JPH11500071A - 輝度増強フィルムにおける溝突出部の変形防止 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ベース（34）上にミクロ構造（22，24，26，28）を成形する工程と、ミクロ構造を形成する樹脂を硬化させる工程と、ミクロ構造を熱処理する工程とを備えた、ミクロ構造含有製品（11）の製造方法。熱処理は、少なくとも樹脂の標準ガラス転移温度に等しい温度で行う。熱処理によって、得られるポリマーのガラス転移温度を約333°Ｋを超えるまでに高め、これにより溝突出部の圧痕を低減させる。こうした製品は、コンピュータなどに有用なバックライト型ディスプレイ（10）に有用である。

Description

【発明の詳細な説明】 輝度増強フィルムにおける溝突出部の変形防止 発明の背景 本発明は、一般的には優れた突出部耐変形性を呈するミクロ構造含有複合製品 の製造方法に関する。より詳細には、本発明は、輝度増強フィルムにおける溝突 出部の圧痕を低減する方法に関し、本発明においては、有用な輝度増強フィルム の主な幾何学的特徴を開示する。 ミクロ構造含有製品を輝度増強フィルムとして使用することについては、Whit eheadの米国特許第4,542,449号に示されている。輝度増強フィルムとして有用な ミクロ構造含有製品の一例が、Luらの米国特許第5,175,030号及びLuの米国特許 第5,183,597号に記載されている。これらの特許は、ミクロ構造含有複合プラス チック製品及びミクロ構造含有複合プラスチック製品の成形方法を開示している 。Luらの特許及びLuの特許は、全内部反射など、所望の光学特性を有するミクロ 構造の作製を提示している。 ミクロ構造含有製品は、種々の形状で作製される。こうした形状の一つとして 、一連の突出部と溝が交互に現れる形状のものが挙げられる。この形状の一例と しては、対称な突出部と溝の規則的反復パターンを有する輝度増強フィルムが挙 げられる。他の例としては、突出部と溝が対称でなく、しかも大きさ、方向、又 は突出部と溝との距離が一様でないパターンのものが挙げられる。 従来技術の放射線硬化輝度増強フィルムの主な欠点は、従来技術の輝度増強フ ィルムでは時々暗点が観測されることである。暗点が製品の輝度増強度の測定値 に影響を与えることはないが、暗点によ り輝度増強フィルムの外観が悪影響を受けるため、暗点は望ましいものではない 。そのため、ディスプレイの製造業者は、こうした暗点を持たない輝度増強フィ ルムを要望することになる。 従来技術による輝度増強フィルムとしては、ミネソタ州St．PaulにあるMinnes ota Mining and Manufacturing Companyから発売されている、ポリカーボネート 熱可塑性樹脂から作られた製品「Brightness Enhancement Film」及び、日本 の東京にある三菱レイヨンから発売されている、ポリエステルベース上に放射線 硬化ミクロ構造層を有する製品「DIAART」が挙げられる。 発明の概要 本発明は、ベース上に交互に現れる突出部と溝を成形する工程と、突出部と溝 を構成する樹脂を硬化させる工程と、突出部と溝を熱処理する工程とを備えた、 ミクロ構造含有製品の製造方法を提供する。熱処理は、少なくとも樹脂の標準ガ ラス転移温度に等しい温度で実施するが、樹脂の硬化（高温における硬化）と同 時に行ってもよいし、硬化後の処理として行ってもよい。この熱処理は、生成す るポリマーのガラス転移温度を約333°Ｋより高くするのに有効であり、その結 果、溝突出部の圧痕が低減する。その他に、架橋剤を添加して、ガラス転移温度 の上昇を助長してもよい。 本発明はまた、こうした製品を含むバックライト型ディスプレイ及び該ディス プレを含むコンピュータを提供する。 図面の簡単な説明 図1は、バックライト型液晶ディスプレイ中における本発明の具体的なフィル ムを表す略図である。 図2は、本発明の具体的なミクロ構造含有ポリマー製品の斜視図 である。 図3は、本発明の方法により作製された輝度増強フィルムに対する溝突出部の 圧痕の深さとガラス転移温度との関係を示すグラフである。 図1及び図2は、一定の比率で描かれているわけではなく、単に具体例を示すに すぎず、これらに限定されるものではない。 実施態様の詳細な説明 本発明は、ベース又は基板上に交互に現れる突出部と溝とを有する、溝突出部 の圧痕を生じにくいミクロ構造含有ポリマー製品の製造方法を提供する。「ベー ス」及び「基板」という用語は、本明細書中では、互換性があるものとして扱う 。本発明の方法により、輝度増強フィルムとして使用したときに溝突出部耐変形 性を呈するミクロ構造含有製品が作製される。 図1において全体として10で示される具体的なバックライト型液品ディルプレ イには、典型的には拡散板12及び液晶ディスプレイパネル14の間に配置される本 発明の輝度増強フィルム11が含まれる。このバックライト型液晶ディスプレイに はまた、蛍光ランプなどの光源16、光を反射させて液晶ディスプレイパネル14に 伝搬させるための導光板18、及びこれもまた液晶ディスプレイパネルの方向に光 を反射させるための白色反射板20が含まれる。輝度増強フィルム11は、導光板18 から放出される光を平行光線に変えることによって、液晶ディスプレイパネル14 の輝度を増大させる。輝度を増大させることによって、液晶ディスプレイパネル はよりシャープな画像を生成することができ、しかも光源16のパワーを低下させ て所定の輝度を得ることができる。バックライト型液晶ディスプレイの輝度増強 フィルム11は、コンピュータ、個人用テレビ、ビデオレコーダ、移 動体通信デバイス、及び自動車などの装置、並びに参照記号21で表されるエビオ ニクス機器ディスプレイに有用である。輝度増強フィルム11には、図2に示され るように、典型的には角柱22、24、26、及び28で示されるような角柱の配列が含 まれる。それぞれの角柱、例えば角柱22は、第1の面30及び第2の面32を有する。 角柱22、24、26、及び28は、これらの角柱が取り付けられる第1の表面36と、実 質的にフラットすなわち平面であって、第1の表面に対向する第2の表面38とを有 する本体部分34上に形成される。 正直角柱の線形配列が、光学的性能及び製造の容易さの両方の面で好ましい。 直角柱とは、頂点角Θが典型的には90°であるが、70°から120°の範囲、最も 好ましくは80°から100°の範囲であってもよいことを意味する。角柱面は同一 である必要はなく、角柱が互いに傾いていてもよい。更に、フィルムの厚さ40と 角柱の高さ42との関係が決定的な要因になることはないが、はっきりと規定され た角柱面を有するより薄いフィルムが望ましい。角柱の高さ42と全厚40との典型 的な比は、およそ25/125及び2/125の間である。 角柱面を突出させる場合には、角柱面と表面38とのなす角度は、典型的には45 °である。しかしながら、この角度は、角柱面のピッチすなわち頂点の角度Θに より変化する。 従来技術の放射線硬化輝度増強フィルムに見られる暗点は、輝度増強フィルム の突出部の変形に起因して発生することを見出した。突出部の変形は、通常、輝 度増強フィルムに加重や力が加わったときか、又は物体が輝度増強フィルムにぶ つかったときに起こる。突出部の変形と溝突出部の圧痕は、本明細書中では、同 義的に使用されるものとする。 また、輝度増強フィルムに使用されるポリマーのガラス転移温度を約333°Ｋ よりも高くすると、輝度増強フィルムが溝突出部の圧痕 を生じにくくなることを見出した。333°Ｋは、輝度増強フィルムに使用される ポリマーの標準ガラス転移温度よりも高い。標準ガラス転移温度とは、室温にお いて紫外線によってポリマーを硬化させるときに得られるガラス転移温度である 。 種々の方法を使用して、ガラス転移温度を高めることができる。例えば、輝度 増強フィルムを硬化させる際に温度を上昇させることによって、ガラス転移温度 を広範に変化させることができる。また、硬化後の処理や架橋剤の添加を行うこ とによって、ガラス転移温度を高めることもできる。 ミクロ構造含有製品は、Luらの米国特許第5,175,030号及びLuの米国特許第5,1 83,597号に開示されている方法と類似の方法によって作製するのが好ましい。こ の作製方法には、以下の工程、即ち (a)オリゴマー樹脂組成物を調製する工程と、 (b)マスター逆ミクロ構造成形面の空隙をかろうじて満たすのに必要な量で該 オリゴマー樹脂組成物を該マスター上に付着させる工程と、 (c)少なくとも一方は可撓性を有する予備成形された基板及び該マスターの間 で該組成物のビードを動かすことによって該空隙を満たす工程と、 (d)該オリゴマー組成物を硬化させる工程と、 が含まれる。 工程(a)のオリゴマー樹脂組成物は、一液型無溶剤放射線重合性架橋性有機オ リゴマー組成物である。このオリゴマー組成物は、高屈折率、即ち、1.56を超え る、好ましくは1.58を超える屈折率を有する硬化ポリマーを形成するものが好ま しい。輝度増強フィルムの光学的性能上、高屈折率であることが重要である。好 ましい好適なオリゴマー組成物の一つとして、芳香族エポキシ誘導アクリレート 若 しくはマルチアクリレートと、一つ以上の反応性希釈剤（組成物の粘度を調節す るために使用される）と、好ましくは更に、芳香族基を含有する少なくとも一つ のアクリレートエステルとから成るブレンドが挙げられる。この組合せにより、 高屈折率及び高ガラス転移温度を兼ね備えた硬化樹脂が得られる。 好ましいオリゴマー樹脂組成物においては、エポキシアクリレート又はマルチ アクリレートの量は、オリゴマー組成物を基準に約40〜80重量％、好ましくは55 〜65重量％である。反応性希釈剤（一種又は複数種）の量は、オリゴマー組成物 を基準に約20〜60重量％、好ましくは約35〜45重量％である。 輝度増強フィルムに対しては、光学的性能上、高屈折率であることが重要であ る。従って、オリゴマー組成物はまた、高屈折率、即ち、1.56を超える屈折率の 硬化ポリマーを形成することが好ましい。 エポキシジアクリレートは、次のような多数の市販化合物から選択することが できる。例えば、「PHOTOMER」Brand系列：3015，3016，及び3038（ペンシルヴ ェニア州AmblerにあるHenkel Corp.製）、並びに「EBECRYL」Brand系列：600， 1608，3201，3500，及び3600（ジョージア州SmyrnaにあるUCB-Radcure製）が挙 げられる。オリゴマーを選択する判定基準の中心的な因子は、屈折率及びホモポ リマーのガラス転移温度である。アクリレート基と芳香族基とを連結する原子の 数が増えると、典型的には、屈折率及びガラス転移温度はいずれも減少するが、 硬化させた樹脂の可撓性は増大する。こうした連結基は、エポキシ基又はプロポ キシ基の形態をとることが多い。 臭素を添加することによって、エポキシジアクリレートを改質することもでき る。臭素改質エポキシジアクリレートとしては、各フェニル基に2個の臭素原子 が結合したRDX51027が好ましい。RDX51027は、ジョージア州SmyrnaにあるUCB-Ra dcureから入手することがで きる。 典型的には、放射線硬化性オリゴマー樹脂組成物にモノマーを添加して、オリ ゴマーが通常示す高い粘度を減少させる。また、こうしたモノマーを使用するこ とによって、硬化させた樹脂の性質、例えば、可撓性、屈折率、及びガラス転移 温度を改良することもできる。こうしたモノマーの例が、それらのホモポリマー の標準ガラス転移温度と共に米国特許第4,668,558号に列挙されており、具体的 には、、アクリル酸イソボルニル（367°Ｋ）、メタクリル酸メチル（378°Ｋ） 、クロロアクリル酸シクロヘキシル（372°Ｋ）、2-クロロスチレン（406°Ｋ） 、2,4-ジクロロスチレン（406°Ｋ）、スチレン（373°Ｋ）、アクリル酸（360 °Ｋ）、アクリルアミド、アクリロニトリル（393°Ｋ）、メタクリロニトリル （393°Ｋ）が挙げられる。アクリル酸フェノキシエチル及びアクリル酸ベンジ ルなどの高屈折率を有する高反応性モノマーが好ましい。 アクリレート官能性モノマー及びオリゴマーが好ましいが、その理由は、これ らが標準的硬化条件下でより迅速に重合することである。そのうえ、多種のアク リレートエステルが市販品として入手できる。しかしながら、メタクリレート、 アクリルアミド、及びメタクリルアミド官能性成分もまた、自由に使用できる。 本明細書中では、「アクリレート」を使用する場合、「メタクリレート」も利用 可能であることを意味するものとする。スチリル官能性モノマーも含まれるが、 通常は比較的少量の成分として使用して、具体的には放射線硬化により重合を確 実に完了させるようにする。 重合は、遊離基重合開始剤の存在下での加熱、好適な光重合開始剤の存在下で の紫外線又は可視光線の照射、及び電子ビームの照射などの通常の手段によって 達成することができる。便利さ、設備投資の少なさ、及び製造スピードの点で、 好ましい重合方法は、オリ ゴマー組成物に対して約0.1重量パーセントから約1.0重量パーセントの濃度の光 重合開始剤の存在下で紫外線又は可視光線を照射する方法である。より高い濃度 を使用することもできるが、所望の硬化樹脂特性を得るうえでは通常必要ではな い。 工程(b)で付着させるオリゴマー組成物の粘度は、好ましくは500〜5,000セン チポアズ（500×10^-3〜5,000×10^-3パスカル−秒）である。オリゴマー組成物が この範囲を超える粘度を有する場合、気泡が組成物中に閉じ込められるようにな る可能性を生じる。更に、組成物が、マスター中の空隙を完全に満たすことがで きなくなる恐れも生じる。この範囲未満の粘度を有するオリゴマー組成物を使用 する場合、オリゴマー組成物は、通常、硬化に伴って収縮し、そのためにオリゴ マー組成物がマスターを正確に複製することができなくなる。 ポリエチレンテレフタレートフィルム又はポリカーボネートフィルムは、工程 (c)の基板として使用するのに好適である。なぜなら、これらの材料は、経済的 で、光学的に透明であり、しかも良好な引張強度を有するからである。厚さ0.02 5ミリメートルから0.5ミリメートルが好ましく、厚さ0.075ミリメートルから0.1 75ミリメートルが特に好ましい。 材料が実質的に透明であり、しかもミクロ構造の鋳造及びミクロ構造含有製品 を使用するディスプレイ装置の製造における取り扱いを可能とする十分な強度を 有するかぎり、ほとんどいかなる材料でもベース（基板）として使用することが できる。また、ベースとして使用する材料としては、十分な熱安定性及び耐老化 性を有し、本発明の製品が使用されているディスプレイ装置の性能が、その典型 的な耐用年数にわたって低下しないようなものを選ぶ必要がある。 ミクロ構造含有製品に有用な他の基板としては、セルロースアセ テートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリエーテルスルホ ン、ポリメチルメタクリレート ポリウレタン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル 、及びガラスが挙げられる。また、基板の表面を処理して、オリゴマー組成物に 対する接着性を向上させてもよい。 良好な光学的特性及び許容しうる接着性を有する、ポリエチレンテレフタレー トを基材とする材料が好適である。こうしたポリエチレンテレフタレートを基材 とする材料としては、例えば、写真等級のポリエチレンテレフタレート；本明細 書中で「SEP-PET」と記される、米国特許第4,340,276号（実施例５）に記載の方 法によって作製された表面を有するポリエチレンテレフタレート（PET）；並び にデラウェア州WilmingtonにあるICI Films製のMELINEX PETが挙げられる。SEP- PETにはクロムなどの物質が含まれいるが、下に位置するPETの部分が該物質の不 連続ミクロアイランド間に露出する複合表面が得られる程度の添加量で使用され る。酸素プラズマを用いて複合表面をスパッタエッチングし、エッチング速度の 速いPETの露出部分を優先的にエッチングするとともに、不連続ミクロアイラン ドをより低速でエッチングすることによって、高さがおよそ0.01から0.2μｍの 範囲内で変化し、かつ隣接するミクロペデスタルとの間隔がおよそ0.05から0.5 μｍの範囲内にあるミクロペデスタルの形状が得られる。 上述の方法で使用される好ましいマスターは、ニッケル、ニッケルめっきされ た銅又は黄銅などの金属マスターである。硬化及び場合により同時熱処理の工程 の温度があまり高くなければ、ポリエチレン及びポリプロピレンのラミネートな どの熱可塑性材料からマスターを作製することもできる。 オリゴマー樹脂が基板とマスターとの間の空隙を満たした後、オ リゴマー樹脂を硬化及び熱処理する。硬化及び熱処理は、次の方法のうちの一つ を使用して実施するのが好ましい。 第1の方法では、高温において樹脂を放射線硬化させる。好ましい樹脂は、紫 外線又は電子ビームなどを照射することによって硬化可能な樹脂であり、こうし た照射は慣例的に室温で行われる。高温で樹脂を硬化させると、得られる製品の ガラス転移温度が上昇し、満足すべきレベルまで溝突出部の圧痕が低減する。 この態様においては、少なくとも所望のガラス転移温度に等しい温度、好まし くは所望のガラス転移温度を超える温度で樹脂を硬化させる。好ましくは標準ガ ラス転移温度よりも少なくとも10℃（10°Ｋ）高い温度、最も好ましくは標準ガ ラス転移温度よりも少なくとも20℃（20°Ｋ）高い温度で樹脂を硬化させる。エ ポキシジアクリレートとフェノキシエチルアクリレートとのブレンドであるオリ ゴマー組成物に対しては、硬化温度を約85℃（385°Ｋ）とするのが好ましい。 第2の方法では、先ず樹脂を硬化させ、次に、この樹脂を硬化後の熱処理にか ける。硬化後の熱処理では、この硬化させた樹脂を、少なくともポリマーの標準 ガラス転移温度に等しい温度でおよそ60秒間加熱する。加熱温度は、好ましくは 標準ガラス転移温度よりも少なくとも10℃（10°Ｋ）、最も好ましくは少なくと も20℃（20°Ｋ）高い温度である。 第3の方法では、樹脂に架橋剤を添加してポリマーの架橋を更に助長する。こ れによっても、ガラス転移温度が上昇する結果となる。好適な架橋剤としては、 例えば、1,4−ブチレンジ−メタクリレート又は−アクリレート；エチレンジ− メタクリレート又は−アクリレート；トリメチロールプロパンジ−又はトリ−ア クリレート；グリセリルジ−アクリレート又は−メタクリレート；グリセリルト リ− アクリレート又は−メタクリレート；グリシジルアクリレート又はメタクリレー ト；ペンタエリトリトールトリ−若しくはテトラ−アクリレート又はトリ−若し くはテトラ−メタクリレート；ジアリルフタレート；2,2−ビス(4−メタクリル オキシフェニル)−プロパン；ジアリルアジペート；ジ(2−アクリルオキシエチ ル)エーテル；ジペンタエリトリト−ルペンタアクリレート；ネオペンチルグリ コールジアクリレート；ポリプロピレングリコールジアクリレート又はジメタク リレート；1,3,5−トリ−(2−(メタ)アクリルオキシエチル)−s−トリアジン； ヘキサメチレンジアクリレート；米国特許第4,262,072号に教示されているポリ( エチレン性不飽和アルコキシ)ヘテロ環；並びにポリ(イソシアネート)と、ジョ ージア州SmyrnaにあるUCB−Radcureから販売されているEB220などのヒドロキシ −及びアミノ−官能性アクリレートとの付加物が挙げられる。高屈折率を有する ポリマーを生成する架橋剤が好ましい。好ましくは屈折率が1.56を超え、最も好 ましくは屈折率が1.58を超える。こうした架橋剤の一つで、特に有用なものはEB 220である。 三つの方法を組み合わせるのが好ましい。架橋剤を樹脂に添加し、高温で樹脂 を硬化させ、次に、硬化後の熱処理を施す。この他に、二つの方法を任意に組み 合わせてもよい。例えば、架橋剤を樹脂に添加し、次に高温で樹脂を硬化させる か、又は高温で樹脂を硬化させ、次に硬化後の熱処理を施してもよい。架橋剤を 樹脂に添加し、次に室温で硬化させ、上述したように少なくとも標準ガラス転移 温度に等しい温度で後硬化させてもよい。 樹脂に対する硬化後の熱処理は、少なくとも標準ガラス転移温度に等しい温度 で30〜60秒間行う。硬化後の熱処理は、好ましくはガラス転移温度よりも少なく とも10℃（10°Ｋ）高い温度、最も好ましくはガラス転移温度よりも少なくとも 20℃（20°Ｋ）高い温度で 行う。エポキシジアクリレートとフェノキシエチルアクリレートとのブレンドで あるオリゴマー組成物に対しては、硬化後の熱処理を、好ましくは80℃（353° Ｋ）〜110℃（383°Ｋ）の温度で60秒間行う。 また、試験方法を開発し、本発明の輝度増強フィルムの満足すべき溝突出部耐 圧痕性を規定した。この試験方法では、溝突出部の圧痕の深さを測定する。ほと んどの場合、溝突出部圧痕深さ試験が、視覚的な溝突出部の圧痕と良好な相関を 示すことが分かった。 溝突出部の圧痕の深さは、次の試験手順に従って測定した。エアクッション上 に浮かせたテーブル上で溝突出部圧痕深さ試験を行って、溝突出部圧痕深さの試 験結果に及ぼす外部の影響を最小限に抑えることが好ましい。 輝度増強フィルムを100mmの正方形に切断する。エアクッション付きのテーブ ル上に、平らで滑らかなガラス板を置く。次に、ガラス板上に、輝度増強フィル ムを置く。輝度増強フィルムの溝を上向きにする。 円形鋼板の一方の面上に、三つの鋼球を三角形を構成するように取り付ける。 直径３mmを有する鋼球が好ましい。鋼板は、直径100mmのものが好ましい。鋼球 及び鋼板は、合わせておよそ600グラムである。 次に、鋼球が輝度増強フィルムと対向するように、輝度増強フィルム上に鋼板 を置く。この直径100mmの鋼板上に更に、およそ3,327グラムの重さのもう一つの 鋼板を置いてもよい。 輝度増強フィルムに30分間加重をかけた後、鋼球及び鋼板を輝度増強フィルム から取り去る。0.000002インチ（0.05ミクロン）刻みのSupramess Mahrダイアル インジケータを用いて、鋼球が輝度増強フィルムに入り込んだ深さを測定する。 Supramess Mahrダイアルインジケータは、Ono Sokki ST-022ゲージスタンドに 取り付けるのが好まし い。 ガラス転移温度は、Rheometrics RSA-IIなどの動的機械分析器を用いて引張 モードにおける複合体の動的機械分析を行うことにより得られるtanδ曲線のピ ークとして求めるのが好ましい。 ガラス転移温度を上昇されるための硬化及び熱処理方法をいずれも使用したが 、どの方法を使用しても違いは見られない。ガラス転移温度が上昇するかぎり、 溝突出部の圧痕の深さは減少する。 輝度増強フィルムの数種のサンプルから得られた溝突出部の圧痕の深さの結果 を図3に示す。これらの結果から、溝突出部の圧痕の深さとガラス転移温度との 間に良好な相関があることが分かる。 二つのタイプの輝度増強フィルムを用いて試験を行った。一方のタイプの輝度 増強フィルムは臭素化樹脂を含有し、もう一方のタイプの輝度増強フィルムは非 臭素化樹脂を含有する。臭素化樹脂には、60重量％のRDX 51027及び40重量％のP HOTOMER Brand 4035が含まれる。非臭素化樹脂には、60重量％のPHOTOMER Bran d 3016及び40重量％のPHOTOMER Brand 4035が含まれる。 図3から、非臭素化樹脂及び臭素化樹脂が、同じ一般曲線上にのることが分か る。これらの結果に基づいて、溝突出部の圧痕の深さとガラス転移温度との関係 は、組成には依存しない物理的関係であるという結論が得られる。同様に、溝突 出部の圧痕の深さの低下と、溝突出部の圧痕の低減との間に相関があるので、ガ ラス転移温度も同様に溝突出部の圧痕と関係する。 図3の曲線から分かるように、溝突出部の圧痕の深さの非常に少ない紫外線硬 化輝度増強フィルムの数種のサンプルが作製された。これらのサンプルのほとん どすべてにおいて、溝突出部の圧痕の深さが4.0×10^-6インチ（0.1ミクロン）未 満である。これらの結果は、従来の方法で作製されたサンプルよりも著しく改良 されたことを示 している。 輝度増強フィルムのほとんどの用途では、使用温度が、およそ20℃（293°Ｋ ）の標準的な室温に非常に近い。しかしながら、すべてのコンポーネントを65℃ （338°Ｋ）で試験する必要のあるディスプレイ製造業者もいくつかある。従来 技術の輝度増強フィルムでは、たとえ高温で硬化させたとしても、十分に高いガ ラス転移温度にはならず、高い試験温度において溝突出部の圧痕を回避すること ができない。米国特許第4,542,449号に記載されているように、溝が交差するよ うに二枚の輝度増強フィルムを重ねて使用する場合には、このことが特に明確に なる。 輝度増強フィルムのガラス転移温度は、上述のように更に架橋剤を添加したり 、表に示したように本明細書で開示されている高い硬化温度を利用することによ って上昇させることができる。「HHA」と記された項目は、ヒダントインヘキサ アクリレートを表し、Wendlingらの米国特許第4,262,072号に従って調製したも のである。サンプルＥは、架橋剤EB220を用いて調製した。これらのデータは、 架橋剤及び硬化条件を適切に選ぶことによって、屈折率の低下を最小限に抑えて 、輝度増強フィルムのガラス転移温度を顕著に上昇させることができることをは っきりと示している。 好ましい実施態様を参照しながら本発明を説明してきたが、当業者には、本発 明の精神及び範囲を逸脱することなしに、形態及び細部に関する変更が可能であ ることが分かるであろう。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｂ２９Ｌ 11:00 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５３０ Ｇ０２Ｂ 5/02 5/04 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５３０ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ， ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，Ｕ Ｇ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，Ｂ Ｙ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ， ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，Ｌ Ｖ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ， ＴＪ，ＴＭ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者 キングストン，ダニエル ジェイ. アメリカ合衆国，ミネソタ 55133−3427, セントポール，ポスト オフィス ボック ス 33427 （番地なし)

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．ミクロ構造含有製品の溝突出部耐圧痕性を改良する方法であって、 ベース上の第1の層にオリゴマー樹脂から成る所望のミクロ構造を形成する工 程と、 該第1の層の該樹脂を硬化させる工程と、 少なくとも該樹脂の標準ガラス転移温度に等しい温度において該第1の層を熱 処理し、得られるポリマーのガラス転移温度を該熱処理によって約333°Ｋを超 えるまでに高め、これにより溝突出部の圧痕を低減させる工程と、 を備えることを特徴とする前記方法。 ２．前記ミクロ構造が、隣接するポリマーから成る突出部と溝とを有すること を更に特徴とするとともに、次の点、即ち a）前記突出部がおよそ70°〜120°の範囲にある夾角を有するか、又は、 b）前記突出部がおよそ80°〜100°の範囲にある夾角を有するか、 の少なくとも一つを更に特徴とする請求項1に記載の方法。 ３．次の点、即ち a）前記硬化を前記熱処理工程の前に行うか、又は、 b）前記硬化及び前記熱処理を同時に行うか、 の少なくとも一つを更に特徴とする請求項1に記載の方法。 ４．次の点、即ち a）前記オリゴマー樹脂が架橋性であるか、又は、 b）前記オリゴマー樹脂が更に架橋剤を含有し、得られるポリマーのガラス転 移温度を標準ガラス転移温度よりも高めて、溝突出部の圧痕を低減させるか、又 は、 c）紫外線により架橋を開始させるか、 の少なくとも一つを更に特徴とする請求項1に記載の方法。 ５．次の点、即ち a）前記熱処理を、前記樹脂の標準ガラス転移温度よりもケルビン単位で少な くとも10度高い温度で行うか、又は、 b）前記熱処理を、前記樹脂の標準ガラス転移温度よりもケルビン単位で少な くとも20度高い温度で行うか、 の少なくとも一つを更に特徴とする請求項1に記載の方法。 ６．前記熱処理により溝突出部の圧痕の深さを1×10^-4mm未満にすることを更 に特徴とする請求項1に記載の方法。 ７．前記ベースが前記第1の層に隣接してスパッタエッチングされた面を有す ることを更に特徴とする請求項1に記載の方法。 ８．前記オリゴマー樹脂が光重合開始剤を含有することを更に特徴とする請求 項1に記載の方法。 ９．オリゴマー組成物を調製する工程と、 マスター逆ミクロ構造表面の空隙をかろうじて満たすのに必要な量で該オリゴ マー樹脂組成物を該マスター上に付着させる工程と、 少なくとも一方は可撓性を有する基板及び該マスターの間で該オリゴマー樹脂 組成物のビードを動かすことによって該空隙を満たす工程と、 所望の該ミクロ構造を形成する該オリゴマー組成物を硬化させる工程と、 少なくとも該樹脂の標準ガラス転移温度に等しい温度で所望の該ミクロ構造を 熱処理し、得られるポリマーのガラス転移温度を該熱処理によって約333°Ｋを 超えるまでに高め、これにより溝突出部の圧痕を低減させる工程と、 を備えることを更に特徴とする請求項1に記載の方法。 １０．ミクロ構造含有製品であって、 該製品は溝突出部の圧痕が低減されているとともに、 ベースと、 該ベース上の架橋性樹脂から形成されたミクロ構造と、 を有し、更に該ミクロ構造含有製品は標準ガラス転移温度よりも十分に高いガラ ス転移温度を呈し、これにより溝突出部の圧痕を低減させることを特徴とする前 記ミクロ構造含有製品。 １１．前記ミクロ構造が隣接する突出部及び溝を有するこを特徴とするととも に、更に、次の点、即ち： a）前記突出部がおよそ70°〜120°の範囲にある夾角を有するか、又は、 b）前記突出部がおよそ80°〜100°の範囲にある夾角を有するか、又は、 c）溝突出部の圧痕の深さが1×10^-4mm未満であるか、 の少なくとも一つを特徴とする請求項10に記載のミクロ構造含有製品。 １２．次の点、即ち a）前記オリゴマー樹脂が、1.56超える屈折率を有する硬化ポリマーを提供す るか、又は、 b）前記オリゴマー樹脂が、1.58超える屈折率を有する硬化ポリマーを提供す るか、 の少なくとも一つを更に特徴とする請求項10に記載のミクロ構造含有製品。 １３．次の点、即ち a）前記ベースが、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、セルロ ースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリエーテ ルスルホン、ポリメチルメタクリレート、 ポリウレタン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ガラス、又はこれらの組合せか ら形成されるか、或いは b）前記樹脂が、エポキシジアクリレート、臭素改質エポキシジアクリレート 、イソボルニルアクリレート、メチルメタクリレート、シクロヘキシルクロロア クリレート、2-クロロスチレン、2,4-ジクロロスチレン、スチレン、アクリル酸 、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、フェノキシエチル アクリレート、トリブロモフェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレー ト、アルコキシル化エポキシジアクリレート、臭素改質アルコキシル化エポキシ ジアクリレート、又はこれらの組合せから調製されるか、或いは、 c）前記架橋性オリゴマー樹脂が更に、前記架橋性オリゴマー樹脂のガラス転 移温度を標準ガラス転移温度よりも高めるのに十分な量で添加された架橋剤を含 有し、これにより溝突出部の圧痕を低減させるか、或いは、 d）前記樹脂が、次の架橋剤、即ち：1,4-ブチレンジ−メタクリレート又は− アクリレート；エチレンジ−メタクリレート又は−アクリレート；トリメチロー ルプロパンジ−又はトリ−アクリレート；グリセリルジ−アクリレート又は−メ タクリレート；グリセリルトリ−アクリレート又は−メタクリレート；グリシジ ルアクリレート又はメタクリレート；ペンタエリトリトールトリ−若しくはテト ラ−アクリレート又はトリ−若しくはテトラ−メタクリレート；ジアリルフタレ ート；2,2−ビス(4-メタクリルオキシフェニル)-プロパン；ジアリルアジペート ；ジ(2-アクリルオキシエチル)エーテル；ジペンタエリトリトールペンタアクリ レート；ネオペンチルグリコールジアクリレート；ポリプロピレングリコールジ アクリレート又はジメタクリレート；1,3,5-トリ-(2-(メタ)アクリルオキシエチ ル)-s-トリアジン；ヘキサメチレンジアクリレート；ポリ(エチレン性不飽和ア ルコキシ)ヘテロ環；ポリ(イソシアネート)とヒドロキシ−及びアミノ−官能性 アクリレートとの付加物；又はこれらの組合せの少なくとも一つを含有するか、 の少なくとも一つを更に特徴とする請求項10に記載のミクロ構造含有製品。 １４．前記ベースが前記ミクロ構造に隣接してスパッタエッチングされた面を 有することを更に特徴とする請求項10に記載のミクロ構造含有製品。 １５．光源と、 ディスプレイパネルと、 該光源と該ディスプレイパネルとの間に配設された請求項１０に記載の製品と 、 を含むことを特徴とするバックライト型ディスプレイ。 １６．前記ディスプレイパネルが液晶ディスプレイパネルであることを更に特 徴とする請求項１５に記載のバックライト型ディスプレイ。 １７．光源と、 ディスプレイパネルと、 該光源と該ディスプレイパネルとの間に配設された請求項１０に記載の製品と 、 を含むことを特徴とするコンピュータ。 １８．前記ディスプレイパネルが液晶ディルプレイパネルであることを更に特 徴とする請求項１７に記載のコンピュータ。