方向に積層したものであることが好ましい。また、磁気
回路手段2の固定部50も同様に、図1に示される加圧
シリンダ9と兼ねさせることもできる。その場合も、固
定部30と同様に、可動部50にスリット51を設ける
などして、渦電流の発生を防止する構成であることが好
ましい。
誘導コイルを、積層体の形状および大きさに干渉しない
ように、積層体から離れた位置に設置したので、形状お
よび大きさの異なる積層体に対応して、誘導コイルを交
換する必要がなく、設備コストが低減される。
生した交番磁界を積層体に導く磁気回路手段として、珪
素鋼板を積層したものを用いており、渦電流の発生を抑
えることができる。
に加圧装置を付加して、予熱のみならず加硫も行えるよ
うにしたので、装置の簡略化が図れる。
図である。
明図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 未加硫ゴムと金属板を交互に積層した積
層体に対して、積層方向に交番磁界を浸透させ、積層体
内部の金属板にジュール熱を発生させることによって未
加硫ゴムの加熱を行う装置であって、積層体から離れた
位置に設置された誘導コイルと、該誘導コイルで発生し
た磁界を積層体の積層方向両端面略中央部に導き、積層
方向に交番磁界を浸透させるように閉ループを形成する
磁気回路手段を設けてなることを特徴とする未加硫ゴム
加熱装置。 - 【請求項2】 前記磁気回路手段が、珪素鋼板を磁界方
向と平行となるように積層してなるものである請求項1
記載の未加硫ゴム加熱装置。 - 【請求項3】 モールドにより少なくとも外周を拘束さ
れた前記積層体を積層方向端面側から加圧できる固定プ
ラテンおよび可動プラテンを有して加硫を行うことので
きる加熱装置であって、前記磁気回路手段が、前記固定
プラテンおよび可動プラテンに連結されている請求項1
または2記載の未加硫ゴム加熱装置。 - 【請求項4】 前記磁気回路手段が、前記固定プラテン
に連結される固定部と、前記可動プラテンに連結される
可動部とからなり、前記固定部と可動部のあいだに前記
固定部と可動部を分断する可動方向に平行な非常に狭い
ギャップを設け、前記可動プラテンを移動可能とした請
求項3記載の未加硫ゴム加熱装置。 - 【請求項5】 前記固定プラテンが前記固定部によって
フレームに固定され、前記可動部が前記可動プラテンを
駆動させる駆動手段を兼ねている請求項4記載の未加硫
ゴム加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16079997A JP3946310B2 (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | 未加硫ゴム加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16079997A JP3946310B2 (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | 未加硫ゴム加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH115221A true JPH115221A (ja) | 1999-01-12 |
JP3946310B2 JP3946310B2 (ja) | 2007-07-18 |
Family
ID=15722706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16079997A Expired - Lifetime JP3946310B2 (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | 未加硫ゴム加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3946310B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4791031A (en) * | 1986-10-29 | 1988-12-13 | Sumitomo Metal Mining Co. Ltd. | Lead frame for IC having a wire bonding part composed of multi-layer structure of iron containing alloy, refractory metal and aluminum |
JP2006252799A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Tada Denki Kk | 磁気加熱装置 |
JP2009101616A (ja) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Miwa Tec:Kk | 構造物用ゴム支承の現場加硫補修方法及びそれに用いる構造物用ゴム支承の現場加硫補修用の電磁誘導加熱装置。 |
-
1997
- 1997-06-18 JP JP16079997A patent/JP3946310B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
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US4791031A (en) * | 1986-10-29 | 1988-12-13 | Sumitomo Metal Mining Co. Ltd. | Lead frame for IC having a wire bonding part composed of multi-layer structure of iron containing alloy, refractory metal and aluminum |
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JP4637613B2 (ja) * | 2005-03-08 | 2011-02-23 | 多田電機株式会社 | 磁気加熱装置 |
JP2009101616A (ja) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Miwa Tec:Kk | 構造物用ゴム支承の現場加硫補修方法及びそれに用いる構造物用ゴム支承の現場加硫補修用の電磁誘導加熱装置。 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3946310B2 (ja) | 2007-07-18 |
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