JP4468972B2 - ミクロ構造含有製品 - Google Patents

Description

本発明は、一般的には優れた突出部耐変形性を呈するミクロ構造含有複合製品に関する。より詳細には、本発明は、溝突出部の耐圧痕性を改良させた輝度増強フィルムに関する。

ミクロ構造含有製品を輝度増強フィルムとして使用することについては、Whiteheadの米国特許第4,542,449号に示されている。輝度増強フィルムとして有用なミクロ構造含有製品の一例が、Luらの米国特許第5,175,030号及びLuの米国特許第5,183,597号に記載されている。これらの特許は、ミクロ構造含有複合プラスチック製品及びミクロ構造含有複合プラスチック製品の成形方法を開示している。Luらの特許及びLuの特許は、全内部反射など、所望の光学特性を有するミクロ構造の作製を提示している。

ミクロ構造含有製品は、種々の形状で作製される。こうした形状の一つとして、一連の突出部と溝が交互に現れる形状のものが挙げられる。この形状の一例としては、対称な突出部と溝の規則的反復パターンを有する輝度増強フィルムが挙げられる。他の例としては、突出部と溝が対称でなく、しかも大きさ、方向、又は突出部と溝との距離が一様でないパターンのものが挙げられる。

従来技術の放射線硬化輝度増強フィルムの主な欠点は、従来技術の輝度増強フィルムでは時々暗点が観測されることである。暗点が製品の輝度増強度の測定値に影響を与えることはないが、暗点により輝度増強フィルムの外観が悪影響を受けるため、暗点は望ましいものではない。そのため、ディスプレイの製造業者は、こうした暗点を持たない輝度増強フィルムを要望することになる。

従来技術による輝度増強フィルムとしては、ミネソタ州St．PaulにあるMinnesota Mining and Manufacturing Companyから発売されている、ポリカーボネート熱可塑性樹脂から作られた製品「Brightness Enhancement Film」及び、日本の東京にある三菱レイヨンから発売されている、ポリエステルベース上に放射線硬化ミクロ構造層を有する製品「DIAART」が挙げられる。

本発明は、ミクロ構造含有製品であって、
該製品は溝突出部の耐圧痕性が改良されているとともに、
ベースと、
該ベース上の架橋した樹脂から形成されたミクロ構造と、
を有し、この樹脂が333°Kを超えるガラス転移温度を呈し、このガラス転移温度は前記樹脂をそのガラス転移温度よりも高い温度に加熱することによって高められていることを特徴とする前記ミクロ構造含有製品を提供する。熱処理は、少なくとも樹脂の標準ガラス転移温度に等しい温度で実施するが、樹脂の硬化（高温における硬化）と同時に行ってもよいし、硬化後の処理として行ってもよい。この熱処理は、生成するポリマーのガラス転移温度を約333°Ｋより高くするのに有効であり、その結果、溝突出部の圧痕が低減する。その他に、架橋剤を添加して、ガラス転移温度の上昇を助長してもよい。

本発明は、ベース又は基板上に交互に現れる突出部と溝とを有する、溝突出部の圧痕を生じにくいミクロ構造含有ポリマー製品を提供する。「ベース」及び「基板」という用語は、本明細書中では、互換性があるものとして扱う。本発明により、輝度増強フィルムとして使用したときに溝突出部耐変形性を呈するミクロ構造含有製品が提供される。

図１において全体として10で示される具体的なバックライト型液品ディルプレイには、典型的には拡散板12及び液晶ディスプレイパネル14の間に配置される本発明の輝度増強フィルム11が含まれる。このバックライト型液晶ディスプレイにはまた、蛍光ランプなどの光源16、光を反射させて液晶ディスプレイパネル14に伝搬させるための導光板18、及びこれもまた液晶ディスプレイパネルの方向に光を反射させるための白色反射板20が含まれる。輝度増強フィルム11は、導光板18から放出される光を平行光線に変えることによって、液晶ディスプレイパネル14の輝度を増大させる。輝度を増大させることによって、液晶ディスプレイパネルはよりシャープな画像を生成することができ、しかも光源16のパワーを低下させて所定の輝度を得ることができる。バックライト型液晶ディスプレイの輝度増強フィルム11は、コンピュータ、個人用テレビ、ビデオレコーダ、移動体通信デバイス、及び自動車などの装置、並びに参照記号21で表されるエビオニクス機器ディスプレイに有用である。輝度増強フィルム11には、図２に示されるように、典型的には角柱22、24、26、及び28で示されるような角柱の配列が含まれる。それぞれの角柱、例えば角柱22は、第１の面30及び第2の面32を有する。

角柱22、24、26、及び28は、これらの角柱が取り付けられる第１の表面36と、実質的にフラットすなわち平面であって、第１の表面に対向する第２の表面38とを有する本体部分34上に形成される。

正直角柱の線形配列が、光学的性能及び製造の容易さの両方の面で好ましい。
直角柱とは、頂点角θが典型的には90°であるが、70°から120°の範囲、最も好ましくは80°から100°の範囲であってもよいことを意味する。角柱面は同一である必要はなく、角柱が互いに傾いていてもよい。更に、フィルムの厚さ40と角柱の高さ42との関係が決定的な要因になることはないが、はっきりと規定された角柱面を有するより薄いフィルムが望ましい。角柱の高さ42と全厚40との典型的な比は、およそ25/125及び2/125の間である。

角柱面を突出させる場合には、角柱面と表面38とのなす角度は、典型的には45°である。しかしながら、この角度は、角柱面のピッチすなわち頂点の角度θにより変化する。

従来技術の放射線硬化輝度増強フィルムに見られる暗点は、輝度増強フィルムの突出部の変形に起因して発生することを見出した。突出部の変形は、通常、輝度増強フィルムに加重や力が加わったときか、又は物体が輝度増強フィルムにぶつかったときに起こる。突出部の変形と溝突出部の圧痕は、本明細書中では、同義的に使用されるものとする。

また、輝度増強フィルムに使用されるポリマーのガラス転移温度を約333°Ｋよりも高くすると、輝度増強フィルムが溝突出部の圧痕を生じにくくなることを見出した。333°Ｋは、輝度増強フィルムに使用されるポリマーの標準ガラス転移温度よりも高い。標準ガラス転移温度とは、室温において紫外線によってポリマーを硬化させるときに得られるガラス転移温度である。

種々の方法を使用して、ガラス転移温度を高めることができる。例えば、輝度増強フィルムを硬化させる際に温度を上昇させることによって、ガラス転移温度を広範に変化させることができる。また、硬化後の処理や架橋剤の添加を行うことによって、ガラス転移温度を高めることもできる。

ミクロ構造含有製品は、Luらの米国特許第5,175,030号及びLuの米国特許第5,183,597号に開示されている方法と類似の方法によって作製するのが好ましい。この作製方法には、以下の工程、即ち(a)オリゴマー樹脂組成物を調製する工程と、(b)マスター逆ミクロ構造成形面の空隙をかろうじて満たすのに必要な量で該オリゴマー樹脂組成物を該マスター上に付着させる工程と、(c)少なくとも一方は可撓性を有する予備成形された基板及び該マスターの間で該組成物のビードを動かすことによって該空隙を満たす工程と、(d)該オリゴマー組成物を硬化させる工程と、が含まれる。

工程(a)のオリゴマー樹脂組成物は、一液型無溶剤放射線重合性架橋性有機オリゴマー組成物である。このオリゴマー組成物は、高屈折率、即ち、1.56を超える、好ましくは1.58を超える屈折率を有する硬化ポリマーを形成するものが好ましい。輝度増強フィルムの光学的性能上、高屈折率であることが重要である。好ましい好適なオリゴマー組成物の一つとして、芳香族エポキシ誘導アクリレート若しくはマルチアクリレートと、一つ以上の反応性希釈剤（組成物の粘度を調節するために使用される）と、好ましくは更に、芳香族基を含有する少なくとも一つのアクリレートエステルとから成るブレンドが挙げられる。この組合せにより、高屈折率及び高ガラス転移温度を兼ね備えた硬化樹脂が得られる。

好ましいオリゴマー樹脂組成物においては、エポキシアクリレート又はマルチアクリレートの量は、オリゴマー組成物を基準に約40〜80重量％、好ましくは55〜65重量％である。反応性希釈剤（一種又は複数種）の量は、オリゴマー組成物を基準に約20〜60重量％、好ましくは約35〜45重量％である。

輝度増強フィルムに対しては、光学的性能上、高屈折率であることが重要である。従って、オリゴマー組成物はまた、高屈折率、即ち、1.56を超える屈折率の硬化ポリマーを形成することが好ましい。

エポキシジアクリレートは、次のような多数の市販化合物から選択することができる。例えば、「PHOTOMER」Brand系列：3015，3016，及び3038（ペンシルヴェニア州AmblerにあるHenkel Corp.製）、並びに「EBECRYL」Brand系列：600，1608，3201，3500，及び3600（ジョージア州SmyrnaにあるUCB-Radcure製）が挙げられる。オリゴマーを選択する判定基準の中心的な因子は、屈折率及びホモポリマーのガラス転移温度である。アクリレート基と芳香族基とを連結する原子の数が増えると、典型的には、屈折率及びガラス転移温度はいずれも減少するが、硬化させた樹脂の可撓性は増大する。こうした連結基は、エポキシ基又はプロポキシ基の形態をとることが多い。

臭素を添加することによって、エポキシジアクリレートを改質することもできる。臭素改質エポキシジアクリレートとしては、各フェニル基に2個の臭素原子が結合したRDX51027が好ましい。RDX51027は、ジョージア州SmyrnaにあるUCB-Radcureから入手することができる。

典型的には、放射線硬化性オリゴマー樹脂組成物にモノマーを添加して、オリゴマーが通常示す高い粘度を減少させる。また、こうしたモノマーを使用することによって、硬化させた樹脂の性質、例えば、可撓性、屈折率、及びガラス転移温度を改良することもできる。こうしたモノマーの例が、それらのホモポリマーの標準ガラス転移温度と共に米国特許第4,668,558号に列挙されており、具体的には、、アクリル酸イソボルニル（367°Ｋ）、メタクリル酸メチル（378°Ｋ）、クロロアクリル酸シクロヘキシル（372°Ｋ）、2-クロロスチレン（406°Ｋ）、2,4-ジクロロスチレン（406°Ｋ）、スチレン（373°Ｋ）、アクリル酸（360°Ｋ）、アクリルアミド、アクリロニトリル（393°Ｋ）、メタクリロニトリル（393°Ｋ）が挙げられる。アクリル酸フェノキシエチル及びアクリル酸ベンジルなどの高屈折率を有する高反応性モノマーが好ましい。

アクリレート官能性モノマー及びオリゴマーが好ましいが、その理由は、これらが標準的硬化条件下でより迅速に重合することである。そのうえ、多種のアクリレートエステルが市販品として入手できる。しかしながら、メタクリレート、アクリルアミド、及びメタクリルアミド官能性成分もまた、自由に使用できる。

本明細書中では、「アクリレート」を使用する場合、「メタクリレート」も利用可能であることを意味するものとする。スチリル官能性モノマーも含まれるが、通常は比較的少量の成分として使用して、具体的には放射線硬化により重合を確実に完了させるようにする。

重合は、遊離基重合開始剤の存在下での加熱、好適な光重合開始剤の存在下での紫外線又は可視光線の照射、及び電子ビームの照射などの通常の手段によって達成することができる。便利さ、設備投資の少なさ、及び製造スピードの点で、好ましい重合方法は、オリゴマー組成物に対して約0.1重量パーセントから約1.0重量パーセントの濃度の光重合開始剤の存在下で紫外線又は可視光線を照射する方法である。より高い濃度を使用することもできるが、所望の硬化樹脂特性を得るうえでは通常必要ではない。

工程(b)で付着させるオリゴマー組成物の粘度は、好ましくは500〜5,000センチポアズ（500×10^-3〜5,000×10^-3パスカル−秒）である。オリゴマー組成物がこの範囲を超える粘度を有する場合、気泡が組成物中に閉じ込められるようになる可能性を生じる。更に、組成物が、マスター中の空隙を完全に満たすことができなくなる恐れも生じる。この範囲未満の粘度を有するオリゴマー組成物を使用する場合、オリゴマー組成物は、通常、硬化に伴って収縮し、そのためにオリゴマー組成物がマスターを正確に複製することができなくなる。

ポリエチレンテレフタレートフィルム又はポリカーボネートフィルムは、工程(c)の基板として使用するのに好適である。なぜなら、これらの材料は、経済的で、光学的に透明であり、しかも良好な引張強度を有するからである。厚さ0.025ミリメートルから0.5ミリメートルが好ましく、厚さ0.075ミリメートルから0.175ミリメートルが特に好ましい。

材料が実質的に透明であり、しかもミクロ構造の鋳造及びミクロ構造含有製品を使用するディスプレイ装置の製造における取り扱いを可能とする十分な強度を有するかぎり、ほとんどいかなる材料でもベース（基板）として使用することができる。また、ベースとして使用する材料としては、十分な熱安定性及び耐老化性を有し、本発明の製品が使用されているディスプレイ装置の性能が、その典型的な耐用年数にわたって低下しないようなものを選ぶ必要がある。

ミクロ構造含有製品に有用な他の基板としては、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート ポリウレタン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、及びガラスが挙げられる。また、基板の表面を処理して、オリゴマー組成物に対する接着性を向上させてもよい。

良好な光学的特性及び許容しうる接着性を有する、ポリエチレンテレフタレートを基材とする材料が好適である。こうしたポリエチレンテレフタレートを基材とする材料としては、例えば、写真等級のポリエチレンテレフタレート；本明細書中で「SEP-PET」と記される、米国特許第4,340,276号（実施例５）に記載の方法によって作製された表面を有するポリエチレンテレフタレート（PET）；並びにデラウェア州WilmingtonにあるICI Films製のMELINEX PETが挙げられる。SEP-PETにはクロムなどの物質が含まれるが、下に位置するPETの部分が該物質の不連続ミクロアイランド間に露出する複合表面が得られる程度の添加量で使用される。酸素プラズマを用いて複合表面をスパッタエッチングし、エッチング速度の速いPETの露出部分を優先的にエッチングするとともに、不連続ミクロアイランドをより低速でエッチングすることによって、高さがおよそ0.01から0.2μｍの範囲内で変化し、かつ隣接するミクロペデスタルとの間隔がおよそ0.05から0.5μｍの範囲内にあるミクロペデスタルの形状が得られる。

上述の方法で使用される好ましいマスターは、ニッケル、ニッケルめっきされた銅又は黄銅などの金属マスターである。硬化及び場合により同時熱処理の工程の温度があまり高くなければ、ポリエチレン及びポリプロピレンのラミネートなどの熱可塑性材料からマスターを作製することもできる。

オリゴマー樹脂が基板とマスターとの間の空隙を満たした後、オリゴマー樹脂を硬化及び熱処理する。硬化及び熱処理は、次の方法のうちの一つを使用して実施するのが好ましい。

第１の方法では、高温において樹脂を放射線硬化させる。好ましい樹脂は、紫外線又は電子ビームなどを照射することによって硬化可能な樹脂であり、こうした照射は慣例的に室温で行われる。高温で樹脂を硬化させると、得られる製品のガラス転移温度が上昇し、満足すべきレベルまで溝突出部の圧痕が低減する。

この態様においては、少なくとも所望のガラス転移温度に等しい温度、好ましくは所望のガラス転移温度を超える温度で樹脂を硬化させる。好ましくは標準ガラス転移温度よりも少なくとも10℃（10°Ｋ）高い温度、最も好ましくは標準ガラス転移温度よりも少なくとも20℃（20°Ｋ）高い温度で樹脂を硬化させる。エポキシジアクリレートとフェノキシエチルアクリレートとのブレンドであるオリゴマー組成物に対しては、硬化温度を約85℃（385°Ｋ）とするのが好ましい。

第２の方法では、先ず樹脂を硬化させ、次に、この樹脂を硬化後の熱処理にかける。硬化後の熱処理では、この硬化させた樹脂を、少なくともポリマーの標準ガラス転移温度に等しい温度でおよそ60秒間加熱する。加熱温度は、好ましくは標準ガラス転移温度よりも少なくとも10℃（10°Ｋ）、最も好ましくは少なくとも20℃（20°Ｋ）高い温度である。
第3の方法では、樹脂に架橋剤を添加してポリマーの架橋を更に助長する。これによっても、ガラス転移温度が上昇する結果となる。好適な架橋剤としては、例えば、1,4−ブチレンジ−メタクリレート又は−アクリレート；エチレンジ−メタクリレート又は−アクリレート；トリメチロールプロパンジ−又はトリ−アクリレート；グリセリルジ−アクリレート又は−メタクリレート；グリセリルトリ−アクリレート又は−メタクリレート；グリシジルアクリレート又はメタクリレート；ペンタエリトリトールトリ−若しくはテトラ−アクリレート又はトリ−若しくはテトラ−メタクリレート；ジアリルフタレート；2,2−ビス(4−メタクリルオキシフェニル)−プロパン；ジアリルアジペート；ジ(2−アクリルオキシエチル)エーテル；ジペンタエリトリト−ルペンタアクリレート；ネオペンチルグリコールジアクリレート；ポリプロピレングリコールジアクリレート又はジメタクリレート；1,3,5−トリ−(2−(メタ)アクリルオキシエチル)−s−トリアジン；ヘキサメチレンジアクリレート；米国特許第4,262,072号に教示されているポリ(エチレン性不飽和アルコキシ)ヘテロ環；並びにポリ(イソシアネート)と、ジョージア州SmyrnaにあるUCB−Radcureから販売されているEB220などのヒドロキシ−及びアミノ−官能性アクリレートとの付加物が挙げられる。高屈折率を有するポリマーを生成する架橋剤が好ましい。好ましくは屈折率が1.56を超え、最も好ましくは屈折率が1.58を超える。こうした架橋剤の一つで、特に有用なものはEB220である。

三つの方法を組み合わせるのが好ましい。架橋剤を樹脂に添加し、高温で樹脂を硬化させ、次に、硬化後の熱処理を施す。この他に、二つの方法を任意に組み合わせてもよい。例えば、架橋剤を樹脂に添加し、次に高温で樹脂を硬化させるか、又は高温で樹脂を硬化させ、次に硬化後の熱処理を施してもよい。架橋剤を樹脂に添加し、次に室温で硬化させ、上述したように少なくとも標準ガラス転移温度に等しい温度で後硬化させてもよい。

樹脂に対する硬化後の熱処理は、少なくとも標準ガラス転移温度に等しい温度で30〜60秒間行う。硬化後の熱処理は、好ましくはガラス転移温度よりも少なくとも10℃（10°Ｋ）高い温度、最も好ましくはガラス転移温度よりも少なくとも20℃（20°Ｋ）高い温度で行う。エポキシジアクリレートとフェノキシエチルアクリレートとのブレンドであるオリゴマー組成物に対しては、硬化後の熱処理を、好ましくは80℃（353°Ｋ）〜110℃（383°Ｋ）の温度で60秒間行う。

また、試験方法を開発し、本発明の輝度増強フィルムの満足すべき溝突出部耐圧痕性を規定した。この試験方法では、溝突出部の圧痕の深さを測定する。ほとんどの場合、溝突出部圧痕深さ試験が、視覚的な溝突出部の圧痕と良好な相関を示すことが分かった。

溝突出部の圧痕の深さは、次の試験手順に従って測定した。エアクッション上に浮かせたテーブル上で溝突出部圧痕深さ試験を行って、溝突出部圧痕深さの試験結果に及ぼす外部の影響を最小限に抑えることが好ましい。

輝度増強フィルムを100mmの正方形に切断する。エアクッション付きのテーブル上に、平らで滑らかなガラス板を置く。次に、ガラス板上に、輝度増強フィルムを置く。輝度増強フィルムの溝を上向きにする。

円形鋼板の一方の面上に、三つの鋼球を三角形を構成するように取り付ける。直径３mmを有する鋼球を用いる。鋼板は、直径100mmのものを用いる。鋼球及び鋼板は、合わせておよそ600グラムである。

次に、鋼球が輝度増強フィルムと対向するように、輝度増強フィルム上に鋼板を置く。この直径100mmの鋼板上に更に、およそ3,327グラムの重さのもう一つの鋼板を置いてもよい。

輝度増強フィルムに30分間加重をかけた後、鋼球及び鋼板を輝度増強フィルムから取り去る。0.000002インチ（0.05ミクロン）刻みのSupramess Mahrダイアルインジケータを用いて、鋼球が輝度増強フィルムに入り込んだ深さを測定する。Supramess Mahrダイアルインジケータは、Ono Sokki ST-022ゲージスタンドに取り付ける。

ガラス転移温度は、Rheometrics RSA-IIなどの動的機械分析器を用いて引張モードにおける複合体の動的機械分析を行うことにより得られるtanδ曲線のピークとして求めるのが好ましい。

ガラス転移温度を上昇されるための硬化及び熱処理方法をいずれも使用したが、どの方法を使用しても違いは見られない。ガラス転移温度が上昇するかぎり、溝突出部の圧痕の深さは減少する。

輝度増強フィルムの数種のサンプルから得られた溝突出部の圧痕の深さの結果を図3に示す。これらの結果から、溝突出部の圧痕の深さとガラス転移温度との間に良好な相関があることが分かる。

二つのタイプの輝度増強フィルムを用いて試験を行った。一方のタイプの輝度増強フィルムは臭素化樹脂を含有し、もう一方のタイプの輝度増強フィルムは非臭素化樹脂を含有する。臭素化樹脂には、60重量％のRDX 51027及び40重量％のPHOTOMER Brand 4035が含まれる。非臭素化樹脂には、60重量％のPHOTOMER Brand 3016及び40重量％のPHOTOMER Brand 4035が含まれる。

図３から、非臭素化樹脂及び臭素化樹脂が、同じ一般曲線上にのることが分かる。これらの結果に基づいて、溝突出部の圧痕の深さとガラス転移温度との関係は、組成には依存しない物理的関係であるという結論が得られる。同様に、溝突出部の圧痕の深さの低下と、溝突出部の圧痕の低減との間に相関があるので、ガラス転移温度も同様に溝突出部の圧痕と関係する。

図３の曲線から分かるように、溝突出部の圧痕の深さの非常に少ない紫外線硬化輝度増強フィルムの数種のサンプルが作製された。これらのサンプルのほとんどすべてにおいて、溝突出部の圧痕の深さが4.0×10^-6インチ（0.1ミクロン）未満である。これらの結果は、従来の方法で作製されたサンプルよりも著しく改良されたことを示している。

輝度増強フィルムのほとんどの用途では、使用温度が、およそ20℃（293°Ｋ）の標準的な室温に非常に近い。しかしながら、すべてのコンポーネントを65℃（338°Ｋ）で試験する必要のあるディスプレイ製造業者もいくつかある。従来技術の輝度増強フィルムでは、たとえ高温で硬化させたとしても、十分に高いガラス転移温度にはならず、高い試験温度において溝突出部の圧痕を回避することができない。米国特許第4,542,449号に記載されているように、溝が交差するように二枚の輝度増強フィルムを重ねて使用する場合には、このことが特に明確になる。

輝度増強フィルムのガラス転移温度は、上述のように更に架橋剤を添加したり、表に示したように本明細書で開示されている高い硬化温度を利用することによって上昇させることができる。「HHA」と記された項目は、ヒダントインヘキサアクリレートを表し、Wendlingらの米国特許第4,262,072号に従って調製したものである。サンプルＥは、架橋剤EB220を用いて調製した。これらのデータは、架橋剤及び硬化条件を適切に選ぶことによって、屈折率の低下を最小限に抑えて、輝度増強フィルムのガラス転移温度を顕著に上昇させることができることをはっきりと示している。

好ましい実施態様を参照しながら本発明を説明してきたが、当業者には、本発明の精神及び範囲を逸脱することなしに、形態及び細部に関する変更が可能であることが分かるであろう。

バックライト型液晶ディスプレイ中における本発明の具体的なフィルムを表す略図である。 本発明の具体的なミクロ構造含有ポリマー製品の斜視図である。 本発明の方法により作製された輝度増強フィルムに対する溝突出部の圧痕の深さとガラス転移温度との関係を示すグラフである。

Claims (5)

1. ミクロ構造含有製品であって、
   該製品は溝突出部の耐圧痕性が改良されているとともに、
   ベースと、
   該ベース上の、架橋した樹脂から形成されたミクロ構造と、
   を有し、
   この樹脂が333°Kを超えるガラス転移温度を呈し、
   このガラス転移温度は、前記樹脂を硬化させた後、前記樹脂を初めのガラス転移温度よりも高い温度に加熱することによって高められ、前記初めのガラス転移温度が、室温において紫外線によって前記樹脂を硬化させたときに得られるガラス転移温度であることを特徴とする前記ミクロ構造含有製品。
2. 前記ミクロ構造が隣接する突出部及び溝を有することを特徴とするとともに、前記突出部が70°〜120°の範囲にある夾角を有することを特徴とする、請求項１に記載のミクロ構造含有製品。
3. 前記ベースが、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ガラス、又はこれらの組合せから形成されることをさらに特徴とする、請求項１に記載のミクロ構造含有製品。
4. 前記架橋した樹脂が、エポキシジアクリレート、臭素改質エポキシジアクリレート、イソボルニルアクリレート、メチルメタクリレート、シクロヘキシルクロロアクリレート、2-クロロスチレン、2,4-ジクロロスチレン、スチレン、アクリル酸、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、フェノキシエチルアクリレート、トリブロモフェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、アルコキシル化エポキシジアクリレート、臭素改質アルコキシル化エポキシジアクリレート、又はこれらの組合せから調製されることをさらに特徴とする、請求項１に記載のミクロ構造含有製品。
5. 前記架橋した樹脂が、次の架橋剤、即ち：1,4-ブチレンジ-メタクリレート又は-アクリレート；エチレンジ-メタクリレート又は-アクリレート；トリメチロールプロパンジ-又はトリ-アクリレート；グリセリルジ-アクリレート又は-メタクリレート；グリセリルトリ-アクリレート又は-メタクリレート；グリシジルアクリレート又はメタクリレート；ペンタエリトリトールトリ−若しくはテトラ−アクリレート又はトリ−若しくはテトラ−メタクリレート；ジアリルフタレート；2,2-ビス(4-メタクリルオキシフェニル)-プロパン；ジアリルアジペート；ジ(2-アクリルオキシエチル)エーテル；ジペンタエリトリトールペンタアクリレート；ネオペンチルグリコールジアクリレート；ポリプロピレングリコールジアクリレート又はジメタクリレート；1,3,5-トリ-(2-(メタ)アクリルオキシエチル)-s-トリアジン；ヘキサメチレンジアクリレート；ポリ(エチレン性不飽和アルコキシ)ヘテロ環；ポリ(イソシアネート)とヒドロキシ−及びアミノ−官能性アクリレートとの付加物；又はこれらの組合せの少なくとも一つを含有することをさらに特徴とする、請求項１に記載のミクロ構造含有製品。

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