JPH1143370A - 誘電体磁器組成物とこの誘電体磁器組成物を用いたセラミック電子部品 - Google Patents

誘電体磁器組成物とこの誘電体磁器組成物を用いたセラミック電子部品

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JPH1143370A
JPH1143370A JP9211281A JP21128197A JPH1143370A JP H1143370 A JPH1143370 A JP H1143370A JP 9211281 A JP9211281 A JP 9211281A JP 21128197 A JP21128197 A JP 21128197A JP H1143370 A JPH1143370 A JP H1143370A
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    • H01G4/1227Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material based on titanium oxides or titanates based on alkaline earth titanates

Abstract

(57)【要約】 【課題】 セラミック電子部品は従来は1000℃以下
の温度で焼成して製造されていた。しかし、内部電極の
材料としてAg等の融点の低い金属材料や卑金属材料等
の使用を考慮すると、焼成温度は920℃程度が上限と
なり、1000℃以下という温度は十分に低い焼成温度
といえない。 【解決手段】 この発明に係る誘電体磁器組成物は、タ
ングステンブロンズ形結晶構造相と、Ba2 Ti9
20,BaTi25 ,BaTi49 及びBa4 Ti
1330から選択された1種又は2種以上からなるチタン
酸バリウム類相と、少なくともB,Ag及びMnの各酸
化物からなる微量結晶相とからなり、前記タングステン
ブロンズ形結晶構造相はBa,Nd及びTiの複合酸化
物を基本成分とし、少なくともBi,Pb,Zn及びS
iの各酸化物を含有し、前記各成分の割合は所定の範囲
に限定されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は高周波領域で使用
されるセラミック電子部品の誘電体材料として好適な誘
電体磁器組成物とこの誘電体磁器組成物を用いたセラミ
ック電子部品に関するものである。
【0002】
【従来の技術】磁器コンデンサ、フィルタ、共振器等の
セラミック電子部品は誘電体層を形成するために焼成工
程を経て製造されている。この焼成工程における焼成は
1000℃以上の高温で行なわれるため、焼成炉の炉材
やサヤ・セッタが消耗し、また、焼成炉を高温に加熱す
るために多くの電気代がかかり、その結果、これらのセ
ラミック電子部品の製造コストが高くなっているという
問題がある。そこで、比較的低温で焼成しても所望の電
気的諸特性が得られる誘電体磁器組成物が従来から種々
提案されている。
【0003】例えば、特開平4−359806号公報で
は、BaTiO3 −Nd23 −Sm23 −TiO2
系とAl23 とSiO2 −PbO−CaO−B23
−Na2 O−MgO−K2 O系からなる組成で、各成分
量を限定した誘電体磁器組成物が提案されている。
【0004】この誘電体磁器組成物は、1000℃以下
の低い温度で焼成でき、しかも銅が酸化しないような低
い酸素分圧下の焼成条件でも、誘電率が10以上で、高
いQと高い比抵抗を持ち、静電容量の温度変化率を非常
に小さくした優れた誘電体磁器組成物、ならびに銅など
の卑金属を導体にした安価で信頼性を高くした高周波用
の優れた誘電体フィルタおよびその製造方法を実現でき
るものである。
【0005】また、特開平4−359810号公報で
は、Al23 と、SiO2 −PbO−CaO−B2
3 −Na2 O−MgO−K2 O系とBaO−TiO2
またはBaO−Nb23 −TiO2 系またはBaO−
Sm23 −TiO2 系とからなる組成で、各成分量を
限定した誘電体磁器組成物が提案されている。
【0006】この誘電体磁器組成物も、1000℃以下
の低い温度で焼成でき、しかも銅が酸化しないような低
い酸素分圧下の焼成条件でも、誘電率が10以上で、高
いQと高い比抵抗を持ち、静電容量の温度変化率を非常
に小さくした優れた誘電体磁器組成物、ならびに銅など
の卑金属を導体にした安価で信頼性を高くした高周波用
の優れた誘電体フィルタおよびその製造方法を実現でき
るものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、例えば磁器コ
ンデンサ等のセラミック電子部品において、内部電極の
材料としてAg等の融点の低い金属材料や卑金属材料等
の使用を考慮すると、焼成温度は920℃程度が上限と
なり、1000℃以下という温度は十分に低い焼成温度
といえない。
【0008】この発明は、920℃以下の焼成でも所望
の電気的特性が得られるようにした誘電体磁器組成物と
この誘電体磁器組成物を用いたセラミック電子部品を提
供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明に係る誘電体磁
器組成物は、タングステンブロンズ形結晶構造相と、B
2 Ti920,BaTi25 ,BaTi49 及び
Ba4 Ti1330から選択された1種又は2種以上から
なるチタン酸バリウム類相と、少なくともB,Ag及び
Mnの各酸化物からなる微量結晶相とからなる。
【0010】前記タングステンブロンズ形結晶構造相は
Ba,Nd及びTiの複合酸化物を基本成分とし、少な
くともBi,Pb,Zn及びSiの各酸化物を含有して
いる。前記タングステンブロンズ形結晶構造相の基本構
造としては、例えばBaNd2 Ti412又はBaNd
2 Ti512を挙げることができるが、Ba,Nd及び
Tiの複合酸化物であればこれら以外の構造のものであ
ってもよい。
【0011】そして、前記タングステンブロンズ形結晶
構造相の割合をXmol%、前記チタン酸バリウム類相
の割合をYmol%とし、X+Y=100mol%とし
た場合、X=80〜98mol%の範囲が好ましい。
【0012】ここで、X=80〜98mol%の範囲と
したのは、Xが80mol%未満になると、920℃以
下の温度による焼成では焼結不能となり、Xが98mo
l%を超えると誘電率が60以上にならないからであ
る。
【0013】また、前記タングステンブロンズ形結晶構
造相に含有されているBiの酸化物の割合は1〜5mo
l%、Pbの酸化物は1〜6mol%、Znの酸化物は
2〜11mol%、Siは2〜11mol%の範囲が好
ましい。
【0014】ここで、Biの酸化物の割合を1〜5mo
l%の範囲としたのは、Biの酸化物が1mol%未満
になると、誘電率εr が60以上とならず、Biの酸化
物が5mol%を超えると、誘電率の温度特性τεが±
60ppm/℃以内に納まらなくなるからである。
【0015】また、Pbの酸化物の割合を1〜6mol
%の範囲としたのは、Pbの酸化物が1mol%未満に
なると、誘電率εr が60以上とならず、Pbの酸化物
が6mol%を超えると、誘電率の温度特性τεが±6
0ppm/℃以内に納まらなくなるからである。
【0016】また、Znの酸化物の割合を2〜11mo
l%の範囲としたのは、Znの酸化物が2mol%未満
になると、920℃以下の温度での焼成では焼結不能と
なり、Znの酸化物が11mol%を超えると、誘電率
が60以上にならず、Q値も1000以上にならないか
らである。
【0017】また、Siの酸化物の割合を2〜11mo
l%の範囲としたのは、Siの酸化物が2mol%未満
になると、920℃以下の温度での焼成では焼結不能と
なり、Siの酸化物が11mol%を超えると、誘電率
が60以上にならず、Q値も1000以上にならないか
らである。
【0018】また、前記タングステンブロンズ形結晶構
造相と前記チタン酸バリウム類相の合計量に対し、前記
微量結晶相を形成しているBの酸化物は1〜6mol
%、Agの酸化物は1〜6mol%、Mnの酸化物は1
〜5mol%の割合になっている。
【0019】ここで、Bの酸化物の割合を1〜6mol
%の範囲としたのは、Bの酸化物が1mol%未満にな
ると、920℃以下の温度での焼成では焼結不能とな
り、Bの酸化物が6mol%を超えると、誘電率が60
以上にならず、Q値も1000以上にならないからであ
る。
【0020】また、Agの酸化物の割合を1〜6mol
%の範囲としたのは、Agの酸化物が1mol%未満に
なると、920℃以下の温度での焼成では焼結不能とな
り、Agの酸化物が6mol%を超えると、誘電率が6
0以上にならず、Q値も1000以上にならないからで
ある。
【0021】また、Mnの酸化物の割合を1〜5mol
%の範囲としたのは、Mnの酸化物が1mol%未満に
なると、Q値が1000以上にならず、Mnの酸化物が
5mol%を超えると、誘電率が60以上にならなくな
るからである。
【0022】また、この発明に係るセラミック電子部品
は、上記誘電体磁器組成物を用いたものである。セラミ
ック電子部品としては、単層又は積層構造の磁器コンデ
ンサ、フィルタ、共振器等を挙げることができる。
【0023】
【実施例】まず、BaO,Nd23 ,TiO2 ,Bi
23 ,Pb34 ,ZnO,SiO2 ,B23 ,A
2 O及びMn34 の各化合物の粉末を表1〜表1
に示す割合で各々秤量した。
【0024】
【表1】
【0025】
【表1】
【0026】
【表1】
【0027】次に、これら化合物の粉末をポリエチレン
ポットに水と共に入れ、充分に湿式混合し、脱水した
後、乾燥させた。そして、この乾燥によって得られた乾
燥物を空気中で800℃で2時間仮焼し、誘電体磁器組
成物の成分材料を得た。
【0028】次に、この誘電体磁器組成物の成分材料を
ポリエチレン製ポットに水と共に入れて湿式粉砕し、こ
れを脱水・乾燥して誘電体磁器組成物の原料粉末を得
た。
【0029】次に、この誘電体磁器組成物の原料粉末に
有機バインダを加えて造粒し、この造粒物を直径9.8
mm、厚さ0.6mmの円板状に、500kg/cm2
の圧力で加圧成形して成形体を得た。
【0030】そして、この成形体をジルコニアセッタ上
に載せ、空気中において、表2〜表2に示す温度
(850〜920℃)で焼成し、円板状の磁器素体を得
た。そして、得られた円板状の磁器素体の結晶相を粉末
X線回折法により解析した。この解析の結果は表2〜
表2に示す通りであった。
【0031】また、この円板状の磁器素体の両主面に銀
ペーストを塗布して焼き付け、図1に示すような、磁器
素体10と、磁器素体10の両主面に形成された一対の
電極12,12とからなる磁器コンデンサを作成した。
そして、この磁器コンデンサの比誘電率εr 、Q値、比
誘電率εr の温度係数τεr (ppm/℃)を測定し
た。この測定の結果は表2〜表2に示す通りであっ
た。
【0032】
【表2】
【0033】
【表2】
【0034】
【表2】
【0035】なお、比誘電率εr 及びQ値は周波数1M
Hz、1V及び周囲温度20℃の条件下で測定した。比
誘電率εr の温度係数τεr は、+20℃の比誘電率ε
r を基準とした+20〜+85℃の比誘電率εr の変化
率であり、1MHz、1Vで測定した。
【0036】また、表2〜表2中の※印はこの発明
の範囲外のものである。また、チタン酸バリウム類相の
成分を示すY相の欄におけるBT2はBaTi25
を、B4T13はBa4 Ti1330を、BT4はBaT
49 を、B2T9はBa2Ti920を示す。
【0037】次に、表1〜表1の条件及び表2〜
表2で得られた結果について検討する。
【0038】まず、タングステンブロンズ形結晶構造相
の割合について検討する。試料No.2に示すように、
Xが80mol%未満になると誘電率が60未満にな
り、試料No.3に示すように、Xが98mol%を超
えると920℃以下の温度による焼成では焼結不能とな
っている。従って、Xは80〜98mol%の範囲が好
ましい。
【0039】次に、タングステンブロンズ形結晶構造相
に含有されているBiの酸化物の割合について検討す
る。試料No.18に示すように、Biの酸化物が1m
ol%未満になると、誘電率εr が60以上とならず、
試料No.39に示すように、Biの酸化物が5mol
%を超えると、誘電率の温度特性τεが±60ppm/
℃以内に納まらなくなる。従って、Biの酸化物の割合
は1〜5mol%の範囲が好ましい。
【0040】次に、タングステンブロンズ形結晶構造相
に含有されているPbの酸化物の割合について検討す
る。試料No.23に示すように、Pbの酸化物が1m
ol%未満になると、誘電率εr が60以上とならず、
試料No.34に示すように、Pbの酸化物が6mol
%を超えると、誘電率の温度特性τεが±60ppm/
℃以内に納まらなくなる。従って、Pbの酸化物の割合
は1〜6mol%の範囲が好ましい。
【0041】次に、タングステンブロンズ形結晶構造相
に含有されているZnの酸化物の割合について検討す
る。試料No.28に示すように、Znの酸化物が2m
ol%未満になると、920℃以下の温度での焼成では
焼結不能となり、試料No.12に示すように、Znの
酸化物が11mol%を超えると、誘電率が60以上に
ならず、Q値も1000以上にならない。従って、Zn
の酸化物の割合は2〜11mol%の範囲が好ましい。
【0042】次に、タングステンブロンズ形結晶構造相
に含有されているSiの酸化物の割合について検討す
る。試料No.33に示すように、Siの酸化物が2m
ol%未満になると、920℃以下の温度での焼成では
焼結不能となり、試料No.24に示すように、Siの
酸化物が11mol%を超えると、誘電率が60以上に
ならず、Q値も1000以上にならない。従って、Si
の酸化物の割合は2〜11mol%の範囲が好ましい。
【0043】次に、微量結晶相を形成しているBの酸化
物の割合について検討する。試料No.38に示すよう
に、Bの酸化物が1mol%未満になると、920℃以
下の温度での焼成では焼結不能となり、試料No.19
に示すように、Bの酸化物が6mol%を超えると、誘
電率が60以上にならず、Q値も1000以上にならな
い。従って、Bの酸化物の割合は1〜6mol%の範囲
が好ましい。
【0044】次に、微量結晶相を形成しているAgの酸
化物の割合について検討する。試料No.43に示すよ
うに、Agの酸化物が1mol%未満になると、920
℃以下の温度での焼成では焼結不能となり、試料No.
14に示すように、Agの酸化物が6mol%を超える
と、誘電率が60以上にならず、Q値も1000以上に
ならない。従って、Agの酸化物の割合は1〜6mol
%の範囲が好ましい。
【0045】次に、微量結晶相を形成しているMnの酸
化物の割合について検討する。試料No.44に示すよ
うに、Mnの酸化物が1mol%未満になると、Q値が
1000以上にならず、試料No.9に示すように、M
nの酸化物が5mol%を超えると、誘電率が60以上
にならなくなる。従って、Mnの酸化物の割合は1〜5
mol%の範囲が好ましい。
【0046】従って、この発明の組成範囲にあれば、誘
電率60以上、Qが1000以上、比誘電率εr の温度
係数τεr の範囲が±60ppm/℃以内の良好な誘電
特性を持ち、920℃以下の温度の焼成で焼結が可能な
誘電体磁器組成物を提供できることがわかる。
【0047】なお、上記実施例では、誘電体磁器組成物
の特性比較を容易に行うために、円板形状のコンデンサ
を作成して諸特性を測定したが、積層型のコンデンサ、
フィルタ及び共振器を作成して評価しても同様の結果が
得られた。
【0048】また、この発明は上述の実施例に限定され
るものではなく、原料として用いた酸化物の代わりに、
希土類水酸化物、シュウ酸化合物、チタン酸塩を用いて
も全く同様の誘電体磁器組成物が得られた。また、この
発明の製品は、コンデンサやフィルタ等の部品に限られ
るものではなく、アンテナ基板、高周波回路基板、共振
器等の部品にも使用することができる。
【0049】
【発明の効果】この発明によれば、高周波用のセラミッ
ク電子部品に好適な電気的諸特性を有する誘電体磁器組
成物を920℃以下の温度の焼成で得ることができるの
で、電気的諸特性の良好な高周波用のセラミック電子部
品を安価に提供することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例に係る磁器コンデンサの説明図である。
【符号の説明】
10 磁器素体 12 電極
【表1○1】
【表1○2】
【表1○3】
【表2○1】
【表2○2】
【表2○3】

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 タングステンブロンズ形結晶構造相と、
    Ba2 Ti920,BaTi25 ,BaTi49
    びBa4 Ti1330から選択された1種又は2種以上か
    らなるチタン酸バリウム類相と、少なくともB,Ag及
    びMnの各酸化物からなる微量結晶相とからなり、 前記タングステンブロンズ形結晶構造相はBa,Nd及
    びTiの複合酸化物を基本成分とし、少なくともBi,
    Pb,Zn及びSiの各酸化物を含有し、 前記タングステンブロンズ形結晶構造相の割合をXmo
    l%、前記チタン酸バリウム類相の割合をYmol%と
    し、X+Y=100mol%とした場合、X=80〜9
    8mol%、 前記タングステンブロンズ形結晶構造相に含有されてい
    るBiの酸化物が1〜5mol%、Pbの酸化物が1〜
    6mol%、Znの酸化物が2〜11mol%、Siが
    2〜11mol%、 前記タングステンブロンズ形結晶構造相と前記チタン酸
    バリウム類相の合計量に対し、前記微量結晶相を形成し
    ているBの酸化物が1〜6mol%、Agの酸化物が1
    〜6mol%、Mnの酸化物が1〜5mol%の割合に
    なっていることを特徴とする誘電体磁器組成物。
  2. 【請求項2】 前記タングステンブロンズ形結晶構造相
    の基本構造がBaNd2 Ti412又はBaNd2 Ti
    512からなることを特徴とする請求項1に記載の誘電
    体磁器組成物。
  3. 【請求項3】 誘電体磁器組成物を備え、該誘電体磁器
    組成物がタングステンブロンズ形結晶構造相と、Ba2
    Ti920,BaTi25 ,BaTi49 及びBa
    4 Ti1330から選択された1種又は2種以上からなる
    チタン酸バリウム類相と、少なくともB,Ag及びMn
    の各酸化物からなる微量結晶相とからなり、 前記タングステンブロンズ形結晶構造相はBa,Nd及
    びTiの複合酸化物を基本成分とし、少なくともBi,
    Pb,Zn及びSiの各酸化物を含有し、 前記タングステンブロンズ形結晶構造相の割合をXmo
    l%、前記チタン酸バリウム類相の割合をYmol%と
    し、X+Y=100mol%とした場合、X=80〜9
    8mol%、 前記タングステンブロンズ形結晶構造相に含有されてい
    るBiの酸化物が1〜5mol%、Pbの酸化物が1〜
    6mol%、Znの酸化物が2〜11mol%、Siが
    2〜11mol%、 前記タングステンブロンズ形結晶構造相と前記チタン酸
    バリウム類相の合計量に対し、前記微量結晶相を形成し
    ているBの酸化物が1〜6mol%、Agの酸化物が1
    〜6mol%、Mnの酸化物が1〜5mol%の割合に
    なっていることことを特徴とするセラミック電子部品。
JP21128197A 1997-07-22 1997-07-22 誘電体磁器組成物とこの誘電体磁器組成物を用いたセラミック電子部品 Expired - Fee Related JP3305626B2 (ja)

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