JPH1149749A - ペルフルオロシクロヘキシル基含有有機過酸化物、該誘導体、用途及び製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ペルフルオロシクロヘキシル基含有有機過酸化
物、該誘導体、用途及び製造方法の提供。 【解決手段】特定のペルフルオロシクロヘキシル基含有
有機過酸化物、該有機化酸化物をラジカル重合開始剤と
して用いて、末端にペルフルオロシクロヘキシル基を含
有する重合体、或いは、芳香族化合物と前記の有機過酸
化物を反応させ、芳香族環にペルフルオロシクロヘキシ
ル基を導入した化合物、該有機過酸化物のラジカル重合
開始剤としての用途、前記の有機過酸化物の製造方法、
及び前記の有機過酸化物から誘導される化合物の製造方
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なペルフルオ
ロシクロヘキシル基含有有機過酸化物、該有機過酸化物
を用いたペルフルオロシクロヘキシル基含有化合物、用
途及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ペルフルオロアルキル基を有する
含フッ素有機過酸化物（＝ペルフルオロアルカノイルペ
ルオキシドとも記す。）は、フッ素系モノマーの重合触
媒として多用されている。例えば、特開昭４９−１０２
９０号公報には、テトラフルオロエチレンとヘキサフル
オロプロペンの共重合触媒としてペルフルオロアルカノ
イルペルオキシドが有用であることが報告されている。
しかしながら、ペルフルオロシクロヘキシル基を有する
ペルフルオロシクロヘキサンカルボニルペルオキシドに
関してはその報告がなされていない。さらに、有機化合
物中にフルオロアルキル基を含有する化合物は、耐光
性、撥水性、撥油性、更には生理活性等の有用な性質を
示すものとして近年注目を集めている。特に、有機化合
物中にフルオロアルキル基が導入されたフルオロアルキ
ル基含有重合体は、低表面張力、低屈折性、耐熱性、耐
寒性、耐油性、電気絶縁性、撥水性、撥油性、離型性、
耐薬品性等の優れた特性を有しているため種々の分野に
おいて、例えば、光学レンズ、眼鏡用レンズ、ガラス器
具、塗料等の表面における撥水撥油性及び防汚染性等の
付与のための表面処理剤、化粧品、生体材料、医薬・農
薬の原料、更には離型性を付与する材料等の分野におい
て有用であると考えられている。しかしながら、これら
フルオロアルキル基含有化合物において、ペルフルオロ
シクロヘキシル基が直接炭素−炭素結合で導入された含
フッ素有機化合物の合成に関してはその報告がなされて
いない。従って、ペルフルオロシクロヘキシル基を有す
るペルフルオロシクロヘキサンカルボニルペルオキシド
の開発、さらにはペルフルオロシクロヘキシル基が直接
炭素−炭素結合で導入された化合物の開発が望まれてい
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の第１の目的
は、新規なペルフルオロシクロヘキシル基含有有機過酸
化物を提供することにある。本発明の第２の目的は、ペ
ルフルオロシクロヘキシル基が直接炭素−炭素結合で導
入された含フッ素有機化合物を提供することにある。更
に詳しくは、低表面張力、低屈折性、耐熱性、耐寒性、
耐油性、電気絶縁性、防曇性、防汚性、離型性、光学レ
ンズ、眼鏡用レンズ、ガラス器具、塗料等の表面におけ
る撥水撥油性及び防汚染性及び耐薬品性等の優れた特性
を有し、化粧品さらにはカチオン系界面活性剤として有
用な含フッ素有機化合物を提供することにある。本発明
の第３の目的は、該ペルフルオロシクロヘキシル基含有
有機過酸化物を有効成分とするエチレン性重合基のラジ
カル重合開始剤としての用途を提供することにある。さ
らに本発明の第４の目的は、反応触媒及び特殊な装置を
用いず、高収率かつ容易にペルフルオロシクロヘキシル
基が炭素−炭素結合で導入された化合物を製造する方法
を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題点に鑑み鋭意検討した結果、新規なペルフルオロシク
ロヘキサンカルボニルペルオキシドを合成し、該有機過
酸化物を重合開始剤として重合する新規なペルフルオロ
シクロヘキシル基を含有する重合体が得られることを見
出し、さらに芳香族化合物と前記の有機過酸化物との反
応により芳香族環にペルフルオロシクロヘキシル基が反
応して導入できることを見出し、本発明を完成した。す
なわち、本発明は次の（１）〜（８）である。 （１）下記式［Ｉ］

【化１１】 で示されるペルフルオロシクロヘキシル基含有有機過酸
化物。 （２）下記一般式［II］

【０００５】

【化１２】 ［式中、Ｒｆはペルフルオロシクロヘキシル基、Ｒ¹は
水素原子又はメチル基、Ｒ²、Ｒ³は、ハロゲン原子、シ
アノ基、−Ｓｉ（Ｒ⁴）₃、−ＣＯ₂Ｒ⁵、−ＣＯＮＲ⁶Ｒ⁷
を示し、m1は１〜５０００及びm2は０〜５０００の整数
を示す。｛但し、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル基又は
アルコキシ基、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷は水素原子又は炭素数１
〜１８のアルキル基、又は炭素数２〜６のヒドロキシア
ルキル基、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（Ｒ⁴）₃を示す。｝］
で表わされる数平均分子量５００〜１００００００のペ
ルフルオロシクロヘキシル基含有化合物。 （３）下記一般式［III］

【化１３】 （式中、Ａｒ−基は、ベンゼン、チオフェン、フラン、
トルエン、キシレンおよびナフタレンの残基のいずれか
示す。）で表されるペルフルオロシクロヘキシル基含有
化合物。

【０００６】（４）下記一般式［IV］

【化１４】 （式中、ｘは０〜１００００の整数を示し、ｙは１〜１
００００の整数を示す。）で表されるペルフルオロシク
ロヘキシル基含有化合物。

【０００７】（５）前記の式［Ｉ］の有機過酸化物を有
効成分とするエチレン性重合基のラジカル重合開始剤。 （６）前記（２）のペルフルオロシクロヘキシル基含有
有機過酸化物の製造方法であって、下記式［Ｉ］

【化１５】 で示されるペルフルオロシクロヘキシル基含有有機過酸
化物および下記一般式［Ｖ］

【化１６】 ［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²はハロゲン原
子、シアノ基、−Ｓｉ（Ｒ⁴）₃、−ＣＯ₂Ｒ⁵、−ＣＯＮ
Ｒ⁶Ｒ⁷を示す。｛但し、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル
基又はアルコキシ基、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷は水素原子、炭素
数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜６のヒドロキシア
ルキル基、又は−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（Ｒ⁴）₃を示
す。｝］で表わされるモノマーと下記一般式［VI］

【化１７】 ［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ³はハロゲン原
子、シアノ基、−Ｓｉ（Ｒ⁴）₃、−ＣＯ₂Ｒ⁵、−ＣＯＮ
Ｒ⁶Ｒ⁷を示す。｛但し、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル
基又はアルコキシ基、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷は水素原子、炭素
数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜６のヒドロキシア
ルキル基、又は−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（Ｒ⁴）₃を示
す。｝］で表わされるモノマーとの混合物を反応させる
ことを特徴とするペルフルオロシクロヘキシル基含有化
合物の製造方法。

【０００８】（７）前記（３）のペルフルオロシクロヘ
キシル基含有有機過酸化物の製造方法であって、下記式
［Ｉ］

【化１８】 で示されるペルフルオロシクロヘキシル基含有有機過酸
化物と下記一般式［VII］ Ａｒ−Ｈ ・・・［VII］ （式中、Ａｒ−基は、ベンゼン、チオフェン、フラン、
トルエン、キシレンおよびナフタレンの残基のいずれか
を示す。）で表される芳香族化合物とを反応させること
を特徴とするペルフルオロシクロヘキシル基含有化合物
の製造方法。

【０００９】（８）前記（４）のペルフルオロシクロヘ
キシル基含有有機過酸化物の製造方法であって、下記式
［Ｉ］

【化１９】 で示されるペルフルオロシクロヘキシル基含有有機過酸
化物と下記一般式［VIII］

【化２０】 で表される芳香族化合物とを反応させることを特徴とす
るペルフルオロシクロヘキシル基含有化合物の製造方
法。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の前記の［１］式に示され
るペルフルオロシクロヘキシル基含有有機過酸化物（ペ
ルフルオロシクロヘキサンカルボニルペルオキシドとも
記す。又はＰＦＣＨ−ＰＯと略記する。）は、対応する
ペルフルオロシクロヘキサンカルボニルハライドをアル
カリ性条件下、過酸化水素と反応させることにより合成
することができる。前記の対応するペルフルオロシクロ
ヘキサンカルボニルハライドとしては、例えば、ペルフ
ルオロシクロヘキサンカルボニルフルオリド、ペルフル
オロシクロヘキサンカルボニルクロリド、ペルフルオロ
シクロヘキサンカルボニルブロミドが挙げられる。具体
的な合成方法としては、次の第１方法および第２方法が
ある。第１方法は、ペルフルオロシクロヘキサンカルボ
ニルハライドとして、ペルフルオロシクロヘキサンカル
ボニルフルオリドを用い、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム及びこれらの混合物等からな
る群より選択される化合物または混合物（以下、Ａ成分
と称す。）の存在下、過酸化水素と反応させる。第２方
法は、前記ペルフルオロシクロヘキサンハライドを過酸
化ナトリウム、過酸化カリウム、過酸化バリウム及びこ
れらの混合物等から成る群より選択される化合物または
混合物（以下Ｂ成分と称す。）と反応させる。前記第１
方法において、ペルフルオロシクロヘキサンハライドと
過酸化水素と、Ａ成分との仕込モル比は、１：０．３〜
２０：０．３〜１０であることが好ましく、特に、１：
０．５〜１０：０．５〜７の範囲であるのが望ましい。
また、第２方法では、ペルフルオロシクロヘキサンハラ
イドとＢ成分の仕込モル比は、１：０．３〜２０である
のが好ましく、特に、１：０．５〜１５の範囲であるこ
とが望ましい。前記第１方法で、前記ペルフルオロシク
ロヘキサンカルボニルハライドに対する過酸化水素とＡ
成分との仕込モル比が２０および１０を越える場合、生
成物である有機過酸化物の収率が低下するので好ましく
ない。又第２方法で、前記ペルフルオロシクロヘキサン
カルボニルハライドに対するＢ成分の仕込モル比が２０
を越える場合には、生成物である有機過酸化物の収率が
低下するので好ましくない。また、第１方法で前記仕込
モル比の過酸化水素が０．３未満では、反応時間が長く
なり、しかも生成物の収率も低下するので好ましくな
い。第２方法で前記仕込みモル比のＢ成分が０．３未満
では、反応時間が長くなり、しかも生成物の収率も低下
するので好ましくない。さらに、前記Ａ成分及びＢ成分
は、水に溶解して用いるのが好ましく、水溶液中のＡ成
分及びＢ成分の濃度は１〜６０重量％、特に５〜３０重
量％の範囲であることが望ましい。この際、前記濃度が
６０重量％を越える場合は、生成物の収率が低下するの
で好ましくなく、１重量％未満では反応効率が著しく低
下し、工業的に不向きとなるため好ましくない。また、
前記の第１方法及び第２方法における反応温度は、−３
０〜＋５０℃が好ましく、反応時間は、０．５〜１０時
間であるのが好ましい。

【００１１】さらに、前記反応は、ペルフルオロヘキサ
ンカルボニルハライドが可溶な溶剤であれば特に限定さ
れない。例えば、ハロゲン化脂肪族溶媒、ハロゲン化芳
香族溶媒などの溶媒を用いて行うのが特に好ましい。具
体的には例えば、塩化メチレン、クロロホルム、２−ク
ロロ−１，２−ジブロモ−１，１，２−トリフルオロエ
タン、１，２−ジブロモヘキサフルオロプロパン、１，
２−ジブロモテトラフルオロエタン、１，１−ジフルオ
ロテトラクロロエタン、１，２−ジフルオロテトラクロ
ロエタン、フルオロトリクロロメタン、ヘプタフルオロ
−２，３，３−トリクロロブタン、１，１，１，３−テ
トラクロロテトラフルオロプロパン、１，１，１−トリ
クロロペンタフルオロプロパン、１，１，２−トリクロ
ロトリフルオロエタン、１，１，１，２，２−ペンタフ
ルオロ−３、３−ジクロロプロパン、１，１，２，２，
３−ペンタフルオロ−１，３−ジクロロプロパン、ベン
ゾトリフルオリド、ヘキサフルオロキシレン、ペンタフ
ルオロベンゼン等の溶媒を用いることができる。特に工
業的には、１，１，１，２，２−ペンタフルオロ−３、
３−ジクロロプロパン、１，１，２，２，３−ペンタフ
ルオロ−１，３−ジクロロプロパン、ベンゾトリフルオ
リド等の溶媒若しくはこれら溶媒が任意の割合で混合さ
れた混合溶媒を好ましく挙げることができる。さらに、
これらの溶媒を使用して反応する際の反応温度は−３０
〜＋５０℃の範囲であるのが望ましい。得られた反応の
粗生成物は水等を用いて洗浄したりして精製することが
できる。

【００１２】本発明のＰＦＣＨ−ＰＯは、ペルフルオロ
ヘキシル基を有するために１０時間選定半減期温度が、
通常のフッ素系の有機過酸化物に比べて高く一般のエチ
レン性重合基のラジカル重合開始剤として有用である。
エチレン性重合基を有するモノマーとしては特に限定さ
れないが、後述の例示のモノマーが挙げられる。

【００１３】本発明のペルフルオロシクロヘキシル基含
有化合物の一つは、一般式［II］で示されるものであ
り、ペルフルオロシクロヘキシル基含有有機過酸化物を
ラジカル重合開始剤としてエチレン性重合基を有するモ
ノマーを重合して得られる。ここで、Ｒｆ基は、ペルフ
ルオロシクロヘキシル基であり、Ｒ¹は水素原子又はメ
チル基、Ｒ²はハロゲン原子、シアノ基、−Ｓｉ（Ｒ⁴）
₃、−ＣＯ₂Ｒ⁵、−ＣＯＮＲ⁶Ｒ⁷を示す。｛但し、Ｒ⁴は
炭素数１〜４のアルキル基又はアルコキシ基、Ｒ⁵、
Ｒ⁶、Ｒ⁷は水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、炭
素数２〜６のヒドロキシアルキル基、又は−ＣＨ₂ＣＨ₂
ＣＨ₂Ｓｉ（Ｒ⁴）₃を示す。

【００１４】本発明の前記一般式［II］で示されるペル
フルオロシクロヘキシル基含有化合物は、重合体の両末
端にペルフルオロシクロヘキシル基があるものを示した
が、ラジカル反応で生じる重合体の片末端のみにペルフ
ルオロシクロヘキシル基が導入された化合物を任意の割
合で含んだものを示すこともできる。また、その際、ラ
ジカルの連鎖移動により溶媒などに由来する基やラジカ
ル停止反応による不均化反応に由来する基を片末端に導
入されたものも任意に含んでよい。 一般式［II］

【化２１】 ［ここで、Ｒｆ基は、ペルフルオロシクロヘキシル基で
あり、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²はハロゲン原
子、シアノ基、−Ｓｉ（Ｒ⁴）₃、−ＣＯ₂Ｒ⁵、−ＣＯＮ
Ｒ⁶Ｒ⁷を示す。｛但し、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル
基又はアルコキシ基、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷は水素原子、炭素
数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜６のヒドロキシア
ルキル基、又は−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（Ｒ⁴）₃を示
す。］で表わされるペルフルオロシクロヘキシル基含有
化合物を構成する一般式［Ｖ］

【化２２】 ［ここで、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²はハロゲン
原子、シアノ基、−Ｓｉ（Ｒ⁴）₃、−ＣＯ₂Ｒ⁵、−ＣＯ
ＮＲ⁶Ｒ⁷を示す。｛但し、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキ
ル基又はアルコキシ基、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷は水素原子、炭
素数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜６のヒドロキシ
アルキル基、又は−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（Ｒ⁴）₃を示
す。］および、一般式［VI］

【化２３】 ［ここで、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ³はハロゲン
原子、シアノ基、−Ｓｉ（Ｒ⁴）₃、−ＣＯ₂Ｒ⁵、−ＣＯ
ＮＲ⁶Ｒ⁷を示す。｛但し、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキ
ル基又はアルコキシ基、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷は水素原子、炭
素数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜６のヒドロキシ
アルキル基、又は−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（Ｒ⁴）₃を示
す。｝］で表わされるモノマーの具体例としては、次の
ものが挙げられる。

【００１５】例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フ
ッ化ビニル、フッ化ビニリデン、アクリロニトリル、酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、（メタ）
アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、(メタ)アクリ
ル酸−ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メ
タ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸−ｎ−ブチ
ル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート，２−ヒドロキシ
プロピル（メタ）アクリレート、トリメトキシビニルシ
ラン、トリエトキシビニルシラン、ジアセチルオキシメ
チルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ト
リアセチルオキシビニルシラン、トリイソプロポキシビ
ニルシラン、トリメチルビニルシラン、トリ−ｔ−ブト
キシビニルシラン、エトキシジエチルビニルシラン、ジ
エチルメチルビニルシラン、３−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルト
リエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルジアセ
チルオキシメチルシラン、３−メタクリロキシプロピル
ジエトキシメチルシラン、３−メタクリロキシプロピル
トリアセチルオキシシラン、３−メタクリロキシプロピ
ルトリイソプロポキシシラン、３−メタクリロキシプロ
ピルトリメチルシラン、３−メタクリロキシプロピルト
リ−ｔ−ブトキシシラン、３−メタクリロキシプロピル
エトキシジエチルシラン、３−メタクリロキシプロピル
ジエチルメチルシラン、３−アクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキ
シシラン、３−アクリロキシプロピルジアセチルオキシ
メチルシラン、３−アクリロキシプロピルジエトキシメ
チルシラン、３−アクリロキシプロピルトリアセチルオ
キシシラン、３−アクリロキシプロピルトリイソプロポ
キシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメチルシラ
ン、３−アクリロキシプロピルトリ−ｔ−ブトキシシラ
ン、３−アクリロキシプロピルエトキシジエチルシラ
ン、３−アクリロキシプロピルジエチルメチルシラン、
アクリロイルモルホリン、Ｎ−イソプロピルアクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド等を好ましく挙
げることができる。

【００１６】前記一般式［II］で表わされるペルフルオ
ロシクロヘキシル基含有化合物において、m1は１〜５０
００及びm2は０〜５０００の整数を示す。前記m1又はm2
が５０００を超える場合には、製造が困難である。更に
前記一般式［II］で示されるペルフルオロシクロヘキシ
ル基含有化合物の数平均分子量は、５００〜１００００
００であり、フッ素の特性をより顕著に発現させるため
には、７００〜５００００とするのが好ましい。前記の
数平均分子量が、５００未満の場合には製造が困難であ
り、１００００００を超えると製造が困難である。本発
明のペルフルオロシクロヘキシル基含有化合物の製造方
法は、ペルフルオロシクロヘキサンカルボニルペルオキ
シドと特定の原料モノマーとを反応させることによって
行われる。本発明において、前記ペルフルオロシクロヘ
キサンカルボニルペルオキシドと前記一般式［Ｖ］又は
前記一般式［VI］で示されるモノマーとを反応させる際
における、一般式［Ｖ］で示されるモノマーと一般式
［VI］で示されるモノマーとの混合モル比は任意の割合
が可能であるが、好ましくは１：０．０１〜１００の範
囲であり、前記ペルフルオロシクロヘキサンカルボニル
ペルオキシドと一般式（Ｖ）又は一般式（ＶＩ）で示さ
れるモノマーとを反応させる際における仕込みモル比
は、１：０．１〜５０００の範囲であるのが好ましく、
特に、１：０．５〜１０００の範囲とするのが好まし
い。前記原料モノマーの仕込みモル比が０．１未満の場
合には、過酸化物の自己分解に起因する生成物が多量に
生成し、また５０００を超える場合には、目的とするペ
ルフルオロシクロヘキシル基含有化合物の収率が低下す
るので好ましくない。また前記ペルフルオロシクロヘキ
サンカルボニルペルオキシドの仕込みモル比を調節する
ことにより、得られる生成物の分子量を調節することが
できる。即ち、前記ペルフルオロシクロヘキサンカルボ
ニルペルオキシドの仕込みモル比をモノマーに対して高
くすれば、分子量の低い生成物が得られ、仕込みモル比
を低くすれば、分子量の高い生成物を得ることができ
る。更に前記反応は常圧で行なうことが可能であり、且
つ反応温度は通常−２０〜１５０℃、好ましくは０〜１
００℃の範囲であることが望ましい。反応温度が−２０
℃未満では反応時間が長くなる傾向にあり、逆に１５０
℃を超えると反応時の圧力が高くなり、反応操作が困難
であるので好ましくない。更に反応時間は通常３０分〜
２０時間の範囲で行なうことができるが、実用的には１
〜１０時間になるように条件を設定することが望まし
い。

【００１７】本発明の製造法では前記種々の反応条件下
において、前記ペルフルオロシクロヘキサンカルボニル
ペルオキシドと前記モノマーとを反応させることによ
り、目的のペルフルオロシクロヘキシル基含有化合物を
直接１段階反応により得ることができるが、反応をより
円滑に行なうために有機溶媒を用いることが好ましい。
前記有機溶媒としては、ハロゲン化脂肪族溶媒、ハロゲ
ン化芳香族溶媒が特に好ましく、具体的には例えば、塩
化メチレン、クロロホルム、２−クロロ−１，２−ジブ
ロモ−１，１，２−トリフルオロエタン、１，２−ジブ
ロモヘキサフルオロプロパン、１，２−ジブロモテトラ
フルオロエタン、１，１−ジフルオロテトラクロロエタ
ン、１，２−ジフルオロテトラクロロエタン、フルオロ
トリクロロメタン、ヘプタフルオロ−２，３，３−トリ
クロロブタン、１，１，１，３−テトラクロロテトラフ
ルオロプロパン、１，１，１−トリクロロペンタフルオ
ロプロパン、１，１，２−トリクロロトリフルオロエタ
ン、１，１，１，２，２−ペンタフルオロ−３，３−ジ
クロロプロパン、１，１，２，２，３−ペンタフルオロ
−１，３−ジクロロプロパン、ベンゾトリフルオリド、
ヘキサフルオロキシレン、ペンタフルオロベンゼン等を
用いることができ、特に工業的には、１，１，１，２，
２−ペンタフルオロ−３、３−ジクロロプロパン、１，
１，２，２，３−ペンタフルオロ−１，３−ジクロロプ
ロパン、ベンゾトリフルオリド等の溶媒若しくはこれら
溶媒が任意の割合で混合された混合溶媒を好ましく挙げ
ることができる。

【００１８】前記溶媒を使用する場合、通常溶媒中の前
記ペルフルオロシクロヘキサンカルボニルペルオキシド
の濃度が０．１〜３０重量％程度であることが望まし
い。本発明の製造法により得られる前記一般式［II］で
示される化合物は、再沈澱法、カラムクロマトグラフィ
ー、透析等の公知の方法で精製することが可能である。

【００１９】本発明のペルフルオロシクロヘキシル基含
有化合物の第二のものは、前記の一般式［III］で表わ
されるペルフルオロシクロヘキシル基含有化合物であ
り、そのＡｒ−基としては、具体的には例えば、ベンゼ
ン、チオフェン、フラン、トルエン、キシレンおよびナ
フタレン由来の残基が挙げられる。また、本発明のペル
フルオロシクロヘキシル基含有化合物の第三のものは、
前記一般式［IV］で表わされるペルフルオロシクロヘキ
シル基含有化合物において示される芳香族基の具体例と
して、分子量２００〜２００００００のポリスチレン等
を好ましく挙げることができる。本発明のペルフルオロ
シクロヘキシル基含有化合物の製造方法は、ペルフルオ
ロシクロヘキサンカルボニルペルオキシドと特定の芳香
族化合物とを反応させることによって行われる。

【００２０】本発明における前記一般式［III］もしく
は一般式［IV］で示されるペルフルオロシクロヘキシル
基含有化合物を製造する際に、前記ペルフルオロシクロ
ヘキサンカルボニルペルオキシドと前記一般式［VII］
又は前記一般式［VIII］で示される芳香族化合物との反
応における仕込モル比は任意の割合が可能であるが、好
ましくは１：０．０１〜１００の範囲であり、特に、
１：０．５〜５０の範囲とするのが好ましい。なお、ポ
リスチレンにおいてはモノマーユニットに対するモル比
を示すものとする。前記原料の芳香族化合物の仕込みモ
ル比が０．０１未満の場合には、過酸化物の自己分解に
起因する生成物が多量に生成し、また１００を超える場
合には、未反応物が多量に残存するので好ましくない。
更に前記反応は常圧で行なうことが可能であり、且つ反
応温度は通常−２０〜１５０℃、好ましくは０〜１００
℃の範囲であることが望ましい。前記反応温度が−２０
℃未満では反応時間が長くなる傾向にあり、逆に１５０
℃を超えると反応時の圧力が高くなり、反応操作が困難
であるので好ましくない。更に反応時間は通常３０分〜
２０時間の範囲で行なうことができるが、実用的には１
〜１０時間になるように条件を設定することが望まし
い。本発明の製造法では、前記種々の反応条件下におい
て、前記ペルフルオロシクロヘキサンカルボニルペルオ
キシドと前記芳香族化合物とを反応させることにより、
目的のペルフルオロシクロヘキシル基含有化合物を直接
１段階反応により得ることができるが、反応をより円滑
に行なうために有機溶媒を用いることが好ましい。前記
有機溶媒としては、前記の第１方法及び第２方法の項で
記載した反応に用いるハロゲン化脂肪族溶媒、ハロゲン
化芳香族溶媒が特に好ましく挙げられる。

【００２１】前記溶媒を使用する場合、通常溶媒中の前
記ペルフルオロシクロヘキサンカルボニルペルオキシド
の濃度が０．１〜３０重量％程度であることが望まし
い。本発明の製造法により得られる前記一般式［III］
もしくは［IV］で示される化合物は、蒸留、再結晶、カ
ラムクロマトグラフィー、再沈殿法、透析等の公知の方
法で精製することが可能である。

【００２２】

【発明の効果】本発明のペルフルオロシクロヘキシル基
含有有機過酸化物は、新規な有機過酸化物であり、種々
のエチレン性重合基を有するモノマー類の重合開始剤と
して、特にはフッ素系モノマー類の重合開始剤としても
有用である。本発明におけるペルフルオロシクロヘキシ
ル基含有化合物は、新規な化合物であり、ペルフルオロ
シクロヘキシル基がエステル結合でなく直接炭素−炭素
結合により結合されているため、フッ素に起因した性質
を長期にわたり維持することが可能であり、耐候性の高
い化合物である。従って、新規なフッ素系界面活性剤と
して、また低表面張力性、低屈折性、耐熱性、耐寒性、
耐油性、電気絶縁性、防曇性、防汚性、耐薬品性等の特
性を有する化合物として、さらには表面処理剤、塗料、
光学レンズ、プラスッチクファイバー、眼鏡用レンズ、
ガラス器具等の表面における材料及び化粧品等の原料等
に利用することができる。また本発明の製造方法により
ペルフルオロシクロヘキシル基含有化合物を、短時間で
収率良くかつ容易に、しかも反応触媒及び特殊な装置を
使用せずに１段階反応により製造することができる。

【００２３】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。 実施例１ ペルフルオロシクロヘキサンカルボニルフルオリド（４
３ｍｍｏｌ）を含んだ１，１，１，２，２−ペンタフル
オロ−３，３−ジクロロプロパン及び１，１，２，２，
３−ペンタフルオロ−１，３−ジクロロプロパンの１：
１混合溶媒（ＡＫ−２２５）、５４０ｇを、水酸化ナト
リウム（９６ｍｍｏｌ）及び３０％過酸化水素水（９６
ｍｍｏｌ）を含んだ水溶液１００ｇに−５℃にて加え、
かき混ぜながら３０分間反応させた。反応後、粗生成物
を分液ロートにより分離させ、さらに有機層を水にて２
回洗浄を行った。ついで得られた生成物をヨウ素滴定に
より分析を行ったところ、目的とするペルフルオロシク
ロヘキサンカルボニルペルオキシドを含む混合溶媒溶液
として、収量５５６ｇ、収率８５％で得た。なお、得ら
れた生成物の赤外吸収スペクトルの測定を行ったとこ
ろ、過酸化物中のカルボニル基に起因する吸収が１８６
５および１８３０ｃｍ^-1にそれぞれ観測された。以上の
結果、原料、反応条件から生成物が式［Ｉ］の化合物で
あることを確認した。さらに、得られた化合物の熱分解
速度の測定を行ったところ、以下の表１に示す結果が得
られた。表１の結果から、１０時間選定半減期温度は４
１℃であることがわかった。

【００２４】

【表１】

【００２５】実施例２ ペルフルオロシクロヘキサンカルボニルペルオキシド
（８ｍｍｏｌ）を含んだＡＫ−２２５溶液１００ｇをベ
ンゼン（４０ｍｍｏｌ）に加え、窒素気流下、４５℃、
１０時間反応させた。反応後、得られた粗生成物を水、
５％炭酸水素ナトリウム水溶液、水でそれぞれ洗浄を行
った。次いで、硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧蒸留
により目的とするペルフルオロシクロヘキシルベンゼン
が以下に示される収率で得られた。 収量：１．５８ｇ 収率：５６％ 沸点：４１〜４３℃／３ｍｍＨｇ ＩＲ分析の結果を次に示した。 ＩＲ（ｎ／ｃｍ^-1） ａｘｉａｌ；Ｐｈ−Ｃ６Ｆ１１：３０７８，１３４２，
１２８８．１２５７，１２２６，１２００，１１６５，
１１５３，１１１９，１０７２，１０４１，９８４，
９２２， ８３７； ｅｑｕａｔｏｒｉａｌ；Ｐｈ−Ｃ₆Ｆ₁₁：３０７８，１
５０４，１４５４，１３１９，１２５７，１２０７，１
１４５，１０３８，１０１８，９７２，９２６，８５
２，７４４ 質量分析の結果を次に示した。 ＭＳ（ｍ／ｚ） ａｘｉａｌ；Ｐｈ−Ｃ₆Ｆ₁₁：３５８（Ｍ⁺），３３９，
２０８，１８９，１５８，１２７（ｂａｓｅ），６９； ｅｑｕａｔｏｒｉａｌ；Ｐｈ−Ｃ₆Ｆ₁₁：３５８
（Ｍ⁺），３３９，２５０，１８９，１５８，１２７
（ｂａｓｅ），６９¹ Ｈ−ＮＭＲの結果を次に示した。¹ Ｈ−ＮＭＲ（δ（ｐｐｍ）、ＣＤＣｌ₃） ７．５１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，
ｔｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈｚ），７．６５（２Ｈ，ｍ）；¹⁹ Ｆ−ＮＭＲの結果を示した。¹⁹ Ｆ−ＮＭＲ（δ（ｐｐｍ）ＣＤＣｌ₃，ｅｘｔ．ＣＦ₃
ＣＯ₂Ｈ） ２．７０（１Ｆ，１ａ），−５．２４（１Ｆ，１ｅ），
−４２．６０，−４３．２０（２Ｆ，２，６ａ），−４
６．０６，−４６．６０（２Ｆ，３，５ａ），−４７．
１０，−４７．３５（１Ｆ，４ａ），−５７．０１，−
５７．６４（２Ｆ，２，６ｅ），−６７．７２，−６
３．３２（２Ｆ，３，５ｅ），−６５．８４，−６６．
４４（１Ｆ，４ｅ）、 以上の結果から、生成物が次式のペルフルオロシクロヘ
キシルベンゼンであることを確認した。

【化２４】

【００２６】実施例３ ベンゼンをチオフェンに代えた以外は、実施例２と同様
の反応を行ったところ、２−ペルフルオロシクロヘキシ
ルチオフェンが得られた。 収量：１．５７ｇ 収率：５４％ 沸点：３７〜３８℃／３ｍｍＨｇ ＩＲ分析の結果を示した。 ＩＲ（ｎ／ｃｍ^-1） ａｘｉａｌ；Ｔｈ−Ｃ₆Ｆ₁₁：１４３１，１３１９，１
２５４，１２０３，１１３７，１０５７，１００７，９
６８，８６４，８２５，７９０； ｅｑｕａｔｏｒｉａｌ；Ｔｈ−Ｃ₆Ｆ₁₁：２９７０，１
２６９，１０９２，９１０，８１８； 質量分析の結果を示した。 ＭＳ（ｍ／ｚ） ａｘｉａｌ；Ｔｈ−Ｃ₆Ｆ₁₁：３６４（Ｍ⁺），３４５，
２８１，２１４，１９５，１６４（ｂａｓｅ），１３
１，６９； ｅｑｕａｔｏｒｉａｌ；Ｔｈ−Ｃ₆Ｆ₁₁；３６４
（Ｍ⁺），３４５，２６４，１９５，１６４（ｂａｓ
ｅ），１３３，１１４，６９；¹ Ｈ−ＮＭＲおよび¹⁹Ｆ−ＮＭＲの結果を示した。¹ Ｈ−ＮＭＲ（δ（ｐｐｍ）、ＣＤＣｌ₃） ７．１７（１Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ， ｍ），７．
５９（１Ｈ，ｍ）；¹⁹ Ｆ−ＮＭＲ（δ（ｐｐｍ）、ＣＤＣｌ₃，ｅｘｔ．Ｃ
Ｆ₃ＣＯ₂Ｈ）２．７５（１Ｆ，１ａ），−５．２８（１
Ｆ，１ｅ），−４２．６６，−４３．２７（２Ｆ，２，
６ａ），−４６．００，−４６．５６（２Ｆ，３，５
ａ），−４７．０７，−４７．３１（１Ｆ，４ａ），−
５７．０５，−５７．６１（２Ｆ，２，６ｅ），−６
７．７０，−６３．３６（２Ｆ，３，５ｅ），−６５．
８１，−６６．４０（１Ｆ，４ｅ）． 以上の結果から生成物が次式の２−ペルフルオロシクロ
ヘキシルチオフェンであることを確認した。

【化２５】

【００２７】実施例４ ペルフルオロシクロヘキサンカルボニルペルオキシド
（０．８ｍｍｏｌ）を含んだＡＫ−２２５溶液１０ｇ及
び塩化メチレン１０ｇに、ポリスチレン（８ｍｍｏｌ、
スチレンモノマーユニット換算として）を加え、窒素気
流下でかき混ぜながら、４５℃、１０時間反応させた。
反応後、得られた粗生成物を水、５％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水でそれぞれ洗浄を行った。次いで、硫酸マ
グネシウムで乾燥後、クロロホルムーメタノール系にて
再沈殿したところ、以下の構造で示されるペルフルオロ
シクロヘキシル基含有ポリスチレンが０．９５ｇの収量
で得られた。 ペルフルオロシクロヘキシル基導入化率：８％［｛ｙ／
（ｘ＋ｙ）｝×１００］Ｍｎ＝１０２０００（Ｍｗ／Ｍ
ｎ＝２．０９） ＩＲ分析の結果を示した。 ＩＲ（ｎ／ｃｍ^-1） １２７８（ＣＦ）¹⁹ Ｆ−ＮＭＲ分析の結果を示した。¹⁹ Ｆ−ＮＭＲ（δ（ｐｐｍ）、ＣＤＣｌ₃，ｅｘｔ．Ｃ
Ｆ₃ＣＯ₂Ｈ） ２．４９（１Ｆ，１ａ），−５．１２（１Ｆ，１ｅ），
−４２．６６，−４３．２８（２Ｆ，２，６ａ），−４
６．１２，−４６．６８（２Ｆ，３，５ａ），−４７．
０４，−４７．３９（１Ｆ，４ａ），−５７．０９，−
５７．５８（２Ｆ，２，６ｅ），−６７．７９，−６
３．２７（２Ｆ，３，５ｅ），−６５．８９，−６６．
３９（１Ｆ，４ｅ）． 以上の結果から生成物が次式のペルフルオロシクロヘキ
シル基含有ポリスチレンであることを確認した。

【化２６】 ｛（ｙ／ｘ＋ｙ）｝×１００＝８

【００２８】実施例５ ペルフルオロシクロヘキサンカルボニルペルオキシド
（３ｍｍｏｌ）を含んだＡＫ−２２５溶液３０ｇに、ト
リメトキシビニルシラン（８ｍｍｏｌ）を加え、窒素気
流下でかき混ぜながら、４５℃、１０時間反応させた。
反応後、溶媒を除去し、次いで真空下にて恒量になるま
で乾燥させたところ、以下の構造で示されるペルフルオ
ロシクロヘキシル基含有トリメトキシビニルシランオリ
ゴマーが２．４８ｇで得られた。 Ｍｎ＝８４０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３５） ＩＲ（ｎ／ｃｍ^-1） １２２８（ＣＦ）¹⁹ Ｆ−ＮＭＲの結果を示した。¹⁹ Ｆ−ＮＭＲ（δ（ｐｐｍ）、ＣＤＣｌ₃，ｅｘｔ．Ｃ
Ｆ₃ＣＯ₂Ｈ） ２．６７（１Ｆ，１ａ），−５．３２（１Ｆ，１ｅ），
−４２．６０，−４３．３５（２Ｆ，２，６ａ），−４
６．１９，−４６．５６（２Ｆ，３，５ａ），−４７．
１２，−４７．４５（１Ｆ，４ａ），−５７．１２，−
５７．６３（２Ｆ，２，６ｅ），−６７．６６，−６
３．３３（２Ｆ，３，５ｅ），−６５．８１，−６６．
４５（１Ｆ，４ｅ）． 以上の結果から、生成物が次式のペルフルオロシクロヘ
キシル基含有トリメトキシビニルシランオリゴマーであ
ることを確認した。

【化２７】

【００２９】実施例６ ペルフルオロシクロヘキサンカルボニルペルオキシド
（２ｍｍｏｌ）を含んだＡＫ−２２５溶液３０ｇに、ア
クリル酸（４ｍｍｏｌ）を加え、窒素気流下でかき混ぜ
ながら、４５℃、１０時間反応させた。反応後、溶媒を
除去し、メタノールー酢酸エチル系にて再沈殿を行い、
次いで真空下にて恒量になるまで乾燥させたところ、以
下の構造で示されるペルフルオロシクロヘキシル基含有
アクリル酸オリゴマーが０．９ｇで得られた。 Ｍｎ＝１４４０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３５） ＩＲ分析の結果を示した。 ＩＲ（ｎ／ｃｍ^-1） １７２２（Ｃ＝Ｏ），１２３８（ＣＦ）¹⁹ Ｆ−ＮＭＲの結果を示した。¹⁹ Ｆ−ＮＭＲ（δ（ｐｐｍ）、ＣＤＣｌ₃，ｅｘｔ．Ｃ
Ｆ₃ＣＯ₂Ｈ） ２．７７（１Ｆ，１ａ），−５．２７（１Ｆ，１ｅ），
−４２．５９，−４３．３５（２Ｆ，２，６ａ），−４
６．３４，−４６．７６（２Ｆ，３，５ａ），−４７．
３３，−４７．６６（１Ｆ，４ａ），−５７．０９，−
５７．６９（２Ｆ，２，６ｅ），−６７．５５，−６
３．４４（２Ｆ，３，５ｅ），−６５．７７，−６６．
３２（１Ｆ，４ｅ）． 以上の結果から、生成物が次式のペルフルオロシクロヘ
キシル基含有アクリル酸オリゴマーであることを確認し
た。

【化２８】

【００３０】実施例７ ペルフルオロシクロヘキサンカルボニルペルオキシド
（５ｍｍｏｌ）を含んだＡＫ−２２５溶液４０ｇに、メ
タクリル酸メチル（１５１ｍｍｏｌ）を加え、窒素気流
下でかき混ぜながら、４５℃、１０時間反応させた。反
応後、溶媒を除去し、メタノールーヘキサン系にて再沈
殿を行い、次いで真空下にて恒量になるまで乾燥させた
ところ、以下の構造で示されるペルフルオロシクロヘキ
シル基含有メタクリル酸メチルオリゴマーが１４．１７
ｇで得られた。 Ｍｎ＝１７６００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８８） ＩＲ分析の結果を示した。 ＩＲ（ｎ／ｃｍ^-1） １７２２（Ｃ＝Ｏ），１２３８（ＣＦ）¹⁹ Ｆ−ＮＭＲの結果を示した。¹⁹ Ｆ−ＮＭＲ（δ（ｐｐｍ）、ＣＤＣｌ₃，ｅｘｔ．Ｃ
Ｆ₃ＣＯ₂Ｈ） ２．３３（１Ｆ，１ａ），−５．３４（１Ｆ， １
ｅ），−４２．７７，−４３．４３（２Ｆ，２，６
ａ），−４６．６６，−４６．８３（２Ｆ，３，５
ａ），−４７．５６，−４７．７３（１Ｆ，４ａ），−
５７．３２，−５７．８７（２Ｆ，２，６ｅ），−６
７．２１，−６３．６７（２Ｆ，３，５ｅ），−６５．
９９，−６６．２３（１Ｆ，４ｅ）． 以上の結果から、生成物が次式のペルフルオロシクロヘ
キシル基含有メタクリル酸メチルオリゴマーであること
を確認した。

【化２９】

【００３１】以上の結果より、本発明のペルフルオロシ
クロヘキシル有機過酸化物がエチレン性の重合基を有す
る化合物のラジカル重合開始剤として有用であることが
わかる。さらに、該過酸化物を用いた反応で、ペルフル
オロシクロヘキシル基を含有する化合物が反応生成物と
して得られることがわかる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｆ 7/18 Ｃ０７Ｆ 7/18 Ｅ Ｃ０８Ｆ 4/34 Ｃ０８Ｆ 4/34 12/20 12/20 Ｃ１１Ｄ 1/38 Ｃ１１Ｄ 1/38

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記式［Ｉ］ 【化１】 で示されるペルフルオロシクロヘキシル基含有有機過酸
   化物。
2. 【請求項２】下記一般式［II］ 【化２】 ［式中、Ｒｆはペルフルオロシクロヘキシル基、Ｒ¹は
   水素原子又はメチル基、Ｒ²、Ｒ³は、ハロゲン原子、シ
   アノ基、−Ｓｉ（Ｒ⁴）₃、−ＣＯ₂Ｒ⁵、−ＣＯＮＲ
   ⁶Ｒ⁷、m1は１〜５０００、m2は０〜５０００の整数を示
   す。｛但し、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル基又はアル
   コキシ基、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷は、水素原子又は炭素数１〜
   １８のアルキル基、又は炭素数２〜６のヒドロキシアル
   キル基、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（Ｒ⁴）₃を示す。｝］で
   表わされる数平均分子量５００〜１００００００のペル
   フルオロシクロヘキシル基含有化合物。
3. 【請求項３】下記一般式［III］ 【化３】 （式中、Ａｒ−基は、ベンゼン、チオフェン、フラン、
   トルエン、キシレンおよびナフタレンの残基のいずれか
   を示す。）で表されるペルフルオロシクロヘキシル基含
   有化合物。
4. 【請求項４】下記一般式［IV］ 【化４】 （式中、ｘは０〜１００００の整数を示し、ｙは１〜１
   ００００の整数を示す）で表されるペルフルオロシクロ
   ヘキシル基含有化合物。
5. 【請求項５】請求項１記載の式［Ｉ］で示される有機過
   酸化物を有効成分とするエチレン性重合基のラジカル重
   合開始剤。
6. 【請求項６】請求項２記載のペルフルオロシクロヘキシ
   ル基含有化合物の製造方法であって、下記式［Ｉ］ 【化５】 で示されるペルフルオロシクロヘキシル基含有有機過酸
   化物および下記一般式［Ｖ］ 【化６】 ［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ²はハロ
   ゲン原子、シアノ基、−Ｓｉ（Ｒ⁴）₃、−ＣＯ₂Ｒ⁵、−
   ＣＯＮＲ⁶Ｒ⁷を示し、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷は水素原子又は炭
   素数１〜１８のアルキル基、又は炭素数２〜６のヒドロ
   キシアルキル基、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（Ｒ⁴）₃を示
   し、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル基又はアルコキシ基
   を示す。］で表わされるモノマーと下記一般式［VI］ 【化７】 ［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ³はハロゲン原
   子、シアノ基、−Ｓｉ（Ｒ⁴）₃、−ＣＯ₂Ｒ⁵、−ＣＯＮ
   Ｒ⁶Ｒ⁷、｛但し、Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル基又は
   アルコキシ基、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷は水素原子又は炭素数１
   〜１８のアルキル基又は炭素数２〜６のヒドロキシアル
   キル基、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（Ｒ⁴）₃を示す。｝］
   で表わされるモノマーとの混合物を反応させることを特
   徴とするペルフルオロシクロヘキシル基含有化合物の製
   造方法。
7. 【請求項７】請求項３記載のペルフルオロシクロヘキシ
   ル基含有化合物の製造方法であって、下記式［Ｉ］ 【化８】 で示されるペルフルオロシクロヘキシル基含有有機過酸
   化物と下記一般式［VII］ Ａｒ−Ｈ ・・・［VII］ （式中、Ａｒ−基は、ベンゼン、チオフェン、フラン、
   トルエン、キシレンおよびナフタレンの残基のいずれか
   を示す。）で表される芳香族化合物とを反応させること
   を特徴とするペルフルオロシクロヘキシル基含有化合物
   の製造方法。
8. 【請求項８】請求項４記載のペルフルオロシクロヘキシ
   ル基含有化合物の製造方法であって、下記式［Ｉ］ 【化９】 で示されるペルフルオロシクロヘキシル基含有有機過酸
   化物と下記一般式［VIII］ 【化１０】 （式中、ｘは０〜１００００の整数、ｙは１〜１０００
   ０の整数を示す）で表される芳香族化合物とを反応させ
   ることを特徴とするペルフルオロシクロヘキシル基含有
   化合物の製造方法。