JPH11330352A - 超高集積回路のパッケ―ジングされた半導体製品及びその製造方法 - Google Patents

超高集積回路のパッケ―ジングされた半導体製品及びその製造方法

Info

Publication number
JPH11330352A
JPH11330352A JP11007816A JP781699A JPH11330352A JP H11330352 A JPH11330352 A JP H11330352A JP 11007816 A JP11007816 A JP 11007816A JP 781699 A JP781699 A JP 781699A JP H11330352 A JPH11330352 A JP H11330352A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor chip
circuit board
printed circuit
semiconductor
bonding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11007816A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3066801B2 (ja
Inventor
Sihn Choi
シン・チョイ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SK Hynix Inc
Original Assignee
LG Semicon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Semicon Co Ltd filed Critical LG Semicon Co Ltd
Publication of JPH11330352A publication Critical patent/JPH11330352A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3066801B2 publication Critical patent/JP3066801B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/50Multistep manufacturing processes of assemblies consisting of devices, each device being of a type provided for in group H01L27/00 or H01L29/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02Containers; Seals
    • H01L23/10Containers; Seals characterised by the material or arrangement of seals between parts, e.g. between cap and base of the container or between leads and walls of the container
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/46Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids
    • H01L23/467Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids by flowing gases, e.g. air
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L24/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0657Stacked arrangements of devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099Material
    • H01L2224/131Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/13144Gold [Au] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32135Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/4826Connecting between the body and an opposite side of the item with respect to the body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73215Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/0651Wire or wire-like electrical connections from device to substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/0652Bump or bump-like direct electrical connections from substrate to substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06551Conductive connections on the side of the device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06575Auxiliary carrier between devices, the carrier having no electrical connection structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06582Housing for the assembly, e.g. chip scale package [CSP]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06582Housing for the assembly, e.g. chip scale package [CSP]
    • H01L2225/06586Housing with external bump or bump-like connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06589Thermal management, e.g. cooling
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/10All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
    • H01L2225/1005All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1017All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support
    • H01L2225/1029All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support the support being a lead frame
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1515Shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 集積度に優れ、工程が単純で、且つアウタリ
ードを用いずに極めて短い信号伝達経路を有して優秀な
機械的且つ電気的な信頼性を有するパッケージングされ
た半導体製品を提供すること。 【解決手段】 本発明は、印刷回路基板に複数の半導体
チップを立てて取り付け、チップと基板との間の電気的
接続を基板とチップの接触箇所での導電性連結部材で行
い、かつ基板の裏面にチップから導電性連結部を介して
電気的に連結されるソルダボールを形成させたことを特
徴とする。基板の上側は封止材で全体を覆って封止する
か、または通孔を備えたキャップで覆って保護する。後
者の場合、基板とチップとの間の導電性連結部を保護す
るための封止剤がチップとチップとの間に形成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はパッケージングされ
た半導体製品及びその製造方法に関し、更に詳細には、
機械的且つ電気的な信頼性が高く、小型形かつ軽量化を
実現したパッケージングされた製品の構造及びその製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体産業において集積回路に
対するパッケージング技術は、半導体製品の小型化の要
求を満たすために発展し続けてきた。集積回路の小型化
の進歩は半導体チップ中に数百万の回路素子を集積可能
にした。一方、これを機器に搭載して実際に使用する場
合、チップの形状そのままでは使用できないので、パッ
ケージングが必要である。チップそのものが小型化して
もこのパッケージングの結果が大きくなっては意味がな
い。そこで、空間の効率性を顧慮して集積回路をより小
型に、かつ軽量にパッケージングする方法に対する重要
性が増してくる。
【0003】図1〜3はメモリ容量の拡張されたパッケ
ージングされた半導体製品スタックを得るための構造例
を示す図であり、TSOP(thin small outline packa
ge)によってパッケージングされた単品(P)を積層し
てメモり容量を拡張した半導体パッケージスタック
(T)を得たものである。以下、図に示すパッケージン
グされた半導体製品スタックの製造過程を説明する。ま
ず、図3に示すように、チップ2’を有し、TSOPで
パッケージングされた単品を2つ用意し、各単品(P)
のアウタリード18を伸ばしてその先端部を断ち切る。
次いで、各単品の各アウタリード18を互いに同じ向き
に整列させた状態でポリイミドなどの接着剤19を用い
て相互接着させる。この後、それぞれのアウタリード1
8を連結するための孔20を有する積層用レール21を
用意し、これに相互接着させた単品を取り付ける。その
際、積層用レール21の孔20に単品のアウタリードの
先端部差し込むようにして、レール21にTSOPを取
り付けた後、接着剤19を用いてレール21の上端部を
TSOPの上面に接着固定させる。それにより、レール
21の移動を防止する。次いで、ソルダペースト22を
レール21の孔20上部に付着させて、ソルダペースト
22に熱を加えてレール21とアウタリード18とを接
合させる。
【0004】上記過程を通じて2つのパッケージングさ
れた単品を機械的且つ電気的に連結させると、その単品
が複数個積層された新しい製品が完成される。単品がメ
モリの場合はそのメモリ容量が2倍に増加する。必要が
あれば、同様に積層させることによりより積層型パッケ
ージスタックとされたメモリの容量を増加させることが
できる。例えば、4メガDRAMのTSOPを利用して
16メガDRAMのパッケージスタックを制作しようと
する場合には4メガDRAMの容量のTSOP単品4つ
を上記工程を経て積層すればよい。
【0005】図4は積層型パッケージスタックの他の例
を示す図であり、TAB(tape autmated bonding )で
パッケージングされた単品を積層したものである。これ
については米国特許番号5、198、888に詳細に記
載されている。この類の従来のパッケージスタックは、
パッケージングを経て形成された単品を再び積層するた
め、嵩が大きく、重く、多段階をなす連結部位が露出さ
れ、しかも接合部位の強度が弱くて機械的な信頼性が低
下するという問題点があった。また、チップ2のボンデ
ィングパッドから印刷回路基板まで長い信号線を経なけ
ればならないので、高速性能のメモリなどの高性能の製
品を得ようとするとき、信号遅延、干渉、ノイズなどが
大きくなる等、電気的な信頼性も低下するという問題点
があった。
【0006】一方、製造過程においては、幾度かの接合
段階を経なければならないので、構成材料が変形するこ
とがあり、又チップ2と封止体との界面接着力が悪くな
るという問題があった。また、パッケージのリードピッ
チが狭くなるとパッケージのリードに塗布されるソルダ
ペースト22の量のコントロールが難しく、ソルダペー
ストの塗布不良によってリード間の絶縁が不十分になる
という問題があった。さらに、レール21を別に作成し
なければならず、その作成したレールを積層させた単品
の上面に取り付けるため、上・下部の単品のリード18
を整列させる工程、レール21の孔に単品のアウタリー
ドを嵌入するときやレール21の上端部とパッケージ上
面とを接合させるときにそれぞれ整列させる工程が必要
であるため、パッケージスタックの制作工程が複雑とな
るという問題があった。さらに、単品のパッケージング
の制作工程が終わった状態で、それを再び積層させる工
程が追加されるため、全体として工程数が多くなり、単
品に対するパッケージング工程用設備の外に別の積層用
設備が必要となるので追加コストが必要となり、製造期
間も長くなる等、多くの問題があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題を
解決するためになされたものであり、その目的は、集積
度に優れ、工程が単純で、且つアウタリードを用いずに
極めて短い信号伝達経路を有し、優秀な機械的且つ電気
的な信頼性を有するパッケージングされた半導体製品を
提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の第1の態様によれば、表面に各半導体チップ
の下端部が挿入される複数の凹溝が形成され、内部には
電気的回路が形成された印刷回路基板と、印刷回路基板
上に垂直な方向に、一定の間隙を保って配置される複数
の半導体チップと、各半導体チップのボンディングパッ
ドと印刷回路基板のパッドとを電気的に連結する導電性
連結部材と、印刷回路基板の上に取り付けた各半導体チ
ップ及び導電性連結部材を覆う封止体と、印刷回路基板
の底面に取り付けられ、印刷回路基板の内部回路を介し
て半導体チップに電気的に連結される外部接続端子のソ
ルダボールとを備えることを特徴とする。
【0009】上記目的を達成するための本発明の第2の
態様によれば、表面に各半導体チップの下端部が挿入さ
れる複数の凹溝が形成され、内部には電気的回路が形成
された印刷回路基板と、印刷回路基板上に垂直な方向
に、一定の間隙を保って配置される複数の半導体チップ
と、各半導体チップのボンディングパッドと印刷回路基
板のパッドとを電気的に連結する導電性連結部材のゴー
ルドボールと、各半導体チップと基板との間の導電性連
結部材のゴールドボールを覆う封止剤と、半導体チップ
と封止剤を覆うように印刷回路基板を覆うように取り付
けられ、少なくとも一面に放熱用の通孔が形成される放
熱キャップと、印刷回路基板の底面に取り付けられ、印
刷回路基板の内部回路を介して半導体チップに電気的に
連結される外部接続端子のソルダボールとを備えること
を特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図5〜
図33を参照して説明する。図5は本発明のパッケージ
ングされた半導体製品の第1実施形態を示す斜視図であ
り、図5はその縦断面図である。本発明の第1実施形態
のパッケージングされた半導体製品P1は、電気的回路
の形成された印刷回路基板1と、印刷回路基板1上に垂
直な方向に、一定の間隙で離隔されるように配置される
複数の半導体チップ2と、各半導体チップ2のボンディ
ングパッドと印刷回路基板1のパッドとを電気的に連結
する導電性連結部材のゴールドボール3と、印刷回路基
板1上部の各半導体チップ2及び導電性連結部材を覆う
封止体4と、印刷回路基板1の底面に取り付けられ、印
刷回路基板1の内部回路を介して半導体チップ2に電気
的に連結される外部接続端子のソルダボール5とを備え
ている。
【0011】印刷回路基板1には、図7に示すように、
半導体チップ2が基板に対して垂直な方向に取り付ける
ための凹溝6が形成されており、その凹溝6の底部には
ダイボンディング用の接着テープ7が付着されている。
凹溝の深さは、底部に付着されたダイボンディング用の
接着テープ7の上に半導体チップ2を取り付けたとき
に、半導体チップ2に形成されたボンディングパッド1
1(図11)が基板1の表面から上に出る程度としなけ
ればならない。
【0012】すなわち、凹溝6の深さは、溝の底部に付
着されるダイボンディング用の接着テープ7の厚さを顧
慮して180〜420μmに形成される。また、一般
に、ポリイミドからなるダイボンディング用の接着テー
プ7の厚さは押圧後に80〜120μmになる。上記の
ように、半導体チップは印刷回路基板1に立てるように
取り付けられるが、その取り付けられた半導体チップ2
が互いに接触しないようにバッファの役割を果たすチッ
プ間接着用のテープ8がチップの間に挿入される。この
ダイボンディング用の接着テープ7及びチップ間接着用
のテープ8は両面接着テープであり、双方同じ材質で制
作してもよい。また、チップ間に挿入されるテープ8は
接着力が弱くても良いため、コスト側面から、チップ間
接着用のテープ8はダイボンディング用の接着テープ7
とは別の接着力の弱い材質であってもよい。
【0013】次に、このように構成された本発明の第1
実施形態のパッケージングされた半導体製品P1のパッ
ケージング過程を図7〜図14を参照して説明する。ま
ず、図7に示す溝6を形成させた取付用の印刷回路基板
1を用意する。印刷回路基板1を予熱板100の上に置
いて印刷回路基板1を予熱する。その予熱した基板の上
面の凹溝6に、基板1に取り付けた状態で上側になるチ
ップ2の端部の一面に接着用テープ8を張り付けて、半
導体チップ2を溝に挿入して垂直に取り付ける。その状
態で上側押圧板10bを用いて半導体チップ2上部に押
圧力を加えて印刷回路基板1の凹溝6内のダイボンディ
ング用の接着テープ7に半導体チップ2をボンディング
させる(図9)。ダイボンディング用の接着テープ7の
予熱温度は200℃であり、硬化のためのピーク温度は
400℃である。
【0014】この後、半導体チップ2のボンディングパ
ッド11と基板のパッド12とを導電性連結部材のゴー
ルドボール3でボールボンディングする。このためには
ワイヤボンディング用のキャピラリ9aが用いられる。
そのキャピラリ9aはボンディングに際して基板面に対
して45゜傾斜した状態で進入させられる。従って、各
半導体チップ2に対するダイボンディングおよびボール
ボンディングを行うときに、キャピラリ9aの進入/後
退が干渉されないように、図9〜図11に示すように印
刷回路基板1の一方の凹溝6から順に一つずつ行う。す
なわち、一番目の半導体チップ2に対するダイボンディ
ング及びボールボンディングの完了後、その次の半導体
チップ2に対するダイボンディング及びボールボンディ
ングが行われる。これは、取り付けられる半導体チップ
2の数だけ連続して行われる。
【0015】また、本実施形態では、横押圧板10aを
用いて、ボールボンディング進行時にキャピラリ9aが
半導体チップを押す力(F)によって半導体チップ2が
倒れないようにチップを横から支持するようになってい
る。また、ボールボンディング時に、前記キャピラリ9
aからでるゴールドボール3は、図14に示すように半
導体チップ2のボンディングパッド11と基板のパッド
12に同時にボンディングされる。
【0016】印刷回路基板1上への全ての半導体チップ
2のダイボンディング及びボールボンディングが完了す
ると、図11に示すように、横押圧板10aを用いて両
側の半導体チップを左右の両方向から押圧してチップ間
のボンディングを行う。これは、半導体チップ2の上端
部に付着されたチップ間接着用のテープ8によって可能
であることは勿論である。
【0017】上記手続きに従ってダイボンディング及び
ボールボンディング及びチップ間のボンディングを順次
に行った後に、封止樹脂を用いて半導体チップ2とゴー
ルドボール3を封止する。これにより、半導体チップ、
ゴールドボール、及びボールボンディングされた部分を
保護する封止体4が形成される。このとき、封止樹脂は
チップ間の空間をも満たす。
【0018】そして、半導体チップ2及びボールボンデ
ィング部分に対する封止が完了した後には、最終的に基
板の底面にソルダボール5をマウンティングする。一般
に、ソルダボールは185℃程度の非常に融解点が低い
金属材料である。このため、先にソルダボールをマウン
ティングしておくと、モールディング、テープボンディ
ング等の工程を進行し難く、その取り扱いが問題となる
ため、ソルダボールを有するあらゆるパッケージタイプ
においてはソルダボールは最終的に基板に取り付けられ
る。
【0019】上記のようにしてパッケージングされた超
高集積回路の製品P1は、半導体チップ2の電気的な特
性を基板の表面の金属配線(図示せず)及び基板の内部
回路(図示せず)を介して基板1の下部のソルダボール
5へを介して実装されたメインボード(図示せず)へ伝
達できる。
【0020】図15は本発明で利用できるキャピラリの
他の例である2列キャピラリを示す構成図である。この
キャピラリ9bは図示のようにゴールドワイヤーが通る
孔が2つあり、それらから2列のゴールドワイヤが同時
に出されるので、これを使用するとゴールドボール3が
大きくなって、ボンディング信頼性が向上する。
【0021】図16は本発明の複数の半導体チップを一
緒にパッケージングした半導体製品の第2実施形態を示
す斜視図であり、図17はその縦断面図である。本発明
の第2実施形態の半導体製品P2は、電気的回路の形成
された印刷回路基板1と、印刷回路基板1上に垂直な方
向に取り付けられ、一定の間隙に離隔されるように配置
された複数の半導体チップ2と、各半導体チップ2のボ
ンディングパッドと印刷回路基板1のパッドとを電気的
に連結する導電性連結部材のゴールドボールと、各半導
体チップ2のボンディングパッドとこれに対応する導電
性連結部材とを覆う封止剤13と、半導体チップ2と封
止剤13を覆うように印刷回路基板1の上に形成され、
各面又はいずれかの面に放熱用の通孔14が形成される
放熱キャップ15と、印刷回路基板1の底面に取り付け
られ、印刷回路基板の内部回路を介して半導体チップ2
に電気的に連結される外部接続端子のソルダボール5と
を備える。この通孔14は少なくとも放熱キャップの一
面に形成され、相対する2面に形成することが望まし
い、その相対する2面は並べられた半導体チップの間の
隙間と面している面とすることが最も望ましい。
【0022】第1実施形態と同様に、印刷回路基板1の
表面には各半導体チップ2が差し込まれる溝6が形成さ
れ、その凹溝6の深さは溝の底部に付着されるダイボン
ディング用の接着テープ7の厚さを顧慮して180〜4
20μmに形成される。一般にポリイミドからなるダイ
ボンディング用の接着テープ7の厚さは押圧後に80〜
120μmになる。また、第1実施形態と同様に、半導
体チップ2の間には印刷回路基板1上に立てて取り付け
られた半導体チップ間の衝突を防止するようにバッファ
の役割をするチップ間接着用のテープ8も設けられてい
る。ダイボンディング用の接着テープ7及びチップ間接
着用のテープ8は、先の例と同様に両面接着テープであ
り、双方のテープは同じ材質を用いてもよく、かつチッ
プ間接着用のテープ8としてダイボンディング用の接着
テープ7より接着性の弱いものを使用しても良い。
【0023】一方、放熱キャップ15の材質としては表
面酸化防止処理したCuまたはAlまたはそれらの合金
が好ましい。放熱キャップ15に形成された放熱用の通
孔14は半導体チップ2の間に形成された空間と連通す
るように形成される。
【0024】次に、このように構成された本発明の第2
実施形態の製造方法を説明するが、ダイボンディング過
程、ボールボンディング過程、及びチップ間のボンディ
ング過程は前述と同様なので、その説明を省略し、それ
以後過程のみを説明する。すなわち、ボールボンディン
グ及びチップ間のボンディングが完了した後に、印刷回
路基板1上に取り付けられた半導体チップ2上に放熱キ
ャップ15を被せる。この後、図18に示すように、ポ
ッチングノズル16を利用して放熱キャップ15の放熱
用の通孔14を介して液状の封止剤13を注入し、封止
剤13を硬化させることにより、ボールボンディングさ
れた部位を保護する。
【0025】以上のように、本発明の第2実施形態のパ
ッケージングされた半導体製品P2は、放熱キャップ1
5に放熱用の通孔14が形成されており、その通孔14
は半導体チップ2の間の空間と連通するように形成され
ているため、パッケージングされた半導体製品が電気製
品に実装され、動作させられたときに、冷気が図19の
矢印に示すように放熱用の通孔14を介して流れ、半導
体チップ2の間の空間を通過するので、半導体チップ2
を冷却させる。つまり、半導体チップ2の内部から発生
する熱が、流動する冷気との直接的な熱交換を経て外部
へ放出されるため、放熱性能が他構造のパッケージに比
べて一層向上する。並べられている半導体チップの間の
隙間と面する2面に通孔を形成すると冷気が最も通りや
すい。
【0026】上記した第1、第2実施形態では、ダイボ
ンディング時に、ダイボンディング用の接着テープ7を
使用したが、その接着テープに代えてエポキシ樹脂等の
ペーストを使用しようとすることもできる。その場合に
は、印刷回路基板1に形成された凹溝6にペーストを塗
布してダイボンディングを行う。その際、ダイボンディ
ングの終了後すぐにワイヤボンディング工程が行われる
ため、ペーストの材料としては加熱キュア用でなくスナ
ップキュア(snap cure) 用を選択しなければならない。
【0027】図20は本発明の第3実施形態を示す斜視
図であり、図21はその縦断面図である。本第3実施形
態P3は、電気的回路の形成された印刷回路基板1と、
印刷回路基板1に前述の例同様に取り付けられた半導体
チップ2と、各半導体チップ2のボンディングパッド1
1と印刷回路基板1のパッド12とを電気的に連結する
導電性連結部材であるゴールドワイヤ17と、印刷回路
基板1上の各半導体チップ2及び導電性連結部材を覆う
封止体4と、印刷回路基板1の底面に取り付けられ、印
刷回路基板1の内部回路を介して半導体チップ2に電気
的に連結される外部接続端子のソルダボール5とを備え
る。
【0028】この印刷回路基板1の表面に各半導体チッ
プ2の下端部が挿入される凹溝6を形成すること、その
凹溝6の深さ、凹溝6の底面に付着されるダイボンディ
ング用の接着テープ7の厚さ及び材質は第1、第2実施
形態と同様である。また、半導体チップ2の間に半導体
チップ2間の衝突を防止するバッファの役割をするチッ
プ間接着用のテープ8を設けることも第1、第2実施形
態と同様である。そして、ダイボンディング用の接着テ
ープ7及びチップ間接着用のテープ8は両面接着テープ
であり、ダイボンディング用の接着テープ7及びチップ
間接着用のテープ8は同じ材質でもよく、また異なった
材質でも良いこともやはり第1、第2実施形態と同様で
ある。
【0029】次に、このように構成された本発明の第3
実施形態のパッケージング過程及び作用を説明する。ま
ず、図22に示すような取付用の印刷回路基板1を用意
する。この印刷回路基板1には半導体チップ2が基板面
に対して垂直の方向に取り付けるための凹溝6が形成さ
れており、その凹溝6の底部にはダイボンディング用の
接着テープ7が付着されている。印刷回路基板を予熱板
の上部に載せ、印刷回路基板1の上に一番目の半導体チ
ップを置いて、ワイヤボンディング工程のために予熱板
により印刷回路基板及び半導体チップを加熱する。この
後、半導体チップ2の各ボンディングパッド11と印刷
回路基板1の各パッド12との間を、導電性連結部材の
ゴールドワイヤ17を用いてボンディングする(図2
4)。ワイヤボンディング時の温度は200℃であるの
に対し、印刷回路基板1の凹溝6に付着されたダイボン
ディング用の接着テープ7はピーク温度の400℃程度
の高温で硬化して接着力を発揮するため、ワイヤボンデ
ィング時に半導体チップ2がダイボンディング用の接着
テープ7に付着される現象は生じない。
【0030】一番目の半導体チップ2に対するワイヤボ
ンディングが完了すると、その半導体チップ2を図25
に示すように裏返した後、二番目の半導体チップ2を基
板1の上に載せる。その後、同様に、二番目の半導体チ
ップ2の各ボンディングパッド11と基板1の各パッド
との間を電気的に連結するワイヤボンディングを行う。
このように、チップと基板との間のワイヤボンディング
及びそのワイヤボンディングした半導体チップを返す過
程は、取り付けられる半導体チップ2の数だけ繰り返し
行われる。半導体チップを裏返してから再び起こして
も、ゴールドワイヤ17の軟性によって異常現象(例え
ば、ワイヤの断ち切り)は発生しない。
【0031】半導体チップに対するワイヤボンディング
が全部完了すると、図26に示すように半導体チップ2
を全部起こした後、熱を加えた状態で図27に示すよう
に治具である上側押圧板10bを用いてチップ2の上部
を押圧するとともに、チップ2の横方向から横押圧板1
0aを用いて押圧することにより、チップ間のボンディ
ング及び基板に対するチップボンディングを同時に行
う。この際、チップ間のボンディングはボンディングパ
ッド11の形成されたチップの上面に付着されるチップ
間ボンディング用の接着テープ8によって可能であるこ
とは、前述した第1、第2実施形態の場合と同様であ
る。
【0032】また、上記したようにチップ間のボンディ
ングが完了した後には、封止樹脂を利用して第1の実施
形態と同様に封止を行う。これにより、積層された半導
体チップ2、ゴールドワイヤ17、及びボールボンディ
ングされた部分を保護した図28に示す封止体4が形成
される。封止樹脂はチップ間の空間を満たす。このよう
にして半導体チップ2、ゴールドワイヤ、そしてボール
ボンディング部分に対する封止が完了した後には、基板
の底面に図29に示すように最終的にソルダボール5が
マウンティングされる。
【0033】図30は本発明の第4実施形態を示す斜視
図であり、図31その縦断面図である。本発明の第4実
施形態P4は、第3の実施形態の封止樹脂を使用せず
に、その代わりに第2の実施形態の放熱キャップ15を
使用したものである。すなわち、印刷回路基板1に一定
の間隔を保って半導体チップ2を取り付け、導電性連結
部材のゴールドワイヤ17でチップと基板のパッドを連
結し、そのワイヤボンディング部分を封止剤13で覆っ
て保護し、それらの形成された基板1を放熱用の通孔1
4が形成された放熱キャップ15で覆ったものである。
基板にソルダボール5を設けるのも同様である。
【0034】印刷回路基板1の上面に各半導体チップ2
が挿入される凹溝6が形成されること、凹溝6の深さ、
凹溝の底面に付着されるダイボンディング用の接着テー
プ7の厚さ、及び材質も先の全ての実施形態と同じであ
る。また、半導体チップ2の間のチップ間接着用のテー
プ8も先の各実施形態のものと格別の相違はない。
【0035】第2実施形態と同様に、放熱キャップ15
の材質には表面酸化防止処理したCuまたはAlまたは
それらの合金が好ましい。放熱キャップ15に形成され
た放熱用の通孔14は半導体チップ2の間に形成された
空間と連通するように形成される。
【0036】本第4実施形態製造過程のダイボンディン
グ過程、ワイヤボンディング過程、及びチップ間のボン
ディング過程は前述した第3実施形態のパッケージング
過程と同じである。その同じ方法でワイヤボンディング
及びチップ間のボンディングが完了した後には、印刷回
路基板1の半導体チップ2上に放熱キャップ15を被せ
る。この後、図32に示すように、ポッチングノズル1
6を利用して放熱キャップ15の放熱用の通孔14を介
して液状の封止剤13を注入し、封止剤13を硬化させ
ることにより、ワイヤボンディング箇所を保護する。
【0037】よって、本第4実施形態の放熱キャップ1
5には放熱用の通孔14が形成されており、その放熱用
の通孔14は半導体チップ2の間の空間に連通するよう
に形成されているため、本第4実施形態P4を電気機器
に実装して、駆動すると、図33の矢印に示すように冷
気が放熱用の通孔14を介して流れ、半導体チップ2の
間の空間を通過して半導体チップ2を冷却させる。つま
り、半導体チップ2の内部から発生する熱が、流動する
冷気との直接的な熱交換を経て直接に外部へ放出される
ため、冷却性能が向上する。
【0038】上記した第3、第4実施形態のパッケージ
ングされた半導体製品におけるダイボンディング時に、
ダイボンディング用の接着テープ7を使用せず、エポキ
シ樹脂等のペーストを使用しようとする場合には、印刷
回路基板1に形成された凹溝6にペーストを塗布した
後、ワイヤボンディングを完了した後、ダイボンディン
グを施す。その際、ダイボンディングの進行のための予
熱過程があるので、ペーストの材料はスナップキュア(s
nap cure) 用でなく加熱キュア用を選択しなければなら
ない。
【0039】
【発明の効果】本発明の各半導体製品は、印刷回路基板
上に垂直方向に立ててチップを取り付け、それらを一体
化した構造であるので集積度に優れ、かつ基板底面に設
けたソルダボールに半導体チップが電気的に連結されて
いるので、信号経路が極く短く、高速デバイスの積層時
に優れた性能を現す。また、本発明は、パッケージング
された単品を個別に製造し、それを重ねてさらにパッケ
ージングして製造する従来のものと異なり、パッケージ
ング時に複数のチップを同時に取り付けるため、その短
時間で製造することができる。すなわち、ダイボンディ
ング及びワイヤボンディングが連続して行われるため、
工程が単純で、且つ作業速度が速い。そして、ワイヤボ
ンディング等の低コストの信頼性高い工程が採択される
ため、製品の製造コストが低い。更に、短時間で製品を
完成できるため、TAT(処理所要時間)を短縮させる
ことができ、生産性を向上させることができる。
【0040】請求項2記載の発明は、ボールボンディン
グの時に2列キャピラリを使用するので、ボンディング
箇所が大きくなり、電気的特性が安定する。請求項3記
載の発明は、通孔を備えた放熱キャップ15によって全
体を覆っているので、優れた熱放出性能を現す。特に、
請求項4の発明は駆動時に熱の発生する半導体チップの
表面を冷却流体の対流によって冷却させるため、本発明
のパッケージの放熱性能を一層増大させることができ
る。請求項5の発明は、印刷回路基板に半導体チップを
固定させて半導体チップの動きを防止しているため、半
導体チップの信頼性を向上させる。また、請求項6の発
明は、印刷回路基板上に立てて取り付けられた半導体チ
ップ同士の衝突を防止する効果がある。さらに、請求項
7記載の発明は、放熱キャップの表面酸化を防止する効
果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来のパッケージングされた積層型半導体製
品の縦断面図。
【図2】 従来のパッケージングされた積層型半導体製
品のA矢視図。
【図3】 従来のパッケージングされた積層半導体製品
の組立前状態を示す正面図。
【図4】 従来のパッケージングされた積層型半導体製
品の他例を示す側面図。
【図5】 本発明の第1実施形態を示す斜視図。
【図6】 第1実施形態の縦断面図。
【図7】〜
【図13】 本発明第1実施形態のパッケージング過程
を示すそれぞれの図。
【図14】 図9の部分拡大斜視図。
【図15】 本実施形態に利用されるキャピラリの例の
縦断面図。
【図16】 本発明第2実施形態の斜視図。
【図17】 第2実施形態の縦断面図。
【図18】 第2実施形態のボールボンディング部に対
する封止工程を説明するための斜視図。
【図19】 第2実施形態の放熱作用を説明するための
斜視図。
【図20】 本発明の第3実施形態を示す斜視図。
【図21】 第3実施形態の縦断面図。
【図22】〜
【図29】 第3実施形態のパッケージング過程を示す
それぞれの図。
【図30】 本発明の第4実施形態を示す斜視図。
【図31】 第4実施形態の縦断面図。
【図32】 第4実施形態の封止工程を説明するための
斜視図。
【図33】 第4実施形態の放熱作用を説明するための
斜視図。
【符号の説明】
1 印刷回路基板 2 半導体チップ 3 ゴールドボール 4 封止体 5 ソルダボール 6 凹溝 7 ダイボンディング用の接着テープ 8 チップ間接着用のテープ 9a ワイヤボンディング用のキャピラリ 9b ワイヤボンディング用の双方向キャピラリ 10a 横押圧板 10b 上側押圧板 11 ボンディングパッド 12 基板のパッド 13 封止剤 14 放熱用の通孔 15 放熱キャップ 16 ポッチングノズル 17 ゴールドワイヤ 18 リード 19 接着剤 20 孔 21 積層用レール 22 ソルダペースト

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面に各半導体チップの下端部が挿入さ
    れる複数の凹溝が形成され、内部には電気的回路が形成
    された印刷回路基板と、 印刷回路基板上に垂直な方向に、一定の間隙を保って配
    置される複数の半導体チップと、 各半導体チップのボンディングパッドと印刷回路基板の
    パッドとを電気的に連結する導電性連結部材と、 印刷回路基板の上に取り付けた各半導体チップ及び導電
    性連結部材を覆う封止体と、 印刷回路基板の底面に取り付けられ、印刷回路基板の内
    部回路を介して半導体チップに電気的に連結される外部
    接続端子のソルダボールとを備えることを特徴とする超
    高集積回路のパッケージングされた半導体製品。
  2. 【請求項2】 導電性連結部材がボールボンディングで
    形成され、そのボールボンディング形成に2列キャピラ
    リが用いられることを特徴とする請求項1記載の超高集
    積回路のパッケージングされた半導体製品。
  3. 【請求項3】 表面に各半導体チップの下端部が挿入さ
    れる複数の凹溝が形成され、内部には電気的回路が形成
    された印刷回路基板と、 印刷回路基板上に垂直な方向に、一定の間隙を保って配
    置される複数の半導体チップと、 各半導体チップのボンディングパッドと印刷回路基板の
    パッドとを電気的に連結する導電性連結部材のゴールド
    ボールと、 各半導体チップと基板との間の導電性連結部材のゴール
    ドボールを覆う封止剤と、 半導体チップと封止剤を覆うように印刷回路基板を覆う
    ように取り付けられ、少なくとも一面に放熱用の通孔が
    形成される放熱キャップと、 印刷回路基板の底面に取り付けられ、印刷回路基板の内
    部回路を介して半導体チップに電気的に連結される外部
    接続端子のソルダボールとを備えることを特徴とする超
    高集積回路のパッケージングされた半導体製品。
  4. 【請求項4】 放熱キャップの通孔は、相対する面であ
    って並べられた半導体チップの間の隙間と面している面
    に形成させた請求項3記載の超高集積回路のパッケージ
    ングされた半導体製品。
  5. 【請求項5】 印刷回路基板の凹溝の底部にダイボンデ
    ィング用の接着テープが付着されるか、または接着テー
    プの代わりにダイボンディング用のペーストが塗布され
    ることを特徴とする請求項1又は3記載の超高集積回路
    のパッケージングされた半導体製品。
  6. 【請求項6】 半導体チップの間に、印刷回路基板に取
    り付けられた半導体チップ同士の衝突を防止するバッフ
    ァの役割をするチップ間接着用のテープを設けたことを
    特徴とする請求項1又は3記載の超高集積回路のパッケ
    ージングされた半導体製品。
  7. 【請求項7】 放熱キャップの材質は表面酸化防止処理
    をしたCu、またはAl、またはそれらの合金であるこ
    とを特徴とする請求項3記載の超高集積回路のパッケー
    ジングされた半導体製品。
  8. 【請求項8】 印刷回路基板の表面に一定の間隙を保っ
    て形成された複数の凹溝の底部に、半導体チップを接着
    させるためのダイボンディング用の接着テープを付着す
    る段階と、 印刷回路基板を予熱する段階と、 予熱した半導体チップを基板の凹溝に挿入して垂直な方
    向に立てた状態で、半導体チップの上に押圧力を加えて
    印刷回路基板の凹溝内のダイボンディング用の接着テー
    プに半導体チップをボンディングする段階と、 半導体チップのボンディングパッドと基板上のパッドと
    が電気的に連結されるようにゴールドボールでボールボ
    ンディングする段階と、 半導体チップを全体を覆うと共に半導体チップと基板と
    のボールボンディング部位を保護するためにこれらを覆
    うように封止樹脂を用いて封止体を形成する段階と、 印刷回路基板の底面にソルダボールをマウンティングす
    る段階と、を備えることを特徴とする超高集積回路のパ
    ッケージングされた半導体製品の製造方法。
  9. 【請求項9】 印刷回路基板の表面に一定の間隙を保っ
    て形成された複数の凹溝の底部に、半導体チップを接着
    させるためのダイボンディング用の接着テープを付着す
    る段階と、 印刷回路基板を予熱する段階と、 予熱した半導体チップを基板の凹溝に挿入して垂直な方
    向に立てた状態で、半導体チップの上に押圧力を加えて
    印刷回路基板の凹溝内のダイボンディング用の接着テー
    プに半導体チップをボンディングする段階と、 半導体チップのボンディングパッドと基板上のパッドと
    が電気的に連結されるようにゴールドボールにてボール
    ボンディングする段階と、 少なくとも一面に通孔を形成させた放熱キャップを半導
    体チップを全体を覆うように印刷回路基板に取り付ける
    段階と、 半導体チップと基板とのボールボンディング部位を保護
    するようにその箇所に封止樹脂を注入する段階とを備え
    ることを特徴とする超高集積回路のパッケージングされ
    た半導体製品の製造方法。
  10. 【請求項10】 印刷回路基板の表面に一定の間隙を保
    って形成された複数の凹溝の底部に、半導体チップを接
    着させるためのダイボンディング用の接着テープを付着
    する第1段階と、 印刷回路基板の表面に、一番目にワイヤボンディングさ
    れる半導体チップを載せる第2段階と、 一番目にワイヤボンディングされる半導体チップの各ボ
    ンディングパッドと印刷回路基板の各パッドとの間を、
    導電性連結部材のゴールドワイヤを用いてボンディング
    する第3段階と、 ワイヤボンディングの完了した半導体チップの上下面が
    反転されるように半導体チップを返した状態で、二番目
    にワイヤボンディングされる半導体チップを基板の表面
    に載せる第4段階と、 二番目の半導体チップに対してワイヤボンディングを施
    す第5段階と、 取り付ける半導体チップの数だけ第2段階〜第5段階の
    過程を繰り返した後、印刷回路基板にワイヤボンディン
    グした全ての半導体チップを基板に対して垂直な方向を
    なるように起こす第6段階と、 半導体チップに対して熱及び圧力を加えて、チップ間の
    ボンディング及び半導体チップと基板とのダイボンディ
    ングを同時に行う第7段階と、 印刷回路基板の上の半導体チップを封止樹脂で封止して
    チップ及びワイヤボンディング部位を保護する封止体を
    形成する第8段階と、 印刷回路基板の底面に外部接続端子のソルダボールをマ
    ウンティングする第9段階とを備えることを特徴とする
    超高集積回路のパッケージングされた半導体製品の製造
    方法。
  11. 【請求項11】 印刷回路基板の表面に一定の間隙を保
    って形成された複数の凹溝の底部に、半導体チップを接
    着させるためのダイボンディング用の接着テープを付着
    する第1段階と、 印刷回路基板の表面に、一番目にワイヤボンディングさ
    れる半導体チップを載せる第2段階と、 一番目にワイヤボンディングされる半導体チップの各ボ
    ンディングパッドと印刷回路基板の各パッドとの間を、
    導電性連結部材のゴールドワイヤを用いてワイヤボンデ
    ィングする第3段階と、 ワイヤボンディングの完了した半導体チップの上下面が
    反転されるように半導体チップを返した状態で、二番目
    にワイヤボンディングされる半導体チップを基板の表面
    に載せる第4段階と、 二番目の半導体チップに対してワイヤボンディングを施
    す第5段階と、 取り付ける半導体チップの数だけ第2段階〜第5段階の
    過程を繰り返した後、印刷回路基板にワイヤボンディン
    グした全ての半導体チップを基板に対して垂直な方向と
    なるように起こす第6段階と、 半導体チップに対して熱及び圧力を加えて、チップ間の
    ボンディング及び半導体チップと基板とのダイボンディ
    ングを同時に行う第7段階と、 印刷回路基板の上に半導体チップ全体を覆うように、少
    なくとも一面に通孔を形成させた放熱キャップを取り付
    ける第8段階と、 半導体チップと印刷回路基板とのワイヤボンディング部
    位を覆うように封止樹脂を注入する第9段階とを有する
    ことを特徴とする超高集積回路のパッケージングされた
    半導体製品の製造方法。
JP11007816A 1998-05-09 1999-01-14 超高集積回路のパッケ―ジングされた半導体製品及びその製造方法 Expired - Fee Related JP3066801B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR16630/1998 1998-05-09
KR1019980016630A KR100290886B1 (ko) 1998-05-09 1998-05-09 초고집적회로반도체패키지및그제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11330352A true JPH11330352A (ja) 1999-11-30
JP3066801B2 JP3066801B2 (ja) 2000-07-17

Family

ID=19537177

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11007816A Expired - Fee Related JP3066801B2 (ja) 1998-05-09 1999-01-14 超高集積回路のパッケ―ジングされた半導体製品及びその製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6198164B1 (ja)
JP (1) JP3066801B2 (ja)
KR (1) KR100290886B1 (ja)
DE (1) DE19920444B4 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102646663A (zh) * 2011-02-15 2012-08-22 海力士半导体有限公司 半导体封装件

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6140696A (en) 1998-01-27 2000-10-31 Micron Technology, Inc. Vertically mountable semiconductor device and methods
US6320126B1 (en) * 1998-07-14 2001-11-20 Texas Instruments Incorporated Vertical ball grid array integrated circuit package
KR20020028017A (ko) * 2000-10-06 2002-04-15 박종섭 고밀도 패키지
JP4454181B2 (ja) * 2001-05-15 2010-04-21 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体装置
KR100444170B1 (ko) * 2001-12-28 2004-08-11 동부전자 주식회사 반도체패키지
US6867488B2 (en) * 2002-11-26 2005-03-15 Lsi Logic Corporation Thick metal top layer
DE102005030465B4 (de) * 2005-06-28 2007-12-20 Infineon Technologies Ag Halbleiterstapelblock mit Halbleiterchips und Verfahren zur Herstellung desselben
FR2917233B1 (fr) * 2007-06-07 2009-11-06 Commissariat Energie Atomique Integration 3d de composants verticaux dans des substrats reconstitues.
US20090001549A1 (en) * 2007-06-29 2009-01-01 Soo-San Park Integrated circuit package system with symmetric packaging
US8106505B2 (en) 2007-10-31 2012-01-31 International Business Machines Corporation Assembly including plural through wafer vias, method of cooling the assembly and method of fabricating the assembly
US20120119345A1 (en) * 2010-11-15 2012-05-17 Cho Sungwon Integrated circuit packaging system with device mount and method of manufacture thereof
JP2016115080A (ja) * 2014-12-12 2016-06-23 株式会社オートネットワーク技術研究所 情報処理装置
CN110010600B (zh) * 2018-12-31 2020-12-29 浙江臻镭科技股份有限公司 一种竖立放置射频芯片模组的互联结构及其制作方法
US11735495B2 (en) * 2019-02-27 2023-08-22 Intel Corporation Active package cooling structures using molded substrate packaging technology

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62260352A (ja) * 1986-05-06 1987-11-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US5198888A (en) 1987-12-28 1993-03-30 Hitachi, Ltd. Semiconductor stacked device
US5030072A (en) * 1988-06-20 1991-07-09 Eaton Corporation Constant radial clearance gerotor design
US5362986A (en) * 1993-08-19 1994-11-08 International Business Machines Corporation Vertical chip mount memory package with packaging substrate and memory chip pairs
JPH0851180A (ja) * 1994-08-09 1996-02-20 Hitachi Ltd 半導体装置
US5567654A (en) * 1994-09-28 1996-10-22 International Business Machines Corporation Method and workpiece for connecting a thin layer to a monolithic electronic module's surface and associated module packaging
KR100186331B1 (ko) * 1996-06-17 1999-03-20 문정환 적층형 패키지
US5940277A (en) * 1997-12-31 1999-08-17 Micron Technology, Inc. Semiconductor device including combed bond pad opening, assemblies and methods

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102646663A (zh) * 2011-02-15 2012-08-22 海力士半导体有限公司 半导体封装件

Also Published As

Publication number Publication date
DE19920444A1 (de) 1999-11-18
DE19920444B4 (de) 2005-10-27
KR100290886B1 (ko) 2001-07-12
JP3066801B2 (ja) 2000-07-17
KR19990084691A (ko) 1999-12-06
US6198164B1 (en) 2001-03-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6414381B1 (en) Interposer for separating stacked semiconductor chips mounted on a multi-layer printed circuit board
US6555917B1 (en) Semiconductor package having stacked semiconductor chips and method of making the same
US7005316B2 (en) Method for package reduction in stacked chip and board assemblies
US6841863B2 (en) Ball grid array package with stacked center pad chips and method for manufacturing the same
JP2546192B2 (ja) フィルムキャリア半導体装置
US7148081B2 (en) Method of manufacturing a semiconductor device
JP3066801B2 (ja) 超高集積回路のパッケ―ジングされた半導体製品及びその製造方法
US7492043B2 (en) Power module flip chip package
JPH0661406A (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法及びテ−プキャリア
US7247933B2 (en) Thin multiple semiconductor die package
US8217517B2 (en) Semiconductor device provided with wire that electrically connects printed wiring board and semiconductor chip each other
JPH10270626A (ja) 半導体装置およびその製造方法
US20060091516A1 (en) Flexible leaded stacked semiconductor package
JPH08125112A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP3497775B2 (ja) 半導体装置
JPH0964244A (ja) 半導体装置およびその製造方法
KR100487135B1 (ko) 볼그리드어레이패키지
JPH09246464A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH1012788A (ja) 半導体装置およびその製造方法およびその半導体装置に用いるリードフレーム
JP3954586B2 (ja) 半導体装置
JPH08153826A (ja) 半導体集積回路装置
JP4123131B2 (ja) 半導体装置
JPH05183102A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH11176873A (ja) Bga形半導体装置およびその実装構造体
JP2000232198A (ja) 半導体集積回路装置およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090519

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100519

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110519

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120519

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120519

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130519

Year of fee payment: 13

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees