JPH11330352A - 超高集積回路のパッケ―ジングされた半導体製品及びその製造方法 - Google Patents
超高集積回路のパッケ―ジングされた半導体製品及びその製造方法Info
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Abstract
ードを用いずに極めて短い信号伝達経路を有して優秀な
機械的且つ電気的な信頼性を有するパッケージングされ
た半導体製品を提供すること。 【解決手段】 本発明は、印刷回路基板に複数の半導体
チップを立てて取り付け、チップと基板との間の電気的
接続を基板とチップの接触箇所での導電性連結部材で行
い、かつ基板の裏面にチップから導電性連結部を介して
電気的に連結されるソルダボールを形成させたことを特
徴とする。基板の上側は封止材で全体を覆って封止する
か、または通孔を備えたキャップで覆って保護する。後
者の場合、基板とチップとの間の導電性連結部を保護す
るための封止剤がチップとチップとの間に形成される。
Description
た半導体製品及びその製造方法に関し、更に詳細には、
機械的且つ電気的な信頼性が高く、小型形かつ軽量化を
実現したパッケージングされた製品の構造及びその製造
方法に関する。
対するパッケージング技術は、半導体製品の小型化の要
求を満たすために発展し続けてきた。集積回路の小型化
の進歩は半導体チップ中に数百万の回路素子を集積可能
にした。一方、これを機器に搭載して実際に使用する場
合、チップの形状そのままでは使用できないので、パッ
ケージングが必要である。チップそのものが小型化して
もこのパッケージングの結果が大きくなっては意味がな
い。そこで、空間の効率性を顧慮して集積回路をより小
型に、かつ軽量にパッケージングする方法に対する重要
性が増してくる。
ージングされた半導体製品スタックを得るための構造例
を示す図であり、TSOP(thin small outline packa
ge)によってパッケージングされた単品(P)を積層し
てメモり容量を拡張した半導体パッケージスタック
(T)を得たものである。以下、図に示すパッケージン
グされた半導体製品スタックの製造過程を説明する。ま
ず、図3に示すように、チップ2’を有し、TSOPで
パッケージングされた単品を2つ用意し、各単品(P)
のアウタリード18を伸ばしてその先端部を断ち切る。
次いで、各単品の各アウタリード18を互いに同じ向き
に整列させた状態でポリイミドなどの接着剤19を用い
て相互接着させる。この後、それぞれのアウタリード1
8を連結するための孔20を有する積層用レール21を
用意し、これに相互接着させた単品を取り付ける。その
際、積層用レール21の孔20に単品のアウタリードの
先端部差し込むようにして、レール21にTSOPを取
り付けた後、接着剤19を用いてレール21の上端部を
TSOPの上面に接着固定させる。それにより、レール
21の移動を防止する。次いで、ソルダペースト22を
レール21の孔20上部に付着させて、ソルダペースト
22に熱を加えてレール21とアウタリード18とを接
合させる。
れた単品を機械的且つ電気的に連結させると、その単品
が複数個積層された新しい製品が完成される。単品がメ
モリの場合はそのメモリ容量が2倍に増加する。必要が
あれば、同様に積層させることによりより積層型パッケ
ージスタックとされたメモリの容量を増加させることが
できる。例えば、4メガDRAMのTSOPを利用して
16メガDRAMのパッケージスタックを制作しようと
する場合には4メガDRAMの容量のTSOP単品4つ
を上記工程を経て積層すればよい。
を示す図であり、TAB(tape autmated bonding )で
パッケージングされた単品を積層したものである。これ
については米国特許番号5、198、888に詳細に記
載されている。この類の従来のパッケージスタックは、
パッケージングを経て形成された単品を再び積層するた
め、嵩が大きく、重く、多段階をなす連結部位が露出さ
れ、しかも接合部位の強度が弱くて機械的な信頼性が低
下するという問題点があった。また、チップ2のボンデ
ィングパッドから印刷回路基板まで長い信号線を経なけ
ればならないので、高速性能のメモリなどの高性能の製
品を得ようとするとき、信号遅延、干渉、ノイズなどが
大きくなる等、電気的な信頼性も低下するという問題点
があった。
段階を経なければならないので、構成材料が変形するこ
とがあり、又チップ2と封止体との界面接着力が悪くな
るという問題があった。また、パッケージのリードピッ
チが狭くなるとパッケージのリードに塗布されるソルダ
ペースト22の量のコントロールが難しく、ソルダペー
ストの塗布不良によってリード間の絶縁が不十分になる
という問題があった。さらに、レール21を別に作成し
なければならず、その作成したレールを積層させた単品
の上面に取り付けるため、上・下部の単品のリード18
を整列させる工程、レール21の孔に単品のアウタリー
ドを嵌入するときやレール21の上端部とパッケージ上
面とを接合させるときにそれぞれ整列させる工程が必要
であるため、パッケージスタックの制作工程が複雑とな
るという問題があった。さらに、単品のパッケージング
の制作工程が終わった状態で、それを再び積層させる工
程が追加されるため、全体として工程数が多くなり、単
品に対するパッケージング工程用設備の外に別の積層用
設備が必要となるので追加コストが必要となり、製造期
間も長くなる等、多くの問題があった。
解決するためになされたものであり、その目的は、集積
度に優れ、工程が単純で、且つアウタリードを用いずに
極めて短い信号伝達経路を有し、優秀な機械的且つ電気
的な信頼性を有するパッケージングされた半導体製品を
提供することにある。
の本発明の第1の態様によれば、表面に各半導体チップ
の下端部が挿入される複数の凹溝が形成され、内部には
電気的回路が形成された印刷回路基板と、印刷回路基板
上に垂直な方向に、一定の間隙を保って配置される複数
の半導体チップと、各半導体チップのボンディングパッ
ドと印刷回路基板のパッドとを電気的に連結する導電性
連結部材と、印刷回路基板の上に取り付けた各半導体チ
ップ及び導電性連結部材を覆う封止体と、印刷回路基板
の底面に取り付けられ、印刷回路基板の内部回路を介し
て半導体チップに電気的に連結される外部接続端子のソ
ルダボールとを備えることを特徴とする。
態様によれば、表面に各半導体チップの下端部が挿入さ
れる複数の凹溝が形成され、内部には電気的回路が形成
された印刷回路基板と、印刷回路基板上に垂直な方向
に、一定の間隙を保って配置される複数の半導体チップ
と、各半導体チップのボンディングパッドと印刷回路基
板のパッドとを電気的に連結する導電性連結部材のゴー
ルドボールと、各半導体チップと基板との間の導電性連
結部材のゴールドボールを覆う封止剤と、半導体チップ
と封止剤を覆うように印刷回路基板を覆うように取り付
けられ、少なくとも一面に放熱用の通孔が形成される放
熱キャップと、印刷回路基板の底面に取り付けられ、印
刷回路基板の内部回路を介して半導体チップに電気的に
連結される外部接続端子のソルダボールとを備えること
を特徴とする。
図33を参照して説明する。図5は本発明のパッケージ
ングされた半導体製品の第1実施形態を示す斜視図であ
り、図5はその縦断面図である。本発明の第1実施形態
のパッケージングされた半導体製品P1は、電気的回路
の形成された印刷回路基板1と、印刷回路基板1上に垂
直な方向に、一定の間隙で離隔されるように配置される
複数の半導体チップ2と、各半導体チップ2のボンディ
ングパッドと印刷回路基板1のパッドとを電気的に連結
する導電性連結部材のゴールドボール3と、印刷回路基
板1上部の各半導体チップ2及び導電性連結部材を覆う
封止体4と、印刷回路基板1の底面に取り付けられ、印
刷回路基板1の内部回路を介して半導体チップ2に電気
的に連結される外部接続端子のソルダボール5とを備え
ている。
半導体チップ2が基板に対して垂直な方向に取り付ける
ための凹溝6が形成されており、その凹溝6の底部には
ダイボンディング用の接着テープ7が付着されている。
凹溝の深さは、底部に付着されたダイボンディング用の
接着テープ7の上に半導体チップ2を取り付けたとき
に、半導体チップ2に形成されたボンディングパッド1
1(図11)が基板1の表面から上に出る程度としなけ
ればならない。
着されるダイボンディング用の接着テープ7の厚さを顧
慮して180〜420μmに形成される。また、一般
に、ポリイミドからなるダイボンディング用の接着テー
プ7の厚さは押圧後に80〜120μmになる。上記の
ように、半導体チップは印刷回路基板1に立てるように
取り付けられるが、その取り付けられた半導体チップ2
が互いに接触しないようにバッファの役割を果たすチッ
プ間接着用のテープ8がチップの間に挿入される。この
ダイボンディング用の接着テープ7及びチップ間接着用
のテープ8は両面接着テープであり、双方同じ材質で制
作してもよい。また、チップ間に挿入されるテープ8は
接着力が弱くても良いため、コスト側面から、チップ間
接着用のテープ8はダイボンディング用の接着テープ7
とは別の接着力の弱い材質であってもよい。
実施形態のパッケージングされた半導体製品P1のパッ
ケージング過程を図7〜図14を参照して説明する。ま
ず、図7に示す溝6を形成させた取付用の印刷回路基板
1を用意する。印刷回路基板1を予熱板100の上に置
いて印刷回路基板1を予熱する。その予熱した基板の上
面の凹溝6に、基板1に取り付けた状態で上側になるチ
ップ2の端部の一面に接着用テープ8を張り付けて、半
導体チップ2を溝に挿入して垂直に取り付ける。その状
態で上側押圧板10bを用いて半導体チップ2上部に押
圧力を加えて印刷回路基板1の凹溝6内のダイボンディ
ング用の接着テープ7に半導体チップ2をボンディング
させる(図9)。ダイボンディング用の接着テープ7の
予熱温度は200℃であり、硬化のためのピーク温度は
400℃である。
ッド11と基板のパッド12とを導電性連結部材のゴー
ルドボール3でボールボンディングする。このためには
ワイヤボンディング用のキャピラリ9aが用いられる。
そのキャピラリ9aはボンディングに際して基板面に対
して45゜傾斜した状態で進入させられる。従って、各
半導体チップ2に対するダイボンディングおよびボール
ボンディングを行うときに、キャピラリ9aの進入/後
退が干渉されないように、図9〜図11に示すように印
刷回路基板1の一方の凹溝6から順に一つずつ行う。す
なわち、一番目の半導体チップ2に対するダイボンディ
ング及びボールボンディングの完了後、その次の半導体
チップ2に対するダイボンディング及びボールボンディ
ングが行われる。これは、取り付けられる半導体チップ
2の数だけ連続して行われる。
用いて、ボールボンディング進行時にキャピラリ9aが
半導体チップを押す力(F)によって半導体チップ2が
倒れないようにチップを横から支持するようになってい
る。また、ボールボンディング時に、前記キャピラリ9
aからでるゴールドボール3は、図14に示すように半
導体チップ2のボンディングパッド11と基板のパッド
12に同時にボンディングされる。
2のダイボンディング及びボールボンディングが完了す
ると、図11に示すように、横押圧板10aを用いて両
側の半導体チップを左右の両方向から押圧してチップ間
のボンディングを行う。これは、半導体チップ2の上端
部に付着されたチップ間接着用のテープ8によって可能
であることは勿論である。
ボールボンディング及びチップ間のボンディングを順次
に行った後に、封止樹脂を用いて半導体チップ2とゴー
ルドボール3を封止する。これにより、半導体チップ、
ゴールドボール、及びボールボンディングされた部分を
保護する封止体4が形成される。このとき、封止樹脂は
チップ間の空間をも満たす。
ィング部分に対する封止が完了した後には、最終的に基
板の底面にソルダボール5をマウンティングする。一般
に、ソルダボールは185℃程度の非常に融解点が低い
金属材料である。このため、先にソルダボールをマウン
ティングしておくと、モールディング、テープボンディ
ング等の工程を進行し難く、その取り扱いが問題となる
ため、ソルダボールを有するあらゆるパッケージタイプ
においてはソルダボールは最終的に基板に取り付けられ
る。
高集積回路の製品P1は、半導体チップ2の電気的な特
性を基板の表面の金属配線(図示せず)及び基板の内部
回路(図示せず)を介して基板1の下部のソルダボール
5へを介して実装されたメインボード(図示せず)へ伝
達できる。
他の例である2列キャピラリを示す構成図である。この
キャピラリ9bは図示のようにゴールドワイヤーが通る
孔が2つあり、それらから2列のゴールドワイヤが同時
に出されるので、これを使用するとゴールドボール3が
大きくなって、ボンディング信頼性が向上する。
緒にパッケージングした半導体製品の第2実施形態を示
す斜視図であり、図17はその縦断面図である。本発明
の第2実施形態の半導体製品P2は、電気的回路の形成
された印刷回路基板1と、印刷回路基板1上に垂直な方
向に取り付けられ、一定の間隙に離隔されるように配置
された複数の半導体チップ2と、各半導体チップ2のボ
ンディングパッドと印刷回路基板1のパッドとを電気的
に連結する導電性連結部材のゴールドボールと、各半導
体チップ2のボンディングパッドとこれに対応する導電
性連結部材とを覆う封止剤13と、半導体チップ2と封
止剤13を覆うように印刷回路基板1の上に形成され、
各面又はいずれかの面に放熱用の通孔14が形成される
放熱キャップ15と、印刷回路基板1の底面に取り付け
られ、印刷回路基板の内部回路を介して半導体チップ2
に電気的に連結される外部接続端子のソルダボール5と
を備える。この通孔14は少なくとも放熱キャップの一
面に形成され、相対する2面に形成することが望まし
い、その相対する2面は並べられた半導体チップの間の
隙間と面している面とすることが最も望ましい。
表面には各半導体チップ2が差し込まれる溝6が形成さ
れ、その凹溝6の深さは溝の底部に付着されるダイボン
ディング用の接着テープ7の厚さを顧慮して180〜4
20μmに形成される。一般にポリイミドからなるダイ
ボンディング用の接着テープ7の厚さは押圧後に80〜
120μmになる。また、第1実施形態と同様に、半導
体チップ2の間には印刷回路基板1上に立てて取り付け
られた半導体チップ間の衝突を防止するようにバッファ
の役割をするチップ間接着用のテープ8も設けられてい
る。ダイボンディング用の接着テープ7及びチップ間接
着用のテープ8は、先の例と同様に両面接着テープであ
り、双方のテープは同じ材質を用いてもよく、かつチッ
プ間接着用のテープ8としてダイボンディング用の接着
テープ7より接着性の弱いものを使用しても良い。
面酸化防止処理したCuまたはAlまたはそれらの合金
が好ましい。放熱キャップ15に形成された放熱用の通
孔14は半導体チップ2の間に形成された空間と連通す
るように形成される。
実施形態の製造方法を説明するが、ダイボンディング過
程、ボールボンディング過程、及びチップ間のボンディ
ング過程は前述と同様なので、その説明を省略し、それ
以後過程のみを説明する。すなわち、ボールボンディン
グ及びチップ間のボンディングが完了した後に、印刷回
路基板1上に取り付けられた半導体チップ2上に放熱キ
ャップ15を被せる。この後、図18に示すように、ポ
ッチングノズル16を利用して放熱キャップ15の放熱
用の通孔14を介して液状の封止剤13を注入し、封止
剤13を硬化させることにより、ボールボンディングさ
れた部位を保護する。
ッケージングされた半導体製品P2は、放熱キャップ1
5に放熱用の通孔14が形成されており、その通孔14
は半導体チップ2の間の空間と連通するように形成され
ているため、パッケージングされた半導体製品が電気製
品に実装され、動作させられたときに、冷気が図19の
矢印に示すように放熱用の通孔14を介して流れ、半導
体チップ2の間の空間を通過するので、半導体チップ2
を冷却させる。つまり、半導体チップ2の内部から発生
する熱が、流動する冷気との直接的な熱交換を経て外部
へ放出されるため、放熱性能が他構造のパッケージに比
べて一層向上する。並べられている半導体チップの間の
隙間と面する2面に通孔を形成すると冷気が最も通りや
すい。
ンディング時に、ダイボンディング用の接着テープ7を
使用したが、その接着テープに代えてエポキシ樹脂等の
ペーストを使用しようとすることもできる。その場合に
は、印刷回路基板1に形成された凹溝6にペーストを塗
布してダイボンディングを行う。その際、ダイボンディ
ングの終了後すぐにワイヤボンディング工程が行われる
ため、ペーストの材料としては加熱キュア用でなくスナ
ップキュア(snap cure) 用を選択しなければならない。
図であり、図21はその縦断面図である。本第3実施形
態P3は、電気的回路の形成された印刷回路基板1と、
印刷回路基板1に前述の例同様に取り付けられた半導体
チップ2と、各半導体チップ2のボンディングパッド1
1と印刷回路基板1のパッド12とを電気的に連結する
導電性連結部材であるゴールドワイヤ17と、印刷回路
基板1上の各半導体チップ2及び導電性連結部材を覆う
封止体4と、印刷回路基板1の底面に取り付けられ、印
刷回路基板1の内部回路を介して半導体チップ2に電気
的に連結される外部接続端子のソルダボール5とを備え
る。
プ2の下端部が挿入される凹溝6を形成すること、その
凹溝6の深さ、凹溝6の底面に付着されるダイボンディ
ング用の接着テープ7の厚さ及び材質は第1、第2実施
形態と同様である。また、半導体チップ2の間に半導体
チップ2間の衝突を防止するバッファの役割をするチッ
プ間接着用のテープ8を設けることも第1、第2実施形
態と同様である。そして、ダイボンディング用の接着テ
ープ7及びチップ間接着用のテープ8は両面接着テープ
であり、ダイボンディング用の接着テープ7及びチップ
間接着用のテープ8は同じ材質でもよく、また異なった
材質でも良いこともやはり第1、第2実施形態と同様で
ある。
実施形態のパッケージング過程及び作用を説明する。ま
ず、図22に示すような取付用の印刷回路基板1を用意
する。この印刷回路基板1には半導体チップ2が基板面
に対して垂直の方向に取り付けるための凹溝6が形成さ
れており、その凹溝6の底部にはダイボンディング用の
接着テープ7が付着されている。印刷回路基板を予熱板
の上部に載せ、印刷回路基板1の上に一番目の半導体チ
ップを置いて、ワイヤボンディング工程のために予熱板
により印刷回路基板及び半導体チップを加熱する。この
後、半導体チップ2の各ボンディングパッド11と印刷
回路基板1の各パッド12との間を、導電性連結部材の
ゴールドワイヤ17を用いてボンディングする(図2
4)。ワイヤボンディング時の温度は200℃であるの
に対し、印刷回路基板1の凹溝6に付着されたダイボン
ディング用の接着テープ7はピーク温度の400℃程度
の高温で硬化して接着力を発揮するため、ワイヤボンデ
ィング時に半導体チップ2がダイボンディング用の接着
テープ7に付着される現象は生じない。
ンディングが完了すると、その半導体チップ2を図25
に示すように裏返した後、二番目の半導体チップ2を基
板1の上に載せる。その後、同様に、二番目の半導体チ
ップ2の各ボンディングパッド11と基板1の各パッド
との間を電気的に連結するワイヤボンディングを行う。
このように、チップと基板との間のワイヤボンディング
及びそのワイヤボンディングした半導体チップを返す過
程は、取り付けられる半導体チップ2の数だけ繰り返し
行われる。半導体チップを裏返してから再び起こして
も、ゴールドワイヤ17の軟性によって異常現象(例え
ば、ワイヤの断ち切り)は発生しない。
が全部完了すると、図26に示すように半導体チップ2
を全部起こした後、熱を加えた状態で図27に示すよう
に治具である上側押圧板10bを用いてチップ2の上部
を押圧するとともに、チップ2の横方向から横押圧板1
0aを用いて押圧することにより、チップ間のボンディ
ング及び基板に対するチップボンディングを同時に行
う。この際、チップ間のボンディングはボンディングパ
ッド11の形成されたチップの上面に付着されるチップ
間ボンディング用の接着テープ8によって可能であるこ
とは、前述した第1、第2実施形態の場合と同様であ
る。
ングが完了した後には、封止樹脂を利用して第1の実施
形態と同様に封止を行う。これにより、積層された半導
体チップ2、ゴールドワイヤ17、及びボールボンディ
ングされた部分を保護した図28に示す封止体4が形成
される。封止樹脂はチップ間の空間を満たす。このよう
にして半導体チップ2、ゴールドワイヤ、そしてボール
ボンディング部分に対する封止が完了した後には、基板
の底面に図29に示すように最終的にソルダボール5が
マウンティングされる。
図であり、図31その縦断面図である。本発明の第4実
施形態P4は、第3の実施形態の封止樹脂を使用せず
に、その代わりに第2の実施形態の放熱キャップ15を
使用したものである。すなわち、印刷回路基板1に一定
の間隔を保って半導体チップ2を取り付け、導電性連結
部材のゴールドワイヤ17でチップと基板のパッドを連
結し、そのワイヤボンディング部分を封止剤13で覆っ
て保護し、それらの形成された基板1を放熱用の通孔1
4が形成された放熱キャップ15で覆ったものである。
基板にソルダボール5を設けるのも同様である。
が挿入される凹溝6が形成されること、凹溝6の深さ、
凹溝の底面に付着されるダイボンディング用の接着テー
プ7の厚さ、及び材質も先の全ての実施形態と同じであ
る。また、半導体チップ2の間のチップ間接着用のテー
プ8も先の各実施形態のものと格別の相違はない。
の材質には表面酸化防止処理したCuまたはAlまたは
それらの合金が好ましい。放熱キャップ15に形成され
た放熱用の通孔14は半導体チップ2の間に形成された
空間と連通するように形成される。
グ過程、ワイヤボンディング過程、及びチップ間のボン
ディング過程は前述した第3実施形態のパッケージング
過程と同じである。その同じ方法でワイヤボンディング
及びチップ間のボンディングが完了した後には、印刷回
路基板1の半導体チップ2上に放熱キャップ15を被せ
る。この後、図32に示すように、ポッチングノズル1
6を利用して放熱キャップ15の放熱用の通孔14を介
して液状の封止剤13を注入し、封止剤13を硬化させ
ることにより、ワイヤボンディング箇所を保護する。
5には放熱用の通孔14が形成されており、その放熱用
の通孔14は半導体チップ2の間の空間に連通するよう
に形成されているため、本第4実施形態P4を電気機器
に実装して、駆動すると、図33の矢印に示すように冷
気が放熱用の通孔14を介して流れ、半導体チップ2の
間の空間を通過して半導体チップ2を冷却させる。つま
り、半導体チップ2の内部から発生する熱が、流動する
冷気との直接的な熱交換を経て直接に外部へ放出される
ため、冷却性能が向上する。
ングされた半導体製品におけるダイボンディング時に、
ダイボンディング用の接着テープ7を使用せず、エポキ
シ樹脂等のペーストを使用しようとする場合には、印刷
回路基板1に形成された凹溝6にペーストを塗布した
後、ワイヤボンディングを完了した後、ダイボンディン
グを施す。その際、ダイボンディングの進行のための予
熱過程があるので、ペーストの材料はスナップキュア(s
nap cure) 用でなく加熱キュア用を選択しなければなら
ない。
上に垂直方向に立ててチップを取り付け、それらを一体
化した構造であるので集積度に優れ、かつ基板底面に設
けたソルダボールに半導体チップが電気的に連結されて
いるので、信号経路が極く短く、高速デバイスの積層時
に優れた性能を現す。また、本発明は、パッケージング
された単品を個別に製造し、それを重ねてさらにパッケ
ージングして製造する従来のものと異なり、パッケージ
ング時に複数のチップを同時に取り付けるため、その短
時間で製造することができる。すなわち、ダイボンディ
ング及びワイヤボンディングが連続して行われるため、
工程が単純で、且つ作業速度が速い。そして、ワイヤボ
ンディング等の低コストの信頼性高い工程が採択される
ため、製品の製造コストが低い。更に、短時間で製品を
完成できるため、TAT(処理所要時間)を短縮させる
ことができ、生産性を向上させることができる。
グの時に2列キャピラリを使用するので、ボンディング
箇所が大きくなり、電気的特性が安定する。請求項3記
載の発明は、通孔を備えた放熱キャップ15によって全
体を覆っているので、優れた熱放出性能を現す。特に、
請求項4の発明は駆動時に熱の発生する半導体チップの
表面を冷却流体の対流によって冷却させるため、本発明
のパッケージの放熱性能を一層増大させることができ
る。請求項5の発明は、印刷回路基板に半導体チップを
固定させて半導体チップの動きを防止しているため、半
導体チップの信頼性を向上させる。また、請求項6の発
明は、印刷回路基板上に立てて取り付けられた半導体チ
ップ同士の衝突を防止する効果がある。さらに、請求項
7記載の発明は、放熱キャップの表面酸化を防止する効
果がある。
品の縦断面図。
品のA矢視図。
の組立前状態を示す正面図。
品の他例を示す側面図。
を示すそれぞれの図。
縦断面図。
する封止工程を説明するための斜視図。
斜視図。
それぞれの図。
斜視図。
斜視図。
Claims (11)
- 【請求項1】 表面に各半導体チップの下端部が挿入さ
れる複数の凹溝が形成され、内部には電気的回路が形成
された印刷回路基板と、 印刷回路基板上に垂直な方向に、一定の間隙を保って配
置される複数の半導体チップと、 各半導体チップのボンディングパッドと印刷回路基板の
パッドとを電気的に連結する導電性連結部材と、 印刷回路基板の上に取り付けた各半導体チップ及び導電
性連結部材を覆う封止体と、 印刷回路基板の底面に取り付けられ、印刷回路基板の内
部回路を介して半導体チップに電気的に連結される外部
接続端子のソルダボールとを備えることを特徴とする超
高集積回路のパッケージングされた半導体製品。 - 【請求項2】 導電性連結部材がボールボンディングで
形成され、そのボールボンディング形成に2列キャピラ
リが用いられることを特徴とする請求項1記載の超高集
積回路のパッケージングされた半導体製品。 - 【請求項3】 表面に各半導体チップの下端部が挿入さ
れる複数の凹溝が形成され、内部には電気的回路が形成
された印刷回路基板と、 印刷回路基板上に垂直な方向に、一定の間隙を保って配
置される複数の半導体チップと、 各半導体チップのボンディングパッドと印刷回路基板の
パッドとを電気的に連結する導電性連結部材のゴールド
ボールと、 各半導体チップと基板との間の導電性連結部材のゴール
ドボールを覆う封止剤と、 半導体チップと封止剤を覆うように印刷回路基板を覆う
ように取り付けられ、少なくとも一面に放熱用の通孔が
形成される放熱キャップと、 印刷回路基板の底面に取り付けられ、印刷回路基板の内
部回路を介して半導体チップに電気的に連結される外部
接続端子のソルダボールとを備えることを特徴とする超
高集積回路のパッケージングされた半導体製品。 - 【請求項4】 放熱キャップの通孔は、相対する面であ
って並べられた半導体チップの間の隙間と面している面
に形成させた請求項3記載の超高集積回路のパッケージ
ングされた半導体製品。 - 【請求項5】 印刷回路基板の凹溝の底部にダイボンデ
ィング用の接着テープが付着されるか、または接着テー
プの代わりにダイボンディング用のペーストが塗布され
ることを特徴とする請求項1又は3記載の超高集積回路
のパッケージングされた半導体製品。 - 【請求項6】 半導体チップの間に、印刷回路基板に取
り付けられた半導体チップ同士の衝突を防止するバッフ
ァの役割をするチップ間接着用のテープを設けたことを
特徴とする請求項1又は3記載の超高集積回路のパッケ
ージングされた半導体製品。 - 【請求項7】 放熱キャップの材質は表面酸化防止処理
をしたCu、またはAl、またはそれらの合金であるこ
とを特徴とする請求項3記載の超高集積回路のパッケー
ジングされた半導体製品。 - 【請求項8】 印刷回路基板の表面に一定の間隙を保っ
て形成された複数の凹溝の底部に、半導体チップを接着
させるためのダイボンディング用の接着テープを付着す
る段階と、 印刷回路基板を予熱する段階と、 予熱した半導体チップを基板の凹溝に挿入して垂直な方
向に立てた状態で、半導体チップの上に押圧力を加えて
印刷回路基板の凹溝内のダイボンディング用の接着テー
プに半導体チップをボンディングする段階と、 半導体チップのボンディングパッドと基板上のパッドと
が電気的に連結されるようにゴールドボールでボールボ
ンディングする段階と、 半導体チップを全体を覆うと共に半導体チップと基板と
のボールボンディング部位を保護するためにこれらを覆
うように封止樹脂を用いて封止体を形成する段階と、 印刷回路基板の底面にソルダボールをマウンティングす
る段階と、を備えることを特徴とする超高集積回路のパ
ッケージングされた半導体製品の製造方法。 - 【請求項9】 印刷回路基板の表面に一定の間隙を保っ
て形成された複数の凹溝の底部に、半導体チップを接着
させるためのダイボンディング用の接着テープを付着す
る段階と、 印刷回路基板を予熱する段階と、 予熱した半導体チップを基板の凹溝に挿入して垂直な方
向に立てた状態で、半導体チップの上に押圧力を加えて
印刷回路基板の凹溝内のダイボンディング用の接着テー
プに半導体チップをボンディングする段階と、 半導体チップのボンディングパッドと基板上のパッドと
が電気的に連結されるようにゴールドボールにてボール
ボンディングする段階と、 少なくとも一面に通孔を形成させた放熱キャップを半導
体チップを全体を覆うように印刷回路基板に取り付ける
段階と、 半導体チップと基板とのボールボンディング部位を保護
するようにその箇所に封止樹脂を注入する段階とを備え
ることを特徴とする超高集積回路のパッケージングされ
た半導体製品の製造方法。 - 【請求項10】 印刷回路基板の表面に一定の間隙を保
って形成された複数の凹溝の底部に、半導体チップを接
着させるためのダイボンディング用の接着テープを付着
する第1段階と、 印刷回路基板の表面に、一番目にワイヤボンディングさ
れる半導体チップを載せる第2段階と、 一番目にワイヤボンディングされる半導体チップの各ボ
ンディングパッドと印刷回路基板の各パッドとの間を、
導電性連結部材のゴールドワイヤを用いてボンディング
する第3段階と、 ワイヤボンディングの完了した半導体チップの上下面が
反転されるように半導体チップを返した状態で、二番目
にワイヤボンディングされる半導体チップを基板の表面
に載せる第4段階と、 二番目の半導体チップに対してワイヤボンディングを施
す第5段階と、 取り付ける半導体チップの数だけ第2段階〜第5段階の
過程を繰り返した後、印刷回路基板にワイヤボンディン
グした全ての半導体チップを基板に対して垂直な方向を
なるように起こす第6段階と、 半導体チップに対して熱及び圧力を加えて、チップ間の
ボンディング及び半導体チップと基板とのダイボンディ
ングを同時に行う第7段階と、 印刷回路基板の上の半導体チップを封止樹脂で封止して
チップ及びワイヤボンディング部位を保護する封止体を
形成する第8段階と、 印刷回路基板の底面に外部接続端子のソルダボールをマ
ウンティングする第9段階とを備えることを特徴とする
超高集積回路のパッケージングされた半導体製品の製造
方法。 - 【請求項11】 印刷回路基板の表面に一定の間隙を保
って形成された複数の凹溝の底部に、半導体チップを接
着させるためのダイボンディング用の接着テープを付着
する第1段階と、 印刷回路基板の表面に、一番目にワイヤボンディングさ
れる半導体チップを載せる第2段階と、 一番目にワイヤボンディングされる半導体チップの各ボ
ンディングパッドと印刷回路基板の各パッドとの間を、
導電性連結部材のゴールドワイヤを用いてワイヤボンデ
ィングする第3段階と、 ワイヤボンディングの完了した半導体チップの上下面が
反転されるように半導体チップを返した状態で、二番目
にワイヤボンディングされる半導体チップを基板の表面
に載せる第4段階と、 二番目の半導体チップに対してワイヤボンディングを施
す第5段階と、 取り付ける半導体チップの数だけ第2段階〜第5段階の
過程を繰り返した後、印刷回路基板にワイヤボンディン
グした全ての半導体チップを基板に対して垂直な方向と
なるように起こす第6段階と、 半導体チップに対して熱及び圧力を加えて、チップ間の
ボンディング及び半導体チップと基板とのダイボンディ
ングを同時に行う第7段階と、 印刷回路基板の上に半導体チップ全体を覆うように、少
なくとも一面に通孔を形成させた放熱キャップを取り付
ける第8段階と、 半導体チップと印刷回路基板とのワイヤボンディング部
位を覆うように封止樹脂を注入する第9段階とを有する
ことを特徴とする超高集積回路のパッケージングされた
半導体製品の製造方法。
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