JPH1135520A - ３−シクロプロピルプロピオン酸誘導体 - Google Patents
３−シクロプロピルプロピオン酸誘導体Info
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- JPH1135520A JPH1135520A JP6151498A JP6151498A JPH1135520A JP H1135520 A JPH1135520 A JP H1135520A JP 6151498 A JP6151498 A JP 6151498A JP 6151498 A JP6151498 A JP 6151498A JP H1135520 A JPH1135520 A JP H1135520A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 抗腫瘍剤、抗生物質、不斉還元触媒の合成中
間体などとして有用な新規な３−シクロプロピルプロピ
オン酸誘導体を提供する。 【解決手段】 一般式 【化１】 （式中、Ｒ1は水素、脂肪族基、脂環式基、芳香族基、
芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、複素環
式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有していてもよ
い。）で表される（ＲまたはＳ）−３−シクロプロピル
−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体またはその塩。
間体などとして有用な新規な３−シクロプロピルプロピ
オン酸誘導体を提供する。 【解決手段】 一般式 【化１】 （式中、Ｒ1は水素、脂肪族基、脂環式基、芳香族基、
芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、複素環
式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有していてもよ
い。）で表される（ＲまたはＳ）−３−シクロプロピル
−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体またはその塩。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、抗腫瘍剤、抗生物
質、不斉還元触媒の合成中間体などとして有用な新規な
３−シクロプロピルプロピオン酸誘導体に関する。
質、不斉還元触媒の合成中間体などとして有用な新規な
３−シクロプロピルプロピオン酸誘導体に関する。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】従来の不
斉合成技術においては、不斉中心を導入するために、高
価な不斉源を用いたり、非常に多くの工程を経て不斉誘
導がなされている（例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，
１９９５，６０，５６２８−５６３３）。すなわち、工
業的に不利な不斉合成技術で不斉誘導がなされていた。
斉合成技術においては、不斉中心を導入するために、高
価な不斉源を用いたり、非常に多くの工程を経て不斉誘
導がなされている（例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，
１９９５，６０，５６２８−５６３３）。すなわち、工
業的に不利な不斉合成技術で不斉誘導がなされていた。
【０００３】また、汎用性の高いオレフィンの不斉還元
は、医薬、農薬分野において、有用な化合物を合成する
ために欠かせない高度な手法である。このような不斉還
元に用いられる触媒を形成するリガンドとして、下記式
（３）または式（４）で表される含リン誘導体が知られ
ており、この含リン誘導体は、（ＲまたはＳ）−３−ヒ
ドロキシ−４−メチルペンタン酸誘導体から複数の工程
を経て合成される（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ａｓｙｍ
ｍｅｔｒｙ，１９９１，２，５６９−５９２；Ｊ．Ａ
ｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９１，１１３，８５１８
−８５１９）。
は、医薬、農薬分野において、有用な化合物を合成する
ために欠かせない高度な手法である。このような不斉還
元に用いられる触媒を形成するリガンドとして、下記式
（３）または式（４）で表される含リン誘導体が知られ
ており、この含リン誘導体は、（ＲまたはＳ）−３−ヒ
ドロキシ−４−メチルペンタン酸誘導体から複数の工程
を経て合成される（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ａｓｙｍ
ｍｅｔｒｙ，１９９１，２，５６９−５９２；Ｊ．Ａ
ｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９１，１１３，８５１８
−８５１９）。
【０００４】
【化５】
【０００５】
【化６】
【０００６】しかしながら、従来、工業的に有用な不斉
合成技術が確立されていなかったため、光学純度の高い
（ＲまたはＳ）−３−ヒドロキシ−４−メチルペンタン
酸誘導体を得るには、高価な不斉源と多くの工程を経て
調製された触媒とを用いていた。
合成技術が確立されていなかったため、光学純度の高い
（ＲまたはＳ）−３−ヒドロキシ−４−メチルペンタン
酸誘導体を得るには、高価な不斉源と多くの工程を経て
調製された触媒とを用いていた。
【０００７】本発明の課題は、上記のような従来技術の
問題を解決し得て、（ＲまたはＳ）−３−ヒドロキシ−
４−メチルペンタン酸誘導体の原料となり得る新規な
（ＲまたはＳ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシ
プロピオン酸誘導体を、安価な不斉源を使用して、容易
な反応で、高収率でしかも安価に提供することにある。
問題を解決し得て、（ＲまたはＳ）−３−ヒドロキシ−
４−メチルペンタン酸誘導体の原料となり得る新規な
（ＲまたはＳ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシ
プロピオン酸誘導体を、安価な不斉源を使用して、容易
な反応で、高収率でしかも安価に提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、一般式（１）
で表される新規な光学活性（ＲまたはＳ）−３−シクロ
プロピル−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体を、高収
率かつ高い光学純度で、しかも容易に得られる方法を見
出し、本発明を完成するに至った。
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、一般式（１）
で表される新規な光学活性（ＲまたはＳ）−３−シクロ
プロピル−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体を、高収
率かつ高い光学純度で、しかも容易に得られる方法を見
出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】本発明の（ＲまたはＳ）−３−シクロプロ
ピル−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体またはその塩
は、文献未記載の新規化合物であって、下記一般式
（１）で表される。
ピル−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体またはその塩
は、文献未記載の新規化合物であって、下記一般式
（１）で表される。
【００１０】
【化７】
【００１１】（式中、Ｒ1は水素、脂肪族基、脂環式
基、芳香族基、芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素
環式基、複素環式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有
していてもよい。） Ｒ1が水素、メチル基またはエチル基のものが好まし
い。
基、芳香族基、芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素
環式基、複素環式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有
していてもよい。） Ｒ1が水素、メチル基またはエチル基のものが好まし
い。
【００１２】一般式（２）
【００１３】
【化８】
【００１４】（式中、Ｒ2は脂肪族基、脂環式基、芳香
族基、芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、
複素環式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有していて
もよい。）で表される３−シクロプロピル−３−オキソ
プロピオン酸誘導体が、一般式（１）で表される（Ｒま
たはＳ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピ
オン酸誘導体またはその塩の製造用中間体である。
族基、芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、
複素環式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有していて
もよい。）で表される３−シクロプロピル−３−オキソ
プロピオン酸誘導体が、一般式（１）で表される（Ｒま
たはＳ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピ
オン酸誘導体またはその塩の製造用中間体である。
【００１５】一般式（１）で表される光学活性（Ｒまた
はＳ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸誘導体は、一般式（２）で表される３−シクロプロ
ピル−３−オキソプロピオン酸誘導体を、光学活性
（Ｓ，Ｓ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒または光学
活性（Ｒ，Ｒ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒の存在
下、水素加圧下で不斉還元し、必要に応じて得られた化
合物を加水分解させることにより製造される。
はＳ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸誘導体は、一般式（２）で表される３−シクロプロ
ピル−３−オキソプロピオン酸誘導体を、光学活性
（Ｓ，Ｓ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒または光学
活性（Ｒ，Ｒ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒の存在
下、水素加圧下で不斉還元し、必要に応じて得られた化
合物を加水分解させることにより製造される。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明において、一般式（２）中
のＲ2は、炭素数１〜３０の脂肪族基、脂環式基、芳香
族基、芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、
複素環式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有していて
もよい。Ｒ2は、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル
基またはアリール基であり、より好ましくは炭素数１〜
４の低級アルキル基であり、特に好ましくはメチル基ま
たはエチル基である。
のＲ2は、炭素数１〜３０の脂肪族基、脂環式基、芳香
族基、芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、
複素環式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有していて
もよい。Ｒ2は、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル
基またはアリール基であり、より好ましくは炭素数１〜
４の低級アルキル基であり、特に好ましくはメチル基ま
たはエチル基である。
【００１７】本発明の一般式（２）で表される３−シク
ロプロピル−３−オキソプロピオン酸誘導体は、Ｊ．Ｏ
ｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９７８，４３，１０，２０８７−
２０８８を参考にし、室温下、塩化シクロプロピルカル
ボニルと２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，
６−ジオンを反応させることによって得られる。
ロプロピル−３−オキソプロピオン酸誘導体は、Ｊ．Ｏ
ｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９７８，４３，１０，２０８７−
２０８８を参考にし、室温下、塩化シクロプロピルカル
ボニルと２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，
６−ジオンを反応させることによって得られる。
【００１８】出発原料となる塩化シクロプロピルカルボ
ニルと２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６
−ジオンは、市販のものを使用してもよい。
ニルと２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６
−ジオンは、市販のものを使用してもよい。
【００１９】一般式（２）で表される３−シクロプロピ
ル−３−オキソプロピオン酸誘導体を製造するには、例
えば、エステルの場合には、２，２−ジメチル−１，３
−ジオキサン−４，６−ジオンの塩化メチレン−ピリジ
ン溶液に、塩化シクロプロピルカルボニルの塩化メチレ
ン溶液を加えて反応させた後、炭素数が１〜３０好まし
くは１〜４のアルコールを加え、還流下で分解反応させ
る。
ル−３−オキソプロピオン酸誘導体を製造するには、例
えば、エステルの場合には、２，２−ジメチル−１，３
−ジオキサン−４，６−ジオンの塩化メチレン−ピリジ
ン溶液に、塩化シクロプロピルカルボニルの塩化メチレ
ン溶液を加えて反応させた後、炭素数が１〜３０好まし
くは１〜４のアルコールを加え、還流下で分解反応させ
る。
【００２０】仕込みモル比は、２，２−ジメチル−１，
３−ジオキサン−４，６−ジオンに対し、塩化シクロプ
ロピルカルボニルを通常は小過剰加えればよく、好まし
くは１．０２〜１．５０倍モルである。反応温度は、２
０℃以下で、好ましくは０〜２０℃である。反応時間
は、１〜５０時間、好ましくは１〜１０時間である。炭
素数が１〜３０好ましくは１〜４のアルコールの添加量
は、塩化シクロプロピルカルボニルに対して５〜１０重
量倍であり、アルコールを加えて還流下で分解反応させ
る際の反応時間は、１〜５０時間、好ましくは１〜１０
時間である。
３−ジオキサン−４，６−ジオンに対し、塩化シクロプ
ロピルカルボニルを通常は小過剰加えればよく、好まし
くは１．０２〜１．５０倍モルである。反応温度は、２
０℃以下で、好ましくは０〜２０℃である。反応時間
は、１〜５０時間、好ましくは１〜１０時間である。炭
素数が１〜３０好ましくは１〜４のアルコールの添加量
は、塩化シクロプロピルカルボニルに対して５〜１０重
量倍であり、アルコールを加えて還流下で分解反応させ
る際の反応時間は、１〜５０時間、好ましくは１〜１０
時間である。
【００２１】このようにして得られた一般式（２）で表
される３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸誘
導体を、光学活性（Ｓ，Ｓ）−酒石酸修飾ラネーニッケ
ル触媒または光学活性（Ｒ，Ｒ）−酒石酸修飾ラネーニ
ッケル触媒の存在下、水素加圧下で不斉還元し、必要に
応じて得られた化合物を加水分解させることにより、一
般式（１）で表される光学活性（ＲまたはＳ）−３−シ
クロプロピル−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体が得
られる。
される３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸誘
導体を、光学活性（Ｓ，Ｓ）−酒石酸修飾ラネーニッケ
ル触媒または光学活性（Ｒ，Ｒ）−酒石酸修飾ラネーニ
ッケル触媒の存在下、水素加圧下で不斉還元し、必要に
応じて得られた化合物を加水分解させることにより、一
般式（１）で表される光学活性（ＲまたはＳ）−３−シ
クロプロピル−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体が得
られる。
【００２２】一般式（１）で表される光学活性（Ｒまた
はＳ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸誘導体の製造方法において、反応溶媒としては、テ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ）またはプロピオン酸エステ
ルに、エノール化を防ぐために少量の酢酸を加えたもの
を用いる。酢酸の添加量は、１〜２容量％程度でよい。
はＳ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸誘導体の製造方法において、反応溶媒としては、テ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ）またはプロピオン酸エステ
ルに、エノール化を防ぐために少量の酢酸を加えたもの
を用いる。酢酸の添加量は、１〜２容量％程度でよい。
【００２３】反応に用いる光学活性（Ｒ，ＲまたはＳ，
Ｓ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒は、特開昭６１−
２８４５８号に記載された方法により製造できる。すな
わち、ラネーニッケル触媒を、光学活性（Ｒ，Ｒまたは
Ｓ，Ｓ）酒石酸と無機塩類とを含む水溶液に浸漬して得
られる。ここで、不斉源として使用する光学活性（Ｒ，
ＲまたはＳ，Ｓ）酒石酸は安価な化合物であるため、上
記の触媒を用いた不斉合成は、従来のものに比べてはる
かに安価に行うことが可能である。さらに、光学活性
（Ｒ，ＲまたはＳ，Ｓ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触
媒は溶媒に不溶の固体触媒であるので、従来型の均一系
触媒では不可能な繰返し使用が可能となり、より経済的
な不斉合成ができる。また、Ｓ、Ｒの立体区別は、ラネ
ーニッケルを修飾する（Ｒ，Ｒ）−酒石酸または（Ｓ，
Ｓ）−酒石酸を使い分けることで、それぞれの光学活性
体を効率よく合成することができる。
Ｓ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒は、特開昭６１−
２８４５８号に記載された方法により製造できる。すな
わち、ラネーニッケル触媒を、光学活性（Ｒ，Ｒまたは
Ｓ，Ｓ）酒石酸と無機塩類とを含む水溶液に浸漬して得
られる。ここで、不斉源として使用する光学活性（Ｒ，
ＲまたはＳ，Ｓ）酒石酸は安価な化合物であるため、上
記の触媒を用いた不斉合成は、従来のものに比べてはる
かに安価に行うことが可能である。さらに、光学活性
（Ｒ，ＲまたはＳ，Ｓ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触
媒は溶媒に不溶の固体触媒であるので、従来型の均一系
触媒では不可能な繰返し使用が可能となり、より経済的
な不斉合成ができる。また、Ｓ、Ｒの立体区別は、ラネ
ーニッケルを修飾する（Ｒ，Ｒ）−酒石酸または（Ｓ，
Ｓ）−酒石酸を使い分けることで、それぞれの光学活性
体を効率よく合成することができる。
【００２４】光学活性酒石酸修飾ラネーニッケル触媒の
使用量は、３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン
酸誘導体に対して２〜２０重量％で、好ましくは５〜１
０重量％である。
使用量は、３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン
酸誘導体に対して２〜２０重量％で、好ましくは５〜１
０重量％である。
【００２５】反応温度は、通常５０〜１００℃の範囲
で、好ましくは６０〜８０℃である。
で、好ましくは６０〜８０℃である。
【００２６】反応時間は、通常１〜１２０時間であり、
好ましくは４０〜８０時間である。
好ましくは４０〜８０時間である。
【００２７】水素ガスの加圧は、通常２０〜１００気圧
で、好ましくは５０〜１００気圧である。
で、好ましくは５０〜１００気圧である。
【００２８】一般式（２）においてＲ2がアルキル基で
ある３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸誘導
体を原料として、一般式（１）においてＲ1がアルキル
基である光学活性（ＲまたはＳ）−３−シクロプロピル
−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体を得た場合には、
アルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物と水とを用
いて、エステル部分を加水分解してもよい。アルカリ金
属の水酸化物としては、水酸化ナトリウムや水酸化カリ
ウムが使用される。また、アルカリ土類金属の水酸化物
としては、水酸化バリウムや水酸化カルシウムが使用さ
れる。加水分解における反応温度は、通常５０〜１００
℃であり、好ましくは８０〜１００℃である。加水分解
における反応時間は、通常１〜５時間であり、好ましく
は１〜３時間である。
ある３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸誘導
体を原料として、一般式（１）においてＲ1がアルキル
基である光学活性（ＲまたはＳ）−３−シクロプロピル
−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体を得た場合には、
アルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物と水とを用
いて、エステル部分を加水分解してもよい。アルカリ金
属の水酸化物としては、水酸化ナトリウムや水酸化カリ
ウムが使用される。また、アルカリ土類金属の水酸化物
としては、水酸化バリウムや水酸化カルシウムが使用さ
れる。加水分解における反応温度は、通常５０〜１００
℃であり、好ましくは８０〜１００℃である。加水分解
における反応時間は、通常１〜５時間であり、好ましく
は１〜３時間である。
【００２９】本発明において、一般式（１）中のＲ
1は、水素、炭素数１〜３０の脂肪族基、脂環式基、芳
香族基、芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式
基、複素環式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有して
いてもよい。Ｒ1は、好ましくは水素、炭素数１〜３０
のアルキル基またはアリール基であり、より好ましくは
水素または炭素数１〜４の低級アルキル基であり、特に
好ましくは水素、メチル基またはエチル基である。
1は、水素、炭素数１〜３０の脂肪族基、脂環式基、芳
香族基、芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式
基、複素環式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有して
いてもよい。Ｒ1は、好ましくは水素、炭素数１〜３０
のアルキル基またはアリール基であり、より好ましくは
水素または炭素数１〜４の低級アルキル基であり、特に
好ましくは水素、メチル基またはエチル基である。
【００３０】本発明の一般式（１）で表わされる化合物
の内、酸性基を有する化合物は、塩基性化合物と塩を形
成し得る。かかる塩基性化合物としては、ナトリウム、
カリウムなどのアルカリ金属またはバリウム、カルシウ
ムなどのアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、アルコ
ラートなどが例示される。これらの塩もまた一般式
（１）の化合物と同様に有用である。
の内、酸性基を有する化合物は、塩基性化合物と塩を形
成し得る。かかる塩基性化合物としては、ナトリウム、
カリウムなどのアルカリ金属またはバリウム、カルシウ
ムなどのアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、アルコ
ラートなどが例示される。これらの塩もまた一般式
（１）の化合物と同様に有用である。
【００３１】一般式（１）で表される新規な（Ｓ）−３
−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体
の一部は、下記式（５）または式（６）で表されるγ−
ラクトン誘導体を経由して、下記式（７）で表される抗
腫瘍剤および抗生物質用途の（−）−メチレノラクチン
を製造することができる。
−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体
の一部は、下記式（５）または式（６）で表されるγ−
ラクトン誘導体を経由して、下記式（７）で表される抗
腫瘍剤および抗生物質用途の（−）−メチレノラクチン
を製造することができる。
【００３２】
【化９】
【００３３】
【化１０】
【００３４】
【化１１】
【００３５】また、一般式（１）で表される新規な
（Ｒ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸誘導体の一部は、香味料などの用途がある。
（Ｒ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸誘導体の一部は、香味料などの用途がある。
【００３６】一般式（１）で表される新規な（Ｒまたは
Ｓ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオン
酸誘導体の一部は、酸化白金触媒の存在下、水素を作用
させて還元し、下記一般式（８）で表される光学活性
（ＲまたはＳ）−３−ヒドロキシ−４−メチルペンタン
酸誘導体に導くことができる。
Ｓ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオン
酸誘導体の一部は、酸化白金触媒の存在下、水素を作用
させて還元し、下記一般式（８）で表される光学活性
（ＲまたはＳ）−３−ヒドロキシ−４−メチルペンタン
酸誘導体に導くことができる。
【００３７】
【化１２】
【００３８】この光学活性（ＲまたはＳ）−３−ヒドロ
キシ−４−メチルペンタン酸誘導体は、加水分解、Ｋｏ
ｌｂｅ反応を経て、下記式（９）または式（１０）で表
される光学活性なジオール誘導体に導くことができる
（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，１９
９１，２，５６９−５９２）。
キシ−４−メチルペンタン酸誘導体は、加水分解、Ｋｏ
ｌｂｅ反応を経て、下記式（９）または式（１０）で表
される光学活性なジオール誘導体に導くことができる
（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，１９
９１，２，５６９−５９２）。
【００３９】
【化１３】
【００４０】
【化１４】
【００４１】さらに、この光学活性なジオール誘導体
は、スルホン誘導体を経由して下記式（３）または式
（４）で表される光学活性な含リン誘導体に導くことが
できる（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９１，１
１３，８５１８−８５１９）。この光学活性な含リン誘
導体が、オレフィン類の不斉還元触媒を形成するリガン
ドである。
は、スルホン誘導体を経由して下記式（３）または式
（４）で表される光学活性な含リン誘導体に導くことが
できる（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９１，１
１３，８５１８−８５１９）。この光学活性な含リン誘
導体が、オレフィン類の不斉還元触媒を形成するリガン
ドである。
【００４２】
【化１５】
【００４３】
【化１６】
【００４４】
【実施例】次に、実施例によってこの発明をさらに詳細
に説明する。
に説明する。
【００４５】製造例１ （Ｒ，Ｒ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒の製造 ２０％水酸化ナトリウム水溶液２０ｍｌ中に、ラネーニ
ッケル合金末（ニッケル：アルミニウム＝４２：５８）
１．９ｇを浸漬し、１００℃で１時間加熱した。溶液を
デカンテーションで除去した後、ラネーニッケル触媒を
水で十分に超音波洗浄した。臭化ナトリウム１０ｇと
（Ｒ，Ｒ）−酒石酸１．０ｇを水１００ｍｌに溶解し、
水酸化ナトリウムでｐＨ３．２に調整した溶液に、該ラ
ネーニッケル触媒を浸漬して１００℃で１時間加熱し
た。溶液をデカンテーションで除去した後、回収した触
媒を水洗浄、メタノール洗浄およびテトラヒドロフラン
洗浄し、（Ｒ，Ｒ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒
０．８ｇを得た。
ッケル合金末（ニッケル：アルミニウム＝４２：５８）
１．９ｇを浸漬し、１００℃で１時間加熱した。溶液を
デカンテーションで除去した後、ラネーニッケル触媒を
水で十分に超音波洗浄した。臭化ナトリウム１０ｇと
（Ｒ，Ｒ）−酒石酸１．０ｇを水１００ｍｌに溶解し、
水酸化ナトリウムでｐＨ３．２に調整した溶液に、該ラ
ネーニッケル触媒を浸漬して１００℃で１時間加熱し
た。溶液をデカンテーションで除去した後、回収した触
媒を水洗浄、メタノール洗浄およびテトラヒドロフラン
洗浄し、（Ｒ，Ｒ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒
０．８ｇを得た。
【００４６】製造例２ （Ｓ，Ｓ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒の製造 （Ｒ，Ｒ）−酒石酸の代わりに（Ｓ，Ｓ）−酒石酸を用
いる以外は製造例１と同様の方法で、（Ｓ，Ｓ）−酒石
酸修飾ラネーニッケル触媒０．８ｇを得た。
いる以外は製造例１と同様の方法で、（Ｓ，Ｓ）−酒石
酸修飾ラネーニッケル触媒０．８ｇを得た。
【００４７】実施例１ ３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸メチルの
製造 塩化メチレン１００ｍｌおよびピリジン３０ｍｌの溶液
に、２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−
ジオン３４．４ｇ（０．２３９モル）を溶解し、氷冷し
た。これに、塩化シクロプロピルカルボニル２５．７ｇ
（０．２４６モル）の塩化メチレン１５ｍｌ溶液を２０
℃以下で滴下した後、２時間反応させた。反応液を、２
Ｎ塩酸で洗浄し、次に水で洗浄した後、有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過
後、塩化メチレンを減圧で留去し、メタノール２３８ｇ
（７．４３８モル）を加えて２時間還流した。次に、メ
タノールを減圧で留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィ（ヘキサン：酢酸エチル＝７：３）で精製
した。さらに、９０℃、２ｍｍＨｇで蒸留し、無色の液
体の３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸メチ
ル２１．０ｇを得た。これは収率６２％（塩化シクロプ
ロピルカルボニル基準）に相当した。分析結果を以下に
示す。
製造 塩化メチレン１００ｍｌおよびピリジン３０ｍｌの溶液
に、２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−
ジオン３４．４ｇ（０．２３９モル）を溶解し、氷冷し
た。これに、塩化シクロプロピルカルボニル２５．７ｇ
（０．２４６モル）の塩化メチレン１５ｍｌ溶液を２０
℃以下で滴下した後、２時間反応させた。反応液を、２
Ｎ塩酸で洗浄し、次に水で洗浄した後、有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過
後、塩化メチレンを減圧で留去し、メタノール２３８ｇ
（７．４３８モル）を加えて２時間還流した。次に、メ
タノールを減圧で留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィ（ヘキサン：酢酸エチル＝７：３）で精製
した。さらに、９０℃、２ｍｍＨｇで蒸留し、無色の液
体の３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸メチ
ル２１．０ｇを得た。これは収率６２％（塩化シクロプ
ロピルカルボニル基準）に相当した。分析結果を以下に
示す。
【００４８】ＮＭＲスペクトルの測定値：δppm(CDCl3)
0.93-0.98(2H,m), 1.09-1.13(2H,m), 1.99-2.05(1H,
m), 3.58(2H,s), 3.74(3H,s) ＩＲスペクトルの測定値：νmax（ヌジョール）1162, 1
182, 1246, 1386, 1450,1643, 1747, 1755, 2965cm-1。
0.93-0.98(2H,m), 1.09-1.13(2H,m), 1.99-2.05(1H,
m), 3.58(2H,s), 3.74(3H,s) ＩＲスペクトルの測定値：νmax（ヌジョール）1162, 1
182, 1246, 1386, 1450,1643, 1747, 1755, 2965cm-1。
【００４９】実施例２ ３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸エチルの
製造 塩化メチレン５０ｍｌおよびピリジン１５ｍｌの溶液
に、２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−
ジオン１７．２ｇ（０．１１９モル）を溶解し、氷冷し
た。これに、塩化シクロプロピルカルボニル１３．７ｇ
（０．１３１モル）の塩化メチレン１０ｍｌ溶液を２０
℃以下で滴下した後、２時間反応させた。反応液を、２
Ｎ塩酸で洗浄し、次に水で洗浄した後、有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過
後、塩化メチレンを減圧で留去し、エタノール１１８ｇ
（２．５６０モル）を加えて２時間還流した。次に、エ
タノールを減圧で留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィ（ヘキサン：酢酸エチル＝７：３）で精製
した。さらに、９２℃、２ｍｍＨｇで蒸留し、無色の液
体の３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸エチ
ル１２．７ｇを得た。これは収率６８％（塩化シクロプ
ロピルカルボニル基準）に相当した。分析結果を以下に
示す。
製造 塩化メチレン５０ｍｌおよびピリジン１５ｍｌの溶液
に、２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−
ジオン１７．２ｇ（０．１１９モル）を溶解し、氷冷し
た。これに、塩化シクロプロピルカルボニル１３．７ｇ
（０．１３１モル）の塩化メチレン１０ｍｌ溶液を２０
℃以下で滴下した後、２時間反応させた。反応液を、２
Ｎ塩酸で洗浄し、次に水で洗浄した後、有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過
後、塩化メチレンを減圧で留去し、エタノール１１８ｇ
（２．５６０モル）を加えて２時間還流した。次に、エ
タノールを減圧で留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィ（ヘキサン：酢酸エチル＝７：３）で精製
した。さらに、９２℃、２ｍｍＨｇで蒸留し、無色の液
体の３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸エチ
ル１２．７ｇを得た。これは収率６８％（塩化シクロプ
ロピルカルボニル基準）に相当した。分析結果を以下に
示す。
【００５０】ＮＭＲスペクトルの測定値：δppm(CDCl3)
0.94-0.98(2H,m), 1.10-1.13(2H,m), 2.00-2.06(1H,
m), 1.23(3H,t), 3.55(2H,s), 4.16(2H,q) ＩＲスペクトルの測定値：νmax（ヌジョール）1049, 1
180, 1244, 1266, 1314,1390, 1644, 1751, 2991cm-1。
0.94-0.98(2H,m), 1.10-1.13(2H,m), 2.00-2.06(1H,
m), 1.23(3H,t), 3.55(2H,s), 4.16(2H,q) ＩＲスペクトルの測定値：νmax（ヌジョール）1049, 1
180, 1244, 1266, 1314,1390, 1644, 1751, 2991cm-1。
【００５１】実施例３ （Ｓ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸メチルの製造 振とう型オートクレーブに、ＴＨＦ２０ｍｌ、酢酸０．
２ｍｌ、実施例１で調製した３−シクロプロピル−３−
オキソプロピオン酸メチル１０ｇ、製造例１で調製した
（Ｒ，Ｒ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒０．８ｇを
入れ、水素１００気圧で加圧し、６０℃で４８時間振と
うした。反応終了後、反応液をデカンテーションで取出
し、ＴＨＦを減圧で留去した。残渣を９５℃、２ｍｍＨ
ｇで蒸留し、無色液体の（Ｓ）−３−シクロプロピル−
３−ヒドロキシプロピオン酸メチル９．１ｇ（化学収率
９１％、光学純度９８％ｅｅ）を得た。分析結果を以下
に示す。
ン酸メチルの製造 振とう型オートクレーブに、ＴＨＦ２０ｍｌ、酢酸０．
２ｍｌ、実施例１で調製した３−シクロプロピル−３−
オキソプロピオン酸メチル１０ｇ、製造例１で調製した
（Ｒ，Ｒ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒０．８ｇを
入れ、水素１００気圧で加圧し、６０℃で４８時間振と
うした。反応終了後、反応液をデカンテーションで取出
し、ＴＨＦを減圧で留去した。残渣を９５℃、２ｍｍＨ
ｇで蒸留し、無色液体の（Ｓ）−３−シクロプロピル−
３−ヒドロキシプロピオン酸メチル９．１ｇ（化学収率
９１％、光学純度９８％ｅｅ）を得た。分析結果を以下
に示す。
【００５２】ＮＭＲスペクトルの測定値：δppm(CDCl3)
0.19-0.23(1H,m), 0.36-0.41(1H,m), 0.46-0.58(2H,
m), 0.91-0.97(1H,m), 2.56-2.67(2H,m), 3.29-3.33(1
H,m),3.70(3H,s) ＩＲスペクトルの測定値：νmax（ヌジョール）997, 10
43, 1142, 1175, 1439,1736, 2955, 3007, 3454cm-1 比旋光度測定値：[α]D＝+11.00°(neat) 。
0.19-0.23(1H,m), 0.36-0.41(1H,m), 0.46-0.58(2H,
m), 0.91-0.97(1H,m), 2.56-2.67(2H,m), 3.29-3.33(1
H,m),3.70(3H,s) ＩＲスペクトルの測定値：νmax（ヌジョール）997, 10
43, 1142, 1175, 1439,1736, 2955, 3007, 3454cm-1 比旋光度測定値：[α]D＝+11.00°(neat) 。
【００５３】実施例４ （Ｒ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸メチルの製造 製造例２で得られた（Ｓ，Ｓ）−酒石酸修飾ラネーニッ
ケル触媒を用いた以外は、実施例３と同様の方法で、
（Ｒ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸メチル９．２ｇ（化学収率９２％、光学純度９８％
ｅｅ）を得た。分析結果を以下に示す。
ン酸メチルの製造 製造例２で得られた（Ｓ，Ｓ）−酒石酸修飾ラネーニッ
ケル触媒を用いた以外は、実施例３と同様の方法で、
（Ｒ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸メチル９．２ｇ（化学収率９２％、光学純度９８％
ｅｅ）を得た。分析結果を以下に示す。
【００５４】ＮＭＲスペクトルの測定値：実施例３の結
果と同一 ＩＲスペクトルの測定値：実施例３の結果と同一 比旋光度測定値：[α]D＝-11.00°(neat) 。
果と同一 ＩＲスペクトルの測定値：実施例３の結果と同一 比旋光度測定値：[α]D＝-11.00°(neat) 。
【００５５】実施例５ （Ｓ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸エチルの製造 振とう型オートクレーブに、ＴＨＦ２０ｍｌ、酢酸０．
２ｍｌ、実施例２で調製した３−シクロプロピル−３−
オキソプロピオン酸エチル１０ｇ、製造例１で調製した
（Ｒ，Ｒ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒０．８ｇを
入れ、水素１００気圧で加圧し、６０℃で７２時間振と
うした。反応終了後、反応液をデカンテーションで取出
し、ＴＨＦを減圧で留去した。残渣を９８℃、２ｍｍＨ
ｇで蒸留し、無色液体の（Ｓ）−３−シクロプロピル−
３−ヒドロキシプロピオン酸エチル９．１ｇ（化学収率
９０％、光学純度９８％ｅｅ）を得た。分析結果を以下
に示す。
ン酸エチルの製造 振とう型オートクレーブに、ＴＨＦ２０ｍｌ、酢酸０．
２ｍｌ、実施例２で調製した３−シクロプロピル−３−
オキソプロピオン酸エチル１０ｇ、製造例１で調製した
（Ｒ，Ｒ）−酒石酸修飾ラネーニッケル触媒０．８ｇを
入れ、水素１００気圧で加圧し、６０℃で７２時間振と
うした。反応終了後、反応液をデカンテーションで取出
し、ＴＨＦを減圧で留去した。残渣を９８℃、２ｍｍＨ
ｇで蒸留し、無色液体の（Ｓ）−３−シクロプロピル−
３−ヒドロキシプロピオン酸エチル９．１ｇ（化学収率
９０％、光学純度９８％ｅｅ）を得た。分析結果を以下
に示す。
【００５６】ＮＭＲスペクトルの測定値：δppm(CDCl3)
4.16(2H,q), 3.28-3.33(1H,m),2.84(1H,s), 2.54-2.6
6(2H,m), 1.27(3H,t), 0.18-0.97(5H,m) ＩＲスペクトルの測定値：νmax（ヌジョール）1044, 1
140, 1180, 1423, 1735,2954, 3006, 3454cm-1 比旋光度測定値：[α]D＝+8.484°(neat) 。
4.16(2H,q), 3.28-3.33(1H,m),2.84(1H,s), 2.54-2.6
6(2H,m), 1.27(3H,t), 0.18-0.97(5H,m) ＩＲスペクトルの測定値：νmax（ヌジョール）1044, 1
140, 1180, 1423, 1735,2954, 3006, 3454cm-1 比旋光度測定値：[α]D＝+8.484°(neat) 。
【００５７】実施例６ （Ｒ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸エチルの製造 製造例２で調製した（Ｓ，Ｓ）−酒石酸修飾ラネーニッ
ケル触媒を用いる以外は、実施例５と同様の方法で、無
色液体の（Ｒ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシ
プロピオン酸エチル９．２ｇ（化学収率９１％、光学純
度９８％ｅｅ）を得た。分析結果を以下に示す。
ン酸エチルの製造 製造例２で調製した（Ｓ，Ｓ）−酒石酸修飾ラネーニッ
ケル触媒を用いる以外は、実施例５と同様の方法で、無
色液体の（Ｒ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシ
プロピオン酸エチル９．２ｇ（化学収率９１％、光学純
度９８％ｅｅ）を得た。分析結果を以下に示す。
【００５８】ＮＭＲスペクトルの測定値：実施例５の結
果と同一 ＩＲスペクトルの測定値：実施例５の結果と同一 比旋光度測定値：[α]D＝-8.487°(neat) 。
果と同一 ＩＲスペクトルの測定値：実施例５の結果と同一 比旋光度測定値：[α]D＝-8.487°(neat) 。
【００５９】実施例７ （Ｓ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸の製造 実施例３で調製した（Ｓ）−３−シクロプロピル−３−
ヒドロキシプロピオン酸メチル９．０ｇを、２０％水酸
化ナトリウム水溶液１５ｍｌとメタノール６０ｍｌの混
合液に溶解し、８０〜９０℃で２時間加熱し、加水分解
を行った。反応終了後、メタノールを減圧で留去した
後、３６％塩酸９ｍｌを加えて残渣を溶解した。これを
酢酸エチル４０ｍｌで４回抽出し、有機層を集めて無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過
して、酢酸エチルを減圧で留去した。さらに、１５０〜
１６０℃、２ｍｍＨｇで蒸留し、無色の油状液体の
（Ｓ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸６．７ｇを得た。これは収率８２％（（Ｓ）−３−
シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオン酸メチル基
準）に相当した。分析結果を以下に示す。
ン酸の製造 実施例３で調製した（Ｓ）−３−シクロプロピル−３−
ヒドロキシプロピオン酸メチル９．０ｇを、２０％水酸
化ナトリウム水溶液１５ｍｌとメタノール６０ｍｌの混
合液に溶解し、８０〜９０℃で２時間加熱し、加水分解
を行った。反応終了後、メタノールを減圧で留去した
後、３６％塩酸９ｍｌを加えて残渣を溶解した。これを
酢酸エチル４０ｍｌで４回抽出し、有機層を集めて無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過
して、酢酸エチルを減圧で留去した。さらに、１５０〜
１６０℃、２ｍｍＨｇで蒸留し、無色の油状液体の
（Ｓ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸６．７ｇを得た。これは収率８２％（（Ｓ）−３−
シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオン酸メチル基
準）に相当した。分析結果を以下に示す。
【００６０】ＮＭＲスペクトルの測定値：δppm(CDCl3)
6.40(1H,br), 3.30-3.45(1H,m),2.47-2.73(2H,m), 0.
21-1.02(5H,m) ＩＲスペクトルの測定値：νmax（ヌジョール）930, 10
40, 1192, 1283, 1418,1713, 2934, 3007cm-1 比旋光度測定値：[α]D＝+14.083°(c 0.987, EtOH) 。
6.40(1H,br), 3.30-3.45(1H,m),2.47-2.73(2H,m), 0.
21-1.02(5H,m) ＩＲスペクトルの測定値：νmax（ヌジョール）930, 10
40, 1192, 1283, 1418,1713, 2934, 3007cm-1 比旋光度測定値：[α]D＝+14.083°(c 0.987, EtOH) 。
【００６１】実施例８ （Ｒ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸の製造 実施例４で調製した（Ｒ）−３−シクロプロピル−３−
ヒドロキシプロピオン酸メチルを用いる以外は、実施例
７と同様にして加水分解を行い、無色の油状液体の
（Ｒ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸６．７ｇを得た。これは収率８２％（（Ｒ）−３−
シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオン酸メチル基
準）に相当した。分析結果を以下に示す。
ン酸の製造 実施例４で調製した（Ｒ）−３−シクロプロピル−３−
ヒドロキシプロピオン酸メチルを用いる以外は、実施例
７と同様にして加水分解を行い、無色の油状液体の
（Ｒ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオ
ン酸６．７ｇを得た。これは収率８２％（（Ｒ）−３−
シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオン酸メチル基
準）に相当した。分析結果を以下に示す。
【００６２】ＮＭＲスペクトルの測定値：実施例７の結
果と同一 ＩＲスペクトルの測定値：実施例７の結果と同一 比旋光度測定値：[α]D＝-14.026°(c 0.997, EtOH) 。
果と同一 ＩＲスペクトルの測定値：実施例７の結果と同一 比旋光度測定値：[α]D＝-14.026°(c 0.997, EtOH) 。
【００６３】参考例１ （Ｓ）−３−ヒドロキシ−４−メチルペンタン酸メチル
の製造 実施例３で調製した（Ｓ）−３−シクロプロピル−３−
ヒドロキシプロピオン酸メチル５．０ｇの酢酸１０ｍｌ
溶液に酸化白金３０ｍｇを加え、水素気流下、室温で３
０分撹拌した。反応終了後、ヘキサン３０ｍｌを加え、
共沸で酢酸を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ（ヘキサン：酢酸エチル＝７：３）で精製
し、無色液体の（Ｓ）−３−ヒドロキシ−４−メチルペ
ンタン酸メチル４．８ｇ（化学収率９５％、光学純度９
８％ｅｅ）を得た。分析結果を以下に示す。
の製造 実施例３で調製した（Ｓ）−３−シクロプロピル−３−
ヒドロキシプロピオン酸メチル５．０ｇの酢酸１０ｍｌ
溶液に酸化白金３０ｍｇを加え、水素気流下、室温で３
０分撹拌した。反応終了後、ヘキサン３０ｍｌを加え、
共沸で酢酸を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ（ヘキサン：酢酸エチル＝７：３）で精製
し、無色液体の（Ｓ）−３−ヒドロキシ−４−メチルペ
ンタン酸メチル４．８ｇ（化学収率９５％、光学純度９
８％ｅｅ）を得た。分析結果を以下に示す。
【００６４】ＮＭＲスペクトルの測定値：δppm(CDCl3)
0.91(3H,d,J=6.8Hz), 0.93(3H,d,J=6.8Hz), 1.69(1H,
m), 2.37-2.54(2H,m), 3.70(3H,s), 3.77(1H,m) 比旋光度測定値：[α]D 20＝-26.462°(neat)。
0.91(3H,d,J=6.8Hz), 0.93(3H,d,J=6.8Hz), 1.69(1H,
m), 2.37-2.54(2H,m), 3.70(3H,s), 3.77(1H,m) 比旋光度測定値：[α]D 20＝-26.462°(neat)。
【００６５】参考例２ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−４−メチルペンタン酸メチル
の製造 実施例４で調製した（Ｒ）−３−シクロプロピル−３−
ヒドロキシプロピオン酸メチルを用いる以外は、参考例
１と同様の方法で、無色液体の（Ｒ）−３−ヒドロキシ
−４−メチルペンタン酸メチル４．８ｇ（化学収率９５
％、光学純度９８％ｅｅ）を得た。分析結果を以下に示
す。
の製造 実施例４で調製した（Ｒ）−３−シクロプロピル−３−
ヒドロキシプロピオン酸メチルを用いる以外は、参考例
１と同様の方法で、無色液体の（Ｒ）−３−ヒドロキシ
−４−メチルペンタン酸メチル４．８ｇ（化学収率９５
％、光学純度９８％ｅｅ）を得た。分析結果を以下に示
す。
【００６６】ＮＭＲスペクトルの測定値：参考例１の結
果と同一 比旋光度測定値：[α]D 20＝+26.465°(neat)。
果と同一 比旋光度測定値：[α]D 20＝+26.465°(neat)。
【００６７】
【発明の効果】不斉合成における有用な中間物質とし
て、安価に製造できる新規な光学活性（ＲまたはＳ）−
３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導
体を提供する。本発明の製造方法により、反応が容易
で、高収率かつ高い光学純度で安価に得られる。本発明
は、医薬品、農薬、不斉還元触媒等の中間体の合成に寄
与するものである。
て、安価に製造できる新規な光学活性（ＲまたはＳ）−
３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導
体を提供する。本発明の製造方法により、反応が容易
で、高収率かつ高い光学純度で安価に得られる。本発明
は、医薬品、農薬、不斉還元触媒等の中間体の合成に寄
与するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1は水素、脂肪族基、脂環式基、芳香族基、
芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、複素環
式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有していてもよ
い。）で表される（ＲまたはＳ）−３−シクロプロピル
−３−ヒドロキシプロピオン酸誘導体またはその塩。 - 【請求項２】 Ｒ1が水素、メチル基またはエチル基で
あることを特徴とする請求項１に記載の（ＲまたはＳ）
−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオン酸誘
導体。 - 【請求項３】 一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ2は脂肪族基、脂環式基、芳香族基、芳香族
脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、複素環式脂肪
族基であり、それぞれ置換基を有していてもよい。）で
表される３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸
誘導体。 - 【請求項４】 一般式（２）で表される３−シクロプロ
ピル−３−オキソプロピオン酸誘導体を、（Ｓ，Ｓ）−
酒石酸修飾ラネーニッケル触媒または（Ｒ，Ｒ）−酒石
酸修飾ラネーニッケル触媒の存在下、水素加圧下で不斉
還元し、必要に応じて得られた化合物を加水分解させる
ことを特徴とする一般式（１）で表される（Ｒまたは
Ｓ）−３−シクロプロピル−３−ヒドロキシプロピオン
酸誘導体の製造方法。 【化３】 （式中、Ｒ2は脂肪族基、脂環式基、芳香族基、芳香族
脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、複素環式脂肪
族基であり、それぞれ置換基を有していてもよい。） 【化４】 （式中、Ｒ1は水素、脂肪族基、脂環式基、芳香族基、
芳香族脂肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、複素環
式脂肪族基であり、それぞれ置換基を有していてもよ
い。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6151498A JPH1135520A (ja) | 1997-05-19 | 1998-03-12 | ３−シクロプロピルプロピオン酸誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12860597 | 1997-05-19 | ||
| JP9-128605 | 1997-05-19 | ||
| JP6151498A JPH1135520A (ja) | 1997-05-19 | 1998-03-12 | ３−シクロプロピルプロピオン酸誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1135520A true JPH1135520A (ja) | 1999-02-09 |
Family
ID=26402556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6151498A Pending JPH1135520A (ja) | 1997-05-19 | 1998-03-12 | ３−シクロプロピルプロピオン酸誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1135520A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000068290A3 (en) * | 1999-05-10 | 2002-09-26 | Eastman Chem Co | Poly(3-cyclopropyl-3-hydroxypropionate) and processes for its preparation and derivatives thereof |
-
1998
- 1998-03-12 JP JP6151498A patent/JPH1135520A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000068290A3 (en) * | 1999-05-10 | 2002-09-26 | Eastman Chem Co | Poly(3-cyclopropyl-3-hydroxypropionate) and processes for its preparation and derivatives thereof |
| US6610878B1 (en) | 1999-05-10 | 2003-08-26 | Eastman Chemical Company | Poly(3-cyclopropyl-3-hydroxypropionate) and processes for its preparation and derivatives thereof |
| US6710206B2 (en) | 1999-05-10 | 2004-03-23 | Eastman Chemical Company | Poly(3-cyclopropyl-3-hydroxypropionate) and processes for its preparation and derivatives thereof |
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