JPH11501897A - 放射線硬化性光学繊維被覆組成物 - Google Patents

放射線硬化性光学繊維被覆組成物

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JPH11501897A JP8527492A JP52749296A JPH11501897A JP H11501897 A JPH11501897 A JP H11501897A JP 8527492 A JP8527492 A JP 8527492A JP 52749296 A JP52749296 A JP 52749296A JP H11501897 A JPH11501897 A JP H11501897A
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Abstract

(57)【要約】 適切に硬化した時、ケーブル充填材料である炭化水素ゲルによる侵食に対する抵抗性を示す放射線硬化性ガラス光学繊維被覆組成物が与えられる。その組成物は、約10〜約90重量%の第一放射線硬化性オリゴマー、0〜約40重量%の反応性希釈剤、0〜約40重量%の光開始剤、0〜約10重量%の顔料、及び約10〜約90重量%の、次の式: (式中、R1及びR2は、独立に、夫々放射線硬化性官能基を表し、L1及びL2は、独立に、夫々約2〜約40個の炭素原子を有するアルキレンオキシ鎖を表し、然も、L1及びL2は酸素原子を通してC1に結合しており、C1は、約5〜約40個の炭素原子を有し、少なくとも一つの環式基を有する炭化水素を表す。)に従う第二放射線硬化性オリゴマー、を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】 放射線硬化性光学繊維被覆組成物 〔技術分野〕 本発明は、硬化した後、湿分及び炭化水素ゲルに対して大きな抵抗性を有する 被覆を与える放射線硬化性光学繊維被覆組成物に関する。本発明は、更に光学繊 維のための外側第一被覆として用いるのに適した着色放射線硬化性被覆組成物に 関する。 〔背景技術〕 光学繊維は、屡々主要な被覆を一緒に形成する二つの重ねた放射線硬化性被覆 で被覆されている。ガラスと接触する被覆は、内側第一被覆と呼ばれ、その上の 被覆は外側第一被覆と呼ばれている。古い文献では、その内側第一被覆は第一被 覆と呼ばれており、外側第一被覆は第二被覆と呼ばれているが、明瞭にするため に、その用語は最近工業的には放棄されている。 内側第一被覆は、通常微細な屈曲に対する抵抗性を与える柔らかい被覆である 。微細な屈曲は被覆繊維の信号伝達能力の減衰をもたらすので望ましくない。露 出している外側第一被覆は、繊維をケーブルにする時に遭遇する力のような取扱 い力に対し希望の抵抗性を与える一層堅い被覆であるのが典型的である。 内側及び外側第一被覆のための被覆組成物は、一般に液体エチレン系不飽和媒 体中にポリエチレン系不飽和オリゴマーを入れたものからなる。 通常光学繊維はガラス繊維である。光学ガラス繊維は水に曝されると弱くなる 。例えば、空気中の湿分はガラス繊維の弱化及び最終的破断を起こすことがある 。従って、内側及び外側第一被覆は、湿分がガラス基体を侵食しないようにする ことが望ましい。しかし、従来の被覆組成物の多くは、1.7%より大きな最大 水吸収率を有し、従って、ガラス基体を湿分から保護するのには有効ではない。 ガラス基体の弱化を起こす外に、湿分はそれら被覆層の相互及び(又は)ガラ ス表面からの剥離を起こすこともある。内側第一被覆の剥離はガラス基体を弱く する結果になることがある。なぜなら、内側第一被覆が最早湿分による侵食に対 しガラスを保護しなくなるからである。 ガラス表面に対する湿分による損傷を防ぐため、水吸収性が低く、ガラスから 剥離しにくく、水浸漬抽出性の低い被覆組成物を与えることが望ましい。更に、 光学ガラス繊維のための被覆組成物は、ガラス繊維に対する充分な接着性を有す るが、現場での適用のため剥ぐことができる硬化被覆も与えるべきである。 或る用途では、従来の被覆組成物は、内側第一被覆に対する充分な接着性、剥 ぎ取り性、水を吸収しにくい性質及び低い水浸漬抽出性の必要な組合せを有する 硬化外側第一被覆を与えない。 更に、ケーブル組合体中の多くのガラス繊維の中から希望の光学繊維を選び易 くするため、外側第一被覆を着色することが屡々望まれている。欧州特許出願公 開第418829号には、内側及び外側第一被覆で既に被覆されている光学繊維 を着色又は更に被覆するための放射線硬化性インク又は着色溶媒含有ラッカーを 使用することが記載されている。これは、第三の被覆操作を必要とし、それは望 ましくない。 希望の着色を与えるため充分な顔料を外側第一被覆に直接含有させることが提 案されている。そのような着色外側第一被覆は、公開されたPCT出願WO 9 0/13579に記載されており、そこには約1μより小さな粒径を有する顔料 粒子を含有する外側第一被覆組成物が記載されている。 公開された特開昭64−22975号には、UV−硬化性樹脂及びエトキシル 化ビスフェノールAジアクリレートを含むインク組成物が記載されている。この 文献は、その組成物を外側第一被覆として用いることも、外側第一被覆の湿分抵 抗性を改良する仕方も開示していない。更に、そのJP−A−64−22975 に記載された組成物は、硬化した時、被覆は取扱い中の光学ガラス繊維を保護す るのに必要な靭性を持たないので、外側第一被覆としては不適切である。 慣用的着色外側第一被覆組成物は、硬化した時、湿分に対する抵抗性が不充分 である。その慣用的硬化着色被覆を水に曝すと、形状の変化が起きる。これらの 形状変化はガラス光学繊維の信号伝達能力の減衰を起こすことがある。従って、 着色することもでき、低い水吸収性、低い水浸漬抽出性、及びケーブル充填材料 である炭化水素ゲルによる侵食に対する抵抗性を有する硬化被覆を与える外側第 一被覆として用いるのに適した被覆組成物に対する必要性が依然として存在して いる。 〔発明の開示〕 本発明の目的は、着色することができる外側第一被覆として用いるのに適した 被覆組成物を与えることである。本発明の別の目的は、硬化した時に、低い水吸 収性、低い水浸漬抽出性、及びケーブル充填材料である炭化水素ゲルによる侵食 に対する抵抗性を示す外側第一被覆組成物を与えることである。 上記目的及び他の目的は、適切に硬化した時、炭化水素ゲルのケーブル充填材 料による侵食に対する抵抗性を示す放射線硬化性ガラス光学繊維被覆組成物を与 えることにより達成される。その未硬化組成物は、 A.約10〜約90重量%の放射線硬化性オリゴマー、 C.0〜約40重量%の反応性希釈剤、 D.0〜約40重量%の光開始剤、 E.0〜約10重量%の顔料、及び B.約10〜約90重量%の、次の式: R1−L1−C1−L2−R2 (1) (式中、 R1及びR2は、独立に、夫々放射線硬化性官能基を表し、 L1及びL2は、独立に、夫々約2〜約40個の炭素原子を有するアルキレンオ キシ鎖を表し、然も、L1及びL2は酸素原子を通してC1に結合しており、 C1は、約5〜約40個の炭素原子を有し、少なくとも一つの環式基を有する 炭化水素を表す。) に従う第二放射線硬化性オリゴマー、 からなる。重量%は、成分A〜Eの全重量を基準とする。 この組成物は、硬化すると、改良された水抵抗性を有する被覆を与える結果に なる。湿分に露出すると、被覆ガラス光学繊維の膨潤は従来の繊維より小さく、 被覆ガラス光学繊維の同心性を増大する。被覆光学繊維の同心性が増大すると、 製造工程に一層大きな許容性を与え、収率の増大をもたらす。更に、被覆の膨潤 はガラス光学繊維の望ましくない微細な屈曲を起こすことがある。 本発明は、内側第一被覆及び上記外側第一被覆で被覆した光学ガラス繊維にも 関する。本発明による外側第一被覆は、良好な着色永続性を示す。 本発明は、少なくとも約50MPaの室温引張りモジュラス、少なくとも約3 %の破断時伸び、少なくとも約25℃のガラス転移温度Tg(最大tanδ)、 及び1.7以下の最大水吸収率を有する被覆で被覆されたガラス光学繊維も与え る。その被覆は、適当に放射線で硬化したガラス光学繊維被覆組成物からなる。 未硬化状態の被覆組成物は、次の式: R1−L1−C1−L2−R2 (1) (式中、 R1及びR2は、独立に、夫々放射線硬化性官能基を表し、 L1及びL2は、独立に、夫々約2〜約40個の炭素原子を有するアルキレンオ キシ鎖を表し、然も、L1及びL2は酸素原子を通してC1に結合しており、 C1は、約5〜約40個の炭素原子を有し、少なくとも一つの環式基を有する 炭化水素を表す。) に従う放射線硬化性オリゴマーを含む放射線硬化性組成物からなる。 〔本発明の詳細な記述〕 上記被覆組成物を硬化することにより製造した硬化外側第一被覆は、ここで定 義するように、少なくとも約50MPaの室温引張りモジュラス、少なくとも約 3%の破断時伸び、少なくとも約25℃のTg(最大tanδ)、及び1.7以 下の最大水吸収率を有する。好ましくは、被覆組成物を硬化することにより製造 した外側第一被覆は、少なくとも約400MPaの室温引張りモジュラス、少な くとも約5%の破断時伸び、少なくとも約40℃のTg、及び約1.5以下の最 大水吸収率を有する。本発明による外側第一被覆は、良好な着色永続性を有する 。 放射線硬化性オリゴマーAは、放射線硬化性ガラス光学繊維被覆組成物中に用 いられるどのような放射線硬化性オリゴマーでもよい。希望の性質を得るために 、放射線硬化性オリゴマーをどのように選択し、使用したら良いかを当業者は知 っている。適当な放射線硬化性オリゴマーAの例には、少なくとも約500の分 子量を有し、紫外線により重合することができる少なくとも一つのエチレン系不 飽和基を有するウレタンオリゴマーが含まれる。オリゴマーAは、そのオリゴマ ーの各端に一つずつ、二つの末端放射線硬化性官能基を有するのが好ましい。 オリゴマーAの分子量少なくとも約700、せいぜい約10,000ドルトン であるのが好ましい。最も好ましくは分子量は約1000〜約5000、最も好 ましくは約2000〜4000ドルトンである。本明細書中で用いられている分 子量は、関与する分子の計算分子量である。重合体構造の場合、それは出発材料 及び反応条件に基づき予想される構造の計算した平均分子量である。分子量は慣 用的方法を用いて決定することもできる。 オリゴマーAは、イソシアネート官能性を実質的にもたないのが好ましい。 放射線硬化性オリゴマーAは、約20〜約40重量%、一層好ましくは約25 〜約35重量%の量で存在するのが好ましい。ここで用いられる重量%は、全て 組成物中に存在する成分A〜Eの全重量を基にした%として表されている。 オリゴマーAに存在することができる適当な放射線硬化性官能基の例には、( メタ)アクリレート、ビニルエーテル、アクリルアミド、マレエート、又はフマ レート官能性を有するエチレン系不飽和基が含まれる。ここで用いられる用語「 (メタ)アクリレート」とは、メタクリレート、アクリレート、又はそれらの混 合物を意味する。 オリゴマーAの放射線硬化性基は、(メタ)アクリレート又はビニルエーテル 基であるのが好ましい。最も好ましくは、放射線硬化性基はアクリレート基であ る。 一般に用いられる別の種類の放射線硬化性官能基は、例えば、エポキシ基、又 はチオール−エン、又はアミン−エン系によって与えられる。エポキシ基は陽イ オン重合により重合することができるが、チオール−エン及びアミン−エン系は 通常ラジカル重合により重合される。エポキシ基は、例えば、単独重合すること ができる。チオール−エン及びアミン−エン系では、例えば重合はアリル系不飽 和を有する基と、第三級アミン又はチオールを有する基との間で起こすことがで きる。 オリゴマーAは、オリゴマー主鎖に結合した少なくとも二つのエチレン系不飽 和基を有するのが好ましい。例えば、エチレン系不飽和基は、反応性末端として オリゴマー主鎖の各端に存在させることができる。オリゴマー主鎖は少なくとも 約200の分子量を有し、例えば、ポリエーテル、ポリオレフィン、ポリエステ ル、ポリカーボネート、又はそれらの共重合体に基づいたものにすることができ る。オリゴマー主鎖はポリエーテルであるのが好ましい。オリゴマー主鎖の分子 量は、少なくとも約250であるのが好ましく、一層好ましくは少なくとも約4 00、最も好ましくは少なくとも約600である。分子量は約10,000以下 であるのが好ましく、一層好ましくは約5,000以下であり、最も好ましくは 約3000以下である。 オリゴマー主鎖は、例えば、ウレタン結合を通して互いに結合した一つ以上の 重合体ブロックからなっていてもよい。 主鎖オリゴマーは、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリオ レフィン、又はそれらの共重合体であるのが好ましい。もしオリゴマー主鎖がポ リエーテルであるならば、得られる被覆は低いガラス転移温度及び良好な機械的 性質を有する。オリゴマー主鎖がポリオレフィンであるならば得られる被覆は更 に改良された耐水性を有する。 オリゴマーAは、例えば、(i)オリゴマーポリオール、(ii)ジイソシアネ ート、及び(iii)ヒドロキシ官能性エチレン系不飽和単量体、例えば、ヒドロキ シアルキル(メタ)アクリレートの反応により製造することができる。 もしオリゴマー主鎖ポリオールを用いるならば、それは平均して少なくとも約 2のヒドロキシル基を有するのが好ましい。オリゴマー主鎖ポリオールは、平均 して2より多くのヒドロキシル基を持っていてもよい。そのようなオリゴマージ オールの例には、ポリエーテルジオール、ポリオレフィンジオール、ポリエステ ルジオール、ポリカーボネートジオール、及びそれらの混合物が含まれる。ポリ エーテル及びポリオレフィンジオール、又はそれらの組合せが好ましい。 もしポリエーテルジオールを用いるならば、ポリエーテルは実質的に非結晶質 ポリエーテルであるのが好ましい。ポリエーテルは、好ましくは次の単量体基の 一つ以上の繰り返し単位を有する: 従って、ポリエーテルはエポキシ・エタン、エポキシ・プロパン、テトラヒド ロフラン、メチル置換テトラヒドロフラン、エポキシブタン等から作ることがで きる。 使用することができるポリエーテルポリオールの例は、20重量%の3−メチ ルテトラヒドロフラン及び80重量%のテトラヒドロフランの重合生成物であり 、それらの両方共開環重合を受けている。このポリエーテル共重合体は、分岐鎖 及び非分岐鎖の両方のオキシアルキレン繰り返し単位を有し、PTG−L 10 00(日本の保土ケ谷化学)として市販されている。用いることができるポリエ ーテルの別の例はPTG−L 2000(保土ケ谷化学)である。 もしポリオレフィンジオールを用いるならば、そのポリオレフィンは複数のヒ ドロキシ末端基を有する直鎖又は分岐鎖炭化水素であるのが好ましい。炭化水素 は、好ましくは多数のメチレン基(−CH2−)を有する非芳香族化合物であり 、それは内部不飽和及び(又は)懸垂不飽和を含んでいてもよい。例えば、完全 に飽和した水素化炭化水素が好ましい。なぜなら、硬化光学繊維被覆の長期安定 性が、飽和度が減少するにつれて増大するからである。例えば、炭化水素ジオー ルの例には、ヒドロキシル末端、完全又は部分的水素化1,2−ポリブタジエン ;1,4−1,2−ポリブタジエン共重合体、1,2−ポリブタジエン−エチレ ン又は−ポリプロピレン共重合体、ポリイソブチレンポリオール;それらの混合 物等が含まれる。好ましくは、炭化水素ジオールは実質的に完全に水素化された 1,2−ポリブタジエン、又は1,2−ポリブタジエン・エタン共重合体である 。 ポリカーボネートジオールの例は、ジエチレンカーボネートのジオールによる アルコーリシスによって慣用的に製造されたものである。例えば、ジオールは、 1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,12−ドデカンジオ ール等のような約2〜約12個の炭素原子を有するアルキレンジオールにするこ とができる。これらのジオールの混合物も用いることができる。ポリカーボネー トジオールは、カルボネート基の外に主鎖にエーテル結合を持っていてもよい。 従って、例えばアルキレンオキシド単量体と、前に述べたアルキレンジオールと のポリカーボネート共重合体を用いることができる。アルキレンオキシド単量体 には、例えば、エチレンオキシド、テトラヒドロフラン等が含まれる。これらの 共重合体は、ポリカーボネートジオール単独重合体に比較して一層低いモジュラ スを示し、更に液体被覆組成物の結晶化を阻止する硬化被覆を生ずる。ポリカー ボネートジオールとポリカーボネート共重合体との混合物も用いることができる 。 例えば、ポリカーボネートジオールには、デュラカーブ(Duracard)122〔P PGインダストリーズ(Industries)〕及びパーマノール(Permanol)KM10−1 733〔マサチューセッツ州ペルムタン社(Permuthane,Inc.)〕が含まれる。デ ュラカーブ122は、ジエチルカルボネートのヘキサンジオールによるアルコー リシスによって製造される。 ポリエステルジオールの例には、飽和ポリカルボン酸、又はそれらの無水物と ジオールとの反応生成物が含まれる。飽和ポリカルボン酸及びその無水物には、 例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、テトラヒドロ フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラクロロフタル酸、アジピン酸、アゼラ イン酸、セバシン酸、コハク酸、グルタル酸、マロン酸、ピメリン酸、スベリン 酸、2,2−ジメチルコハク酸、3,3−ジメチルグルタル酸、2,2−ジメチ ルグルタル酸等、それらの無水物、及びそれらの混合物が含まれる。ジオールに は、例えば1,4−ブタンジオール、1,8−オクタンジオール、ジエチレング リコール、1,6−ヘキサンジオール、ジメチロールシクロヘキサン等が含まれ る。この分類には、ユニオン・カーバイド社から商標名トーン・ポリオール(Ton e Polylol)系の製品、例えば、トーン0200、0221、0301、0310 、2201、及び2221として市販されているポリカプロラクトン類が含まれ る。トーン・ポリオール0301及び0310は三官能性である。 ポリイソシアネートとして、どのような有機ポリイソシアネート(ii)でも単 独又は混合物として用いることができる。それによって、分子の少なくとも一方 の端にイソシアネート/エチレン系不飽和単量体反応による反応生成物で末端封 鎖された生成物が得られる。「末端封鎖」とは、一つの官能基がオリゴマージオ ールの二つの末端の一方を封鎖していることを意味する。 イソシアネート/ヒドロキシ官能性単量体反応生成物は、ウレタン結合によっ てオリゴマー主鎖(i)ジオールに結合している。ウレタン反応は触媒の存在下 で行うことができる。ウレタン反応のための触媒には、例えば、ジアザビシクロ オクタン結晶等が含まれる。 ポリイソシアネート(ii)はジイソシアネートであるのが好ましい。ジイソシ アネート(ii)の例には、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、トルエン ジイソシアネート(TDI)、ジフェニルメチレンジイソシアネート、ヘキサメ チレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチレンジシク ロヘキサンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシ アネート、m−フェニレンジイソシアネート、4−クロロ−1,3−フェニレン ジイソシアネート、4,4′−ビフェニレンジイソシアネート、1,5−ナフチ レンジイソシアネート、1,4−テトラメチレンジイソシアネート、1,6−ヘ キサメチレンジイソシアネート、1,10−デカメチレンジイソシアネート、1 ,4−シクロヘキシレンジイソシアネート、及びポリアルキルオキシド及びポリ エステルグリコールジイソシアネート、例えば、夫々、TDIを末端とするポリ テトラメチレンエーテルグリコール、及びTDIを末端とするポリエチレンアジ ペートが含まれる。イソシアネートはTDI及びIPDIであるのが好ましい。 一般に反応性末端を与える化合物(iii)は、化学放射線の影響下で重合するこ とができる官能基を有し、その化合物はジイソシアネートと反応することができ る官能性基を有する。ヒドロキシ官能性エチレン系不飽和単量体が好ましい。一 層好ましくはヒドロキシ官能性エチレン系不飽和単量体は、アクリレート、(メ タ)アクリレート、ビニルエーテル、マレエート、又はフマレート官能性を有す る。 (i)のヒドロキシ基と、(ii)のイソシアネート基との反応では、ヒドロキ シ官能基とイソシアネート官能基とが化学量論的に釣り合うようにし、少なくと も25℃の反応温度を維持することが好ましい。ヒドロキシ官能基は実質的に消 費されるべきである。イソシアネート対ヒドロキシ官能性エチレン系不飽和単量 体のモル比は、約3:1〜1.2:1、好ましくは約2:1〜1.5:1である 。ヒドロキシ官能性エチレン系不飽和単量体はウレタン結合によりイソシアネー トへ結合する。(メタ)アクリレート官能基を有する単量体には、例えば、2− ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等のよう なヒドロキシ官能性アクリレートが含まれる。ビニルエーテル官能基を有する単 量体には、例えば、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、及びトリエチレング リコールモノビニルエーテルが含まれる。マレエート官能基を有する単量体には 、例えば、マレイン酸及びヒドロキシ官能性マレエートが含まれる。 成分Bは、次の式に従う放射線硬化性オリゴマーである: R1−L1−C1−L2−R2 (1) 式中、 R1及びR2は、独立に、夫々放射線硬化性官能基を表し、 L1及びL2は、独立に、夫々約2〜約40個の炭素原子を有するアルキレンオ キシ鎖を表し、然も、L1及びL2は酸素原子を通してC1に結合しており、 C1は、約5〜約40個の炭素原子を有し、少なくとも一つの環式基を有する 炭化水素を表す。 放射線硬化性官能基はよく知られており、当業者の技術範囲内に入る。ここに 与えた開示に基づき、当業者は希望の硬化性を与えるのにR1及びR2としてどの ような放射線硬化性官能基を用いたら良いかが分かるであろう。 一般に使用される放射線硬化性官能基は、ラジカル重合又は陽イオン重合によ り重合することができるエチレン系不飽和である。適当なエチレン系不飽和の特 別な例は、アクリレート、メタクリレート、スチレン、ビニルエーテル、ビニル エステル、N−置換アクリルアミド、N−ビニルアミド、マレエートエステル、 フマレートエステルを含む基である。エチレン系不飽和は、アクリレート、メタ クリレート、又はスチレン官能基を有する基によって与えられるのが好ましい。 一般に用いられる別の種類の官能性は、例えば、エポキシ基、又はチオール− エン又はアミン−エン系によって与えられる。エポキシ基は陽イオン重合により 重合することができるが、チオール−エン及びアミン−エン系は、通常ラジカル 重合により重合される。エポキシ基は、例えば、単独重合することができる。チ オール−エン及びアミン−エン系では、例えば重合はアリル系不飽和を有する基 と、第三級アミン又はチオールを有する基との間で起こすことができる。 基L1及びL2は、夫々約2〜約40個の炭素原子、好ましくは約2〜約20個 の炭素原子、最も好ましくは約2〜約10個の炭素原子を有するアルキレンオキ シ鎖である。基L1及びL2は、夫々約1〜約12のアルキルエーテル基、好まし くは約1〜約6のアルキルエーテル基を有する。適当なアルキルエーテル基の例 には、エチルエーテル、プロピルエーテル、及びブチルエーテルが含まれる。ア ルキルエーテル基は環式基からなっていてもよい。好ましくは、アルキルエーテ ル基は、エポキシエーテル、エポキシプロパン、エポキシブタンのようなエポキ シ含有アルカンから形成される。 基L1及びL2は酸素原子を通してC1に結合する。基L1を基C1に結合する酸 素は、基L1の一部と考えられ、基L2を基C1へ結合する酸素は基L2の一部分と 考えられる。 基C1は、約5〜約40個の炭素原子を有し、少なくとも一つの環式基を有す る。基C1は約5〜約20個の炭素原子を有するのが好ましい。 環式基は飽和又は完全又は部分的に不飽和の環式アルキレン基にすることがで きる。適当な飽和環式アルキレン基の例には、シクロペンタン、シクロヘキサン 、シクロヘプタン及びシクロオクタンが含まれるが、それらに限定されるもので はない。シクロペンタン及びシクロヘキサンが好ましい。環式アルキレン基は、 シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、及びシクロ オクテンのように部分的に不飽和になっていてもよい。シクロペンテン及びシク ロヘキセンが好ましい。適当な環式アルキレン基の更に別の例には、ベンゼン及 びナフタレンのようなアリーレンが含まれる。好ましくは、環式基はベンゼンで ある。 環式基は、メチル、エチル、プロピル、及びブチル基のような炭化水素基で置 換されていてもよい。 好ましくは基C1は、少なくとも二つの環式基を有し、それらは直接結合する か、又は一つ以上の炭化水素基を通して結合している。そのような好ましい基C1 の例は、次の式(2)又は(3)によって表される: X1−X2 (2) X1−Y1−X2 (3) 式中、 X1及びX2は、夫々ここに記載したような環式アルキレン基であり、 Y1は、約1〜約15個の炭素原子、好ましくは約1〜約10個の炭素原子を 有する炭化水素である。 X1及びX2はアリーレンであるのが好ましい。 Y1基は飽和又は不飽和でもよく、分岐鎖でも直鎖でもよい。適当な飽和Y1基 の例には、メチル、エチル、プロピル、及びブチルが含まれる。 適当な基C1の特別な例は、ビスフェノールA、飽和ビスフェノールA、ビス フェノールF、飽和ビスフェノールF、トリシクロデカンジメタノール、又はシ クロヘキサンジメタノールから誘導されたものである。 適当な成分Bの例は、アルコキシル化ビスフェノールジ(メタ)アクリレート である。アルコキシル化ビスフェノールジ(メタ)アクリレートは、どのような アルコキシル化ビスフェノールジ(メタ)アクリレートでもよく、既知の方法で 製造することができる。好ましくは、成分Bは、アルコキシル化ビスフェノール −A−ジアクリレートである。好ましくは、アルコキシル化ビスフェノール−A −ジ(メタ)アクリレートは、エトキシル化又はプロポキシル化ビスフェノール −A−ジアクリレートである。特に適切なアルコキシル化ビスフェノール−A− ジアクリレートの例は、エトキシル化ビスフェノール−A−ジアクリレートであ り、SR349Aモノマーとして、サートマー(Sartomer)から市販されている。 アルコキシル化ビスフェノール−A−ジ(メタ)アクリレートBは、好ましく は約10〜約80重量%、一層好ましくは約40〜約80重量%、最も好ましく は約50〜約70重量%の量で存在する。 本発明による組成物は、成分Cとして反応性希釈剤を含んでいてもよい。反応 性希釈剤は被覆組成物の粘度を調節するのに用いることができる。従って、反応 性希釈剤は、化学放射線に曝した時、重合することができる少なくとも一つの官 能基を有する低い粘度の単量体にすることができる。 反応性希釈剤は、被覆組成物の粘度が約1,000〜約10,000mPaの 範囲になるような量で添加するのが好ましい。反応性希釈剤の適当な量は、約1 〜約20重量%、一層好ましくは約5〜約15重量%であることが判明している 。 反応性希釈剤は、約550以下の分子量を有するか、又は室温で約300mP a(100%希釈剤として測定)以下の粘度を有するのが好ましい。 反応性希釈剤中に存在する放射線硬化性官能基は、放射線硬化性オリゴマーA 又は成分Bで用いられているのと同じ性質のものでもよい。好ましくは、反応性 希釈剤中に存在する放射線硬化性官能基は、放射線硬化性オリゴマーA又は成分 Bに存在する放射線硬化性官能基と共重合することができるものである。 反応性希釈剤Cは、好ましくはアクリレート又はビニルエーテル官能性及びC4 〜C20アルキル又はポリエーテル部分を有する単量体(一種又は多種)からな る。そのような反応性希釈剤の例は、ヘキシルアクリレート、 2−エチルヘキシルアクリレート、 イソボロニルアクリレート、 デシルアクリレート、 ラウリルアクリレート、 ステアリルアクリレート、 エトキシエトキシ−エチルアクリレート、 ラウリルビニルエーテル、 2−エチルヘキシルビニルエーテル、 N−ビニルホルムアミド、 イソデシルアクリレート イソオクチルアクリレート、 ビニル−カプロラクタム、 N−ビニルピロリドン、 等である。この種の反応性希釈剤は、約1〜約35重量%の量で存在するのが好 ましい。 反応性希釈剤の別の好ましい種類は、芳香族基を有する化合物である。芳香族 基を有する希釈剤の例には、 エチレングリコールフェニルエーテルアクリレート、 ポリエチレングリコールフェニルエーテルアクリレート、 ポリプロピレングリコールフェニルエーテルアクリレート、及び 上記単量体のアルキル置換フェニル誘導体、例えば、 ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテルアクリレート、 が含まれる。この種の反応性希釈剤は、約1〜約35重量%の量で存在するのが 好ましい。 更に、反応性希釈剤Cは、化学放射線を用いて重合することができる二つの基 を有するのが好ましい。そのような反応性基を三つ以上有する希釈剤も同様に存 在させることができる。そのような単量体の例には、 C2〜C18炭化水素ジオールジアクリレート、 C4〜C18炭化水素ジビニルエーテル、 C3〜C18炭化水素トリオールドリアクリレート、 それらのポリエーテル類似物、 等、例えば、 1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアク リレート、 ヘキサンジオールジビニルエーテル、 トリエチレングリコールジアクリレート、 ペンタエリトリトールトリアクリレート、及び トリプロピレングリコールジアクリレート、 が含まれる。反応性希釈剤は、好ましくはアルコキシル化アルキルフェノール( メタ)アクリレートであり、一層好ましくはエトキシル化ノニルフェノール(メ タ)アクリレートである。 放射線硬化性オリゴマーA又は成分Bの放射線硬化性官能基がエポキシ基であ る場合、例えば、次の化合物の一種類以上を反応性希釈剤として用いることがで きる: エポキシ−シクロヘキサミン、 フェニルエポキシエタン、 1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサン、 グリシジルアクリレート、 1,2−エポキシ−4−エポキシエチル−シクロヘキサン、 ポリエチレン−グリコールのジグリシジルエーテル、ビスフェノール−Aのジ グリシジルエーテル等。 放射線硬化性オリゴマーA又は成分Bの放射線硬化性官能基がアミン−エン又 はチオール一エン系を有するならば、用いることができるアリル系不飽和を有す る反応性希釈剤の例には、 ジアリルフタレート、 トリアリルトリメリテート、 トリアリルシアヌレート、 トリアリルイソシアヌレート、及び ジアリルイソフタレート、 が含まれる。アミン−エン系については、用いることができるアミン官能性希釈 剤には、例えば、 トリメチロールプロパン、イソホロンジイソシアネート、及びジ(メチル)エ チルエタノールアミンの付加物、 ヘキサンジオール、イソホロンジイソシアネート、及びジプロピルエタノール アミンの付加物、及び トリメチロールプロパン、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、及び ジ(メチル)エチルエタノールアミンの付加物、 が含まれる。 オリゴマーA、オリゴマーB、及び反応性希釈剤C(存在する場合)は、夫々 放射線硬化性基としてアクリレート基を含んでいるのが好ましい。一層好ましく は、R1及びR2は共にアクリレート基である。前記オリゴマーAのエチレン系不 飽和は、アクリレート基によって与えられ、反応性希釈剤C(存在する場合)は アクリレート基を含む。 光開始剤、成分Dは、紫外線硬化を行う場合に有用である。別の態様として、 例えば遊離ラジカル系の電子ビーム硬化を用いる場合、光開始剤Dは省略するこ とができる。しかし、陽イオン硬化系では、光開始剤Dは電子ビーム硬化を行う 時でも有用である。 光開始剤Dは、放射線硬化を促進するのに有効な量で用いられた場合、組成物 の早過ぎるゲル化を起こすことなく、合理的な硬化速度を与えるのが好ましい。 希望の硬化速度は、被覆の適用法に依存し、当業者は希望の硬化速度を得るため に光開始剤の量及び種類を容易に調節することができるであろう。用いられる光 開始剤の種類は、遊離ラジカル型系又は陽イオン硬化型系のどちらを用いるかに 依存するであろう。 遊離ラジカル型光開始剤の例には、 ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、 ヒドロキシメチルフェニルプロパン、 ジメトキシフェニルアセトフェノン、 2−メチル−1−[4−(メチルチオ)−フェニル]−2−モルホリノ−プロ パン−1、 1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン− 1−オン、 1−(4−ドデシル−フェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1 −オン、 4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−2(2−ヒドロキシ−2−プロピ ル)−ケトン、 ジエトキシフェニルアセトフェノン、 2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスホン、 (2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフ ィンオキシドと、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1− オンとの混合物、及び それらの混合物、 が含まれるが、それらに限定されるものではない。 陽イオン硬化型光開始剤の例には、ヨードニウム、スルホニウム、アルソニウ ム、アゾニウム、ブロモニウム、又はセレノニウムのようなオニウム塩が含まれ るが、それらに限定されるものではない。オニウム塩は、例えば、約4〜約18 個の炭素原子を有するアルキル又はアルコキシ置換基のような飽和炭化水素部分 を入れることにより、それらを一層疎水性にするように化学的に変性されている のが好ましい。好ましい陽イオン硬化開始剤には、 (4−オクチルオキシフェニル)フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチ モネート、 (4−オクチルオキシフェニル)ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアン チモネート、 (4−デシルオキシフェニル)フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモ ネート、及び (4−オクタデシルオキシフェニル)フェニルヨードニウムヘキサフルオロア ンチモネート、 が含まれる。 顔料Eが本発明による組成物中に存在するならば、成分Dとして、アシルホス フィンオキシド光開始剤、一層特別にはベンゾイルジアリールホスフィンオキシ ド光開始剤を用いるのが好ましい。そのような光開始剤は、比較的多くの量の顔 料の存在下でも大きな硬化速度を与える。公開されたPCT出願WO 90/1 3579には、顔料を含む被覆組成物が記載されており、参考のためここに入れ る。適当なベンゾイルジアリールホスフィンオキシド光開始剤の例には、2,4 ,6−トリメチルベンゾイルジフェニル−ホスフィンオキシド〔BASFによる ルシリン(Lucirin)TPO〕、及びビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2 ,4,4−トリメチルペンチル−ホスフィンオキシド〔チバ・ガイギーによるイ ルガシン(Irgacine)1700〕が含まれる。 顔料存在下での最適硬化速度のためには、アシルホスフィンオキシド光開始剤 と、一種類以上の他の光開始剤、例えばヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケ トンと一緒にするのが有利である。 光開始剤は、好ましくは約1〜約20重量%、一層好ましくは約1〜約10重 量%の量、最も好ましくは約1〜約5重量%の量で存在する。 顔料Eは、顔料で着色した光学繊維被覆で用いるのに適したどのような顔料で もよい。顔料Eは小さな粒子の形をしており、UV照射に耐えることができるの が好ましい。適当な顔料の例には、 白色二酸化チタン(デュポン R−960)、 カーボンブラック〔デガッサ・スペシャル(Degussa Special)4A又はコロン ビアン・ラーベン(Columbian Raven)420〕、 ランプブラック〔ゼネラル(General)カーボンLB#6〕、 フタロブルーG〔サン(Sun)249−1282〕、 フタロブルーR〔クックソン(Cookson)BT698D〕、 フタログリーンB(サン 264−0238)、 フタログリーンY〔モーベイ(Mobay)G5420〕、 ライト・クロム・イエロー(クックソン Y934D)、 ダイアリライド(diarylide)イエロー(サン 274−3954)、 オルガニック(organic)イエロー〔ヘキスト(Hoechst)H4G〕、 ミーデアム(medium)クロムイエロー(クックソン Y969D)、 イエロー・オキシド〔フィッツエル(Pfizer)YL02288D〕、 無鉛イエロー〔BASFパリオトール(Paliotol)1770〕、 ロー・アンバー(raw umber)〔フーバー(Hoover)195〕、 バーント(burnt)アンバー〔ランスコ(Lansco)3240X〕、 無鉛オレンジ(ヘキスト RL70)、 レッド・オキシド(フィッツエル R2998D)、 モーリー(moly)オレンジ(クックソン YL988D)、 アリライド(arylide)レッド(ヘキスト F5RKA)、 キナクリドン・レッド〔チバ(Ciba)RT759D〕、及び キナクリドン・バイオレット(チバ RT887D)、 が含まれる。顔料は約1μm以下の平均粒径を有するのが好ましい。商業的顔料 の粒径は、もし必要ならば、粉砕により小さくすることができる。顔料は、好ま しくは約1〜約10重量%の量で、一層好ましくは約3〜約8重量%の量で存在 する。 組成物中に存在させることができる他の成分には、希望の耐湿分性を阻害しな い感光性及び光吸収性成分、触媒、開始剤、潤滑剤、湿潤剤、有機官能性シラン 、酸化防止剤、安定化剤が含まれるが、それらに限定されるものではない。これ らの添加剤は、本発明による組成物に、光学繊維被覆で用いる場合の添加剤に対 して通常の量で添加することができる。 上記重合体被覆組成物の例は、本発明で用いることができる被覆組成物の単な る例に過ぎない。本発明による組成物は慣用的被覆技術を用いた光学繊維に適用 することができる。 被覆した光学繊維を製造する時に、液体被覆組成物を基体に適用し、次に硬化 する。典型的には、硬化は紫外線又は可視光線を用いて行う。しかし、他の硬化 方法を用いることもできる。例えば、通常開始剤の存在下で熱的硬化を用いるこ とができる。別法として、被覆は電子ビーム照射により硬化することができ、そ の場合触媒は不必要である。二つ以上の被覆を適用してもよい。典型的には、第 一被覆を適用し、硬化し、次に第二被覆等々、希望の数の被覆が適用されるまで 適用する。別法として、それらの層は互いに液体として重ねて適用することもで き、典型的にはウエット・オン・ウエット(wet-on-wet)法として言及されており 、最後に一つの最終硬化工程を行う。 例えば、約125μmの直径を有する裸のガラス繊維に、UV硬化性内側第一 被覆を適用し、その内側第一被覆を有する繊維の直径を約180μmにする。次 に本発明による被覆組成物を約10〜約15μm、好ましくは約20〜約60μ mの厚さに適用し、次に硬化することができる。 被覆組成物は外側第一被覆として適しているが、ここに記載した組成物をガラ ス光学繊維の単一の被覆として用いることもできる。単一の被覆を、それらが低 温での微小屈曲問題を最小にするのに充分な低いモジュラスを有し、光学ガラス 繊維を保護するのに充分な堅さ及び靭性を有するように作ることができる。 本発明を更に次の実施例により説明するが、本発明は、それによって限定され るものではない。 実施例1 次の成分を混合することにより被覆組成物を製造した: 成分 ポリエーテルウレタンアクリレート 28.7 エトキシル化ビスフェノール−A−ジアクリレート 56.0 エトキシル化ノニルフェノールアクリレート 7.2 [ヘンケル(Henkel)によるホトマー(Photomer)4003] 2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニル−ホスフィンオキシド 0.9 [BASFによるルシリンTPO] ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 1.8 [チバ・ガイギーによるイルガキュワー(Irgacure)184] チオジエチレン−ビス−(3,5-ジ−t-ブチル−4-ヒドロキシ) ヒドロシンナメート 0.4 [チバ・ガイギーによるイルガノックス1035] ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル−4-ピペリジナル)セバケート 0.4 [チバ・ガイギーによるチヌビン(Tinuvin)292] 二酸化チタン、ルチル 5.0 ポリエーテルウレタンアクリレートを、次のようにして製造した: ペンシルバニア州ピッツバーグのモーベイ社(Mobay,Inc.)からモンデュール(Mo ndur)TD−80グレードAとして商業的に得られたトルエンジイソシアネート (119.15g;1.3664当量)を、保存剤BHT(0.53g)と一緒 にした。混合物を1リットル四口丸底フラスコに入れた。 撹拌器、乾燥空気散布器、還流凝縮器、温度計、及び温度調節装置により制御 された自動ジャク上の加熱マントルをフラスコに具え付けた。混合物を26℃( 78.8°F)に維持し、84.94g(0.7315当量)の2−ヒドロキシ エチルアクリレート(HEA)を、その混合物の入ったフラスコに2時間20分 の時間に亙って添加した。 混合物を26.6℃(78.8°F)に約3時間維持し、その後で50℃(1 22°F)に加熱した。保土ケ谷化学により製造されたPTGL1000を27 7.72g(0.6073g当量)混合物に一度に添加した。PTGL1000 は、3−メチルテトラヒドロフランとテトラヒドロフランとの共重合体であり、 その両方が開環重合を受けていた。PTGL1000は、約20重量%の3−メ チルテトラヒドロフランと約80重量%のテトラヒドロフランとの重合生成物で ある。 得られた混合物を5分間混合した。ペンシルバニア州アレンタウンのエアー・ プロダクツ(Air Products)からのジアザビシクロオクタン結晶(DABCO結晶 )(0.25g)を次に混合物へ添加した。発熱反応が起こり、混合物が83℃ (181.4°F)に加熱された。次にフラスコの内容物を、オリゴマー中の遊 離イソシアネートの%が無視できる(<0.1%)になるまで、70℃(158 °F)に維持した。 得られたオリゴマーの構造は、大略HEA−(−TDI−PTGL1000− )0.8−TDI−HEAとして表されるものであった。 実施例2 実施例1と同じやり方で被覆組成物を製造した。実施例1と同じポリエーテル ウレタンアクリレートを次の組成で用いた: 成分 ポリエーテルウレタンアクリレート 32.5 エトキシル化ビスフェノール−A−ジアクリレート 56.0 エトキシル化ノニルフェノールアクリレート 8.0 [ヘンケルによるホトマー4003] 2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニル−ホスフィンオキシド 1.0 [BASFによるルシリンTPO] ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 2.0 [チバ・ガイギーによるイルガキュワー 184] チオジエチレン−ビス−(3,5-ジ−t-ブチル−4-ヒドロキシ) ヒドロシンナメート 0.5 [チバ・ガイギーによるイルガノックス1035] 比較例A 次の成分を混合することにより被覆組成物を製造した: 成分 ポリエーテルウレタンアクリレート 49.1 エポキシアクリレート 8.6 トリメチロールプロパントリアクリレート 7.1 N−ビニルピロリドン 3.9 N−ビニルカプロラクタム 7.9 フェノチアジン(安定化剤) 0.01 2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニル−ホスフィンオキシド 2.4 シリコーン油[ダウ・コーニング(DOW Corning)からのDC193] 0.2 2−ヒドロキシエチルアクリレート 0.8 二酸化チタン、ルチル 20.0 ポリエーテルウレタンアクリレートは、2−ヒドロキシエチルアクリレートと 、イソシアネート末端オリゴマーとの化学量論的割合の反応生成物であり、それ は分子量650のポリオキシテトラメチレングリコールと、トルエンジイソシア ネートとのウレタン反応生成物である。この生成物は、7.5重量%のNCO含 有量を持っていた、用いたイソシアネート末端生成物は、30℃で8000セン チポアズの粘度を持っていた。 エポキシアクリレートは、分子量390を有するビスフェノールAのグリシジ ルエーテルであるエポン(Epon)828(シェル)のジアクリレートである。 上記混合物はサンドミルにかけて7.5のノース・スタンダード(North Stand ard)粉砕粒子粗さで表されるものよりも細かい粒径にし、1μ(1μm)より大 きな粒径の粒子が存在しないように光学顕微鏡で調べた。 比較例B 次の成分を用いて被覆組成物を製造した: 成分 ポリカプロラクトンウレタンアクリレート 41.4 フェノキシエチルアクリレート 45.1 トリメチロールプロパントリアクリレート 5.0 2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド 3.0 シリコーン油[ダウ・コーニングからのDC203] 0.01 二酸化チタン、ルチル 5.0 トリエタノールアミン 0.5 上記混合物をサンドミルにかけてノース・スタンダード粉砕粒子粗さで表され るものよりも細かい粒径にし、1μより大きな粒径の粒子が存在しないように光 学顕微鏡で調べた。 比較例C ネオラド(Neorad)F480(ICI)からの白色第二被覆組成物を用いた。実 施例1及び2、及び比較例A、B及びCで製造した被覆組成物を、ガラス板上に 3ミルのフイルムとして適用し、窒素雰囲気中1.0J/cm2で単一の溶融「 D」ランプの下を通すことにより硬化した。硬化したフイルムの性質を、下に記 載する試験方法により測定した。結果を表1に示す。 表1から、本発明による実施例1及び2の被覆組成物は、比較例A、B及びC の被覆組成物から得られた被覆よりも良い最大水吸収率を有する硬化被覆を生じ たことは明らかである。本発明による被覆組成物を用いて製造した被覆は、エー ジング試験で安定性の増大も示している。特に、モジュラスは実施例1で僅か5 %の増大、実施例2では僅か8%の減少しか示さなかった。これに対し比較例の 被覆は24%〜36%減少した。更に、実施例1及び2の被覆の色はエージング 後も変化しなかった。更に、実施例1及び2の被覆は、炭化水素ゲルによる侵食 に対し良好な抵抗を示した。 試験方法 水浸漬抽出及び吸収率は、次の手順を用いて測定した。試験すべき各材料をガ ラス板上に取り出して表1に示した厚さのフイルムに作り、硬化した。硬化した フイルムをガラス板上で切断して約3cm×3cmの三つの試料片を作った。そ れら三つの試料片を有するガラス板を80℃で1時間加熱し、次に15分間デシ ケーター中に入れた。デシケーターの相対的湿度及び温度を測定した。 脱イオン又は蒸留水を125ml(4オンス)三つの125ml(4オンス) ガラスジャー中に注入し、23±2℃の温度に維持した。試料片の各々をガラス 板から剥がし、粘着するのを防ぐため波状テフロン紙を用いて分析測り上で秤量 した。次に各試料片をそれら水のジャーの一つに入れた。 試料片を水中に30分間浸漬し、次にガラスジャーから取り出した。試料片の 表面に残っている水は、糸屑のない手ぬぐいでそれらを吸い取ることにより除去 した。 試料を上述のように再び秤量し、夫々のジャーの中へ再び入れた。 上記手順を1、2、3、及び24時間、及び7及び14日間で繰り返した。 21日目に試料片をガラスジャーから取り出し、上述のように再び秤量した。 試料片をガラス板上に乗せ、1時間80℃に加熱し、次にデシケーターに15分 間入れた。デシケーターの相対的湿度及び温度を測定した。試料片を前と同じよ うに再び秤量した。 各試料片について各時間間隔での重量%の変化を決定した。各時間間隔での三 つの試料片の値を平均した。報告した水吸収率は、最大の+の平均重量%変化で ある。 各試料片について水抽出を、最初の乾燥重量と21日目の乾燥重量との差を最 初の乾燥重量で割り、100を掛けることにより決定した。報告した値は、三つ の試料片の値の平均値である。 全水感応性は、水吸収率の絶対値と水抽出との合計である。 試料の弾性モジュラス(E′)、粘性モジュラス(E′)、及び最大tanδ (E″/E′)を、レオメトリックス・ソリッズ・アナライザー(Rheometrics S olids Analyzer)(RSA−11)を用いて測定した。そのアナライザーには、1 )MS−DOS 5.0以降操作系及びレイオス(Rhios)(登録商標名)ソフトウ エアー(バージョン4.2.2以降)を具えたパーソナルコンピューター:及び 2)低温操作のための液体窒素制御装置が配備されていた。 試験試料を、0.02mm〜0.4mmの範囲の厚さを有する材料のフイルム をガラス板上に注型することにより製造した。試料フイルムをUV処理器を用い て硬化した。約35mm(1.4in)長さの試料を、硬化フイルムの欠陥のな い領域から切り取った。粘着性表面を持つ傾向のある柔らかいフイルムについて は、切断試料にタルク粉末を被覆するために木綿先端のアプリケーターを用いた 。 試料のフイルム厚さを、長さに沿って5カ所以上で測定した。フイルムの厚さ の平均値は、±0.001mmまで計算した。厚さはその長さに亙って0.01 mmより大きく変動してはならない。この条件が満たされない場合には、別の試 料を取った。試料の幅を2カ所以上で測定し、平均値を±0.1mmまで計算し た。 試料の幾何学性を計器に入力した。長さ領域を23.2mmの値に設定し、試 料片の幅及び厚さの測定値を適当な領域へ入れた。温度走査を行う前に、試験試 料を窒素雰囲気中で80℃の温度に5分間かけることによりそれら試験試料から 湿分を除去した。用いた温度走査は、試験試料を約−60℃〜約−70℃に冷却 し、温度を、約1℃/分で約60℃〜約70℃の温度に到達するまで上昇させる ことを含んでいた。用いた試験用波数は1.0ラジアン/秒であった。 硬化試料の抗張力を、万能試験装置である、パーソナルコンピューター及びソ フトウエアー「シリーズIX材料試験システム」(Series IX Materials Testing System)を具えたインストロン(Instron)4201型を用いて試験した。2及び 20ポンドの容量をセルにかけた。ASTM D638Mに従ったが、次のよう に修正した。 試験すべき各材料をガラス板上に取り出し、UV処理器を用いて硬化した。硬 化したフイルムを最低16時間23±2℃及び50±5%の相対湿度に調整し、 然る後、試験にかけた。 0.5±0.002inの幅及び5inの長さを有する最低八つの試験片を、 硬化フイルムから切り取った。硬化フイルムが触れると粘着性である場合、木綿 先端アプリケーターを用いてフイルム表面に少量のタルクを適用した。 本発明をその特別な態様に関連して詳細に記述してきたが、その本質及び範囲 から離れることなく種々の変更及び修正を行えることは、当業者には明らかであ ろう。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】1997年1月22日 【補正内容】 請求の範囲 1.ケーブル充填材料である炭化水素ゲルによる侵食に対し抵抗性のある内側 第一被覆及び外側第一被覆で被覆された被覆ガラス光学繊維において、前記外側 第一被覆が適当に放射線で硬化された光学ガラス繊維被覆組成物からなり、然も 、前記被覆組成物が未硬化状態で、 約10〜約90重量%の第一放射線硬化性オリゴマーで、ポリエーテル、又は ポリエーテルとポリオレフィン、又はポリエステル、又はポリカーボネートとの 共重合体であるオリゴマー主鎖に結合した少なくとも二つのエチレン系不飽和基 を有するオリゴマー、及び 約10〜約90重量%の、次の式: R1−L1−C1−L2−R2 (1) (式中、 R1及びR2は、独立に、夫々放射線硬化性官能基を表し、 L1及びL2は、独立に、夫々約2〜約40個の炭素原子を有するアルキレンオ キシ鎖を表し、然も、L1及びL2は酸素原子を通してC1に結合しており、 C1は、約5〜約40個の炭素原子を有し、少なくとも一つの環式基を有する 炭化水素を表す。) による第二放射線硬化性オリゴマー、 からなり、然も、前記外側第一被覆が、少なくとも約50MPaの室温引張りモ ジュラス、少なくとも約3%の破断時伸び、少なくとも約25℃のガラス転移温 度Tg(最大tanδ)、及び1.7以下の最大水吸収率を有する、被覆ガラス 光学繊維。 2.外側第一被覆が、少なくとも約400MPaの室温引張りモジュラス、少 なくとも約5%の破断時伸び、少なくとも約40℃のガラス転移温度Tg(最大 tanδ)、及び約1.5以下の最大水吸収率を有する、請求項1に記載の被覆 ガラス光学繊維。 3.放射線硬化性外側第一被覆組成物が、 約10〜約90重量%の第一放射線硬化性オリゴマー、 0〜約40重量%の反応性希釈剤、 0〜約40重量%の光開始剤、 0〜約10重量%の顔料、及び 約10〜約90重量%の第二放射線硬化性オリゴマー、 からなる、請求項1〜2のいずれか1項に記載の被覆ガラス光学繊維。 4.放射線硬化性外側第一被覆組成物が、 約10〜約80重量%のエチレン系不飽和ウレタンオリゴマー、 約10〜約80重量%の式(1)による放射線硬化性オリゴマー、 0〜約40重量%の反応性希釈剤、 0〜約40重量%の光開始剤、及び 0〜約10重量%の顔料、 からなる、請求項3に記載の被覆ガラス光学繊維。 5.外側第一被覆組成物が、 約20〜約40重量%のエチレン系不飽和ウレタンオリゴマー、 約40〜約80重量%の式(1)による放射線硬化性オリゴマー、 約5〜約20重量%の反応性希釈剤、 約1〜約20重量%の光開始剤、及び 0〜約10重量%の顔料、 からなる、請求項4に記載の被覆ガラス光学繊維。 6.外側第一被覆組成物が、約1〜約10重量%の顔料を含む、請求項1〜5 のいずれか1項に記載の被覆ガラス光学繊維。 7.基R1及びR2が、独立に、アクリレート、メタクリレート、スチレン、ビ ニルエーテル、アクリルアミド、マレエート、及びフマレートからなる群から選 択された放射線硬化性官能基を有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の被 覆ガラス光学繊維。 8.基R1及びR2がアクリレートであり、第一放射線硬化性オリゴマーがアク リレート基を有する、請求項7に記載の被覆ガラス光学繊維。 9.基L1及びL2が、独立に、約1〜約12のアルキルエーテル基を有するア ルキレンオキシ基である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の被覆ガラス光学 繊維。 10.アルキルエーテル基が、エチルエーテル、プロピルエーテル、及びブチ ルエーテルからなる群から選択されたものである、請求項9に記載の被覆ガラス 光学繊維。 11.基C1が、次の式(2)又は(3): X1−X2 (2) X1−Y1−X2 (3) (式中、 X1及びX2は、夫々環式アルキレン基であり、そして Y1は、約1〜約15個の炭素原子を有する炭化水素である。)により表され る、請求項1〜10のいずれか1項に記載の被覆ガラス光学繊維。 12.基C1が、ビスフェノールA、飽和ビスフェノールA、ビスフェノール F、飽和ビスフェノールF、トリシクロデカンジメタノール、及びシクロヘキサ ンジメタノールからなる群からの一つから誘導されたものである、請求項1〜1 1のいずれか1項に記載の被覆ガラス光学繊維。 13.式(1)による放射線硬化性オリゴマーが、エトキシル化又はプロポキ シル化ビスフェノール−A−ジアクリレートである、請求項1〜12のいずれか 1項に記載の被覆ガラス光学繊維。 14.第一放射線硬化性オリゴマーの主鎖が、少なくとも約400の分子量を 有する、請求項1〜13のいずれか1項に記載の被覆ガラス光学繊維。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 シュミット,スチーブン アール. アメリカ合衆国 60047 イリノイ州ロン グ グローブ,ブリッタニー レーン 1606,ボックス 1606 アールエフディー

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.適当に硬化した時、ケーブル充填材料である炭化水素ゲルによる侵食に対 する抵抗性を示す放射線硬化性ガラス光学繊維被覆組成物において、 約10〜約90重量%の第一放射線硬化性オリゴマー、 0〜約40重量%の反応性希釈剤、 0〜約40重量%の光開始剤、 0〜約10重量%の顔料、及び 約10〜約90重量%の、次の式: R1−L1−C1−L2−R2 (1) (式中、 R1及びR2は、独立に、夫々放射線硬化性官能基を表し、 L1及びL2は、独立に、夫々約2〜約40個の炭素原子を有するアルキレンオ キシ鎖を表し、然も、L1及びL2は酸素原子を通してC1に結合しており、 C1は、約5〜約40個の炭素原子を有し、少なくとも一つの環式基を有する 炭化水素を表す。) に従う第二放射線硬化性オリゴマー、 からなる放射線硬化性ガラス光学繊維被覆組成物。 2.約10〜約80重量%のエチレン系不飽和ウレタンオリゴマー、 約10〜約80重量%の式(1)による放射線硬化性オリゴマー、 0〜約40重量%の反応性希釈剤、 0〜約40重量%の光開始剤、及び 0〜約10重量%の顔料、 からなる、請求項1に記載の放射線硬化性ガラス光学繊維被覆組成物。 3.約20〜約40重量%のエチレン系不飽和ウレタンオリゴマー、 約40〜約80重量%の式(1)による放射線硬化性オリゴマー、 約5〜約20重量%の反応性希釈剤、 約1〜約20重量%の光開始剤、及び 0〜約10重量%の顔料、 からなる、請求項2に記載の組成物。 4.組成物が、約1〜約10重量%の顔料を含有する、請求項1〜3のいずれ か1項に記載の組成物。 5.基R1及びR2が、独立に、アクリレート、メタクリレート、スチレン、ビ ニルエーテル、アクリルアミド、マレエート、及びフマレートからなる群から選 択された放射線硬化性官能基を有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の放 射線硬化性ガラス光学繊維被覆組成物。 6.基R1及びR2がアクリレートであり、第一放射線硬化性オリゴマーがアク リレート基を有する、請求項5に記載の放射線硬化性ガラス光学繊維被覆組成物 。 7.基L1及びL2が、独立に、約1〜約12のアルキルエーテル基を有するア ルキレンオキシ基である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の放射線硬化性ガ ラス光学繊維被覆組成物。 8.アルキルエーテル基が、エチルエーテル、プロピルエーテル、及びブチル エーテルからなる群から選択されたものである、請求項7に記載の放射線硬化性 ガラス光学繊維被覆組成物。 9.基C1が、次の式(2)又は(3): X1−X2 (2) X1−Y1−X2 (3) (式中、 X1及びX2は、夫々環式アルキレン基であり、そして Y1は、約1〜約15個の炭素原子を有する炭化水素である。)により表され る、請求項1〜8のいずれか1項に記載の組成物。 10.基C1が、ビスフェノールA、飽和ビスフェノールA、ビスフェノール F、飽和ビスフェノールF、トリシクロデカンジメタノール、及びシクロヘキサ ンジメタノールからなる群からの一つから誘導されたものである、請求項1〜9 のいずれか1項に記載の放射線硬化性ガラス光学繊維被覆組成物。 11.式(1)による放射線硬化性オリゴマーが、エトキシル化又はプロポキ シル化ビスフェノール−A−ジアクリレートである、請求項1〜10のいずれか 1項に記載の組成物。 12.式(1)による放射硬化性オリゴマーが、約500〜約2000の分子 量を有する、請求項1〜11のいずれか1項に記載の組成物。 13.ケーブル充填材料である炭化水素ゲルによる侵食に対し抵抗性のある内 側第一被覆及び外側第一被覆で被覆された被覆ガラス光学繊維において、前記外 側第一被覆が適当に放射線で硬化された光学ガラス繊維被覆組成物からなり、然 も、前記被覆組成物が未硬化状態で、 約10〜約90重量%の第一放射線硬化性オリゴマー、及び 約10〜約90重量%の、次の式: R1−L1−C1−L2−R2 (1) (式中、 R1及びR2は、独立に、夫々放射線硬化性官能基を表し、 L1及びL2は、独立に、夫々約2〜約40個の炭素原子を有するアルキレンオ キシ鎖を表し、然も、L1及びL2は酸素原子を通してC1に結合しており、 C1は、約5〜約40個の炭素原子を有し、少なくとも一つの環式基を有する 炭化水素を表す。) による第二放射線硬化性オリゴマー、 からなる、被覆ガラス光学繊維。 14.外側第一被覆が、少なくとも約50MPaの室温引張りモジュラス、少 なくとも約3%の破断時伸び、少なくとも約25℃のガラス転移温度Tg(最大 tanδ)、及び1.7以下の最大水吸収率を有する、請求項13に記載の被覆 ガラス光学繊維。 15.外側第一被覆が、少なくとも約400MPaの室温引張りモジュラス、 少なくとも約5%の破断時伸び、少なくとも約40℃のガラス転移温度Tg(最 大tanδ)、及び1.5以下の最大水吸収率を有する、請求項14に記載の被 覆ガラス光学繊維。 16.少なくとも約50MPaの室温引張りモジュラス、少なくとも約3%の 破断時伸び、少なくとも約25℃のガラス転移温度Tg(最大tanδ)、及び 1.7以下の最大水吸収率を有する被覆で被覆された被覆ガラス光学繊維であっ て、然も、前記被覆が適当に放射線で硬化された光学ガラス繊維被覆組成物から なり、前記被覆組成物が未硬化状態で、次の式: R1−L1−C1−L2−R2 (1) (式中、 R1及びR2は、独立に、夫々放射線硬化性官能基を表し、 L1及びL2は、独立に、夫々約2〜約40個の炭素原子を有するアルキレンオ キシ鎖を表し、然も、L1及びL2は酸素原子を通してC1に結合しており、 C1は、約5〜約40個の炭素原子を有し、少なくとも一つの環式基を有する 炭化水素を表す。) による放射線硬化性オリゴマーからなる、被覆ガラス光学繊維。 17.放射線硬化性オリゴマー又は単量体を含有する放射線硬化性光学ガラス 繊維被覆組成物の配合において、次の式: R1−L1−C1−L2−R2 (1) (式中、 R1及びR2は、独立に、夫々放射線硬化性官能基を表し、 L1及びL2は、独立に、夫々約2〜約40個の炭素原子を有するアルキレンオ キシ鎖を表し、然も、L1及びL2は酸素原子を通してC1に結合しており、 C1は、約5〜約40個の炭素原子を有し、少なくとも一つの環式基を有する 炭化水素を表す。) による放射線硬化性オリゴマーを配合し、然も、前記被覆組成物は、適当に硬化 した時、ケーブル充填材料である炭化水素ゲルによる侵食に対する抵抗性を示す ことを改良とする、改良放射線硬化性光学ガラス繊維配合。
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