JPH1135520A - 3−シクロプロピルプロピオン酸誘導体 - Google Patents

3−シクロプロピルプロピオン酸誘導体

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JPH1135520A
JPH1135520A JP6151498A JP6151498A JPH1135520A JP H1135520 A JPH1135520 A JP H1135520A JP 6151498 A JP6151498 A JP 6151498A JP 6151498 A JP6151498 A JP 6151498A JP H1135520 A JPH1135520 A JP H1135520A
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JP
Japan
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group
cyclopropyl
aromatic
formula
aliphatic group
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Pending
Application number
JP6151498A
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English (en)
Inventor
Akira Tai
晰 田井
Takashi Sugimura
高志 杉村
Satoshi Nakagawa
諭 中川
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Toyo Kasei Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Toyo Kasei Kogyo Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toyo Kasei Kogyo Co Ltd filed Critical Toyo Kasei Kogyo Co Ltd
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 抗腫瘍剤、抗生物質、不斉還元触媒の合成中
間体などとして有用な新規な3−シクロプロピルプロピ
オン酸誘導体を提供する。 【解決手段】 一般式 【化1】 (式中、R1は水素、脂肪族基、脂環式基、芳香族基、
芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、複素環
式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有していてもよ
い。)で表される(RまたはS)−3−シクロプロピル
−3−ヒドロキシプロピオン酸誘導体またはその塩。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、抗腫瘍剤、抗生物
質、不斉還元触媒の合成中間体などとして有用な新規な
3−シクロプロピルプロピオン酸誘導体に関する。
【0002】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】従来の不
斉合成技術においては、不斉中心を導入するために、高
価な不斉源を用いたり、非常に多くの工程を経て不斉誘
導がなされている(例えば、J.Org.Chem.,
1995,60,5628−5633)。すなわち、工
業的に不利な不斉合成技術で不斉誘導がなされていた。
【0003】また、汎用性の高いオレフィンの不斉還元
は、医薬、農薬分野において、有用な化合物を合成する
ために欠かせない高度な手法である。このような不斉還
元に用いられる触媒を形成するリガンドとして、下記式
(3)または式(4)で表される含リン誘導体が知られ
ており、この含リン誘導体は、(RまたはS)−3−ヒ
ドロキシ−4−メチルペンタン酸誘導体から複数の工程
を経て合成される(Tetrahedron Asym
metry,1991,2,569−592;J.A
m.Chem.Soc.,1991,113,8518
−8519)。
【0004】
【化5】
【0005】
【化6】
【0006】しかしながら、従来、工業的に有用な不斉
合成技術が確立されていなかったため、光学純度の高い
(RまたはS)−3−ヒドロキシ−4−メチルペンタン
酸誘導体を得るには、高価な不斉源と多くの工程を経て
調製された触媒とを用いていた。
【0007】本発明の課題は、上記のような従来技術の
問題を解決し得て、(RまたはS)−3−ヒドロキシ−
4−メチルペンタン酸誘導体の原料となり得る新規な
(RまたはS)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシ
プロピオン酸誘導体を、安価な不斉源を使用して、容易
な反応で、高収率でしかも安価に提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、一般式(1)
で表される新規な光学活性(RまたはS)−3−シクロ
プロピル−3−ヒドロキシプロピオン酸誘導体を、高収
率かつ高い光学純度で、しかも容易に得られる方法を見
出し、本発明を完成するに至った。
【0009】本発明の(RまたはS)−3−シクロプロ
ピル−3−ヒドロキシプロピオン酸誘導体またはその塩
は、文献未記載の新規化合物であって、下記一般式
(1)で表される。
【0010】
【化7】
【0011】(式中、R1は水素、脂肪族基、脂環式
基、芳香族基、芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素
環式基、複素環式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有
していてもよい。) R1が水素、メチル基またはエチル基のものが好まし
い。
【0012】一般式(2)
【0013】
【化8】
【0014】(式中、R2は脂肪族基、脂環式基、芳香
族基、芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、
複素環式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有していて
もよい。)で表される3−シクロプロピル−3−オキソ
プロピオン酸誘導体が、一般式(1)で表される(Rま
たはS)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピ
オン酸誘導体またはその塩の製造用中間体である。
【0015】一般式(1)で表される光学活性(Rまた
はS)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオ
ン酸誘導体は、一般式(2)で表される3−シクロプロ
ピル−3−オキソプロピオン酸誘導体を、光学活性
(S,S)−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒または光学
活性(R,R)−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒の存在
下、水素加圧下で不斉還元し、必要に応じて得られた化
合物を加水分解させることにより製造される。
【0016】
【発明の実施の形態】本発明において、一般式(2)中
のR2は、炭素数1〜30の脂肪族基、脂環式基、芳香
族基、芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、
複素環式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有していて
もよい。R2は、好ましくは炭素数1〜30のアルキル
基またはアリール基であり、より好ましくは炭素数1〜
4の低級アルキル基であり、特に好ましくはメチル基ま
たはエチル基である。
【0017】本発明の一般式(2)で表される3−シク
ロプロピル−3−オキソプロピオン酸誘導体は、J.O
rg.Chem.,1978,43,10,2087−
2088を参考にし、室温下、塩化シクロプロピルカル
ボニルと2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン−4,
6−ジオンを反応させることによって得られる。
【0018】出発原料となる塩化シクロプロピルカルボ
ニルと2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン−4,6
−ジオンは、市販のものを使用してもよい。
【0019】一般式(2)で表される3−シクロプロピ
ル−3−オキソプロピオン酸誘導体を製造するには、例
えば、エステルの場合には、2,2−ジメチル−1,3
−ジオキサン−4,6−ジオンの塩化メチレン−ピリジ
ン溶液に、塩化シクロプロピルカルボニルの塩化メチレ
ン溶液を加えて反応させた後、炭素数が1〜30好まし
くは1〜4のアルコールを加え、還流下で分解反応させ
る。
【0020】仕込みモル比は、2,2−ジメチル−1,
3−ジオキサン−4,6−ジオンに対し、塩化シクロプ
ロピルカルボニルを通常は小過剰加えればよく、好まし
くは1.02〜1.50倍モルである。反応温度は、2
0℃以下で、好ましくは0〜20℃である。反応時間
は、1〜50時間、好ましくは1〜10時間である。炭
素数が1〜30好ましくは1〜4のアルコールの添加量
は、塩化シクロプロピルカルボニルに対して5〜10重
量倍であり、アルコールを加えて還流下で分解反応させ
る際の反応時間は、1〜50時間、好ましくは1〜10
時間である。
【0021】このようにして得られた一般式(2)で表
される3−シクロプロピル−3−オキソプロピオン酸誘
導体を、光学活性(S,S)−酒石酸修飾ラネーニッケ
ル触媒または光学活性(R,R)−酒石酸修飾ラネーニ
ッケル触媒の存在下、水素加圧下で不斉還元し、必要に
応じて得られた化合物を加水分解させることにより、一
般式(1)で表される光学活性(RまたはS)−3−シ
クロプロピル−3−ヒドロキシプロピオン酸誘導体が得
られる。
【0022】一般式(1)で表される光学活性(Rまた
はS)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオ
ン酸誘導体の製造方法において、反応溶媒としては、テ
トラヒドロフラン(THF)またはプロピオン酸エステ
ルに、エノール化を防ぐために少量の酢酸を加えたもの
を用いる。酢酸の添加量は、1〜2容量%程度でよい。
【0023】反応に用いる光学活性(R,RまたはS,
S)−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒は、特開昭61−
28458号に記載された方法により製造できる。すな
わち、ラネーニッケル触媒を、光学活性(R,Rまたは
S,S)酒石酸と無機塩類とを含む水溶液に浸漬して得
られる。ここで、不斉源として使用する光学活性(R,
RまたはS,S)酒石酸は安価な化合物であるため、上
記の触媒を用いた不斉合成は、従来のものに比べてはる
かに安価に行うことが可能である。さらに、光学活性
(R,RまたはS,S)−酒石酸修飾ラネーニッケル触
媒は溶媒に不溶の固体触媒であるので、従来型の均一系
触媒では不可能な繰返し使用が可能となり、より経済的
な不斉合成ができる。また、S、Rの立体区別は、ラネ
ーニッケルを修飾する(R,R)−酒石酸または(S,
S)−酒石酸を使い分けることで、それぞれの光学活性
体を効率よく合成することができる。
【0024】光学活性酒石酸修飾ラネーニッケル触媒の
使用量は、3−シクロプロピル−3−オキソプロピオン
酸誘導体に対して2〜20重量%で、好ましくは5〜1
0重量%である。
【0025】反応温度は、通常50〜100℃の範囲
で、好ましくは60〜80℃である。
【0026】反応時間は、通常1〜120時間であり、
好ましくは40〜80時間である。
【0027】水素ガスの加圧は、通常20〜100気圧
で、好ましくは50〜100気圧である。
【0028】一般式(2)においてR2がアルキル基で
ある3−シクロプロピル−3−オキソプロピオン酸誘導
体を原料として、一般式(1)においてR1がアルキル
基である光学活性(RまたはS)−3−シクロプロピル
−3−ヒドロキシプロピオン酸誘導体を得た場合には、
アルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物と水とを用
いて、エステル部分を加水分解してもよい。アルカリ金
属の水酸化物としては、水酸化ナトリウムや水酸化カリ
ウムが使用される。また、アルカリ土類金属の水酸化物
としては、水酸化バリウムや水酸化カルシウムが使用さ
れる。加水分解における反応温度は、通常50〜100
℃であり、好ましくは80〜100℃である。加水分解
における反応時間は、通常1〜5時間であり、好ましく
は1〜3時間である。
【0029】本発明において、一般式(1)中のR
1は、水素、炭素数1〜30の脂肪族基、脂環式基、芳
香族基、芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式
基、複素環式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有して
いてもよい。R1は、好ましくは水素、炭素数1〜30
のアルキル基またはアリール基であり、より好ましくは
水素または炭素数1〜4の低級アルキル基であり、特に
好ましくは水素、メチル基またはエチル基である。
【0030】本発明の一般式(1)で表わされる化合物
の内、酸性基を有する化合物は、塩基性化合物と塩を形
成し得る。かかる塩基性化合物としては、ナトリウム、
カリウムなどのアルカリ金属またはバリウム、カルシウ
ムなどのアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、アルコ
ラートなどが例示される。これらの塩もまた一般式
(1)の化合物と同様に有用である。
【0031】一般式(1)で表される新規な(S)−3
−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオン酸誘導体
の一部は、下記式(5)または式(6)で表されるγ−
ラクトン誘導体を経由して、下記式(7)で表される抗
腫瘍剤および抗生物質用途の(−)−メチレノラクチン
を製造することができる。
【0032】
【化9】
【0033】
【化10】
【0034】
【化11】
【0035】また、一般式(1)で表される新規な
(R)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオ
ン酸誘導体の一部は、香味料などの用途がある。
【0036】一般式(1)で表される新規な(Rまたは
S)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオン
酸誘導体の一部は、酸化白金触媒の存在下、水素を作用
させて還元し、下記一般式(8)で表される光学活性
(RまたはS)−3−ヒドロキシ−4−メチルペンタン
酸誘導体に導くことができる。
【0037】
【化12】
【0038】この光学活性(RまたはS)−3−ヒドロ
キシ−4−メチルペンタン酸誘導体は、加水分解、Ko
lbe反応を経て、下記式(9)または式(10)で表
される光学活性なジオール誘導体に導くことができる
(Tetrahedron Asymmetry,19
91,2,569−592)。
【0039】
【化13】
【0040】
【化14】
【0041】さらに、この光学活性なジオール誘導体
は、スルホン誘導体を経由して下記式(3)または式
(4)で表される光学活性な含リン誘導体に導くことが
できる(J.Am.Chem.Soc.,1991,1
13,8518−8519)。この光学活性な含リン誘
導体が、オレフィン類の不斉還元触媒を形成するリガン
ドである。
【0042】
【化15】
【0043】
【化16】
【0044】
【実施例】次に、実施例によってこの発明をさらに詳細
に説明する。
【0045】製造例1 (R,R)−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒の製造 20%水酸化ナトリウム水溶液20ml中に、ラネーニ
ッケル合金末(ニッケル:アルミニウム=42:58)
1.9gを浸漬し、100℃で1時間加熱した。溶液を
デカンテーションで除去した後、ラネーニッケル触媒を
水で十分に超音波洗浄した。臭化ナトリウム10gと
(R,R)−酒石酸1.0gを水100mlに溶解し、
水酸化ナトリウムでpH3.2に調整した溶液に、該ラ
ネーニッケル触媒を浸漬して100℃で1時間加熱し
た。溶液をデカンテーションで除去した後、回収した触
媒を水洗浄、メタノール洗浄およびテトラヒドロフラン
洗浄し、(R,R)−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒
0.8gを得た。
【0046】製造例2 (S,S)−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒の製造 (R,R)−酒石酸の代わりに(S,S)−酒石酸を用
いる以外は製造例1と同様の方法で、(S,S)−酒石
酸修飾ラネーニッケル触媒0.8gを得た。
【0047】実施例1 3−シクロプロピル−3−オキソプロピオン酸メチルの
製造 塩化メチレン100mlおよびピリジン30mlの溶液
に、2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン−4,6−
ジオン34.4g(0.239モル)を溶解し、氷冷し
た。これに、塩化シクロプロピルカルボニル25.7g
(0.246モル)の塩化メチレン15ml溶液を20
℃以下で滴下した後、2時間反応させた。反応液を、2
N塩酸で洗浄し、次に水で洗浄した後、有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過
後、塩化メチレンを減圧で留去し、メタノール238g
(7.438モル)を加えて2時間還流した。次に、メ
タノールを減圧で留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィ(ヘキサン:酢酸エチル=7:3)で精製
した。さらに、90℃、2mmHgで蒸留し、無色の液
体の3−シクロプロピル−3−オキソプロピオン酸メチ
ル21.0gを得た。これは収率62%(塩化シクロプ
ロピルカルボニル基準)に相当した。分析結果を以下に
示す。
【0048】NMRスペクトルの測定値:δppm(CDCl3)
0.93-0.98(2H,m), 1.09-1.13(2H,m), 1.99-2.05(1H,
m), 3.58(2H,s), 3.74(3H,s) IRスペクトルの測定値:νmax(ヌジョール)1162, 1
182, 1246, 1386, 1450,1643, 1747, 1755, 2965cm-1
【0049】実施例2 3−シクロプロピル−3−オキソプロピオン酸エチルの
製造 塩化メチレン50mlおよびピリジン15mlの溶液
に、2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン−4,6−
ジオン17.2g(0.119モル)を溶解し、氷冷し
た。これに、塩化シクロプロピルカルボニル13.7g
(0.131モル)の塩化メチレン10ml溶液を20
℃以下で滴下した後、2時間反応させた。反応液を、2
N塩酸で洗浄し、次に水で洗浄した後、有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過
後、塩化メチレンを減圧で留去し、エタノール118g
(2.560モル)を加えて2時間還流した。次に、エ
タノールを減圧で留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィ(ヘキサン:酢酸エチル=7:3)で精製
した。さらに、92℃、2mmHgで蒸留し、無色の液
体の3−シクロプロピル−3−オキソプロピオン酸エチ
ル12.7gを得た。これは収率68%(塩化シクロプ
ロピルカルボニル基準)に相当した。分析結果を以下に
示す。
【0050】NMRスペクトルの測定値:δppm(CDCl3)
0.94-0.98(2H,m), 1.10-1.13(2H,m), 2.00-2.06(1H,
m), 1.23(3H,t), 3.55(2H,s), 4.16(2H,q) IRスペクトルの測定値:νmax(ヌジョール)1049, 1
180, 1244, 1266, 1314,1390, 1644, 1751, 2991cm-1
【0051】実施例3 (S)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオ
ン酸メチルの製造 振とう型オートクレーブに、THF20ml、酢酸0.
2ml、実施例1で調製した3−シクロプロピル−3−
オキソプロピオン酸メチル10g、製造例1で調製した
(R,R)−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒0.8gを
入れ、水素100気圧で加圧し、60℃で48時間振と
うした。反応終了後、反応液をデカンテーションで取出
し、THFを減圧で留去した。残渣を95℃、2mmH
gで蒸留し、無色液体の(S)−3−シクロプロピル−
3−ヒドロキシプロピオン酸メチル9.1g(化学収率
91%、光学純度98%ee)を得た。分析結果を以下
に示す。
【0052】NMRスペクトルの測定値:δppm(CDCl3)
0.19-0.23(1H,m), 0.36-0.41(1H,m), 0.46-0.58(2H,
m), 0.91-0.97(1H,m), 2.56-2.67(2H,m), 3.29-3.33(1
H,m),3.70(3H,s) IRスペクトルの測定値:νmax(ヌジョール)997, 10
43, 1142, 1175, 1439,1736, 2955, 3007, 3454cm-1 比旋光度測定値:[α]D=+11.00°(neat) 。
【0053】実施例4 (R)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオ
ン酸メチルの製造 製造例2で得られた(S,S)−酒石酸修飾ラネーニッ
ケル触媒を用いた以外は、実施例3と同様の方法で、
(R)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオ
ン酸メチル9.2g(化学収率92%、光学純度98%
ee)を得た。分析結果を以下に示す。
【0054】NMRスペクトルの測定値:実施例3の結
果と同一 IRスペクトルの測定値:実施例3の結果と同一 比旋光度測定値:[α]D=-11.00°(neat) 。
【0055】実施例5 (S)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオ
ン酸エチルの製造 振とう型オートクレーブに、THF20ml、酢酸0.
2ml、実施例2で調製した3−シクロプロピル−3−
オキソプロピオン酸エチル10g、製造例1で調製した
(R,R)−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒0.8gを
入れ、水素100気圧で加圧し、60℃で72時間振と
うした。反応終了後、反応液をデカンテーションで取出
し、THFを減圧で留去した。残渣を98℃、2mmH
gで蒸留し、無色液体の(S)−3−シクロプロピル−
3−ヒドロキシプロピオン酸エチル9.1g(化学収率
90%、光学純度98%ee)を得た。分析結果を以下
に示す。
【0056】NMRスペクトルの測定値:δppm(CDCl3)
4.16(2H,q), 3.28-3.33(1H,m),2.84(1H,s), 2.54-2.6
6(2H,m), 1.27(3H,t), 0.18-0.97(5H,m) IRスペクトルの測定値:νmax(ヌジョール)1044, 1
140, 1180, 1423, 1735,2954, 3006, 3454cm-1 比旋光度測定値:[α]D=+8.484°(neat) 。
【0057】実施例6 (R)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオ
ン酸エチルの製造 製造例2で調製した(S,S)−酒石酸修飾ラネーニッ
ケル触媒を用いる以外は、実施例5と同様の方法で、無
色液体の(R)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシ
プロピオン酸エチル9.2g(化学収率91%、光学純
度98%ee)を得た。分析結果を以下に示す。
【0058】NMRスペクトルの測定値:実施例5の結
果と同一 IRスペクトルの測定値:実施例5の結果と同一 比旋光度測定値:[α]D=-8.487°(neat) 。
【0059】実施例7 (S)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオ
ン酸の製造 実施例3で調製した(S)−3−シクロプロピル−3−
ヒドロキシプロピオン酸メチル9.0gを、20%水酸
化ナトリウム水溶液15mlとメタノール60mlの混
合液に溶解し、80〜90℃で2時間加熱し、加水分解
を行った。反応終了後、メタノールを減圧で留去した
後、36%塩酸9mlを加えて残渣を溶解した。これを
酢酸エチル40mlで4回抽出し、有機層を集めて無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過
して、酢酸エチルを減圧で留去した。さらに、150〜
160℃、2mmHgで蒸留し、無色の油状液体の
(S)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオ
ン酸6.7gを得た。これは収率82%((S)−3−
シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオン酸メチル基
準)に相当した。分析結果を以下に示す。
【0060】NMRスペクトルの測定値:δppm(CDCl3)
6.40(1H,br), 3.30-3.45(1H,m),2.47-2.73(2H,m), 0.
21-1.02(5H,m) IRスペクトルの測定値:νmax(ヌジョール)930, 10
40, 1192, 1283, 1418,1713, 2934, 3007cm-1 比旋光度測定値:[α]D=+14.083°(c 0.987, EtOH) 。
【0061】実施例8 (R)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオ
ン酸の製造 実施例4で調製した(R)−3−シクロプロピル−3−
ヒドロキシプロピオン酸メチルを用いる以外は、実施例
7と同様にして加水分解を行い、無色の油状液体の
(R)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオ
ン酸6.7gを得た。これは収率82%((R)−3−
シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオン酸メチル基
準)に相当した。分析結果を以下に示す。
【0062】NMRスペクトルの測定値:実施例7の結
果と同一 IRスペクトルの測定値:実施例7の結果と同一 比旋光度測定値:[α]D=-14.026°(c 0.997, EtOH) 。
【0063】参考例1 (S)−3−ヒドロキシ−4−メチルペンタン酸メチル
の製造 実施例3で調製した(S)−3−シクロプロピル−3−
ヒドロキシプロピオン酸メチル5.0gの酢酸10ml
溶液に酸化白金30mgを加え、水素気流下、室温で3
0分撹拌した。反応終了後、ヘキサン30mlを加え、
共沸で酢酸を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ(ヘキサン:酢酸エチル=7:3)で精製
し、無色液体の(S)−3−ヒドロキシ−4−メチルペ
ンタン酸メチル4.8g(化学収率95%、光学純度9
8%ee)を得た。分析結果を以下に示す。
【0064】NMRスペクトルの測定値:δppm(CDCl3)
0.91(3H,d,J=6.8Hz), 0.93(3H,d,J=6.8Hz), 1.69(1H,
m), 2.37-2.54(2H,m), 3.70(3H,s), 3.77(1H,m) 比旋光度測定値:[α]D 20=-26.462°(neat)。
【0065】参考例2 (R)−3−ヒドロキシ−4−メチルペンタン酸メチル
の製造 実施例4で調製した(R)−3−シクロプロピル−3−
ヒドロキシプロピオン酸メチルを用いる以外は、参考例
1と同様の方法で、無色液体の(R)−3−ヒドロキシ
−4−メチルペンタン酸メチル4.8g(化学収率95
%、光学純度98%ee)を得た。分析結果を以下に示
す。
【0066】NMRスペクトルの測定値:参考例1の結
果と同一 比旋光度測定値:[α]D 20=+26.465°(neat)。
【0067】
【発明の効果】不斉合成における有用な中間物質とし
て、安価に製造できる新規な光学活性(RまたはS)−
3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオン酸誘導
体を提供する。本発明の製造方法により、反応が容易
で、高収率かつ高い光学純度で安価に得られる。本発明
は、医薬品、農薬、不斉還元触媒等の中間体の合成に寄
与するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 C07M 7:00

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、R1は水素、脂肪族基、脂環式基、芳香族基、
    芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、複素環
    式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有していてもよ
    い。)で表される(RまたはS)−3−シクロプロピル
    −3−ヒドロキシプロピオン酸誘導体またはその塩。
  2. 【請求項2】 R1が水素、メチル基またはエチル基で
    あることを特徴とする請求項1に記載の(RまたはS)
    −3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオン酸誘
    導体。
  3. 【請求項3】 一般式(2) 【化2】 (式中、R2は脂肪族基、脂環式基、芳香族基、芳香族
    脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、複素環式脂肪
    族基であり、それぞれ置換基を有していてもよい。)で
    表される3−シクロプロピル−3−オキソプロピオン酸
    誘導体。
  4. 【請求項4】 一般式(2)で表される3−シクロプロ
    ピル−3−オキソプロピオン酸誘導体を、(S,S)−
    酒石酸修飾ラネーニッケル触媒または(R,R)−酒石
    酸修飾ラネーニッケル触媒の存在下、水素加圧下で不斉
    還元し、必要に応じて得られた化合物を加水分解させる
    ことを特徴とする一般式(1)で表される(Rまたは
    S)−3−シクロプロピル−3−ヒドロキシプロピオン
    酸誘導体の製造方法。 【化3】 (式中、R2は脂肪族基、脂環式基、芳香族基、芳香族
    脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、複素環式脂肪
    族基であり、それぞれ置換基を有していてもよい。) 【化4】 (式中、R1は水素、脂肪族基、脂環式基、芳香族基、
    芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、複素環
    式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有していてもよ
    い。)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000068290A3 (en) * 1999-05-10 2002-09-26 Eastman Chem Co Poly(3-cyclopropyl-3-hydroxypropionate) and processes for its preparation and derivatives thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2000068290A3 (en) * 1999-05-10 2002-09-26 Eastman Chem Co Poly(3-cyclopropyl-3-hydroxypropionate) and processes for its preparation and derivatives thereof
US6610878B1 (en) 1999-05-10 2003-08-26 Eastman Chemical Company Poly(3-cyclopropyl-3-hydroxypropionate) and processes for its preparation and derivatives thereof
US6710206B2 (en) 1999-05-10 2004-03-23 Eastman Chemical Company Poly(3-cyclopropyl-3-hydroxypropionate) and processes for its preparation and derivatives thereof

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