JPH11351830A - 塗布材料の膜厚ムラ検査方法 - Google Patents
塗布材料の膜厚ムラ検査方法Info
- Publication number
- JPH11351830A JPH11351830A JP10157406A JP15740698A JPH11351830A JP H11351830 A JPH11351830 A JP H11351830A JP 10157406 A JP10157406 A JP 10157406A JP 15740698 A JP15740698 A JP 15740698A JP H11351830 A JPH11351830 A JP H11351830A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image data
- coating material
- film thickness
- image
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Image Analysis (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基材上に薄膜状に塗布されている塗布材料の
膜厚ムラの抽出を高い精度で行うことができる検査方法
で、比較的簡単に表示装置を介して目視にて確認するこ
とができる検査方法、および自動検査方法を提供する。 【解決手段】 順に、照明光を塗布材料に入射して、基
材面にて反射された照明光の正反射光で、且つ前記特定
波長域の光のみで撮影し、検査領域を撮影した撮影画像
を得る撮影処理と、前記撮影により得られた撮影画像の
画像データに対し、該撮影画像を撮影した撮影装置によ
り予め均一な照度分布を有する対象物を撮影した画像デ
ータを用い、対応する各画素毎に、それぞれ、除算する
除算処理と、さらに除算処理の結果得られた画像データ
に対してシエーディング除去処理を行う。
膜厚ムラの抽出を高い精度で行うことができる検査方法
で、比較的簡単に表示装置を介して目視にて確認するこ
とができる検査方法、および自動検査方法を提供する。 【解決手段】 順に、照明光を塗布材料に入射して、基
材面にて反射された照明光の正反射光で、且つ前記特定
波長域の光のみで撮影し、検査領域を撮影した撮影画像
を得る撮影処理と、前記撮影により得られた撮影画像の
画像データに対し、該撮影画像を撮影した撮影装置によ
り予め均一な照度分布を有する対象物を撮影した画像デ
ータを用い、対応する各画素毎に、それぞれ、除算する
除算処理と、さらに除算処理の結果得られた画像データ
に対してシエーディング除去処理を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，金属基材上に塗布
された樹脂等、塗布材料の膜厚ムラ検査方法に関する。
された樹脂等、塗布材料の膜厚ムラ検査方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、カラーテレビは、カラー画像の大
型化に加え、高画質化の要求がますます強くなってきて
おり、カラーテレビジョン用ブラウン管に用いられる、
丸貫通孔や矩形貫通孔を持つシャドウマスクやスリット
状の貫通孔を持つアパーチャグリル等においては、その
品質要求から、透過光検査におけるムラができるだけな
いものが望まれている。シャドウマスクやアパーチャグ
リルは、金属板に耐エッチング性の感光性膜を塗布、乾
燥し、更に所定のパターン状に製版して、これを耐エッ
チング性マスク（レジスト）として用いて金属板をエッ
チング加工して、作製されている。シャドウマスクやア
パーチャグリルのムラは、その貫通孔部の大きさが局所
的に大きい場合、あるいは小さい場合にムラとなって見
えるもので、その作製工程は長く、ムラの発生原因も多
々あり、従来、その原因を特定することは難しいものと
されていたが、金属板への耐エッチング性の感光性膜の
塗布膜厚の局所的な不均一（膜厚ムラと言う）が、エッ
チング加工した後の、シャドウマスクやアパーチャグリ
ルのムラとなることも次第に分かってきた。
型化に加え、高画質化の要求がますます強くなってきて
おり、カラーテレビジョン用ブラウン管に用いられる、
丸貫通孔や矩形貫通孔を持つシャドウマスクやスリット
状の貫通孔を持つアパーチャグリル等においては、その
品質要求から、透過光検査におけるムラができるだけな
いものが望まれている。シャドウマスクやアパーチャグ
リルは、金属板に耐エッチング性の感光性膜を塗布、乾
燥し、更に所定のパターン状に製版して、これを耐エッ
チング性マスク（レジスト）として用いて金属板をエッ
チング加工して、作製されている。シャドウマスクやア
パーチャグリルのムラは、その貫通孔部の大きさが局所
的に大きい場合、あるいは小さい場合にムラとなって見
えるもので、その作製工程は長く、ムラの発生原因も多
々あり、従来、その原因を特定することは難しいものと
されていたが、金属板への耐エッチング性の感光性膜の
塗布膜厚の局所的な不均一（膜厚ムラと言う）が、エッ
チング加工した後の、シャドウマスクやアパーチャグリ
ルのムラとなることも次第に分かってきた。
【０００３】このため、最近では、金属板への耐エッチ
ング性の感光性膜の塗布膜厚の局所的な不均一（膜厚ム
ラ）の抽出を、所定波長の光を用い、その反射光を人が
観察して検査することにより行っていた。しかし、この
方法は、程度のひどい膜厚ムラは検査により抽出できる
が、程度のひどくないムラは抽出できないという問題が
あった。
ング性の感光性膜の塗布膜厚の局所的な不均一（膜厚ム
ラ）の抽出を、所定波長の光を用い、その反射光を人が
観察して検査することにより行っていた。しかし、この
方法は、程度のひどい膜厚ムラは検査により抽出できる
が、程度のひどくないムラは抽出できないという問題が
あった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、エッチ
ングによるシャドウマスクの外形加工においては、カラ
ー画像の高画質化の要求に応えるために、金属板への耐
エッチング性の感光性膜の塗布膜厚の局所的な不均一
（膜厚ムラ）の抽出を高い精度で行うことができる膜厚
ムラの検査方法が求められていた。本発明は、これに対
応するもので、基材上に薄膜状に塗布されている塗布材
料の膜厚ムラの抽出を高い精度で行うことができる検査
方法で、比較的簡単に表示装置を介して目視にて確認す
ることができる検査方法、および自動検査方法を提供し
ようとするものである。
ングによるシャドウマスクの外形加工においては、カラ
ー画像の高画質化の要求に応えるために、金属板への耐
エッチング性の感光性膜の塗布膜厚の局所的な不均一
（膜厚ムラ）の抽出を高い精度で行うことができる膜厚
ムラの検査方法が求められていた。本発明は、これに対
応するもので、基材上に薄膜状に塗布されている塗布材
料の膜厚ムラの抽出を高い精度で行うことができる検査
方法で、比較的簡単に表示装置を介して目視にて確認す
ることができる検査方法、および自動検査方法を提供し
ようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の塗布材料の膜厚
ムラ検査方法は、基材上に薄膜状に塗布されている、特
定の光波長域に対して、光透過性を有し、且つ、吸収性
を有する塗布材料の膜厚ムラを検査する方法であって、
順に、照明光を塗布材料に入射して、基材面にて反射さ
れた照明光の正反射光で、且つ前記特定波長域の光のみ
で撮影し、検査領域を撮影した撮影画像を得る撮影処理
と、前記撮影により得られた撮影画像の画像データに対
し、該撮影画像を撮影した撮影装置により予め均一な照
度分布を有する対象物を撮影した画像データを用い、対
応する各画素毎に、それぞれ、除算する除算処理と、除
算処理の結果得られた画像データに対して、所定の周波
数よりも高い空間周波数成分のみを抽出して、信号の緩
やかな変化分を除去する、シエーディング除去処理とを
行うことを特徴とするものである。そして、上記におい
て、シエーディング除去処理の結果得られた画像データ
に対して、特定の階調範囲をひきのばして、表示手段に
表示して検査することを特徴とするものである。あるい
は、上記において、シエーディング除去処理の結果得ら
れた画像データに、各画素毎にそれぞれ平滑化処理、微
分処理を施して、得られた画像データに対し、各画素毎
に所定のしきい値と比較して、所定のしきい値以上、あ
るいは以下の画素を抽出して、抽出された画素領域を膜
厚ムラ部として抽出することを特徴とするものである。
また、上記において、撮影手段としてラインセンサカメ
ラを用い、且つ、照明手段として面状照明を用いること
を特徴とするものである。また、上記において、基材が
金属板材で、塗布材料が製版用のレジストであることを
特徴とするものである。特に、本発明の検査方法がシャ
ドスマスクやアパーチャグリルを作製する際の、金属板
へのレジスト膜の塗布におけるレジスト膜の膜厚ムラの
抽出に用いられた場合には、有効である。
ムラ検査方法は、基材上に薄膜状に塗布されている、特
定の光波長域に対して、光透過性を有し、且つ、吸収性
を有する塗布材料の膜厚ムラを検査する方法であって、
順に、照明光を塗布材料に入射して、基材面にて反射さ
れた照明光の正反射光で、且つ前記特定波長域の光のみ
で撮影し、検査領域を撮影した撮影画像を得る撮影処理
と、前記撮影により得られた撮影画像の画像データに対
し、該撮影画像を撮影した撮影装置により予め均一な照
度分布を有する対象物を撮影した画像データを用い、対
応する各画素毎に、それぞれ、除算する除算処理と、除
算処理の結果得られた画像データに対して、所定の周波
数よりも高い空間周波数成分のみを抽出して、信号の緩
やかな変化分を除去する、シエーディング除去処理とを
行うことを特徴とするものである。そして、上記におい
て、シエーディング除去処理の結果得られた画像データ
に対して、特定の階調範囲をひきのばして、表示手段に
表示して検査することを特徴とするものである。あるい
は、上記において、シエーディング除去処理の結果得ら
れた画像データに、各画素毎にそれぞれ平滑化処理、微
分処理を施して、得られた画像データに対し、各画素毎
に所定のしきい値と比較して、所定のしきい値以上、あ
るいは以下の画素を抽出して、抽出された画素領域を膜
厚ムラ部として抽出することを特徴とするものである。
また、上記において、撮影手段としてラインセンサカメ
ラを用い、且つ、照明手段として面状照明を用いること
を特徴とするものである。また、上記において、基材が
金属板材で、塗布材料が製版用のレジストであることを
特徴とするものである。特に、本発明の検査方法がシャ
ドスマスクやアパーチャグリルを作製する際の、金属板
へのレジスト膜の塗布におけるレジスト膜の膜厚ムラの
抽出に用いられた場合には、有効である。
【０００６】
【作用】本発明の塗布材料の膜厚ムラ検査方法は、上記
のように構成することにより、基材上に薄膜状に塗布さ
れている塗布材料の膜厚ムラの抽出を高い精度で行うこ
とを可能とする検査方法で、比較的簡単に表示装置を介
して目視にて確認することができる検査方法、および自
動検査の提供を可能としている。具体的には、基材上に
薄膜状に塗布されている、特定の光波長域に対して、光
透過性を有し、且つ、吸収性を有する塗布材料の膜厚ム
ラを検査する方法であって、順に、照明光を塗布材料に
入射して、基材面にて反射された照明光の正反射光で、
且つ前記特定波長域の光のみで撮影し、検査領域を撮影
した撮影画像を得る撮影処理と、前記撮影により得られ
た撮影画像の画像データに対し、該撮影画像を撮影した
撮影装置により予め均一な照度分布を有する対象物を撮
影した画像データを用い、対応する各画素毎に、それぞ
れ、除算する除算処理と、除算処理の結果得られた画像
データに対して、所定の周波数よりも高い空間周波数成
分のみを抽出して、信号の緩やかな変化分を除去する、
シエーディング除去処理とを行うことにより、これを達
成している。即ち、照明光を塗布材料に入射して、基材
面にて反射された照明光の正反射光で、且つ、塗布材料
が透過性、吸収性を有する特定波長域の光のみで、検査
領域を撮影することにより、後述するように、撮影画像
の画像データに、塗布材料の膜厚に対応した信号分が含
まれることとなる。また、撮影により得られた撮影画像
の画像データに対し、該撮影画像を撮影した撮影装置に
より予め均一な照度分布を有する対象物を撮影した画像
データを用い、対応する各画素毎に、それぞれ、除算す
る除算処理を行うことにより、撮影手段の画素感度のバ
ラツキの影響を補正した画像データを得ることができる
ものとしている。更に、画像データから信号の緩やかな
変化分を除去する、シエーディング除去処理を行うこと
により、抽出しようとしている塗布材料の膜厚ムラに因
るものではない、照明光の照度分布の不均一性等に因る
信号の緩やかな変化分（シエーディング）を除去できる
ものとしている。更に具体的には、シエーディング除去
処理の結果得られた画像データに対して、特定の階調範
囲を引き伸ばして、表示手段に表示して検査することに
より、高い精度で、比較的簡単に、人の観察で、塗布材
料の膜厚ムラを抽出することを可能としている。また、
シエーディング除去処理の結果得られた画像データに、
各画素毎にそれぞれ、平滑化処理、微分処理を施して、
得られた画像データに対し、各画素毎に所定のしきい値
と比較して、所定のしきい値以上、あるいは以下の画素
を抽出して、抽出された画素領域を膜厚ムラ部として抽
出することにより、塗布材料の膜厚ムラを抽出を高い精
度で、自動化してできるものとしている。
のように構成することにより、基材上に薄膜状に塗布さ
れている塗布材料の膜厚ムラの抽出を高い精度で行うこ
とを可能とする検査方法で、比較的簡単に表示装置を介
して目視にて確認することができる検査方法、および自
動検査の提供を可能としている。具体的には、基材上に
薄膜状に塗布されている、特定の光波長域に対して、光
透過性を有し、且つ、吸収性を有する塗布材料の膜厚ム
ラを検査する方法であって、順に、照明光を塗布材料に
入射して、基材面にて反射された照明光の正反射光で、
且つ前記特定波長域の光のみで撮影し、検査領域を撮影
した撮影画像を得る撮影処理と、前記撮影により得られ
た撮影画像の画像データに対し、該撮影画像を撮影した
撮影装置により予め均一な照度分布を有する対象物を撮
影した画像データを用い、対応する各画素毎に、それぞ
れ、除算する除算処理と、除算処理の結果得られた画像
データに対して、所定の周波数よりも高い空間周波数成
分のみを抽出して、信号の緩やかな変化分を除去する、
シエーディング除去処理とを行うことにより、これを達
成している。即ち、照明光を塗布材料に入射して、基材
面にて反射された照明光の正反射光で、且つ、塗布材料
が透過性、吸収性を有する特定波長域の光のみで、検査
領域を撮影することにより、後述するように、撮影画像
の画像データに、塗布材料の膜厚に対応した信号分が含
まれることとなる。また、撮影により得られた撮影画像
の画像データに対し、該撮影画像を撮影した撮影装置に
より予め均一な照度分布を有する対象物を撮影した画像
データを用い、対応する各画素毎に、それぞれ、除算す
る除算処理を行うことにより、撮影手段の画素感度のバ
ラツキの影響を補正した画像データを得ることができる
ものとしている。更に、画像データから信号の緩やかな
変化分を除去する、シエーディング除去処理を行うこと
により、抽出しようとしている塗布材料の膜厚ムラに因
るものではない、照明光の照度分布の不均一性等に因る
信号の緩やかな変化分（シエーディング）を除去できる
ものとしている。更に具体的には、シエーディング除去
処理の結果得られた画像データに対して、特定の階調範
囲を引き伸ばして、表示手段に表示して検査することに
より、高い精度で、比較的簡単に、人の観察で、塗布材
料の膜厚ムラを抽出することを可能としている。また、
シエーディング除去処理の結果得られた画像データに、
各画素毎にそれぞれ、平滑化処理、微分処理を施して、
得られた画像データに対し、各画素毎に所定のしきい値
と比較して、所定のしきい値以上、あるいは以下の画素
を抽出して、抽出された画素領域を膜厚ムラ部として抽
出することにより、塗布材料の膜厚ムラを抽出を高い精
度で、自動化してできるものとしている。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の塗布材料の膜厚ムラ検査
方法の実施の形態の例を挙げて説明する。図１は、実施
の形態のフロー図で、図２は実施の形態を実施するため
の装置の概略構成図で、図３は撮影する試料の一部の拡
大断面図で、図４は他の装置例を示した図で、図５は画
像データのフィルター処理（フィルターリング）を説明
するための図である。図１〜図４中、１１０は試料、１
１１は基材、１１２は塗布材料、１１５は試料、１２０
は線状の照明光源、１２１は照明光、１２５は面状の照
明光源、１３０は撮影装置（ＣＣＤラインセンサカメ
ラ）、１３１は正反射光（撮影光）、１４０は光学フィ
ルター、１５０は画像処理部、１６０は搬送部、１７０
は表示装置、θは（法線に対する）入射角あるいは反射
角である。本例は、基材１１１上に薄膜状に塗布されて
いる、特定の光波長域に対して、光透過性を有し、且
つ、吸収性を有する塗布材料１１２の膜厚ムラを検査す
る方法であって、図２に示す装置を用いて、塗布材料１
１２が光透過性を有し、且つ、吸収性を有する特定の光
波長域で、試料１１０を撮影し、塗布材料１１２の膜厚
ムラを検査するものである。
方法の実施の形態の例を挙げて説明する。図１は、実施
の形態のフロー図で、図２は実施の形態を実施するため
の装置の概略構成図で、図３は撮影する試料の一部の拡
大断面図で、図４は他の装置例を示した図で、図５は画
像データのフィルター処理（フィルターリング）を説明
するための図である。図１〜図４中、１１０は試料、１
１１は基材、１１２は塗布材料、１１５は試料、１２０
は線状の照明光源、１２１は照明光、１２５は面状の照
明光源、１３０は撮影装置（ＣＣＤラインセンサカメ
ラ）、１３１は正反射光（撮影光）、１４０は光学フィ
ルター、１５０は画像処理部、１６０は搬送部、１７０
は表示装置、θは（法線に対する）入射角あるいは反射
角である。本例は、基材１１１上に薄膜状に塗布されて
いる、特定の光波長域に対して、光透過性を有し、且
つ、吸収性を有する塗布材料１１２の膜厚ムラを検査す
る方法であって、図２に示す装置を用いて、塗布材料１
１２が光透過性を有し、且つ、吸収性を有する特定の光
波長域で、試料１１０を撮影し、塗布材料１１２の膜厚
ムラを検査するものである。
【０００８】図２、図３を用いて、本発明の膜厚ムラ測
定の基本原理を簡単に説明しておく。図２に示すよう
に、撮影は、線状の照明光源１２０にて照射した領域の
正反射光１３１のみが、撮影装置（ＣＣＤラインセンサ
カメラ）１３０の各画素に入り撮影されるように、撮影
装置１３０、試料１１０、光源１２０の各位置を設定し
て行う。こうすることにより、図３に示すように、照明
光１２１が、試料１１０の塗布材料１１２を通過する距
離が、膜厚にほぼ比例するようできるのである。詳しく
は、図３に示すように、Ａ１、Ａ２各箇所の塗布材料の
厚さｔ１、ｔ２とすると、Ａ１箇所における塗布材料を
通過する距離Ｌ１は、（Ｌ１／２）ｃｏｓθがほぼｔ１
となることより、ほぼ２ｔ１／ｃｏｓθとなり、Ａ２箇
所における塗布材料を通過する距離Ｌ２は、（Ｌ２／
２）ｃｏｓθがほぼｔ２となることより、ほぼ２ｔ２／
ｃｏｓθとなり、照明光１２１が、試料１１０の塗布材
料１１２を通過する距離が、膜厚にほぼ比例することが
分かる。したがって、塗布材料１１２に対し、光透過性
を有し、且つ、吸収性を有する特定の光波長域について
のみ、撮影装置１３０にて撮影することにより、塗布材
料の膜厚差を特定波長域の光の強度としてとられること
ができる。本例では、特定の波長域の撮影を行うため
に、撮影装置１３０へ入射する光を光学フィルター１４
０でフィルタリングしている。このようにして、撮影し
た撮影画像の画像データには、膜厚に対応した信号分が
含まれることとなる。本発明は、簡単には、このように
して、膜厚に対応した信号分が含まれれた撮影画像の画
像データから、画像処理（演算処理）により、撮影手段
の各画素の感度バラツキに起因する信号分や、照明の不
均一性に起因する緩やかな信号の変化分を除去して得ら
れた画像データを用い、更に処理を施して膜厚ムラ不良
部を抽出するものである。
定の基本原理を簡単に説明しておく。図２に示すよう
に、撮影は、線状の照明光源１２０にて照射した領域の
正反射光１３１のみが、撮影装置（ＣＣＤラインセンサ
カメラ）１３０の各画素に入り撮影されるように、撮影
装置１３０、試料１１０、光源１２０の各位置を設定し
て行う。こうすることにより、図３に示すように、照明
光１２１が、試料１１０の塗布材料１１２を通過する距
離が、膜厚にほぼ比例するようできるのである。詳しく
は、図３に示すように、Ａ１、Ａ２各箇所の塗布材料の
厚さｔ１、ｔ２とすると、Ａ１箇所における塗布材料を
通過する距離Ｌ１は、（Ｌ１／２）ｃｏｓθがほぼｔ１
となることより、ほぼ２ｔ１／ｃｏｓθとなり、Ａ２箇
所における塗布材料を通過する距離Ｌ２は、（Ｌ２／
２）ｃｏｓθがほぼｔ２となることより、ほぼ２ｔ２／
ｃｏｓθとなり、照明光１２１が、試料１１０の塗布材
料１１２を通過する距離が、膜厚にほぼ比例することが
分かる。したがって、塗布材料１１２に対し、光透過性
を有し、且つ、吸収性を有する特定の光波長域について
のみ、撮影装置１３０にて撮影することにより、塗布材
料の膜厚差を特定波長域の光の強度としてとられること
ができる。本例では、特定の波長域の撮影を行うため
に、撮影装置１３０へ入射する光を光学フィルター１４
０でフィルタリングしている。このようにして、撮影し
た撮影画像の画像データには、膜厚に対応した信号分が
含まれることとなる。本発明は、簡単には、このように
して、膜厚に対応した信号分が含まれれた撮影画像の画
像データから、画像処理（演算処理）により、撮影手段
の各画素の感度バラツキに起因する信号分や、照明の不
均一性に起因する緩やかな信号の変化分を除去して得ら
れた画像データを用い、更に処理を施して膜厚ムラ不良
部を抽出するものである。
【０００９】以下、図１に基づいて本発明の実施の形態
の例を説明する。図１中、Ｓ１１０〜Ｓ２２０は処理ス
テップを示すものである。はじめに、実施の形態の第１
の例を図１に基づいて説明する。まず、図２に示す装置
にて、試料の検査領域を撮影する。（Ｓ１１０） 図２に示す装置では、撮影装置１３０に入射する試料１
１０からの撮影光は、線状の照明光源１２０の照明光１
２１の正反射光１３１となるように、撮影装置１３０、
試料１１０、線状の照明光源１２０を設置してある。こ
こでは、撮影装置１３０はＣＣＤラインセンサカメラ
で、撮影の照明光源が線状の照明光源であり、試料１１
０は、搬送部１６０に所定の速度で搬送されながら撮影
されて、検査領域の全体が撮影されることとなる。撮影
画像の画像データは、試料１１０の膜厚ムラによる光
強度変化の他に、撮影装置１３０の各画素の感度差を含
むものである。一方、図２に示す装置の撮影装置１３０
にて、予め均一な照度分布を示す、対象物を撮影してお
く。（Ｓ１２０） この画像データは、ほぼ各画素ごとの感度差のみを含
む画像データである。次いで、対応する撮影装置１１０
の各画素毎に、画像データを画像データで除算す
る。（Ｓ１３０） 除算処理により得られた、画像データには、撮影装置
１３０の各画素の感度差が含まれないものとなる。次い
で、緩やかな（低周波数の）信号成分を除去するシエー
ディング処理を行い（Ｓ１４０）、膜厚ムラ部のみが局
部的に変化した画像データを得る。この処理は、画像
データの各画素毎に、近傍平均値の減算、あるいは、
微分処理を施すことにより、緩やかな（低周波数の）信
号成分を除去するものである。例えば、画像データに
対し、さらに、カーネルサイズの局所平滑化フィルター
をかけ、フィルター後の画像を元の画像から減算する。
フィルターとしては、図５（ａ）に示すような、フィル
ターの各要素を１としたものを用いても良い。尚、画像
データの着目画素をＸ（ｉ、ｊ）として、フィルターを
図５（ｂ）のような、各要素（Ａ１１〜Ａ３３）をもつ
フィルターとした場合、フィルターリング後の、即ち、
平滑化処理後の着目画素Ｘ（ｉ、ｊ）は、図５（ｃ）の
ようになる。但し、Ｘ（ｉ、ｊ）の対応する要素はＡ２
２である。線状の照明光源１２０の照度分布が不均一な
ことによる明暗差の空間周波数帯は、ほとんどの場合膜
厚ムラの空間周波数よりも低周波であるため、所定の周
波数よりも高い周波数成分のみを抽出することにより、
画像データから、照度分布の不均一の影響を除外でき
る。
の例を説明する。図１中、Ｓ１１０〜Ｓ２２０は処理ス
テップを示すものである。はじめに、実施の形態の第１
の例を図１に基づいて説明する。まず、図２に示す装置
にて、試料の検査領域を撮影する。（Ｓ１１０） 図２に示す装置では、撮影装置１３０に入射する試料１
１０からの撮影光は、線状の照明光源１２０の照明光１
２１の正反射光１３１となるように、撮影装置１３０、
試料１１０、線状の照明光源１２０を設置してある。こ
こでは、撮影装置１３０はＣＣＤラインセンサカメラ
で、撮影の照明光源が線状の照明光源であり、試料１１
０は、搬送部１６０に所定の速度で搬送されながら撮影
されて、検査領域の全体が撮影されることとなる。撮影
画像の画像データは、試料１１０の膜厚ムラによる光
強度変化の他に、撮影装置１３０の各画素の感度差を含
むものである。一方、図２に示す装置の撮影装置１３０
にて、予め均一な照度分布を示す、対象物を撮影してお
く。（Ｓ１２０） この画像データは、ほぼ各画素ごとの感度差のみを含
む画像データである。次いで、対応する撮影装置１１０
の各画素毎に、画像データを画像データで除算す
る。（Ｓ１３０） 除算処理により得られた、画像データには、撮影装置
１３０の各画素の感度差が含まれないものとなる。次い
で、緩やかな（低周波数の）信号成分を除去するシエー
ディング処理を行い（Ｓ１４０）、膜厚ムラ部のみが局
部的に変化した画像データを得る。この処理は、画像
データの各画素毎に、近傍平均値の減算、あるいは、
微分処理を施すことにより、緩やかな（低周波数の）信
号成分を除去するものである。例えば、画像データに
対し、さらに、カーネルサイズの局所平滑化フィルター
をかけ、フィルター後の画像を元の画像から減算する。
フィルターとしては、図５（ａ）に示すような、フィル
ターの各要素を１としたものを用いても良い。尚、画像
データの着目画素をＸ（ｉ、ｊ）として、フィルターを
図５（ｂ）のような、各要素（Ａ１１〜Ａ３３）をもつ
フィルターとした場合、フィルターリング後の、即ち、
平滑化処理後の着目画素Ｘ（ｉ、ｊ）は、図５（ｃ）の
ようになる。但し、Ｘ（ｉ、ｊ）の対応する要素はＡ２
２である。線状の照明光源１２０の照度分布が不均一な
ことによる明暗差の空間周波数帯は、ほとんどの場合膜
厚ムラの空間周波数よりも低周波であるため、所定の周
波数よりも高い周波数成分のみを抽出することにより、
画像データから、照度分布の不均一の影響を除外でき
る。
【００１０】次いで、得られた画像データに対し、膜
厚ムラによって生じた画像中の暗部もしくは明部の大き
さに近いサイズ（以降、ムラサイズと言う）で局所平滑
化処理を施し（Ｓ１５０）、平滑化処理を施した画像に
対してムラサイズに近い距離で２次微分処理を施す。
（Ｓ１６０）得られた画像データは、膜厚ムラが強調
された画像データである。尚、ここで言う微分処理も、
所定のフィルターをかけて行う。ここでは、画像データ
に対し、平滑化処理、微分処理を順次施したが、微分
処理、平滑化処理の順でも良い。次いで、画像データ
に対し、各画素毎に、所定のしきい値と比較し、画像デ
ータの中に、所定のしきい値以上、あるいは所定のし
きい値以下の画素がある場合、この画素の領域を膜厚ム
ラ不良の領域として抽出し（Ｓ１７０）、膜厚ムラ不良
の領域を抽出した画像データを得る。このようにし
て、自動化した膜厚ムラ不良の画像データを得ることが
でき、膜厚ムラ不良の自動検出ができる。
厚ムラによって生じた画像中の暗部もしくは明部の大き
さに近いサイズ（以降、ムラサイズと言う）で局所平滑
化処理を施し（Ｓ１５０）、平滑化処理を施した画像に
対してムラサイズに近い距離で２次微分処理を施す。
（Ｓ１６０）得られた画像データは、膜厚ムラが強調
された画像データである。尚、ここで言う微分処理も、
所定のフィルターをかけて行う。ここでは、画像データ
に対し、平滑化処理、微分処理を順次施したが、微分
処理、平滑化処理の順でも良い。次いで、画像データ
に対し、各画素毎に、所定のしきい値と比較し、画像デ
ータの中に、所定のしきい値以上、あるいは所定のし
きい値以下の画素がある場合、この画素の領域を膜厚ム
ラ不良の領域として抽出し（Ｓ１７０）、膜厚ムラ不良
の領域を抽出した画像データを得る。このようにし
て、自動化した膜厚ムラ不良の画像データを得ることが
でき、膜厚ムラ不良の自動検出ができる。
【００１１】次いで、実施の形態の第２の例を図１に基
づいて説明する。第２の例も、第１の例と同様、基材１
１１上に薄膜状に塗布されている、特定の光波長域に対
して、光透過性を有し、且つ、吸収性を有する塗布材料
１１２の膜厚ムラを検査する方法であって、図２に示す
装置を用いて、塗布材料１１２が光透過性を有し、且
つ、吸収性を有する特定の光波長域で、試料１１０を撮
影した撮影画像の画像データを利用するものである。第
２の例は、人がモニター（表示手段）表示された画像を
観察して、膜厚ムラ不良を抽出する検査方法であるが、
画像処理の要部を第１の例と同じとするものである。第
２の例は、第１の例と同様に、撮影画像の画像データ
に対し、除算処理（Ｓ１３０）、シーディング除去処理
（Ｓ１４０）を行い画像データを得た後、画像データ
を用い、膜厚ムラに対応する信号レベル区間のみを拡
大し、これを表示手段に表示して、膜厚ムラ部の階調範
囲を拡大して示す。（Ｓ２１０） そして、表示手段に表示された画像を観察して、膜厚ム
ラ不良を抽出する。（Ｓ２１０）
づいて説明する。第２の例も、第１の例と同様、基材１
１１上に薄膜状に塗布されている、特定の光波長域に対
して、光透過性を有し、且つ、吸収性を有する塗布材料
１１２の膜厚ムラを検査する方法であって、図２に示す
装置を用いて、塗布材料１１２が光透過性を有し、且
つ、吸収性を有する特定の光波長域で、試料１１０を撮
影した撮影画像の画像データを利用するものである。第
２の例は、人がモニター（表示手段）表示された画像を
観察して、膜厚ムラ不良を抽出する検査方法であるが、
画像処理の要部を第１の例と同じとするものである。第
２の例は、第１の例と同様に、撮影画像の画像データ
に対し、除算処理（Ｓ１３０）、シーディング除去処理
（Ｓ１４０）を行い画像データを得た後、画像データ
を用い、膜厚ムラに対応する信号レベル区間のみを拡
大し、これを表示手段に表示して、膜厚ムラ部の階調範
囲を拡大して示す。（Ｓ２１０） そして、表示手段に表示された画像を観察して、膜厚ム
ラ不良を抽出する。（Ｓ２１０）
【００１２】図４は、実施の形態第１の例、第２の例を
実施するための別の装置の概略構成図で、画像処理部表
示部は省いてある。図４の装置は、試料１１５の基材が
薄く基材が波打つような場合にも対応できる装置で、照
明光源として、面光源１２５を用いたものである。詳し
くは、試料１１５の基材が薄く、図４に示すように、基
材が波打つ場合、図２に示す装置における線状の照明光
源１２０で照明すると、画像に基材の波打ちによる明暗
が生じてしまい、膜厚ムラによる明暗差が抽出しずらく
なるが、図４の装置では、これに対応できる。
実施するための別の装置の概略構成図で、画像処理部表
示部は省いてある。図４の装置は、試料１１５の基材が
薄く基材が波打つような場合にも対応できる装置で、照
明光源として、面光源１２５を用いたものである。詳し
くは、試料１１５の基材が薄く、図４に示すように、基
材が波打つ場合、図２に示す装置における線状の照明光
源１２０で照明すると、画像に基材の波打ちによる明暗
が生じてしまい、膜厚ムラによる明暗差が抽出しずらく
なるが、図４の装置では、これに対応できる。
【００１３】
【発明の効果】本発明は、上記のように、基材上に薄膜
状に塗布されている塗布材料の膜厚ムラの抽出を高い精
度で行うことができる検査方法で、比較的簡単に表示装
置を介して目視にて確認することができる検査方法、お
よび自動検査方法の提供を可能とした。結果、エッチン
グによるシャドウマスクの外形加工においては、カラー
画像の高画質化の要求に応えることができるようになっ
た。また、その量産にも対応できるものとした。
状に塗布されている塗布材料の膜厚ムラの抽出を高い精
度で行うことができる検査方法で、比較的簡単に表示装
置を介して目視にて確認することができる検査方法、お
よび自動検査方法の提供を可能とした。結果、エッチン
グによるシャドウマスクの外形加工においては、カラー
画像の高画質化の要求に応えることができるようになっ
た。また、その量産にも対応できるものとした。
【図１】本発明の塗布材料の膜厚ムラ検査方法の実施の
形態のフロー図
形態のフロー図
【図２】実施の形態を実施するための装置の概略構成図
【図３】撮影する試料の一部の拡大断面図
【図４】実施の形態を実施するための他の装置例を示し
た図
た図
【図５】画像データのフィルター処理（フィルターリン
グ）を説明するための図
グ）を説明するための図
１１０、１１５ 試料 １１１ 基材 １１２ 塗布材料 １２０ 線状の照明光源 １２１ 照明光 １２５ 面状の照明光源 １３０ 撮影装置（ＣＣＤラインセ
ンサカメラ） １３１ 正反射光（撮影光） １４０ 光学フィルター １５０ 画像処理部 １６０ 搬送部 １７０ 表示装置 θ （法線に対する）入射角およ
び反射角
ンサカメラ） １３１ 正反射光（撮影光） １４０ 光学フィルター １５０ 画像処理部 １６０ 搬送部 １７０ 表示装置 θ （法線に対する）入射角およ
び反射角
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 9/42 Ｇ０６Ｆ 15/62 ４００ (72)発明者 村上 慎一郎 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 基材上に薄膜状に塗布されている、特定
の光波長域に対して、光透過性を有し、且つ、吸収性を
有する塗布材料の膜厚ムラを検査する方法であって、順
に、照明光を塗布材料に入射して、基材面にて反射され
た照明光の正反射光で、且つ前記特定波長域の光のみで
撮影し、検査領域を撮影した撮影画像を得る撮影処理
と、前記撮影により得られた撮影画像の画像データに対
し、該撮影画像を撮影した撮影装置により予め均一な照
度分布を有する対象物を撮影した画像データを用い、対
応する各画素毎に、それぞれ、除算する除算処理と、除
算処理の結果得られた画像データに対して、所定の周波
数よりも高い空間周波数成分のみを抽出して、信号の緩
やかな変化分を除去する、シエーディング除去処理とを
行うことを特徴とする塗布材料の膜厚ムラ検査方法。 - 【請求項２】 請求項１において、シエーディング除去
処理の結果得られた画像データに対して、特定の階調範
囲をひきのばして、表示手段に表示して検査することを
特徴とする塗布材料の膜厚ムラ検査方法。 - 【請求項３】 請求項１において、シエーディング除去
処理の結果得られた画像データに、各画素毎にそれぞ
れ、平滑化処理、微分処理を施して、得られた画像デー
タに対し、各画素毎に所定のしきい値と比較して、所定
のしきい値以上、あるいは以下の画素を抽出して、抽出
された画素領域を膜厚ムラ部として抽出することを特徴
とする塗布材料の膜厚ムラ検査方法。 - 【請求項４】 請求項１ないし３において、撮影手段と
してラインセンサカメラを用い、且つ、照明手段として
面状照明を用いることを特徴とする塗布材料の膜厚ムラ
検査方法。 - 【請求項５】 請求項１ないし４において、基材が金属
板材で、塗布材料が製版用のレジストであることを特徴
とする塗布材料の膜厚ムラ検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15740698A JP4184480B2 (ja) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | 塗布材料の膜厚ムラ検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15740698A JP4184480B2 (ja) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | 塗布材料の膜厚ムラ検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11351830A true JPH11351830A (ja) | 1999-12-24 |
| JP4184480B2 JP4184480B2 (ja) | 2008-11-19 |
Family
ID=15648940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15740698A Expired - Fee Related JP4184480B2 (ja) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | 塗布材料の膜厚ムラ検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4184480B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004279297A (ja) * | 2003-03-18 | 2004-10-07 | Japan Science & Technology Agency | 膜厚取得方法 |
| JP2006184125A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Sharp Corp | 膜厚差検出装置、膜厚差検出方法、カラーフィルタ検査装置、カラーフィルタ検査方法 |
| JP2006250851A (ja) * | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Toppan Printing Co Ltd | 膜厚ムラ検出方法および検出装置 |
| CN100337091C (zh) * | 2005-11-07 | 2007-09-12 | 友达光电股份有限公司 | 光学膜层厚度均匀性的监测方法 |
| JP2010043987A (ja) * | 2008-08-14 | 2010-02-25 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | グラフェン又は超薄膜グラファイトの厚さ検出方法および厚さ検出システム |
| US7679739B2 (en) | 2005-09-02 | 2010-03-16 | Panasonic Corporation | Device and method for measuring microporous film on battery electrode plate, coater equipped with film measuring device, and coating method using film measuring method |
| JP2018124141A (ja) * | 2017-01-31 | 2018-08-09 | アルファーデザイン株式会社 | 情報処理装置、情報処理方法、プログラム、 |
| JP2023048558A (ja) * | 2021-09-28 | 2023-04-07 | 東京瓦斯株式会社 | 風力発電装置の劣化検知システム、劣化検知装置およびプログラム |
Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS622107A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-08 | Toshiba Corp | 薄膜検査方法および装置 |
| JPH02271245A (ja) * | 1989-04-12 | 1990-11-06 | Toshiba Corp | 表面欠陥検出装置 |
| JPH04122844A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-04-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 欠陥検査装置 |
| JPH05312542A (ja) * | 1991-03-27 | 1993-11-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 周期性パターンのムラ定量化方法 |
| JPH0791926A (ja) * | 1993-08-12 | 1995-04-07 | Hitachi Ltd | 特性値測定方法及び装置 |
| JPH07221976A (ja) * | 1994-02-01 | 1995-08-18 | Ricoh Co Ltd | ２値画像データのスムージング拡大処理方法 |
| JPH095057A (ja) * | 1995-06-22 | 1997-01-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 透孔板の検査方法および検査装置 |
| JPH0968412A (ja) * | 1995-08-30 | 1997-03-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 透孔板の検査方法および検査装置 |
| JPH09178666A (ja) * | 1995-10-24 | 1997-07-11 | Nkk Corp | 表面検査装置 |
| JPH09229649A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ３次元映像計測機 |
| JPH09292207A (ja) * | 1996-04-25 | 1997-11-11 | Olympus Optical Co Ltd | 膜厚検査装置 |
| JPH09329423A (ja) * | 1996-04-09 | 1997-12-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | レジスト膜の塗布むら検出装置 |
-
1998
- 1998-06-05 JP JP15740698A patent/JP4184480B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS622107A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-08 | Toshiba Corp | 薄膜検査方法および装置 |
| JPH02271245A (ja) * | 1989-04-12 | 1990-11-06 | Toshiba Corp | 表面欠陥検出装置 |
| JPH04122844A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-04-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 欠陥検査装置 |
| JPH05312542A (ja) * | 1991-03-27 | 1993-11-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 周期性パターンのムラ定量化方法 |
| JPH0791926A (ja) * | 1993-08-12 | 1995-04-07 | Hitachi Ltd | 特性値測定方法及び装置 |
| JPH07221976A (ja) * | 1994-02-01 | 1995-08-18 | Ricoh Co Ltd | ２値画像データのスムージング拡大処理方法 |
| JPH095057A (ja) * | 1995-06-22 | 1997-01-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 透孔板の検査方法および検査装置 |
| JPH0968412A (ja) * | 1995-08-30 | 1997-03-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 透孔板の検査方法および検査装置 |
| JPH09178666A (ja) * | 1995-10-24 | 1997-07-11 | Nkk Corp | 表面検査装置 |
| JPH09229649A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ３次元映像計測機 |
| JPH09329423A (ja) * | 1996-04-09 | 1997-12-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | レジスト膜の塗布むら検出装置 |
| JPH09292207A (ja) * | 1996-04-25 | 1997-11-11 | Olympus Optical Co Ltd | 膜厚検査装置 |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004279297A (ja) * | 2003-03-18 | 2004-10-07 | Japan Science & Technology Agency | 膜厚取得方法 |
| JP2006184125A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Sharp Corp | 膜厚差検出装置、膜厚差検出方法、カラーフィルタ検査装置、カラーフィルタ検査方法 |
| JP2006250851A (ja) * | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Toppan Printing Co Ltd | 膜厚ムラ検出方法および検出装置 |
| US7679739B2 (en) | 2005-09-02 | 2010-03-16 | Panasonic Corporation | Device and method for measuring microporous film on battery electrode plate, coater equipped with film measuring device, and coating method using film measuring method |
| US7952703B2 (en) | 2005-09-02 | 2011-05-31 | Panasonic Corporation | Device and method for measuring microporous film on battery electrode plate, coater equipped with film measuring device, and coating method using film measuring method |
| CN100337091C (zh) * | 2005-11-07 | 2007-09-12 | 友达光电股份有限公司 | 光学膜层厚度均匀性的监测方法 |
| JP2010043987A (ja) * | 2008-08-14 | 2010-02-25 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | グラフェン又は超薄膜グラファイトの厚さ検出方法および厚さ検出システム |
| JP2018124141A (ja) * | 2017-01-31 | 2018-08-09 | アルファーデザイン株式会社 | 情報処理装置、情報処理方法、プログラム、 |
| JP2023048558A (ja) * | 2021-09-28 | 2023-04-07 | 東京瓦斯株式会社 | 風力発電装置の劣化検知システム、劣化検知装置およびプログラム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4184480B2 (ja) | 2008-11-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH11351830A (ja) | 塗布材料の膜厚ムラ検査方法 | |
| JP2006242759A (ja) | 周期性パターンのムラ検査方法 | |
| JP2007114125A (ja) | 膜厚ムラ検査方法 | |
| JP2009204388A (ja) | 欠陥検査方法 | |
| KR100211427B1 (ko) | 투공판의 검사방법 및 검사장치 | |
| JP4720287B2 (ja) | 塗布ムラ検査方法およびそのプログラム | |
| JP4857917B2 (ja) | カラーフィルタの外観検査方法及び外観検査装置 | |
| JP3314253B2 (ja) | ビューファインダー用カラーフイルターの検査装置 | |
| JPH109836A (ja) | 物体の表面性状、ガラスの表面の粗度およびガラス成形型の評価方法 | |
| JP2002175520A (ja) | 基板面の不良検出装置、不良検出方法、及び不良検出のためのプログラムを記録した記録媒体 | |
| JPH01307645A (ja) | 試料の検査方法 | |
| JP3243703B2 (ja) | ビューファインダー用カラーフイルターの欠陥検出方法 | |
| JP3433333B2 (ja) | 欠陥検査方法 | |
| JP3335503B2 (ja) | 透孔板の検査方法および検査装置 | |
| JPH07151703A (ja) | ビューファインダー用カラーフイルターの検査装置 | |
| JP3675279B2 (ja) | 点欠陥検出装置及びその方法 | |
| JP3710915B2 (ja) | 表面欠陥の検査方法 | |
| JP2000028543A (ja) | パターン検査方法および装置 | |
| JP2001235319A (ja) | シェーディング補正装置及びシェーディング補正方法及び表面検査装置 | |
| JP3254288B2 (ja) | スジ検査方法 | |
| JPH06229736A (ja) | 周期性パターンのムラ定量化方法 | |
| JP2001201459A (ja) | 周期性パターンのムラ検査方法及び装置 | |
| JP2009139209A (ja) | 欠陥検査方法 | |
| CN115096222B (zh) | 一种用于光掩膜基版的平面度检测方法及系统 | |
| JPH08159984A (ja) | パタンムラ検査装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050531 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061225 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070502 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070626 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080819 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080904 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120912 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120912 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130912 Year of fee payment: 5 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |