JPH11316618A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH11316618A
JPH11316618A JP10123532A JP12353298A JPH11316618A JP H11316618 A JPH11316618 A JP H11316618A JP 10123532 A JP10123532 A JP 10123532A JP 12353298 A JP12353298 A JP 12353298A JP H11316618 A JPH11316618 A JP H11316618A
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Toshikazu Nakamura
俊和 中村
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Kuninori Kawabata
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正智 長谷川
Toru Koga
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 外部クロック信号の位相を調整して所定の位
相だけ遅らせた内部クロック信号を生成する機能を備え
た半導体装置に関し、異なる精度の階層構造のDLL回
路等を組み合わせ、電源ノイズや外部クロック信号のジ
ッタ等により電源ジッタが発生した場合でもDLL回路
等の安定動作を図ることを目的とする。 【解決手段】 外部クロック信号の位相を大まかに調整
する第1のクロック位相調整回路と、第1のクロック位
相調整回路よりも高い精度にて内部クロック信号の位相
を制御する第2のクロック位相調整回路とを備え、第1
および第2のクロック位相調整回路による位相比較を独
立に行い、第2のクロック位相調整回路の位相制御を第
1のクロック位相調整回路の動作に従属させる場合に、
第1のクロック位相調整回路内の複数の遅延素子の各々
の遅延量を、電源ノイズや外部クロック信号のジッタ等
により発生する電源ジッタよりも大きく設定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、外部から供給され
る外部クロック信号の位相を調整して所定の位相だけ遅
延させた内部クロック信号を生成するDLL(Delay Lo
cked Loop )回路等のクロック位相調整回路を備えた半
導体装置に関する。さらに詳しくいえば、本発明は、外
部クロック信号に対し所定の周期分、例えば、1周期分
だけ遅らせた内部クロック信号を生成し、ダイナミック
・ランダム・アクセス・メモリ(以後、DRAMと略記
する)等に入力されるデータの位相を上記内部クロック
信号の位相に同期させることにより、特性のばらつきや
周囲温度や電源電圧等の変動に関係なく外部クロック信
号に対し常に所定の正確な位相にてデータを取り込んで
出力する機能を備えた半導体装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年のCPU(中央処理装置)は、10
0MHz 以上の高速の外部クロック信号に同期して動作す
る。すなわち、CPUの処理能力がとても高くなってき
ている。これに対し汎用DRAMの動作速度は遅く、C
PUが要求するデータを入出力することができなくなっ
てきた。このような事態に対処するために、100MHz
以上の高速の外部クロック信号に同期して動作し、か
つ、CPUが要求するデータを入出力することが可能な
シンクロナスDRAM(通常、SDRAMと略記され
る)等の新しいDRAM各種提案されている。
【0003】しかしながら、データの入出力を実行する
場合、周囲温度や電源電圧変動によるばらつきに起因し
てデータの不確定期間が生ずる。このために、データの
確定期間(データウィンドウ)は、tCLK(外部クロ
ック信号の一周期の時間)からデータの不確定時間を差
し引いた値になる。この場合、外部クロック信号が高速
になるにつれてtCLKが短くなり、データの確定時間
が少なくなるので、データの入出力のタイミングが難し
くなってくる。逆にいえば、高速の外部クロック信号の
下でデータの入出力を誤りなく実行するためには、周囲
温度や電源電圧の変動によるデータの不確定時間の増加
を最小限に抑えることが必要になってくる。
【0004】このようなデータの不確定期間の増加を最
小限に抑えるために、高速の外部クロック信号の下で充
分なデータウィンドウを確保することができるDLL等
のクロック位相調整回路が有効になる。図30は、一般
のクロック位相調整回路を有する半導体装置の構成を示
す回路ブロック図である。
【0005】図30に示すような半導体装置におけるク
ロック位相調整回路、例えばディジタル式のDLL回路
100は、外部から入力バッファ800を介して入力さ
れる外部クロック信号EXCLKの遅延量(遅延時間)
を変化させることにより所定の位相だけ遅延させた内部
クロック信号INCLKを生成するための複数のディレ
イライン400およびダミーディレイライン440から
なる遅延回路450と、上記外部クロック信号EXCL
Kを分周して得られる信号の位相と、ダミーディレイラ
イン440からダミー出力バッファ990およびダミー
入力バッファ880を介して入力される信号の位相とを
比較する位相比較回路660と、この位相比較回路部6
60による位相比較結果に基づいて、上記ディレイライ
ン400およびダミーディレイライン440の遅延量を
選択する遅延制御回路550とを備えている。
【0006】さらに詳しく説明すると、外部クロック信
号EXCLKは、入力バッファ800により所定のレベ
ルになるまで増幅された後に、分周回路300により分
周されて遅延回路450に供給されると共に、位相比較
回路660に第1入力信号として供給される。この場
合、位相比較回路660の入力側において入力バッファ
800による外部クロック信号CLKの位相遅れを相殺
するために、ダミー入力バッファ880が設けられてい
る。さらに、ディレイライン400により生成された内
部クロック信号INCLKに同期してデータDATAを
出力する出力バッファ900による内部クロック信号の
位相遅れを相殺するために、ダミー出力バッファ990
が設けられている。それゆえに、分周回路300を介し
てダミーディレイライン440に入力された外部クロッ
ク信号EXCLKは、ダミー出力バッファ990および
ダミー入力バッファ880を介して位相比較回路660
に第2入力信号として供給されることになる。
【0007】この位相比較回路660は、上記の第1入
力信号の位相と第2入力信号の位相とを比較し、これら
の2つの入力信号の位相の比較結果を遅延制御回路55
0に入力する。この遅延制御回路550は、外部クロッ
ク信号EXCLKと内部クロック信号INCLKとの位
相差が所定の周期分(クロックサイクル分)、例えば1
周期分(360度)になるように、ディレイライン40
0およびダミーディレイライン440の遅延量を選択し
て調整する。この結果、ディレイライン400に入力さ
れた外部クロック信号EXCLKは、遅延制御回路55
0によって調整された遅延量を付与された後、出力バッ
ファ900に供給される。この出力バッファ900は、
ディレイライン400から供給された内部クロック信号
INCLKに同期してデータDATAを外部へ出力する
(DOUT)。
【0008】SDRAMの動作周波数が比較的遅い場合
には、上記のような一般的な構成のディジタル式のDL
L回路により対応することができる。すなわち、上記の
ディジタル式のDLL回路は、外部クロック信号EXC
LKをもとに同外部クロック信号と位相同期した内部出
力クロック信号INCLKを生成することで、SDRA
Mの内部のクロック配線等による遅れの影響を取り除
き、外部入力クロック信号に同期してデータをSDRA
Mの外部に出力することが可能である。しかしながら、
100MHz を超える動作速度のSDRAMに搭載される
ディジタル式のDLL回路は、極めて高い精度の遅延制
御を行えることが必要である。
【0009】ディジタル式のDLL回路は、NANDゲ
ートやインバータ等の複数の論理ゲートの組み合わせか
らなる単位遅延素子を複数個直列に接続したディレイラ
インを有している。通常、単位遅延素子の遅延量(遅延
時間)は最小で200psec(200×10-12sec)程度
である。しかしながら、100MHz を超える動作速度に
対応するためには、200psec以下の遅延量を制御でき
る高精度のディジタル式のDLL回路が必要となる。原
理的には、200psec以下の遅延量の単位遅延素子を使
用することで、遅延量制御の精度を向上させることが可
能である。ただし、このような200ps以下の遅延量の
単位遅延素子のみを使用する構成で、ある程度の遅延量
を確保するには多数の単位遅延素子が必要となり、半導
体装置を構成するための回路規模が増大してしまう。そ
れゆえに、実用上の観点からすれば、半導体装置の回路
規模を増大させることなく比較的精度の高いディジタル
式のDLL回路を実現させることが要求される。
【0010】このために、従来は、大まかな遅延量調整
用のディレイライン(すなわち、低精度ディレイライ
ン)を有するラフ(Rough )制御用のディジタル式のD
LL回路(例えば、図30参照)に加えて、より高精度
の遅延量調整用のディレイライン(すなわち、高精度デ
ィレイライン)を有するファイン(Fine)制御用のディ
ジタル式のDLL回路を設け、2種のDLL回路の構成
に階層をもたせるようにしていた。このような階層化さ
れた構造のディジタル式のDLL回路では、ディレイラ
インの桁上がりおよび桁下がりの際に遅延量をスムーズ
に変化させることによって、内部クロック信号の位相の
階層間制御をスムーズに行うようになっている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、100
MHz を超える動作速度に対応するために提案された階層
構造のディジタル式のDLL回路を有する半導体装置に
おいては、外部クロック信号のジッタや内部電源電圧の
変動に起因する内部クロック信号のジッタの影響が無視
できなくなる。
【0012】この内部クロック信号のジッタのうち、D
LL回路の量子化誤差に起因して発生するジッタをDL
Lジッタとよぶ。ここで、ラフ制御用のDLL回路の低
精度ディレイライン一段分の遅延量(すなわち、低精度
ディレイラインの単位遅延素子の単位遅延量)がtrdで
あり、ファイン制御用のDLL回路の高精度ディレイラ
イン一段分の遅延量(すなわち、高精度ディレイライン
の単位遅延素子の単位遅延量)が、trdより小さい(例
えば、trdの1/10の遅延量)tfdである場合を想定
する。この場合、ラフ制御用のDLL回路の量子化誤差
が、低精度ディレイラインの単位遅延素子の単位遅延量
に相当し、ファイン制御用のDLL回路の量子化誤差
が、高密度ディレイラインの単位遅延素子の単位遅延量
に相当する。
【0013】また一方で、電源のノイズや外部クロック
信号等に起因して発生するジッタを、電源ジッタとよ
ぶ。この電源ジッタは、100MHz を超える動作速度の
SDRAM等においてはDLL回路の動作に及ぼす影響
が無視できなくなる。ついで、図31および図32を参
照しながら、上記のような電源ジッタが発生している場
合に階層構造のディジタル式のDLL回路によるクロッ
ク位相調整を行うときの問題点を説明する。
【0014】図31は、電源ジッタが±trdの範囲内に
ある場合に従来の手法によりクロック位相調整を行う様
子を示す図、図32は、電源ジッタが±trdの範囲に入
らない場合に従来の手法によりクロック位相調整を行う
様子を示す図である。階層構造のディジタル式のDLL
回路を有する半導体装置において、ラフ制御用のDLL
回路が動作するかファイン制御用のDLL回路が動作す
るかは、ラフ制御用のDLL回路内の位相比較回路が判
定しており、このような判定の基準は、外部クロック信
号等の基準クロックの位相に対して内部クロック信号の
位相が±trdの範囲内にあるか否かである(条件1)。
【0015】さらに詳しく説明すると、ファイン制御用
のDLL回路の動作中にディレイラインが桁上がりおよ
び桁下がりをするときは、ラフ制御用のDLL回路内の
位相比較回路にて検出される位相差が±trdの範囲より
大きいが、装置全体としてファイン制御用のDLL回路
の動作が維持される(条件2)。しかしながら、サンプ
リングの結果2回連続してラフ制御用のDLL回路内の
位相比較回路にて検出される位相差が±trdの範囲より
大きい場合、装置全体としてラフ制御用のDLL回路の
動作が遂行される(条件3)。
【0016】第1に、電源ジッタが±trdの範囲内にあ
る場合にクロック位相調整を行うケースを考える。図3
1において、左側の正規分布のように示されているのは
電源ジッタのジッタヒストグラムであり、横軸は時刻
(もしくは位相でもよい)、縦軸は頻度を表しており、
ある時刻に内部クロック信号の位相が遷移する確率を表
している(ヒストグラムのピークが内部クロック信号の
位相遷移の中心時刻を表す)。この場合、ラフ制御用の
DLL回路は、基準クロックに対して内部クロック信号
を±trdの範囲(すなわち、2trd)に入るように制御
するので、図31に示すように、あるサンプリング時刻
(T=0)では±trdの範囲から外れていても、次のサ
ンプリング時刻には、電源ジッタも含めて±trdの範囲
に入るようになる。したがって、前述の条件3の状態に
は決してならないので、DLL回路のロックオン後はい
つでもファイン制御用のDLL回路の動作が遂行され
る。ここでは、電源ジッタおよびDLLジッタを含むト
ータルジッタは、図31の右側のジッタヒストグラムに
示すように、電源ジッタとtfdとの和(電源ジッタ+t
fd)になる。
【0017】第2に、電源ジッタが±trdの範囲に入ら
ない場合にクロック位相調整を行うケースを考える。こ
の場合は、図32の左側のジッタヒストグラムに示すよ
うに、次のサンプリング時刻においても、電源ジッタを
含めたトータルジッタは±trdの範囲に入らないので、
ファイン制御用のDLL回路の動作に移行できない場合
が生じてくる(例えば、+trdより大きい部分)。この
場合には、その次のサンプリング時刻においてもラフ制
御用のDLL回路を動作させて内部クロック信号の位相
を調整しようとする。しかしながら、このサンプリング
時刻でも、トータルジッタが±trdの範囲を超えるので
(白丸(○)で囲んだ部分)、ファイン制御用のDLL
回路の動作に移行した後にラフ制御用の動作に再び移行
する場合が生じてくる。すなわち、このケースは、前述
の条件3に当てはまるので、DLL回路のロックオン後
でもある確率でもってラフ制御用のDLL回路の動作が
起こり得る。ここでは、電源ジッタおよびDLLジッタ
を含むトータルジッタは、図32の右側のジッタヒスト
グラムに示すように、電源ジッタとtrdとの和(電源ジ
ッタ+trd)になる。さらに、ピークとピークの間隔は
trdに相当する。
【0018】上記のとおり、100MHz を超える動作速
度に対応するために提案された従来の階層構造のディジ
タル式のDLL回路においては、電源ジッタを含めたト
ータルジッタが、DLLジッタのみに基づいて設定した
±trdの範囲を超えてしまうことがあるので、DLL回
路のロックオン後であってもラフ制御用のDLL回路が
動作する可能性が生じ、上記のDLL回路の動作の安定
性が充分に保証されなくなる。
【0019】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
であり、電源のノイズや外部クロック信号等に起因して
電源ジッタが発生した場合であっても、この電源ジッタ
に影響されることなくDLL回路等のクロック位相調整
回路の安定動作を保証することが可能な半導体装置を提
供することを目的とするものである。
【0020】
【課題を解決するための手段】図1は、本発明の原理構
成を示すブロック図である。ここでは、2つのクロック
位相調整回路を有する半導体装置の構成を簡略化して示
す。上記問題点を解決するために、本発明の半導体装置
は、図1に示すように、外部から供給される外部クロッ
ク信号EXCLKの位相を調整して上記外部クロック信
号に対し所定の位相だけ遅延させた内部クロック信号I
NCLKを生成するための第1のクロック位相調整回路
1と、上記第1のクロック位相調整回路1よりも高い精
度にて上記内部クロック信号の位相を制御する第2のク
ロック位相調整回路2とを備えている。
【0021】さらに、図1に示す本発明の半導体装置
は、上記第1のクロック位相調整回路1および上記第2
のクロック位相調整回路2における上記外部クロック信
号と上記内部クロック信号との位相比較を互いに独立に
行い、かつ、上記第2のクロック位相調整回路2の上記
内部クロック信号の位相制御を上記第1のクロック位相
調整回路1の動作に従属させることによって、上記外部
クロック信号に対し所定の位相関係を有する上記内部ク
ロック信号を出力するように上記第1および第2のクロ
ック位相調整回路1、2内の複数の遅延素子による遅延
量を付与し、上記第1のクロック位相調整回路1内の複
数の遅延素子の各々により生成される遅延量を、予め定
められた値(例えば、内部クロック信号のジッタの値)
よりも大きく設定するように構成される。
【0022】好ましくは、図1における第1のクロック
位相調整回路1は、ラフ制御用のDLL回路等により実
現されるものであり、第2のクロック位相調整回路2
は、ファイン制御用のDLL回路等により実現されるも
のである。ここで、第1のクロック位相調整回路1は、
上記外部クロック信号EXCLK(または信号S1)の
遅延量が選択可能であり、選択された遅延量だけ上記外
部クロック信号を遅延させ、上記第2のクロック位相調
整回路2への入力信号(ラフ制御によるクロック信号)
として出力する第1の遅延回路部4と、上記外部クロッ
ク信号を分周して得られる信号S3の位相と、上記第1
の遅延回路部4からダミー出力回路19、ダミー入力回
路18およびダミー回路部7を介して入力される信号S
0の位相とを比較する第1の位相比較回路6と、この第
1の位相比較回路部6による位相比較結果に基づいて、
上記第1の遅延回路部4の遅延量を選択する第1の遅延
制御回路部5とを備えている。
【0023】また一方で、第2のクロック位相調整回路
2は、上記第1のクロック位相調整回路1から供給され
るラフ制御によるクロック信号の遅延量が選択可能であ
り、選択された遅延量だけ当該クロック信号を遅延さ
せ、ファイン制御による内部クロック信号INCLKと
して出力する第2の遅延回路部24と、上記外部クロッ
ク信号を分周して得られる信号S3の位相と、上記第2
の遅延回路部24から出力される信号S4の位相とを比
較する第2の位相比較回路26と、この第2の位相比較
回路部6による位相比較結果に基づいて、上記第2の遅
延回路部24の遅延量を選択する第2の遅延制御回路部
25とを備えている。さらに、第2のクロック位相調整
回路2の出力側には、従来の出力バッファ900(図3
0)とほぼ同じ機能を有するデータ出力回路9が設けら
れている。このデータ出力回路9は、上記第2の遅延回
路部24により生成された内部クロック信号に同期して
データDATAを外部へ出力する(DOUT)。
【0024】さらに、図1において、外部クロック信号
EXCLKは、従来の入力バッファ800(図30)と
ほぼ同じ機能を有するクロック入力回路8により所定の
レベルになるまで増幅された後に、従来の分周回路30
0とほぼ同じ機能を有する分周回路部3により分周さ
れ、信号S2として第1の遅延回路部4に供給されると
共に、第1の位相比較回路部6に信号S3として供給さ
れる。
【0025】さらに、図1において、外部クロック信号
EXCLKの位相遅れを相殺するために、第1の位相比
較回路部3の入力側にダミー入力回路18が設けられて
いる。さらにまた、データ出力回路9による内部クロッ
ク信号INCLKの位相遅れを相殺するために、ダミー
出力回路19が設けられている。さらにまた、第2の遅
延回路部24による外部クロック信号の位相遅れを相殺
するために、第1の位相比較回路部3の入力側にダミー
回路部7が設けられている。それゆえに、第1の遅延回
路部4に入力された信号S1は、前述したように、ダミ
ー出力回路部19、ダミー入力回路18およびダミー回
路部7を介して、第1の位相比較回路部3に信号S0と
して供給されることになる。
【0026】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
において、上記第1のクロック位相調整回路1は、上記
第1のクロック位相調整回路1内の上記複数の遅延素子
の各々により生成される遅延量を、電源のノイズおよび
上記外部クロック信号のジッタの少なくとも一方により
発生する上記内部クロック信号のジッタの値よりも大き
く設定する遅延量設定調整手段14を有する。この遅延
量設定調整手段14は、代表的に、第1の遅延回路部4
内に設けられる。
【0027】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
において、上記第1のクロック位相調整回路1は、同第
1のクロック位相調整回路1内の第1の遅延回路部4を
構成する複数の遅延素子の各々が少なくとも1つの論理
ゲートを含み、上記遅延量設定調整手段14は、抵抗お
よびコンデンサからなるCR遅延回路を有しており、こ
のCR遅延回路を上記論理ゲートの出力側のノードに接
続することによって、上記複数の遅延素子の各々により
生成される遅延量を、予め定められた値よりも大きくす
るように調整する構成になっている。
【0028】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
は、上記第1のクロック位相調整回路1内の第1の遅延
回路部4を構成する複数の遅延素子の各々が少なくとも
1つの論理ゲートを含み、上記遅延量設定調整手段14
は、所定の容量値を有する容量負荷を有しており、この
容量負荷を上記論理ゲートの出力側のノードに接続する
ことによって、上記複数の遅延素子の各々により生成さ
れる遅延量を、予め定められた値よりも大きくするよう
に調整する構成になっている。
【0029】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
は、上記第1のクロック位相調整回路1内の第1の遅延
回路部4を構成する複数の遅延素子の各々が少なくとも
1つの論理ゲートを含み、上記論理ゲートのチャネル長
を長くすることによって、上記複数の遅延素子の各々に
より生成される遅延量を、予め定められた値よりも大き
くなるように調整する構成になっている。
【0030】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
は、上記第1のクロック位相調整回路1内の複数の遅延
素子の段数を増やすことによって、上記複数の遅延素子
の各々により生成される遅延量を、予め定められた値よ
りも大きくなるように調整する構成になっている。さら
に、好ましくは、本発明の半導体装置において、上記第
2のクロック位相調整回路2は、上記第1のクロック位
相調整回路1が上記遅延量を制御しているときは上記第
1のクロック位相調整回路1からリセット信号Sr を受
けてリセットされており、第1のクロック位相調整回路
1における位相比較の対象とする上記外部クロック信号
EXCLKと上記内部クロック信号INCLKとの位相
が合っているときは、上記第2のクロック位相調整回路
2は上記遅延量を制御することが可能な状態にあるよう
になっている。
【0031】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
において、上記第1および第2のクロック位相調整回路
1、2はそれぞれ、上記外部クロック信号EXCLKが
通る第1の経路と、上記第1の経路と位相比較を行うた
めの第2の経路とを有しており、上記第2の経路は、上
記第2のクロック位相調整回路2がリセットされている
ときの遅延量と同一の遅延量を有するダミー回路部8を
含むようになっているさらに、好ましくは、本発明の半
導体装置において、上記第1のクロック位相調整回路1
内の上記複数の遅延素子の各々の遅延量により決定され
る精度をtdとすると、上記第2のクロック位相調整回
路2は±td を含む範囲の遅延量を制御することが可能
であり、上記第1のクロック位相調整回路1による位相
比較結果が±td の範囲から外れた場合に上記第1のク
ロック位相調整回路1はリセット信号Sr を上記第2の
クロック位相調整回路2に供給し、上記第2のクロック
位相調整回路2の遅延量を所定の値に設定するようにな
っている。
【0032】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
において、上記第2のクロック位相調整回路2は、上記
複数の遅延素子からなるディレイラインを有し、上記第
2のクロック位相調整回路2内の上記複数の遅延素子に
より設定される所定の値は、上記ディレイラインが制御
可能な遅延量の範囲の中心であるようになっている。さ
らに、好ましくは、本発明の半導体装置において、上記
第2のクロック位相調整回路2は、互いに遅延量が異な
る第1の遅延素子および第2の遅延素子を有しており、
上記第2の遅延素子は上記第1の遅延素子よりも遅延量
が多く、上記第1の遅延素子と上記第2の遅延量との差
を上記第2のクロック位相調整回路2の精度としてい
る。
【0033】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
において、上記第1のクロック位相調整回路1は、上記
外部クロック信号EXCLKから得られる第1のクロッ
ク信号を第3の遅延素子にて遅延させた信号と上記内部
クロック信号INCLKから得られる第2のクロック信
号との位相比較を行い、さらに、上記第1のクロック信
号と上記第2のクロック信号を第4の遅延素子にて遅延
させた信号との位相比較を行うことによって、上記外部
クロック信号と上記内部クロック信号との位相比較結果
を出力するようになっている。
【0034】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
において、上記第1のクロック位相調整回路1は、第1
のフリップフロップおよび第2のフリップフロップを有
しており、上記第1のフリップフロップは、上記第3の
遅延素子にて遅延させた信号と上記第2のクロック信号
とを、それぞれセット端子およびリセット端子に入力
し、上記第2のフリップフロップは、上記第4の遅延素
子にて遅延させた信号と上記第1のクロック信号とを、
それぞれセット端子およびリセット端子に入力し、上記
第1のフリップフロップおよび第2のフリップフロップ
の組み合わせにより上記外部クロック信号EXCLKと
上記内部クロック信号INCLKとの位相比較結果を出
力するようになっている。さらに、好ましくは、本発明
の半導体装置において、上記第1および第2のフリップ
フロップはそれぞれ、第1のNANDゲートおよび第2
のNANDゲートを有しており、上記第1のNANDゲ
ートの第1の入力がセット端子であって、上記第1のN
ANDゲートの第2の入力が上記第2のNANDゲート
の出力に接続されて非反転出力となり、上記第2のNA
NDゲートの第1の入力がリセット端子であって、上記
第2のNANDゲートの第2の入力が上記第1のNAN
Dゲートの出力に接続されて反転出力となる。
【0035】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
において、上記第1および第2のフリップフロップはそ
れぞれ、第1のNANDゲートおよび第2のNANDゲ
ートを有しており、上記第1のNANDゲートの第2の
入力がセット端子であって、上記第1のNANDゲート
の第1の入力が上記第2のNANDゲートの出力に接続
されて非反転出力となり、上記第2のNANDゲートの
第2の入力がリセット端子であって、上記第2のNAN
Dゲートの第1の入力が上記第1のNANDゲートの出
力に接続されて反転出力となる。
【0036】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
において、上記第2のクロック位相調整回路は、第3の
フリップフロップおよび第4のフリップフロップを有し
ており、上記第3のフリップフロップと上記第4のフリ
ップフロップとの間に第5の遅延素子および第6の遅延
素子が設けられ、上記第3のフリップフロップは、上記
外部クロック信号から得られる第1のクロック信号と上
記内部クロック信号から得られる第2のクロック信号と
を、それぞれセット端子およびリセット端子に入力し、
上記第4のフリップフロップは、上記第2のクロック信
号を上記第6の遅延素子にて遅延させた信号と上記第1
のクロック信号を上記第5の遅延素子にて遅延させた信
号とを、それぞれセット端子およびリセット端子に入力
し、上記第3のフリップフロップおよび上記第4のフリ
ップフロップの組み合わせにより上記外部クロック信号
と上記内部クロック信号との位相比較結果を出力するよ
うになっている。
【0037】さらに、好ましくは、本発明の半導体装置
において、上記第5の遅延素子は、第3のNANDゲー
トと第1のインバータにより構成されると共に、上記第
6の遅延素子は、第4のNANDゲートと第2のインバ
ータにより構成され、上記第5の遅延素子と上記第6の
遅延素子との間に第5のNANDゲートが設けられ、上
記第6の遅延素子内の上記第2のインバータの出力が、
上記第5のNANDゲートを介して、上記第5の遅延素
子内の上記第3のNANDゲートの入力に接続されるよ
うになっている。
【0038】本発明によれば、大まかな遅延量調整用の
DLL回路等に含まれる複数の遅延素子を構成する論理
ゲートの出力側のノードにCR遅延素子や容量負荷を接
続したり、上記論理ゲートのチャネル長を長くしたりす
ることによって、上記複数の遅延素子の一段分の遅延量
を、電源のノイズや外部クロック信号のジッタ等に起因
する内部クロック信号のジッタの値よりも大きく設定す
ることができるので、内部クロック信号のジッタに影響
されることなく階層構造のDLL回路等を有する半導体
装置の安定動作を保証することが可能になる。
【0039】
【発明の実施の形態】以下、添付図面(図2〜図29)
を参照しながら本発明の好ましい実施の形態(以後、実
施例とよぶこととする)を説明する。ただし、ここで
は、本発明の好ましい実施例の構成および特徴を容易に
理解することができるように、本発明の実施例が適用さ
れるSDRAM(シンクロナスDRAMの構成およびそ
の動作を最初に説明することとする。
【0040】図2は、本発明の半導体装置が適用される
SDRAMの概略的構成を示すブロック図であり、図3
は、図2のSDRAMの動作を説明するためのタイミン
グチャートである。図2に示すSDRAMからなる半導
体チップは、チップ内のメモリ領域を構成するための複
数のバンク(例えば、バンクNo.0、No.1)を有
する2048ビット×2048ビットのDRAMコア1
08a、108bと、これらのDRAMコア108a、
108bに供給すべき各種の制御信号(ローアドレス制
御信号RAS、コラムアドレス信号CAS、およびライ
トイネーブル信号WE)を保持する制御信号ラッチ10
5a、105bと、SDRAMの動作モードを特定する
ためのモードレジスタ106と、コラムアドレスをカウ
ントしてデータをアクセスするためのコラムアドレスカ
ウンタ107a、107bとを備えている。
【0041】さらに、図2に示す半導体チップは、クロ
ックイネーブル信号CKEに基づき、シンクロナスDR
AMを動作させるための基準となるクロック信号(すな
わち、外部クロック信号)CLKを保持して他の回路部
に供給するためのクロックバッファ101と、各種のコ
マンド信号(チップセレクト信号/CS、ローアドレス
ストローブ信号/RAS、コラムアドレスストローブ信
号/CAS、およびライトイネーブル信号/WE)をデ
コードして上記制御信号ラッチ105a、105bおよ
びモードレジスタ106に供給するコマンドデコーダ1
02と、ローアドレスおよびコラムアドレスを含むメモ
リアドレス信号A0〜A10、およびバンクアドレス信
号A11を保持してモードレジスタ106、コラムアド
レスカウンタ107a、107bおよびDRAMコア1
08a、108bに供給するアドレスバッファ/レジス
タおよびバンクセレクタ103と、各種のデータDQ
(DQ0〜DQ7およびDQM)を保持してDRAMコ
アのI/O部に供給するI/Oデータバッファ/レジス
タ104とを備えている。
【0042】さらに、図2において、チップセレクト信
号/CS、ローアドレスストローブ信号/RAS、コラ
ムアドレスストローブ信号/CAS、およびライトイネ
ーブル信号/WE等のコマンド信号は、その組み合わせ
により各種のコマンドを入力することによって動作モー
ドが決定されるようになっている。これらの各種コマン
ドは、コマンドデコーダ102により解読され、動作モ
ードに応じて各回路を制御することになる。また一方
で、上記のチップセレクト信号/CS、ローアドレスス
トローブ信号/RAS、コラムアドレスストローブ信号
/CAS、およびライトイネーブル信号/WEは、制御
信号ラッチ105aと105bにも入力され、次のコマ
ンドが入力されるまで現在のコマンド信号の状態がラッ
チされる。
【0043】さらにまた、図2において、メモリアドレ
ス信号A0〜A10、およびバンクアドレス信号A11
は、アドレスバッファ/レジスタおよびバンクセレクタ
103により増幅されて各バンクのロードアドレスとし
て使用されると共に、コラムアドレスカウンタ107
a、107bの初期値として使用される。DRAMコア
108a、108bから読み出された信号は、I/Oデ
ータバッファ/レジスタ104により増幅され、外部か
ら入力される外部クロック信号CLKの立ち上がりに同
期して出力される。データ入力についても同様の動作が
行われ、I/Oデータバッファ/レジスタ104に入力
されたデータがDRAMコア108a、108bに書き
込まれる。
【0044】図3に示すタイミングチャートにおいて
は、(a)部の外部クロック信号CLKの立ち上がりに
同期して各種の制御信号がDRAMコアに入力され
((b)部に示す)、このDRAMコア内のデータが読
み出される。この場合、まず初めに、DRAMコア内の
メモリマトリックスのローアドレス(Row Address )が
選択され、所定の遅れ時間(後述のローアドレスアクセ
ス時間tRCDに相当する)が経過した後にコラムアド
レス(Column Address)が選択されてデータ読み出し動
作が開始される。
【0045】さらに詳しく説明すると、SDRAMから
データを読み出す場合、前述の各種のコマンド信号の組
み合わせからアクティブ(ACT)コマンドをコマンド
端子に入力し、アドレス端子にはローアドレス信号を入
力する。このようなコマンドおよびローアドレスが入力
されると、SDRAMは活性状態になり、ローアドレス
に応じたワード線を選択し、この選択されたワード線上
のセル情報をビット線に出力した後に、センスアンプに
て増幅する。また一方で、上記のローアドレスのアクセ
スに関係した部分の動作時間(ローアドレスアクセス時
間tRCD)が経過した後に、リードコマンド(REA
D)およびコラムアドレスを入力する。このコラムアド
レスに従って、選択されたセンスアンプのデータをデー
タバス線に出力した後に、データバスアンプにて増幅
し、出力バッファによりさらに増幅することによって出
力端子にデータDQが出力される((c)部に示す)。
【0046】これら一連の動作は汎用のDRAMの動作
と全く同じであるが、SDRAMの場合、コラムアドレ
スに関係する回路がパイプライン動作をするようになっ
ており、読み出されたリードデータは毎サイクル連続し
て出力されることになる。これにより、データ転送周期
は外部クロック信号CLKの周期に等しくなる。SDR
AMでのアクセス時間には3種類あり、いずれも外部ク
ロック信号CLKの立ち上がり時点を基準にして定義さ
れる。図3において、tRACはローアドレスのアクセ
スに関係した部分の動作時間を示すローアドレスアクセ
ス時間、tCACはコラムドレスのアクセスに関係した
部分の動作時間を示すコラムアドレスアクセス時間、t
ACは外部クロック信号CLKからデータ出力までの時
間遅れを示すクロックアクセス時間を示している。上記
SDRAMを高速のメモリシステムにて使用する場合、
コマンドを入力してから最初にデータが得られるまでの
時間を示すtRACやtCACも重要であるが、データ
の転送速度を高める上では、クロックアクセス時間tA
Cも重要である。
【0047】さらに、図3において、tOHは前のサイ
クルまたは次のサイクルへの出力データ保持時間を示し
ている。SDRAMの特性のばらつき、温度依存性およ
び電源電圧依存性を考えると、tACとtOHとは一致
せず、ある程度の時間幅を持つことになってしまう。こ
の時間幅に相当する時間では、出力端子から出力される
べきデータが不確定になっている。このようにデータが
不確定になっている時間、すなわち、データ不確定時間
は、どのようなデータが出力されるか分からない時間を
意味しており、メモリシステムでは使用することができ
ない時間である。
【0048】上記のデータ不確定時間は、SDRAMの
特性のばらつきや、温度および電源電圧等の変化により
変動する傾向にある。このような場合でも、正確なタイ
ミングにてデータを誤りなく出力するためには、外部ク
ロック信号CLKに対してデータが常に所定の位相で出
力されること、すなわち、クロックアクセス時間tAC
が常に一定であることが要求される。例えば、データの
出力が内部クロック信号の立ち上がりに同期して行われ
ることが望ましい場合、外部クロック信号CLKと内部
クロック信号の位相差が常に所定の周期分、例えば、3
60度に保持されるようにクロック位相調整回路(図1
参照)のディレイ回路部(図1参照)の遅延量を設定す
ることが必要である。
【0049】図4は、本発明の一実施例の構成を示す回
路ブロック図であり、図5は、図4の実施例の概略的な
動作を説明するためのタイミングチャートである。な
お、これ以降、前述した構成要素と同様のものについて
は、同一の参照番号を付して表すこととする。図4に示
す実施例に係る半導体装置においては、本発明の第1の
クロック位相調整回路1(図1参照)として、外部から
供給される外部クロック信号EXCLKの遅延量(位
相)を大まかに調整して同外部クロック信号と所定の位
相関係を有するクロック信号を生成する第1のDLL回
路10が設けられている。さらに、本発明の第2のクロ
ック位相調整回路2(図1参照)として、第1のDLL
回路10から供給されるクロック信号の遅延量(位相)
を高精度にて調整して所定の周期分の位相だけ正確に遅
らせた内部クロック信号INCLKを生成する第2のD
LL回路20が設けられている。すなわち、第2のDL
L回路20は第1のDLL回路10の出力側に設けら
れ、第1のDLL回路10の精度よりも高い精度を有す
る。通常、第1のDLL回路10はラフ制御用のDLL
回路とよばれており、第2のDLL回路20はファイン
制御用のDLL回路とよばれている。
【0050】ここでは、入力バッファ80を介して外部
から入力される外部クロック信号EXCLKを第1のD
LL回路10により遅延させ、この第1のDLL回路1
0から出力される信号を、第2のDLL回路20におい
てさらに高精度に遅延させることで、外部クロック信号
に対して所定の位相関係を有する出力クロック信号(す
なわち、内部クロック信号INCLK)を生成する。第
2のDLL回路20からの内部クロック信号はクロック
配線を介して、データバス等に接続される出力バッファ
90に供給される。この出力バッファ90は、第2のD
LL回路20からの内部クロック信号に同期してデータ
バス上のデータDATAをバッファリングした後に、出
力信号DOUTとして外部へ出力する。この場合、第1
のDLL回路10の入力側に設けられる入力バッファ8
0は、従来の入力バッファ800(図30参照)とほぼ
同じ機能を有し、第2のDLL回路20の出力側に設け
られる出力バッファ90は、従来の出力バッファ900
(図30参照)とほぼ同じ機能を有する。
【0051】さらに、図4に示す半導体装置は、ダミー
入力バッファ82、ダミー出力バッファ92およびダミ
ー回路70を有している。この場合、ダミー入力バッフ
ァ82は、入力バッファ80による外部クロック信号E
XCLKの位相遅れを相殺するために設けられるもので
あり、出力バッファ90内の遅延と同一の遅延量を有す
る。さらに、ダミー出力バッファ92は、出力バッファ
90等による内部クロック信号INCLKの位相遅れを
相殺するために設けられるものであり、第2のDLL回
路20から出力バッファ90までのクロック配線の遅
延、および出力バッファ90内の遅延と同一の遅延量を
有する。さらにまた、ダミー回路70は、後述する所定
の遅延量を有する。
【0052】さらに、図4に示す半導体装置において、
第1のDLL回路10および第2のDLL回路20は、
それぞれ独立に動作(位相比較)する。すなわち、ダミ
ー出力バッファ92からダミー入力バッファ82を介し
て得られるクロック信号を、入力バッファ80を通した
外部クロック信号EXCLKと独立に位相比較し、それ
ぞれ位相差が所定の関係となるように遅延量を制御す
る。ここで、所定の関係にある位相差とは、具体的に
は、ダミー側のクロック信号が外部クロック信号に対し
て少なくともk周期遅れている状態である(kは1以上
の任意の正の整数)。この状態ではダミー側のクロック
信号と外部クロック信号との間では見掛け上位相差は存
在しない。すなわち、出力バッファ90から出力される
データは、外部から入力バッファ80の入力端子へ供給
される外部クロック信号に同期している。
【0053】さらに詳しく説明すると、図4に示す半導
体装置は、第1のDLL回路10および第2のDLL回
路20における外部クロック信号EXCLKと内部クロ
ック信号INCLKとの位相比較を互いに独立に行い、
かつ、上記第2のDLL回路20の内部クロック信号の
位相制御を第1のDLL回路10の動作に従属させるこ
とによって、外部クロック信号に対し所定の位相関係を
有する内部クロック信号を出力するように前記第1およ
び第2のDLL回路10、20内の複数の遅延素子によ
る遅延量を付与する。
【0054】ここでは、電源のノイズまたは外部クロッ
ク信号のジッタにより発生する内部クロック信号のジッ
タが、外部クロック信号とデータとの位相同期に影響を
及ぼさないようにするために、第1のDLL回路10内
の複数の遅延素子の各々により生成される遅延量(すな
わち、低精度ディレイライン40の一段分の遅延量)
を、上記の内部クロック信号のジッタ(電源ジッタ)の
値よりも大きく設定するようにしている。
【0055】後述の図11〜図15の説明部分で詳しく
述べることではあるが、本発明の実施例では、第1のD
LL回路10内の低精度ディレイライン40を構成する
複数の遅延素子の各々が少なくとも1つの論理ゲートを
含む場合、抵抗およびコンデンサからなるCR遅延回路
を上記論理ゲートの出力側のノードに接続することによ
って、低精度ディレイライン40の一段分の遅延量を電
源ジッタの値よりも大きく設定するようにしている。
【0056】あるいは、所定の容量値を有するMOSコ
ンデンサ等の容量負荷を上記論理ゲートの出力側のノー
ドに接続することによって、低精度ディレイライン40
の一段分の遅延量を電源ジッタの値よりも大きく設定す
るようにしている。あるいは、上記論理ゲートのチャネ
ル長を長くしたり、チャネル幅を小さくしたりすること
によって、低精度ディレイライン40の一段分の遅延量
を電源ジッタまたはDLLジッタの値よりも大きく設定
するようにしている。
【0057】あるいは、低精度ディレイライン40の複
数の遅延素子の段数を増やすことによっても、低精度デ
ィレイライン40の一段分の遅延量を電源ジッタまたは
DLLジッタの値よりも大きく設定することが可能であ
る。ただし、図4に示す半導体装置においては、第2の
DLL回路20の遅延量制御は、第1のDLL回路10
の遅延量制御に従属している点に注意すべきである。よ
り具体的には、第2のDLL回路20は、第1のDLL
回路10がその遅延量を制御しているときは上記第1の
DLL回路10からリセット信号Sr (RESET T
O CENTER)を受けてリセットされており、第1
のDLL回路10に入力される信号S0と信号S3の位
相が合っているとき(すなわち、第1のDLL回路10
の精度において、入力バッファ80に入力される外部ク
ロック信号EXCLKの位相と、出力バッファ90から
出力されるデータの位相とが合っているとき)は、上記
第2のDLL回路20は遅延量を制御できる状態にあ
る。これにより、大きな遅延量が必要な場合(すなわ
ち、遅延量を大きく変化させる場合)には、第1のDL
L回路10でのみ遅延量を制御して信号S0と信号S3
の位相を第1のDLL回路10の精度の下に一致させ、
この状態で第2のDLL回路20にて、より高精度に遅
延量を制御することによって第2のDLL回路20の精
度の下に位相を一致させる。
【0058】このように、互いに精度の異なる第1のD
LL回路10および第2のDLL回路20を設けること
は、遅延量制御、すなわち位相制御を階層化する(図4
に示す構成の場合、2つの階層からなる)ことを意味し
ている。2つの階層を2桁に置き換えて考えると、下の
桁(高精度の桁)は第2のDLL回路20で制御され、
上の桁(低精度の桁)は第1のDLL回路10で制御さ
れる。したがって、第1のDLL回路10と第2のDL
L回路20との間には桁上がりまたは桁下がりの動作が
必要になる。例えば、第1のDLL回路10の精度をt
d とすると、第2のDLL回路20は±td を含む範囲
の遅延量を制御することが可能であり、第1のDLL回
路10の位相比較結果が±td の範囲から外れた場合に
第1のDLL回路10はリセット信号Sr を第2のDL
L回路20に出力し、第2のDLL回路20の遅延量を
所定の値に設定する。上記の±td の範囲から外れたと
いうことは、第2のDLL回路20での遅延量制御では
間に合わないことを意味し、この場合には第1のDLL
回路10で遅延量を制御する(すなわち、遅延量を可変
にする)。なお、上記リセット信号Sr は、桁上がりま
たは桁下がりを行う場合にも使用される。
【0059】なお、第1のDLL回路10の位相比較結
果が±td の範囲から外れた場合に、第2のDLL回路
20の遅延量は所定の値に設定されるが、この所定の値
とは、例えば第2のDLL回路20で可変可能な遅延量
の範囲の1/2である。すなわち、第2のDLL回路2
0がリセットされると、第2のDLL回路20で可変可
能な遅延量の範囲の1/2に相当する遅延量(以下、基
準遅延量という)が第2のDLL回路20にて与えられ
る。そして、第2のDLL回路20が動作可能な状態に
ある場合には、この基準遅延量を増減させることで第2
のDLL回路20の遅延量を可変にさせる。なお、後述
するように、先に記述したダミー回路70は、上記基準
遅延量と同じ遅延量を与えるものである。
【0060】ついで、第1のDLL回路10および第2
のDLL回路20の回路ブロック構成について説明し、
その後に各々の回路ブロックの詳細を説明する。図4に
おいて、第1のDLL回路10は、外部クロック信号E
XCLKと内部クロック信号INCLKとの位相比較を
行うために必要な周波数になるまで外部クロック信号を
分周する分周回路30と、大まかな遅延量を調整するた
めのディジタル位相比較器として機能する低精度位相比
較回路60と、低精度遅延制御回路50と、低精度ディ
レイライン40と、低精度ダミーディレイライン44と
を有する。分周回路30は、入力バッファ80を通した
外部クロック信号(信号S1)を分周し、この信号S1
よりも低い周波数であって互いに同一の周波数を有する
信号S2、S3を出力する。信号S2は低精度ダミーデ
ィレイライン44に供給され、信号S3は低精度位相比
較回路60の第1の入力側に供給される。低精度位相比
較回路60の第2の入力側には、低精度ダミーディレイ
ライン44の出力信号が、ダミー出力バッファ92、ダ
ミー入力バッファ82およびダミー回路70を介して与
えられる。ここで、ダミー回路70が出力する信号をS
0とする。低精度位相比較回路60は、信号S0と信号
S3の位相比較を行って、低精度遅延制御回路50を制
御する。
【0061】この場合、前述の図1の分周回路部3は、
分周回路30により実現され、前述の図1の第1の遅延
回路部4は、低精度ディレイライン40および低精度ダ
ミーディレイライン44により実現される。さらに、前
述の図1の第1の遅延制御回路部5は、低精度遅延制御
回路50により実現され、前述の図1の第1の位相比較
回路部6は、低精度位相比較回路60により実現され
る。
【0062】より具体的には、低精度位相比較回路60
は、信号S0と信号S3との位相差が±tdの範囲内に
あるか否かを判断する。上記位相差が±td の範囲外で
あると判断した場合には、遅延量を大きく変える必要が
あると判断し、低精度ディレイライン40および低精度
ダミーディレイライン44の遅延量を1ステップ(可変
可能な最小遅延量で、第1のDLL回路10の精度を意
味する)変化させる。なお、低精度ディレイライン40
および低精度ダミーディレイライン44には同一の遅延
量が設定される。さらに、この場合、低精度位相比較回
路60はリセット信号Sr を第2のDLL回路20に出
力し、後述する高精度ディレイライン32および高精度
ダミーディレイライン34をリセットする。このリセッ
ト信号Srを受けると、高精度ディレイライン32およ
び高精度ダミーディレイライン34の遅延量は、可変可
能は範囲の遅延量の1/2に相当する遅延量に設定され
る。なお、低精度ディレイライン40の出力信号は、第
2のDLL回路20の高精度ディレイライン32に供給
される。
【0063】さらに、前述の図1の第1の遅延回路部4
内に設けられる遅延量設定調整手段14(図1参照)
は、高精度ディレイライン40内の遅延量設定調整部4
2、および低精度ダミーディレイライン44内のダミー
遅延量設定調整部46により実現される。これらの遅延
量設定調整部42およびダミー遅延量設定調整部46
は、抵抗およびコンデンサからなるCR遅延回路、また
は、所定の容量値(キャパシタンス)を有するMOSコ
ンデンサ等の容量負荷により構成される。第1のDLL
回路10内の低精度ディレイライン40を構成する複数
の遅延素子の各々は、代表的に、NANDゲートやイン
バータ等の論理ゲートを有する。上記のCR遅延回路ま
たは容量負荷を上記論理ゲートの出力側のノードに接続
することによって、低精度ディレイライン40の各々の
遅延素子の遅延量を、電源のノイズおよび外部クロック
信号のジッタにより発生する内部クロック信号のジッタ
の値(電源ジッタ)よりも大きく設定するようにしてい
る。
【0064】さらに、図4において、第2のDLL回路
20は、上記高精度ディレイライン32および高精度ダ
ミーディレイライン34の他に、高精度位相比較回路3
6および高精度遅延制御回路35を有する。この場合、
高精度ディレイライン32は、前述の低精度ディレイラ
イン40よりも高精度にて遅延量を制御することができ
る。同様に、高精度ダミーディレイライン34は、前述
の低精度ダミーディレイライン44よりも高精度にて遅
延量を制御することができる。高精度位相比較回路36
は、分周回路30が出力する信号S3と高精度ダミーデ
ィレイライン34が出力する信号S4との位相比較を行
って、高精度ディレイライン32および高精度ダミーデ
ィレイライン34に同一の遅延量を設定するように高精
度遅延制御回路35を制御する。
【0065】高精度ディレイライン32および高精度ダ
ミーディレイライン34の精度をtd ′とすると、高精
度位相比較回路36は位相差が0〜td ′の範囲内にあ
るか否かを判断する。上記位相差が0〜td ′の範囲外
にあると判断したときには、高精度ディレイライン32
および高精度ダミーディレイライン34の遅延量をtd
′だけ増加または減少させる。また一方で、高精度遅
延制御回路35は、低精度位相比較回路60からリセッ
ト信号Sr を受け取ると、高精度ディレイライン32お
よび高精度ダミーディレイライン34をリセットする。
このようなリセット動作により、高精度ディレイライン
32および高精度ダミーディレイライン34は基準遅延
量に設定される。
【0066】この場合、前述の図1の第2の遅延回路部
24は、高精度ディレイライン32および高精度ダミー
ディレイライン34により実現される。さらに、前述の
図1の第2の遅延制御回路部25は、高精度ダミーディ
レイライン34により実現され、前述の図1の第2の位
相比較回路部26は、高精度位相比較回路36により実
現される。
【0067】つぎに、図5を参照しながら、位相が一致
している場合の図4の実施例の動作の概要を説明する。
図5の(a)部に示す外部クロック信号EXCLKは入
力バッファ80の入力端子に与えられ、遅延量tinだけ
遅延して信号S1として分周回路30に与えられる(図
5の(b)部)。低精度位相比較回路60は、ダミー回
路70から信号S0を受け取る。この信号S0は、上記
信号S1が低精度ディレイライン40、高精度ディレイ
ライン32、出力バッファ90および入力バッファ80
にてそれぞれ遅延された合計の遅延量を有する(便宜
上、分周回路30による遅延を無視する)。したがっ
て、信号S0は、上記信号S1が低精度ダミーディレイ
ライン44、ダミー出力バッファ92、ダミー入力バッ
ファ82およびダミー回路70を通って出力されたもの
と考えられる。ここで、低精度ダミーディレイライン4
4の一段分の遅延量をRtd(低精度ディレイライン40
の一段分の遅延量trdに等しい)、ダミー出力バッファ
92、ダミー入力バッファ82およびダミー回路70の
それぞれの遅延量をtout 、tinおよびth とすると、
信号S0は図5の(c)部に示すようになる。この場
合、ダミー回路70の遅延量th は高精度ディレイライ
ン32(高精度ダミーディレイライン34も同じ)の最
大遅延量の1/2である。なお、図2の(c)部の信号
S0のハッチングを施した領域は、前述した±td の範
囲に相当する。
【0068】ここで、高精度位相比較回路36に入力さ
れる信号は、分周回路30からの信号S3と、高精度ダ
ミーディレイライン34が出力する信号S4である。信
号S4は、信号S1がダミー出力バッファ92、ダミー
入力バッファ82および高精度ダミーディレイライン3
4を通って得られた信号に相当する。高精度ダミーディ
レイライン34の一段分の遅延量はPtd(高精度ディレ
イライン32の一段分の遅延量trdに等しい)で、仮に
Ptd=th とすると、信号S4は信号S0と同一のタイ
ミングで立ち上がる。この状態において、低精度ディレ
イライン40の出力は図5の(d)部に示すように、信
号S1より遅延量Rtdだけ遅れており、さらに、高精度
ディレイライン32を通ることでさらに遅延量Ptdだけ
遅れるようになる。高精度ディレイライン32の出力
は、図5の(e)部に示すように、出力バッファ90の
遅延量tout (クロック信号線の遅延も含む)だけ遅れ
るので、最終的に得られる内部クロック信号INCLK
は外部クロック信号EXCLKに同期する。
【0069】図4に示す構成は、前述したように、第1
のDLL回路10の精度をtd とすると、第2のDLL
回路20は±td を含む範囲の遅延量を制御することが
でき、第1のDLL回路10の位相比較結果が±td の
範囲から外れた場合に第1のDLL回路10はリセット
信号Sr を第2のDLL回路20に出力し、第2のDL
L回路20の遅延量を所定の値に設定する。すなわち、
上記のような第1のDLL回路10による遅延量の可変
動作によって、第2のDLL回路20の遅延量設定の動
作がスムーズに行われることになる。なお、桁上がりま
たは桁下がりを行う場合も同じことがいえる。
【0070】上記のような動作を遂行する場合、高精度
ディレイライン32から独立して低精度ディレイライン
40を動作させ、この低精度ディレイライン40が動作
したときにリセット信号Sr (RESET TO CE
NTER)を用いて高精度ディレイライン32をセンタ
(中央部)にリセットすることにより、自動的に低精度
ディレイライン40の一段分の遅延量を高精度ディレイ
ライン32が計ることができる。それゆえに、温度や電
源電圧の変化によってそれぞれ低精度ディレイライン4
0と高精度ディレイライン32が変化する値が変わって
も、階層化されたDLL回路の遅延量設定の動作がスム
ーズに行われる。
【0071】特に、高精度ディレイライン32の位相調
整可能範囲を、低精度ディレイライン40の精度である
200psec以上に設定することで、温度や電源電圧の変
化による第1のDLL回路10と第2のDLL回路20
の遅延線の遅延量の変化の割合が異なっても、よりスム
ーズな遅延量設定の動作が行える。ただし、前述したよ
うに、電源のノイズや外部クロック信号のジッタ等によ
り発生する内部クロック信号のジッタを考慮に入れた場
合、スムーズな遅延量設定の動作(桁上がりまたは桁下
がりの動作も含む)を保証するために、低精度ディレイ
ライン40の一段分の遅延量を上記内部クロック信号の
ジッタよりも大きな値に設定する必要がある。
【0072】図6は、電源ジッタが±trdの範囲内にあ
ることを前提条件としてシミュレーションを行った結果
を示すジッタヒストグラムであり、図7は、電源ジッタ
が±trdの範囲に入らないことを前提条件としてシミュ
レーションを行った結果を示すジッタヒストグラムであ
る。図6は、電源ジッタが±trdの範囲内にあることを
想定した場合(前述の図31のケース)に階層化された
DLL回路にて発生するトータルジッタの強度分布をシ
ミュレーションにより算出した結果を示すものであり、
図7は、電源ジッタが±trdの範囲に入らないことを想
定した場合(前述の図32のケース)に階層化されたD
LL回路にて発生するトータルジッタの強度分布をシミ
ュレーションにより算出した結果を示すものである。こ
のようなシミュレーションを行った結果は、図3にて既
述したクロックアクセス時間tACを横軸とし、トータ
ルジッタ強度を縦軸とするジッタヒストグラムにより表
すこととする。ただし、ここでは、外部クロック信号E
XCLKの周期tCLKを6nsec(6×10-9sec )に
設定する。
【0073】図6に示すように、電源ジッタが±trdの
範囲内にある場合には、トータルジッタのばらつきが、
1つのピーク(例えば、tAC=170psec)の中心と
して、ラフ制御用のDLL回路(第1のDLL回路)内
の低精度ディレイラインの一段分の遅延量±trd(例え
ば、200psec)の範囲内に収まっている。この場合、
DLL回路のロックオン後はいつでもファイン制御用の
DLL回路(第2のDLL回路)の動作が安定に行われ
ることが予想される。
【0074】また一方で、図7に示すように、電源ジッ
タが±trdの範囲に入らない場合には、トータルジッタ
に2つのピークが存在し、これらのピーク間の間隔はt
rdとなる。ここでは、トータルジッタのばらつきが、ラ
フ制御用のDLL回路内の低精度ディレイラインの一段
分の遅延量±trdの範囲から外れている。この場合、D
LL回路のロックオン後でもある確率でもってラフ制御
用のDLL回路の動作が起こり得るので、スムーズな遅
延量設定の動作を保証することが難しくなる。
【0075】上記のシミュレーションの結果から明らか
なように、階層化されたDLL回路の安定動作を保証す
るためには、電源ジッタの値を±trdの範囲内に入れる
ことが必要である。逆にいえば、ラフ制御用のDLL回
路内の低精度ディレイラインの一段分の遅延量trdを電
源ジッタの値よりも大きく設定することが必要である。
【0076】前述したように、本発明の実施例に係る半
導体装置では、低精度ディレイラインの複数の遅延素子
を構成する論理ゲートの出力側のノードにCR遅延素子
や容量負荷を接続したり、上記論理ゲートのチャネル長
を長くしたりすることによって、上記低精度ディレイラ
インの一段分の遅延量を電源ジッタの値よりも大きく設
定することができるので、内部クロック信号のジッタに
影響されることなく階層化されたDLL回路を有する半
導体装置の安定動作を保証することが可能になる。
【0077】これまでは、本発明の実施例の基本構成お
よびその動作について説明した。つぎに、第1のDLL
回路10の詳細な構成について説明する。図8は、図4
の分周回路の一構成例を示す回路図であり、図9は、図
4の分周回路の各ノードの信号波形を示すタイミングチ
ャートである。図8に示すように、分周回路30は複数
のNANDゲートおよびインバータよりなる3段のカウ
ンタ301〜303を具備し、信号S1(入力バッファ
80を介した外部クロック信号)を分周して、信号S
2、S3を生成する。なお、図8において、参照符号A
は1段目のカウンタ301の出力信号、参照符号Bは2
段目のカウンタ302の出力信号であり、各信号波形は
図9に示す通りである。また、分周回路30は、複数の
NANDゲートおよびインバータよりなる3段のカウン
タで構成されるものに限定されず、様々な論理ゲートの
組み合わせとして構成できる。
【0078】図9に示すように、分周回路30はノード
N1における信号S1を8分周して、外部クロック信号
の1クロックサイクル分の期間が高電圧レベル、すなわ
ち“H(High)”レベル(高電圧レベル)で、7クロッ
クサイクル分が低電圧レベル、すなわち“L(Low )”
レベル(低電圧レベル)となる信号S2を生成する(ノ
ードN2)。また一方で、分周回路30は、この信号S
2に相補関係にある信号S3を生成する(ノードN
3)。すなわち、信号S3は、3段目のカウンタ303
からそのまま出力されるのに対し、信号S2は、3段目
のカウンタ303の出力信号をインバータ304により
反転してから出力される。図10は、図8の分周回路を
使用した半導体装置の動作を説明するためのタイミング
チャートである。ここでは、信号S0〜S3の位相関係
が示されている。。図示するように、低精度位相比較回
路60(図4参照)は、8周期(すなわち、8クロック
サイクル)に1回の割合で位相比較を行う。また、信号
S0は1周期遅れで信号S1に同期している。これによ
り、出力バッファ90における内部クロック信号は、1
クロックサイクル前の外部クロック信号に位相同期して
いる。
【0079】なお、分周回路30の信号S2の期間aを
変化させることで、何クロックサイクル前の外部クロッ
ク信号から内部クロック信号を生成するかを調整するこ
とができる。例えば、信号S2の期間aを3クロックサ
イクル分の長さとすることにより、3クロックサイクル
前の外部クロック信号に同期した内部クロック信号を生
成することができる。また、信号S2の期間bを変える
ことによって、何クロックサイクル毎に位相比較を行う
かを調整することができる。
【0080】入力バッファ80の遅延時間、低精度ディ
レイライン40の最小の遅延時間、高精度ディレイライ
ン32の最小の遅延時間、クロック配線の遅延時間、お
よび出力バッファ90の遅延時間の合計が外部クロック
信号の1クロック分の時間(すなわち、1クロックサイ
クル)よりも短い場合には、1クロックサイクル前の外
部クロック信号から位相同期した内部クロック信号を生
成することができる。これに対し、上記合計の遅延時間
が外部クロック信号の1クロックサイクルを超える場合
には、2以上のクロックサイクル前の外部クロック信号
に位相同期させる必要がある。この場合には期間aを2
以上のクロックサイクルに設定する。
【0081】図11は、図4の低精度ディレイラインの
概略的な一構成例を示す回路図であり、図12は、図4
の低精度ディレイラインのより具体的な構成と動作波形
を示す図である。図11に示すように、本発明の実施例
の低精度ディレイライン40(または、低精度ダミーデ
ィレイライン44)は、複数のNANDゲート40−1
〜40−nと、複数のインバータ40−1〜40−n+
1とを直列に接続して形成されるn段(nは2以上の任
意の正の整数)の遅延素子を含む。各々の遅延素子は、
1個のNANDゲートと1個のインバータを含む論理ゲ
ートから構成され、単位遅延量を決定する。上記遅延素
子はまた、本発明の特徴をなす遅延量設定調整部42を
構成するものである。さらに、複数のNANDゲート4
0−1〜NANDゲート40−nの入力側には、低精度
遅延制御回路50からの選択信号Ss を受け付ける複数
のNANDゲート41−1〜41−nが接続されてい
る。
【0082】本発明の実施例では、低精度ディレイライ
ン40内の各々の遅延素子を構成する論理ゲート内のN
ANDゲートおよびインバータの出力側のノードにCR
遅延素子や容量負荷を接続したり、上記のNANDゲー
トおよびインバータのチャネル長を長くしたりすること
によって、上記低精度ディレイラインの一段分の遅延量
を電源ジッタの値よりも大きく設定するようにしてい
る。
【0083】図12の(1)では、図11に示した低精
度ディレイライン40内の一段分の遅延素子を含む1ビ
ット分の遅延回路の構成が図示され、図12の(2)で
は、1ビット分の遅延回路の動作を説明するためのタイ
ミングチャートが図示され、図11の(3)では、1ビ
ット分の遅延回路を複数段接続したときの低精度ディレ
イラインのより具体的な回路構成が図示されている。
【0084】図12の(1)に示すように、1ビット分
の遅延回路は、2個のNANDゲート401、402、
およびインバータ403から構成される。この1ビット
分の遅延回路は、前述の図11の1個のNANDゲート
および1個のインバータからなる一段分の遅延素子と、
上記NANDゲートの入力側に接続される他のNAND
ゲートとを含む回路に対応するものである。上記の1ビ
ット分の遅延回路の動作を図12の(2)で説明する
と、1つの選択信号Ss に対応する入力信号φEは活性
化信号で、“H”レベル(ここでは、電源電圧Vccのレ
ベル)のときに遅延回路が動作する。図12の(2)で
は入力信号φEが“H”レベルになって信号の受付が可
能になった状態を示してある。信号INは1ビット分の
遅延回路への他の入力信号を示し、φNは複数段接続さ
れた隣接する右側からの信号を示し、OUTは1ビット
分の遅延回路の出力信号を示し、4a−1と4a−2は
図12の(1)の遅延回路における対応する内部端子の
動作波形を示している。したがって、OUTは左側への
信号φNになる。
【0085】信号φNが“L”レベルのときには、出力
信号OUTは常に“L”レベルである。信号φNが
“H”レベルで入力信号φEが“L”レベルのときには
出力信号OUTは“H”レベルである。信号φNが
“H”レベルで入力信号φEが“H”レベルのときに、
入力信号INが“L”レベルであれば出力信号OUTは
“H”レベルになり、入力信号INが“H”レベルであ
れば“L”レベルになる。図12の(2)は、φE=
“H”、φN=“H”の状態で、入力信号INが“L”
レベルから“H”レベルに立ち上がると、その入力信号
INがNANDゲート401,402およびインバータ
403で反転されながら、出力信号OUTとして出力側
に伝達されている様子を示している。
【0086】図12の(3)は、図12の(1)の1ビ
ット分の遅延回路を複数段カスケード接続(縦続接続)
した例で、実際のディレイラインからなる可変遅延回路
に相当する。図では3段しか示していないが、実際には
多数段に接続されている。他の入力信号(すなわち、活
性化信号)φEの信号線は回路要素毎に、φE−1、φ
E−2およびφE−3のように複数本あり、これらの活
性化信号は低精度遅延制御回路50によって制御され
る。
【0087】図では真ん中の1ビット分の遅延回路が活
性化されており、活性化信号φE−2が“H”レベルと
なっている。この場合、入力信号INが“L”レベルか
ら“H”レベルに変化すると、左端の1ビット分の遅延
回路と右端の1ビット分の遅延回路の活性化信号φE−
1およびφE−3は共に“L”レベルであるから、太線
にて示すように、入力信号INはNANDゲート401
−1および401−3で止められてしまう。また一方
で、一方、活性化されている真ん中の1ビット分の遅延
回路の活性化信号φE−2は“H”レベルであるから、
入力信号INはNANDゲート401−2を通過する。
右側の1ビット分の遅延回路の出力信号OUTは“H”
レベルであるから、入力信号INはNANDゲート40
2−2も通過して、出力側には“L”レベルの出力信号
OUTとして伝達されることになる。上記のように、活
性化信号φNが“L”レベルのときには、左側の出力信
号OUTは常に“L”レベルになるので、この“L”レ
ベルの信号は左側の1ビット分の遅延回路のNANDゲ
ートおよびインバータに順次伝達され、最終的な出力信
号OUTとして取り出される。
【0088】このように、活性化された1ビット分の遅
延回路を介して、入力信号INは折り返されるように伝
達され、最終的な出力信号OUTになる。つまり、どの
部分の活性化信号φEを“H”レベルにするかにより、
遅延量を制御することができる。1ビット分の遅延量
は、NANDゲートとインバータの合計の信号伝搬時間
で決定され、この時間がDLL回路の遅延量の単位時
間、すなわち単位遅延量になる。全体の遅延量に相当す
る遅延時間は、1ビット分の遅延量に、通過する遅延回
路の段数を乗じた量になる。
【0089】図13は、図11の一段分の遅延素子の遅
延量を予め定められた値よりも大きく設定するための第
1の具体的構成例を示す回路図である。ここでは、本発
明の特徴をなす遅延量設定調整部42(またはダミー遅
延量設定調整部46)として機能する一段分の遅延素子
が、1個のNANDゲートと1個のインバータを含む論
理ゲートから構成される場合について説明する。
【0090】図13において、一段分の遅延素子内のN
ANDゲートは、互いに直列に接続されるPチャネルト
ランジスタQ0およびNチャネルトランジスタQ1と、
このNチャネルトランジスタQ1のソースに接続される
NチャネルトランジスタQ2、Pチャネルトランジスタ
Q0およびNチャネルトランジスタQ1の出力側のノー
ド#1に接続されるPチャネルトランジスタQ3とを有
する。PチャネルトランジスタQ0、Q3のソースは第
1の電源(高電圧側電源)Vddに接続され、Nチャネル
トランジスタQ2のソースは第2の電源(低電圧側電
源)Vssに接続される。上記NANDゲートの一方の入
力信号IN11は、PチャネルトランジスタQ0および
NチャネルトランジスタQ1のゲートに同時に入力され
る。また一方で、上記NANDゲートの他方の入力信号
IN12は、NチャネルトランジスタQ2のゲートに入
力される。
【0091】さらに、図13において、一段分の遅延素
子内のインバータは、互いに直列に接続されるPチャネ
ルトランジスタQ4およびNチャネルトランジスタQ5
により構成され、上記NANDゲートの出力側のノード
#1に接続される。PチャネルトランジスタQ4のソー
スは第1の電源Vddに接続され、Nチャネルトランジス
タQ5のソースは第2の電源Vssに接続される。上記N
ANDゲートから出力された信号は、Pチャネルトラン
ジスタQ4およびNチャネルトランジスタQ5のゲート
に同時に供給され、PチャネルトランジスタQ4および
NチャネルトランジスタQ5の出力側のノード#2から
出力信号OUT11として出力される。
【0092】図13に示すような第1の具体的構成例に
おいては、適切な抵抗値および容量値をそれぞれ有する
抵抗41rおよびコンデンサ41cからなるCR遅延回
路をNANDゲートの出力側のノード#1に接続すると
共に、適切な抵抗値および容量値をそれぞれ有する抵抗
42rおよびコンデンサ42cからなる他のCR遅延回
路をインバータの出力側のノード#2に接続している。
このような構成では、CR遅延回路による信号遅延を利
用して一段分の遅延素子の遅延量を伸ばすことができる
ので、電源のノイズや外部クロック信号のジッタ等によ
り発生する内部クロック信号のジッタ(電源ジッタ)の
値よりも上記遅延素子の遅延量を大きく設定することが
可能になる。
【0093】図14は、図11の一段分の遅延素子の遅
延量を予め定められた値よりも大きく設定するための第
2の具体的構成例を示す回路図である。ここでも、遅延
量設定調整部42として機能する一段分の遅延素子が、
1個のNANDゲートと1個のインバータを含む論理ゲ
ートから構成される場合について説明する。図14にお
ける一段分の遅延素子内のNANDゲートおよびインバ
ータの構成は、前述の図13の場合と同じなので、ここ
では、上記のNANDゲートおよびインバータの詳細な
説明を省略する。
【0094】図14に示すような第2の具体的構成例に
おいては、適切な容量値を有するMOSコンデンサ等の
容量負荷41mcをNANDゲートの出力側のノード#
1に接続すると共に、適切な容量値を有するMOSコン
デンサ等の容量負荷42mcをインバータの出力側のノ
ード#2に接続している。このような構成では、容量負
荷による信号遅延を利用して一段分の遅延素子の遅延量
を伸ばすことができるので、前述の第1の具体的構成例
と同じように、電源のノイズや外部クロック信号のジッ
タ等により発生する内部クロック信号のジッタの値より
も上記遅延素子の遅延量を大きく設定することが可能に
なる。
【0095】図15は、図11の一段分の遅延素子の遅
延量を予め定められた値よりも大きく設定するための第
3の具体的構成例を示す回路図である。この場合も、遅
延量設定調整部42として機能する一段分の遅延素子
が、1個のNANDゲートと1個のインバータを含む論
理ゲートから構成される場合について説明する。ただ
し、図15に示す第3の具体的構成例においては、トラ
ンジスタのチャネル長を標準値よりも長くした状態のP
チャネルトランジスタおよびNチャネルトランジスタ
(すなわち、チャネル長の長いトランジスタ*Q0〜*
Q6)を用いてNANDゲートおよびインバータを構成
している。ここでは、説明を簡単にするために、チャネ
ル長の長いトランジスタ*Q0〜*Q6の各々を、単に
PチャネルトランジスタまたはNチャネルトランジスタ
と記載することとする。
【0096】さらに詳しく説明すると、図15におい
て、一段分の遅延素子内のNANDゲートは、互いに直
列に接続されるPチャネル型のトランジスタ*Q0およ
びNチャネルトランジスタ*Q1と、このNチャネルト
ランジスタ*Q1のソースに接続されるNチャネルトラ
ンジスタ*Q2、Pチャネルトランジスタ*Q0および
Nチャネルトランジスタ*Q1の出力側のノード#1に
接続されるPチャネルトランジスタ*Q3とを有する。
Pチャネルトランジスタ*Q0、*Q3のソースは第1
の電源Vddに接続され、Nチャネルトランジスタ*Q2
のソースは第2の電源Vssに接続される。上記NAND
ゲートの一方の入力信号IN11は、Pチャネルトラン
ジスタ*Q0およびNチャネルトランジスタ*Q1のゲ
ートに同時に入力される。また一方で、上記NANDゲ
ートの他方の入力信号IN12は、Nチャネルトランジ
スタ*Q2のゲートに入力される。
【0097】さらにまた、図15において、一段分の遅
延素子内のインバータは、互いに直列に接続されるPチ
ャネルトランジスタ*Q4およびNチャネルトランジス
タ*Q5により構成され、上記NANDゲートの出力側
のノード#1に接続される。Pチャネルトランジスタ*
Q4のソースは第1の電源Vddに接続され、Nチャネル
トランジスタ*Q5のソースは第2の電源Vssに接続さ
れる。上記NANDゲートから出力された信号は、Pチ
ャネルトランジスタ*Q4およびNチャネルトランジス
タ*Q5のゲートに同時に供給され、Pチャネルトラン
ジスタ*Q4およびNチャネルトランジスタ*Q5の出
力側のノード#2から出力信号OUT11として出力さ
れる。
【0098】図15に示すような第3の具体的構成例に
おいては、NANDゲートおよびインバータを構成する
トランジスタのチャネル長を長くすることによって一段
分の遅延素子の遅延量を伸ばすことができるので、前述
の第1および第2のの具体的構成例と同じように、電源
のノイズや外部クロック信号のジッタ等により発生する
内部クロック信号のジッタの値よりも上記遅延素子の遅
延量を大きく設定することが可能になる。あるいは、上
記トランジスタのチャネル幅を小さくすることによって
も、内部クロック信号のジッタの値よりも上記遅延素子
の遅延量を大きく設定することが可能である。
【0099】さらに、低精度ディレイライン40の遅延
素子の遅延量を電源ジッタの値よりも大きく設定するた
めの他の方策として、低精度ディレイライン内の全体の
遅延素子の段数を増やすことが考えられる。この場合、
選択可能な遅延素子の段数をも多くすることによって遅
延量を伸ばすことができるので、低精度ディレイライン
内の遅延素子の遅延量を電源ジッタの値よりも大きく設
定することが可能になる。
【0100】図16は図4の低精度遅延制御回路の一構
成例を示す図であり、図17は図16の低精度遅延制御
回路の動作を説明するためのタイミングチャートであ
る。図16に示すように、低精度遅延制御回路50も、
破線で囲った1ビット分の低精度遅延制御回路500−
2を、低精度ディレイライン内の遅延回路の段数分接続
した構成であり、各段の出力が低精度ディレイラインの
各段の活性化信号φE(例えば、φE−1〜φE−3)
になる。
【0101】1ビット分の低精度遅延制御回路500−
2は、NANDゲート502−2と、インバータ503
−2で構成されるフリップフロップの両端にそれぞれ直
列に接続されたトランジスタ505−2、508−2、
および507−2、509−2、そしてNORゲート5
01−2を有する。トランジスタ508−2のゲート
は、前段の端子4a−2に接続され、かつ、トランジス
タ509−2のゲートは、後段の端子4a−5に接続さ
れて、前段と後段の信号を受けるようになっている。ま
た一方で、直列に接続されている他方のトランジスタに
は、カウントアップするときのセット信号φSEとφS
O、カウントダウンするときのリセット信号φREとφ
ROが1回路おきに接続されている。図示のように、真
ん中の1ビット分の低精度遅延制御回路500−2で
は、トランジスタ505−2がセット信号φSOに接続
されると共に、トランジスタ507−2がリセット信号
φROに接続され、かつ、低精度遅延制御回路500−
2の両側の回路ではそれぞれ他のセット信号φSEとリ
セット信号φREに接続される。NORゲート501−
2には、左側のNANDゲート502─1の端子4a−
1と同回路の端子4a−2の信号が入力される構成にな
っている。なお、リセット信号φRは低精度遅延制御回
路をリセットする信号で、電源投入後に一時的に“L”
レベルになり、その後は“H”レベルに固定される。
【0102】図17のタイミングチャートにおいて、ま
ず、リセット信号がφRが一時的に“L”レベルにな
り、端子4a−1、4a−3および4a−5が“H”レ
ベルにリセットされ、端子4a−2,4a−4および4
a−6が“L”レベルにリセットされる。カウントアッ
プするときには、カウントアップ信号であるリセット信
号φSEとセット信号φSOが交互に“H”レベルと
“L”レベルを繰り返す。セット信号φSEが“L”レ
ベルから“H”レベルになると、端子4a−1は接地さ
れて“L”レベルに変化し、端子4a−2は“H”レベ
ルに変化する。端子4a−2が“H”レベルに変化した
のを受けて、活性化信号φE−1は“H”レベルから
“L”レベルに変化する。この状態はフリップフロップ
にラッチされるので、セット信号φSEが“L”レベル
に戻ったとしても、活性化信号φE−1は“L”レベル
のままである。
【0103】そして、端子4a−1が“L”レベルに変
化したことを受けて、活性化信号φE−2が“L”レベ
ルから“H”レベルに変化する。端子4a−2が“H”
レベルに変化したためにトランジスタ508─2がオン
状態(動作状態)になり、セット信号φSOが“L”レ
ベルから“H”レベルになると、端子4a−3は接地さ
れて“L”レベルに変化し、端子4a−4は“H”レベ
ルに変化する。端子4a−4が“H”レベルに変化した
のを受けて、活性化信号φE−2は“H”レベルから
“L”レベルに変化する。この状態はフリップフロップ
にラッチされるので、セット信号φSOが“L”レベル
に戻ったとしても、活性化信号φE−2は“L”レベル
のままである。
【0104】そして、端子4a−3が“L”レベルに変
化したことを受けて、活性化信号φE−3が“L”レベ
ルから“H”レベルに変化する。図17では、セット信
号φSEおよびφSOが1パルスずつ出ているだけであ
るが、低精度遅延制御回路が何段にも接続されており、
セット信号φSEおよびφSOが交互に“H”レベルと
“L”レベルとを繰り返せば、活性化信号φEが“H”
レベルになる段の位置が順次右側にシフトする。したが
って、低精度位相比較回路60(図4)の位相比較結果
により遅延量を増加させる必要がある場合には、交互に
セット信号φSEおよびφSOのパルスを入力すればよ
い。
【0105】もし、カウントアップするときのセット信
号φSEとφSO、および、カウントダウンするときの
リセット信号φREとφROが出力されない状態、すな
わち“L”レベルである状態が維持されるならば、出力
の活性化信号φEが“H”レベルになる段の位置は固定
される。したがって、低精度位相比較回路60の位相比
較結果により遅延量を維持する必要がある場合には、セ
ット信号φSEとφSO、および、リセット信号φRE
とφROのパルスを入力しないようにする。
【0106】カウントダウンするときには、リセット信
号φREとφROのパルスを交互に入力すると、カウン
トアップするときとは逆に活性化信号φEが“H”レベ
ルになる段の位置が順次左側にシフトする。以上説明し
たように、図16に示した低精度遅延制御回路では、パ
ルスを入力することにより、出力の活性化信号φEが
“H”レベルになる段の位置を1つずつ移動させること
が可能であり、これらの活性化信号φEで図12の
(3)に示す低精度ディレイラインを制御すれば、遅延
量が一単位ずつ増減するように制御することができる。
【0107】ここで、低精度ディレイラインおよび低精
度遅延制御回路について、さらに詳しく説明する。前述
の実施例では、低精度ディレイラインとして、図12の
(3)に示すような回路を使用し、図16に示すような
低精度遅延制御回路で制御している。遅延量を単位量ず
つ段階的に変化させることができる回路を実現するに
は、直列に接続された複数の信号経路を有し、この複数
の信号経路の一部から選択的に信号が出力されるように
することにより遅延量が選択可能なディレイラインを使
用するのが一般的である。このようなディレイラインで
は、遅延量を変化させるために隣接する信号経路から信
号が出力されるように変化させる過渡的状態であって
も、いずれの信号経路も選択されない状態は避ける必要
がある。このため、上記のようなディレイラインを制御
する低精度遅延制御回路は、過渡的状態であっても、い
ずれかの信号経路を選択する信号を常時出力する必要が
ある。
【0108】図16の低精度遅延制御回路では、各々の
段は2つの相補的な信号を出力する。すなわち、NAN
Dゲートの出力とインバータの出力は相補信号である。
そして、ある段までは一方の状態の相補信号を出力し、
その段以降の段は反転した相補信号を出力し、反転した
相補信号を最初に出力する段がシフトするようになって
いる。換言すれば、図16の低精度遅延制御回路は、シ
フトレジスタと同じ動作を行う。図16の低精度遅延制
御回路では、NORゲートでこのようなシフトレジスタ
の相補信号のうち、隣接する2段の異なる相補信号の否
定論理和を各段毎に算出して、その出力を図12の
(3)の各段の選択信号線に接続している。本発明の実
施例に使用されるPチャネルトランジスタおよびNチャ
ネルトランジスタ等のMOSトランジスタでは、一般に
“H”レベルの論理値から“L”レベルの論理値への立
ち下がりの方が、“L”レベルの論理値から“H”レベ
ルの論理値への立ち上がりより変化速度が早い。図16
の低精度遅延制御回路では、入力が共に“L”レベルの
論理値のNORゲートの出力が、ディレイラインの選択
位置を指示しており、このNORゲートの入力の一方が
“H”レベルの論理値に変化するのは遅く、次にディレ
イラインの選択位置を指示するNORゲートの“H”レ
ベルの入力は、より速い速度で“L”レベルに変化す
る。したがって、前に選択位置を指示していたNORゲ
ートの出力が選択位置の指示を停止する前に、次に選択
位置を指示するNORゲートの出力が選択位置を指示す
るようになるので、いずれのNORゲートも選択位置を
指示しない状態を回避することができる。
【0109】ついで、図18〜図24を参照しながら、
図4の低精度位相比較回路60の具体的な構成および動
作について説明する。低精度位相比較回路60は、位相
比較部と増幅回路部の2つの回路部分により構成され
る。より詳しくいえば、図18は、図4の低精度位相比
較回路の位相比較部の一構成例を示す回路図であり、図
19は、図18の低精度位相比較回路の位相比較部の動
作を説明するためのタイミングチャートであり、図20
は、図4の低精度位相比較回路の増幅回路部の一構成例
を示す回路図であり、図21は、図20の低精度位相比
較回路の増幅回路部の動作を説明するためのタイミング
チャートである。さらに、図22は、図20の低精度位
相比較回路の増幅部のカウントアップ動作を説明するた
めのタイミングチャートであり、図23は、同増幅部の
カウント維持動作を説明するためのタイミングチャート
であり、図24は、同増幅部のカウントダウン動作を説
明するためのタイミングチャートである。
【0110】図18においては、一般的な位相比較回路
の構成および動作を説明するために、低精度位相比較回
路60(図4)で比較すべき2つの信号を、出力信号φ
out(前述の内部クロック信号INCLKに対応する
信号S0に相当する)とクロック信号φext(前述の
外部クロック信号EXCLKに対応する信号S3に相当
する)により表すこととする。
【0111】ここでは、クロック信号φextを基準と
して出力信号φoutの位相が判定され、φa〜φeは
上記増幅回路部に接続される出力信号を示している。図
18に示すように、低精度位相比較回路内の位相比較部
は、各々が2個のNANDゲートにより構成されたフリ
ップフロップ回路601、603と、その状態をラッチ
するラッチ回路605、606と、これらのラッチ回路
の活性化信号を生成する回路604と、クロック信号φ
extの位相許容値を得る一単位の遅延量を有する遅延
回路(遅延素子ともよばれる)602と、出力信号φo
utを一単位の遅延量だけ遅延させる遅延回路(遅延素
子ともよばれる)612とを有している。
【0112】図19において、(1)は比較対象信号で
ある出力信号φoutが、比較基準となるクロック信号
φextよりも位相が進んでおり、出力信号φoutが
クロック信号φextよりも先に“L”レベルから
“H”レベルになる場合(カウントアップ時)を示して
いる。出力信号φoutおよびクロック信号φextが
共に“L”レベルのときには、フリップフロップ回路6
01、603の端子5a−2、5a−3、5a−4およ
び5a−5は共に“H”レベルになっている。出力信号
φoutが“L”レベルから“H”レベルに変化する
と、端子5a−2と5a−4は共に“H”レベルから
“L”レベルに変化する。その後、クロック信号φex
tが“L”レベルから“H”レベルになり、一単位の遅
延量の分だけ遅れて端子5a−1が“L”レベルから
“H”レベルになるが、フリップフロップの両端の電位
はすでに確定しているので、なにも変化は起こらない。
【0113】結局のところ、端子5a−2は“L”レベ
ル、5a−3は“H”レベル、5a−4は“L”レベ
ル、5a−5は“H”レベルを維持する。また一方で、
クロック信号φextが“L”レベルから“H”レベル
に変化したのに応じて、回路回路604の出力信号φa
は“L”レベルから“H”レベルに変化し、端子5a−
6には一時的に“H”レベルになるパルスが印加され
る。この端子5a−6の信号は、ラッチ回路605、6
06のNANDゲートに入力されるので、これらのNA
NDゲート回路が一時的に活性化されて、フリップフロ
ップ回路601、603の両端の電位状態をラッチ回路
605、606に取り込むことになる。最終的には、出
力信号φbが“H”レベル、出力信号φcが“L”レベ
ル、出力信号φdが“H”レベル、出力信号φeが
“L”レベルとなる。
【0114】つぎに、図19の(2)は、比較対象信号
である出力信号φoutと、比較基準となるクロック信
号φextとの位相がほぼ同じで、出力信号φoutが
クロック信号φextとほぼ同時に“L”レベルから
“H”レベルになる場合(カウント維持時)を示してい
る。すなわち、出力信号φoutの立ち上がり時点と端
子5a−1での立ち上がり時点との時間差内に出力信号
φoutが“L”レベルから“H”レベルに変化した場
合である。この場合、まず、クロック信号φextが
“L”レベルから“H”レベルになることによってフリ
ップフロップ回路601の端子5a−3が“L”レベル
から“H”レベルに変化するが、フリップフロップ回路
603では端子3a−1が“L”レベルのままなので、
逆に端子5a−4が“H”レベルから“L”レベルに変
化する。その後、端子5a−1が“H”レベルから
“L”レベルに変化するが、フリップフロップ回路60
3の状態は既に決まっているので何も変化は起こらな
い。その後に、端子5a−6が一時的に“H”レベルに
なるので、ラッチ回路にはこの状態が記憶される。結
局、出力信号φbが“L”レベル、出力信号φcが
“H”レベル、出力信号φdが“H”レベル、出力信号
φeが“L”レベルとなる。
【0115】さらに、図19の(3)は、比較対象信号
である出力信号φoutが、比較基準となるクロック信
号φextよりも位相が遅れており、出力信号φout
がクロック信号φextよりも後に“L”レベルから
“H”レベルになる場合(カウントダウン時)を示して
いる。この場合は、クロック信号φextによって2個
のフリップフロップ回路601と603に変化が生じ
て、端子5a−3および5a−5が“H”レベルから
“L”レベルに変化する。そして、最終的には、出力信
号φbが“L”レベル、出力信号φcが“H”レベル、
出力信号φdが“L”レベル、出力信号φeが“H”レ
ベルとなる。
【0116】このように、クロック信号φextの立ち
上がり時間を基準として、出力信号φoutの立ち上が
り時間がそれ以前に“H”レベルになったか、ほぼ同時
であったか、または遅れて“H”レベルになったかを検
出することが可能になる。これらの検出結果を出力信号
φb、φc、φd、およびφeの値としてラッチしてお
き、その値に基づいて低精度遅延制御回路をカウントア
ップするか、またはカウントダウンするかを決める。
【0117】図20に、低精度位相比較回路60(図
4)の増幅回路部の回路構成を示す。ここで、増幅回路
部は、JKフリップフロップ607と、NANDゲート
とインバータで構成される増幅部608の2つの部分か
らなる。JKフリップフロップ607には、図18の位
相比較部から出力信号φaが入力され、この出力信号φ
aが“L”レベルであるか“H”レベルであるかに応じ
て端子6a−9および6a−11の電位が交互に“L”
レベルと“H”レベルを繰り返す仕組みになっている。
増幅部608は、JKフリップフロップ607の出力信
号と、位相比較部からの出力信号φb〜φdを受けて増
幅した後に出力する。
【0118】さらに、図20の右下部には、出力信号φ
b、φdからリセット信号を生成するための1個のNA
NDゲートと2個のインバータからなる論理回路610
が図示されている。比較基準となるクロック信号φex
tに対して出力信号φoutが±td の範囲を超えてい
る場合には、リセット信号が“H”レベルにあり、±t
d の範囲内にある場合には、リセット信号が“L”レベ
ルにある。
【0119】まず、JKフリップフロップ607の動作
を、図21のタイミングチャートを参照して説明する。
時間T1で、出力信号φaが“H”レベルから“L”レ
ベルに変化すると、端子6a−1および6a−10が
“L”レベルから“H”レベルに変化する。また一方
で、端子6a−1の変化に応じて、端子6a−5、6a
−6および6a−7に状態の変化が起こるが、出力信号
φaが“L”レベルであるために、端子6a−8には変
化が生じない。結局のところ、端子6a−9の出力レベ
ルは変化せず、端子6a−11のみが“L”レベルから
“H”レベルになる。
【0120】つぎに、時間T2になって、出力信号φa
が“L”レベルから“H”レベルに変化すると、時間T
1での動きと逆に端子6a−8が“H”レベルから
“L”レベルに変化するが、端子6a−7が変化しない
ので端子6a−10は変化せず、出力6a−9は“L”
レベルから“H”レベルに変化し、端子6a−11は変
化しない。このようにして、時間T2以降においても、
JKフリップフロップ回路607は、出力信号φaの動
きに応じて端子6a−9および端子6a−11が交互に
“H”レベルと“L”レベルを繰り返す動きをする。
【0121】つぎに、増幅部608の動作を、図22〜
図24を参照して説明する。図22は、比較基準となる
クロック信号φextの立ち上がりに対して、比較対象
信号である出力信号φoutが先に“L”レベルから
“H”レベルになる場合を示している。この場合、位相
比較部から供給される出力信号φbが“H”レベル、出
力信号φcが“L”レベル、出力信号φdが“H”レベ
ル、出力信号φeが“L”レベルである。
【0122】結局のところ、端子6a−12が“H”レ
ベルに、端子6a−13が“L”レベルに固定され、セ
ット信号φSOおよびφSEがJKフリップフロップの
状態に応じて変化するが、リセット信号φROおよびφ
REは、端子6a−13が“L”レベルのため変化しな
い。図23は、比較対象信号である出力信号φout
が、比較基準となるクロック信号φextとほぼ同時に
“L”レベルから“H”レベルになる場合を示してい
る。この場合、位相比較部から供給される出力信号φb
が“L”レベル、出力信号φcが“H”レベル、出力信
号φdが“H”レベル、出力信号φeが“L”レベルで
ある。結局のところ、端子6a−12および6a−13
が“L”レベルに固定され、セット信号φSOおよびφ
SEが、JKフリップフロップの出力である増幅部に影
響することはなく、セット信号φSOおよびφSEと、
リセット信号φROおよびφREとは“L”レベルに固
定されたままになる。
【0123】図24は、比較対象信号である出力信号φ
outが、比較基準となるクロック信号φextの立ち
上がりに対して遅れて“L”レベルから“H”レベルに
なる場合を示している。この場合の位相比較部から供給
される出力信号φbが“L”レベル、出力信号φcが
“H”レベル、出力信号φdが“L”レベル、出力信号
φeが“H”レベルである。結局のところ、端子6a−
12が“L”レベルに、端子6a−13が“H”レベル
に固定され、リセット信号φROおよびφREがJKフ
リップフロップの状態に応じて変化するが、セット信号
φSOおよびφSEは端子6a−13が“L”レベルの
ため変化しない。
【0124】なお、これまでは、本発明のクロック位相
調整回路(特に、ラフ制御用の第1のクロック位相調整
回路)が、SDRAM等の高速メモリシステムに適用さ
れるDLL回路により構成される場合について述べてき
た。しかしながら、本発明はこのような特定の回路構成
に限定されるものではなく、一般的な半導体装置に適用
され得るものであることはいうまでもない。
【0125】図25は、高精度ディレイラインの一構成
例を示す回路図である。高精度ディレイライン32(ま
たは高精度ダミーディレイライン34)は各段ごとに、
図12の(3)に示すNANDゲート401−1,40
2−1およびインバータ403−1に加えてNANDゲ
ート704−1およびインバータ705−1を設け、一
段につき2つのディレイラインを形成している。ハッチ
ング部分の論理回路、すなわちNANDゲート704−
1およびインバータ705−1を付加することで、NA
NDゲート402−1とインバータ403−1で構成さ
れる単位遅延素子の単位遅延量(例えば200psec)を
下回る遅延量を制御可能とするものである。一段当り2
つ設けられた単位遅延素子の遅延量の差は、NANDゲ
ート402−1とインバータ403−1の遅延量とNA
NDゲート704−1とインバータ705−1の遅延量
の差であり、この差の値が高精度ディレイライン32の
精度となる。例えば、図示する場合、入力信号IN2は
2つのハッチング部分の単位遅延素子と3つの単位遅延
素子を通り出力信号OUT2が得られる。また、例えば
右隣りのNANDゲート401のみが開いた状態では、
入力信号IN2は3つのハッチング部分の単位遅延素子
と2つの単位遅延素子を通過する。上記2つの場合にお
ける出力信号の遅延量の差は、2つの単位遅延素子の遅
延量の差となる。例えば、NANDゲート402−1と
インバータ403−1からなる単位遅延素子が200ps
ecの遅延量を有し、NANDゲート704−1とインバ
ータ705−1からなる単位遅延素子が260psecの遅
延量を有する場合は、その差の60psecが高精度ディレ
イライン32の精度となる。よって、NANDゲート4
01(例えば、NANDゲート401−1)を制御する
ことで、60psec、120psec、180psec、および2
40psecの遅延量を設定することができる。なお、どの
ようなルートを通っても必ず1つのNANDゲート40
1を通過するので、この回路の遅延量は必ず含まれる。
換言すれば、遅延量の差に影響しない。
【0126】異なる遅延量を得るためには、種々の方法
が考えられる。例えば、異なる特性のNANDゲートと
インバータを用いる。例えば、異なる特性のトランジス
タを用いてNANDゲートとインバータを構成する。ま
た一方で、同一特性のトランジスタを用いるが、これら
のトランジスタに印加する電源電圧を異ならせる。さら
に、同一特性かつ同一電源電圧であってもファンアウト
の差で異なる遅延量が得られる。図25の同一論理素子
が全て同一特性とした場合において、インバータ705
−1のファンアウトは2であるが、インバータ403−
1のファンアウトは1である。このファンアウトの相違
により、図25の同一論理素子が全て同一特性とした場
合でも、60〜70psecの差が得られる。なお、高精度
ダミーディレイライン34も高精度ディレイライン32
と同一の構成を有する。
【0127】図26は、図4の高精度位相比較回路の位
相比較部の一構成例を示す回路図である。第2のDLL
回路20内の高精度位相比較回路36は、次の点を除
き、図18および図20に示した低精度位相比較回路6
0の構成と同じである。ここでは、高精度位相比較回路
36が低精度位相比較回路60と相違する部分を図26
に示す。図26では、特に、高精度位相比較回路14の
位相比較部を示すこととする。図26の構成では、遅延
回路(遅延素子ともよばれる)730が、フリップフロ
ップ回路721と722との間に設けられている。ま
た、NANDゲート731が遅延回路730と723と
の間に設けられ、遅延回路730のインバータの出力は
NANDゲート731を介して遅延回路(遅延素子とも
よばれる)723のNANDゲートに入力されている。
【0128】遅延回路723、730は、高精度ディレ
イライン32の単位遅延素子と同じ構成を有する。図示
する構成では、遅延回路723、730はNANDゲー
トとインバータからなる。なお、遅延回路723のイン
バータのファンアウトは1なのに対し、遅延回路730
のインバータのファンアウトは2である。このような遅
延回路723、730をフリップフロップ回路721と
722との間に設けることで、信号S0(出力信号φo
ut)と信号S3(クロック信号φext)とが0〜t
d ′の範囲内にあるかどうかを判断することができる。
なお、位相増幅回路部等を含む他の構成は、図18およ
び図20に示す構成と同じなので、その詳細な説明を省
略する。
【0129】図27は、図26の高精度位相比較回路の
位相比較部の動作を説明するためのタイミングチャート
である。図27の(a)はカウントアップ時の動作を示
すものであり、出力信号φoutが“L”レベルから
“H”レベルに立ち上がると、端子7a−2は“L”レ
ベルに変化する。また、端子7a−0は遅延回路430
の作用により、出力信号φoutの変化時からtd +t
d ′だけ遅れて“H”レベルに変化する。その後、クロ
ック信号φextが“H”レベルに変化し、端子7a−
1は遅延回路723の作用により、上記変化時からtd
だけ遅れて“H”レベルに変化する。なお、端子7a−
3および端子7a−5は“H”レベルのままで変化しな
い。よって、端子7a−6の電位変化に応答して、φb
=“H”、φc=“L”、φd=“H”、およびφe=
“L”となる。
【0130】図27の(b)はカウント維持時の動作を
示す。図示するように、出力信号φoutとクロック信
号φextが0〜td′の範囲内にあるときは、φb=
“L”、φc=“H”、φd=“H”、およびφe=
“L”となる。また一方で、図27の(c)はカウント
ダウン時の動作を示す。図示するように、φb=
“L”、φc=“H”、φd=“L”、およびφe=
“H”となる。
【0131】図28は、図4の高精度遅延制御回路の一
構成例を示す回路図である。図28中の破線の左側部分
は、図16に示した低精度遅延制御回路の構成と実質的
に同一である。破線の右側部分は、左側部分と多少異な
る。これは、リセット信号を低精度位相比較回路60か
ら受けたときに、高精度ディレイライン32および高精
度ダミーディレイライン34を中央部にリセットするた
めに、対応するNORゲートのみ“H”レベルの信号を
出力するようにするためである。破線の左側に隣接する
NANDゲート832−3の出力信号は前段のNORゲ
ート831−2に入力されており、インバータ833−
3の出力信号はNORゲート831−3に入力されてい
る。破線の右側に隣接するNANDゲート832−4の
出力信号はNORゲート831−4に入力されており、
インバータ833−4の出力信号はNORゲート831
−3に入力されている。リセット信号(RECET T
OCENTER)がアクティブ(“H”レベル)になる
と、各端子のレベルは図28に示すようになり、高精度
ディレイライン32および高精度ダミーディレイライン
34の中央部に対応するNORゲート831−3のみ
“H”レベルの信号を出力し、その他のNORゲートは
全て“L”レベルの信号を出力する。なお、シフト動作
は図16および図17を参照して説明したシフト動作と
同様である。
【0132】図29は、図4の高精度ディレイライン3
2の他の構成例を示す回路図である。図示する構成は2
段構成であり、各々の段に遅延素子としてコンデンサC
71、C72を設けている。コンデンサC71、C72
は、トランジスタQ71、Q72を介して選択的にディ
レイラインに接続される。トランジスタQ71、Q72
の制御は、高精度遅延制御回路35にて行われる。例え
ば、25fF(25×10-15 ファラッド)の容量値を
有するコンデンサは、50psecの遅延量を生成し、50
fF(50×10-15 ファラッド)の容量値を有するコ
ンデンサは、100psの遅延量を生成する。よって、こ
のようなコンデンサを用いることで、低精度ディレイラ
イン40よりも高精度な高精度ディレイライン32を実
現することができる。
【0133】なお、その他の高精度ディレイラインの構
成として、複数の抵抗を直列に接続し、各抵抗の両端を
ショートするスイッチを設け、入出力間で直列に接続さ
れる抵抗の数を変化させることで、遅延量を可変する構
成も可能である。さらに、このような抵抗と上記コンデ
ンサとを組み合わせた遅延回路であってもよい。なお、
最終的な遅延量は、図29に示すインバータINV71
およびインバータINV72の遅延量も含む。
【0134】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体装
置によれば、第1番目に、大まかな遅延量制御用の第1
のクロック位相調整回路、および、高精度の遅延量制御
用の第2のクロック位相調整回路による位相比較を互い
に独立に行い、かつ、第2のクロック位相調整回路の位
相制御を第1のクロック位相調整回路の動作に従属させ
るような構成において、第1のクロック位相調整回路内
の複数の遅延素子の各々により生成される遅延量を予め
定められた値よりも大きく設定するようにしているの
で、階層構造のDLL回路等のロックオン後の動作を安
定に行うことが可能になる。
【0135】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
2番目に、第1のクロック位相調整回路内の複数の遅延
素子の各々により生成される遅延量を、電源のノイズや
外部クロック信号のジッタにより発生する電源ジッタの
値よりも大きく設定するようにしているので、このよう
な電源ジッタに影響されることなく階層構造のDLL回
路等のロックオン後の安定動作を保証することが可能に
なる。
【0136】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
3番目に、第1のクロック位相調整回路内の複数の遅延
素子を構成する論理ゲートの出力側のノードに、抵抗お
よびコンデンサからなるCR遅延回路を接続することに
よって、上記複数の遅延素子の各々の遅延量を予め定め
られた値よりも大きくしているので、簡単な回路構成に
て階層構造のDLL回路等のロックオン後の動作を安定
に行うことが可能になる。
【0137】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
4番目に、第1のクロック位相調整回路内の複数の遅延
素子を構成する論理ゲートの出力側のノードに容量負荷
を接続することによって、上記複数の遅延素子の各々の
遅延量を予め定められた値よりも大きくしているので、
簡単な回路構成にて階層構造のDLL回路等のロックオ
ン後の動作を安定に行うことが可能になる。
【0138】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
5番目に、第1のクロック位相調整回路内の複数の遅延
素子を構成する論理ゲートのチャネル長を長くすること
によって、上記複数の遅延素子の各々の遅延量を予め定
められた値よりも大きくしているので、余計な回路素子
を付加することなく階層構造のDLL回路等のロックオ
ン後の動作を安定に行うことが可能になる。
【0139】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
6番目に、第1のクロック位相調整回路内の複数の遅延
素子の段数を増やすことによって、上記複数の遅延素子
の各々の遅延量を予め定められた値よりも大きくしてい
るので、回路構成を複雑にすることなく階層構造のDL
L回路等のロックオン後の動作を安定に行うことが可能
になる。
【0140】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
7番目に、第2のクロック位相調整回路は、第1のクロ
ック位相調整回路が遅延量を制御しているときは第1の
クロック位相調整回路からリセット信号を受けてリセッ
トされ、外部クロック信号と内部クロック信号との位相
が合っているときに遅延量を制御するようにしているの
で、上記リセット信号を利用して階層構造のDLL回路
等のロックオン後の動作を安定に行うことが可能にな
る。
【0141】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
8番目に、第2のクロック位相調整回路がリセットされ
ているときの遅延量と同一の遅延量を有するダミー回路
部を設け、このダミー回路部によって第2のクロック位
相調整回路内の信号遅延を相殺しているので、階層構造
のDLL回路等による遅延量制御を比較的高精度にて行
うことが可能になる。
【0142】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
9番目に、第2のクロック位相調整回路が所定の範囲の
遅延量を制御する場合、第1のクロック位相調整回路に
よる位相比較結果が上記の範囲から外れたときに第1の
クロック位相調整回路はリセット信号を第2のクロック
位相調整回路2に供給するようにしているので、階層構
造のDLL回路等の桁上がりまたは桁下がりの動作をス
ムーズに行うことが可能になる。
【0143】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
10番目に、第2のクロック位相調整回路内の複数の遅
延素子により設定される値は、これらの複数の遅延素子
からなるディレイラインが制御可能な遅延量の範囲の中
心になるようにしているので、階層構造のDLL回路等
のロックオン後に高精度の遅延量制御用のDLL回路の
安定動作が保証される。
【0144】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
11番目に、第2のクロック位相調整回路が、互いに遅
延量が異なる第1の遅延素子および第2の遅延素子との
差を第2のクロック位相調整回路の精度としているの
で、簡単な回路構成にて比較的高精度の遅延量制御用の
DLL回路を実現することが可能になる。さらに、本発
明の半導体装置によれば、第12番目に、大まかな遅延
量制御用の第1のクロック位相調整回路にて外部クロッ
ク信号と内部クロック信号との位相比較を行うと共に、
高精度の第1のクロック位相調整回路にても外部クロッ
ク信号と内部クロック信号との位相比較を行っているの
で、これらの2種の位相比較により比較的高精度の遅延
量制御用のDLL回路を実現することが可能になる。
【0145】さらに、本発明の半導体装置によれば、第
13番目に、第1のクロック位相調整回路が、2つのフ
リップフロップの組み合わせにより外部クロック信号と
内部クロック信号との位相比較を行っているので、簡単
な回路構成にて外部クロック信号の遅延量制御を安定に
行うことが可能になる。さらに、好ましくは、本発明の
半導体装置によれば、第14番目に、第1のクロック位
相調整回路内の位相比較用の2つのフリップフロップの
各々が、2つのNANDゲートを有しており、このNA
NDゲートの非反転出力および反転出力を利用して位相
比較結果を出力しているので、簡単な回路構成にて外部
クロック信号と内部クロック信号との位相差を正確に検
出することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理構成を示すブロック図である。
【図2】本発明の半導体装置が適用されるシンクロナス
DRAMの概略的構成を示すブロック図である。
【図3】図2のシンクロナスDRAMの動作を説明する
ためのタイミングチャートである。
【図4】本発明の一実施例の構成を示す回路ブロック図
である。
【図5】図4の実施例の概略的な動作を説明するための
タイミングチャートである。
【図6】電源ジッタが±trdの範囲内にあることを前提
条件としてシミュレーションを行った結果を示すジッタ
ヒストグラムである。
【図7】電源ジッタが±trdの範囲に入らないことを前
提条件としてシミュレーションを行った結果を示すジッ
タヒストグラムである。
【図8】図4の分周回路の一構成例を示す回路図であ
る。
【図9】図4の分周回路の各ノードの信号波形を示すタ
イミングチャートである。
【図10】図8の分周回路を使用した半導体装置の動作
を説明するためのタイミングチャートである。
【図11】図4の低精度ディレイラインの概略的な一構
成例を示す回路図である。
【図12】図4の低精度ディレイラインのより具体的な
構成と動作波形を示す図である。
【図13】図11の一段分の遅延素子の遅延量を予め定
められた値よりも大きく設定するための第1の具体的構
成例を示す回路図である。
【図14】図11の一段分の遅延素子の遅延量を予め定
められた値よりも大きく設定するための第2の具体的構
成例を示す回路図である。
【図15】図11の一段分の遅延素子の遅延量を予め定
められた値よりも大きく設定するための第3の具体的構
成例を示す回路図である。
【図16】図4の低精度遅延制御回路の一構成例を示す
回路図である。
【図17】図16の低精度遅延制御回路の動作を説明す
るためのタイミングチャートである。
【図18】図4の低精度位相比較回路(位相比較部)の
一構成例を示す回路図である。
【図19】図18の低精度位相比較回路(位相比較部)
の動作を説明するためのタイミングチャートである。
【図20】図4の低精度位相比較回路(増幅回路部)の
一構成例を示す回路図である。
【図21】図20の低精度位相比較回路(JKフリップ
フロップ)の動作を説明するためのタイミングチャート
である。
【図22】図20の低精度位相比較回路(増幅部)のカ
ウントアップ動作を説明するためのタイミングチャート
である。
【図23】図20の低精度位相比較回路(増幅部)のカ
ウント維持動作を説明するためのタイミングチャートで
ある。
【図24】図20の低精度位相比較回路(増幅部)のカ
ウントダウン動作を説明するためのタイミングチャート
である。
【図25】図4の高精度ディレイラインの一構成例を示
す回路図である。
【図26】図4の高精度位相比較回路(位相比較部)の
一構成例を示す回路図である。
【図27】図26の高精度位相比較回路(位相比較部)
の動作を説明するためのタイミングチャートである。
【図28】図4の高精度遅延制御回路の一構成例を示す
回路図である。
【図29】図4の高精度ディレイラインの他の構成例を
示す回路図である。
【図30】一般のクロック位相調整回路を有する半導体
装置の構成を示す回路ブロック図である。
【図31】電源ジッタが±trdの範囲内にある場合に従
来の手法によりクロック位相調整を行う様子を示す図で
ある。
【図32】電源ジッタが±trdの範囲に入らない場合に
従来の手法によりクロック位相調整を行う様子を示す図
である。
【符号の説明】
1…第1のクロック位相調整回路 2…第2のクロック位相調整回路 3…分周回路部 4…第1の遅延回路部 5…第1の遅延制御回路部 6…第1の位相比較回路部 7…ダミー回路部 8…クロック入力回路 9…データ出力回路 10…第1のDLL回路 14…遅延量設定調整手段 18…ダミー入力回路 19…ダミー出力回路 20…第2のDLL回路 24…第2の遅延回路部 25…第2の遅延制御回路部 26…第2の位相比較回路部 30…分周回路 32…高精度ディレイライン 34…高精度ダミーディレイライン 35…高精度遅延制御回路 36…高精度位相比較回路 40…低精度ディレイライン 41c、42c…コンデンサ 41r、42r…抵抗 41mc、42mc…容量負荷 42…遅延量設定調整部 44…低精度ダミーディレイライン 46…ダミー遅延量設定調整部 50…低精度遅延制御回路 60…低精度位相比較回路 70…ダミー回路 80…入力バッファ 82…ダミー入力バッファ 90…出力バッファ 92…ダミー出力バッファ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 瀧田 雅人 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 中村 俊和 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 北本 綾子 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 川畑 邦範 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 加納 英樹 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 長谷川 正智 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 古賀 徹 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 石井 祐樹 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外部から供給される外部クロック信号の
    位相を調整して該外部クロック信号に対し所定の位相だ
    け遅延させた内部クロック信号を生成するための第1の
    クロック位相調整回路と、 該第1のクロック位相調整回路よりも高い精度にて該内
    部クロック信号の位相を制御する第2のクロック位相調
    整回路とを備え、 前記第1のクロック位相調整回路および前記第2のクロ
    ック位相調整回路における前記外部クロック信号と前記
    内部クロック信号との位相比較を互いに独立に行い、か
    つ、前記第2のクロック位相調整回路の前記内部クロッ
    ク信号の位相制御を前記第1のクロック位相調整回路の
    動作に従属させることによって、前記外部クロック信号
    に対し所定の位相関係を有する前記内部クロック信号を
    出力するように前記第1および第2のクロック位相調整
    回路内の複数の遅延素子による遅延量を付与し、 前記第1のクロック位相調整回路内の複数の遅延素子の
    各々により生成される遅延量を、予め定められた値より
    も大きく設定するように構成されることを特徴とする半
    導体装置。
  2. 【請求項2】 前記第1のクロック位相調整回路が、該
    第1のクロック位相調整回路内の前記複数の遅延素子の
    各々により生成される遅延量を、電源のノイズおよび前
    記外部クロック信号のジッタの少なくとも一方により発
    生する前記内部クロック信号のジッタの値よりも大きく
    設定する遅延量設定調整手段を有する請求項1記載の半
    導体装置。
  3. 【請求項3】 前記第1のクロック位相調整回路内の複
    数の遅延素子の各々が少なくとも1つの論理ゲートを含
    み、抵抗およびコンデンサからなるCR遅延回路を該論
    理ゲートの出力側のノードに接続することによって、前
    記複数の遅延素子の各々により生成される遅延量を、予
    め定められた値よりも大きくするように調整する請求項
    1記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記第1のクロック位相調整回路内の複
    数の遅延素子の各々が少なくとも1つの論理ゲートを含
    み、所定の容量値を有する容量負荷を該論理ゲートの出
    力側のノードに接続することによって、前記複数の遅延
    素子の各々により生成される遅延量を、予め定められた
    値よりも大きくするように調整する請求項1記載の半導
    体装置。
  5. 【請求項5】 前記第1のクロック位相調整回路内の複
    数の遅延素子の各々が少なくとも1つの論理ゲートを含
    み、該論理ゲートのチャネル長を長くすることによっ
    て、前記複数の遅延素子の各々により生成される遅延量
    を、予め定められた値よりも大きくなるように調整する
    請求項1記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記第1のクロック位相調整回路内の複
    数の遅延素子の段数を増やすことによって、前記複数の
    遅延素子の各々により生成される遅延量を、予め定めら
    れた値よりも大きくなるように調整する請求項1記載の
    半導体装置。
  7. 【請求項7】 前記第1のクロック位相調整回路内の複
    数の遅延素子の各々が少なくとも1つの論理ゲートを含
    み、前記第1のクロック位相調整回路内の前記遅延量設
    定調整手段が、抵抗およびコンデンサからなるCR遅延
    回路を有しており、該CR遅延回路を該論理ゲートの出
    力側のノードに接続することによって、前記複数の遅延
    素子の各々により生成される遅延量を、前記内部クロッ
    ク信号のジッタの値よりも大きくなるように調整する請
    求項2記載の半導体装置。
  8. 【請求項8】 前記第1のクロック位相調整回路内の複
    数の遅延素子の各々が少なくとも1つの論理ゲートを含
    み、前記第1のクロック位相調整回路内の前記遅延量設
    定調整手段が、所定の容量値を有する容量負荷を有して
    おり、該容量負荷を該論理ゲートの出力側のノードに接
    続することによって、前記複数の遅延素子の各々により
    生成される遅延量を、前記内部クロック信号のジッタの
    値よりも大きくなるように調整する請求項2記載の半導
    体装置。
  9. 【請求項9】 前記第2のクロック位相調整回路は、前
    記第1のクロック位相調整回路が前記遅延量を制御して
    いるときは前記第1のクロック位相調整回路からリセッ
    ト信号を受けてリセットされており、第1のクロック位
    相調整回路における位相比較の対象とする前記外部クロ
    ック信号と前記内部クロック信号との位相が合っている
    ときは、前記第2のクロック位相調整回路は前記遅延量
    を制御することが可能な状態にある請求項1から6のい
    ずれか一項に記載の半導体装置。
  10. 【請求項10】 前記第1および第2のクロック位相調
    整回路はそれぞれ、前記外部クロック信号が通る第1の
    経路と、該第1の経路と位相比較を行うための第2の経
    路とを有しており、該第2の経路は、前記第2のクロッ
    ク位相調整回路がリセットされているときの遅延量と同
    一の遅延量を有するダミー回路部を含む請求項9記載の
    半導体装置。
  11. 【請求項11】 前記第1のクロック位相調整回路内の
    前記複数の遅延素子の各々の遅延量により決定される精
    度をtd とすると、前記第2のクロック位相調整回路は
    ±td を含む範囲の遅延量を制御することが可能であ
    り、前記第1のクロック位相調整回路による位相比較結
    果が±td の範囲から外れた場合に前記第1のクロック
    位相調整回路はリセット信号を前記第2のクロック位相
    調整回路に供給し、前記第2のクロック位相調整回路の
    遅延量を所定の値に設定する請求項1から6のいずれか
    一項に記載の半導体装置。
  12. 【請求項12】 前記第1および第2のクロック位相調
    整回路はそれぞれ、前記外部クロック信号が通る第1の
    経路と、該第1の経路と位相比較を行うための第2の経
    路とを有しており、該第2の経路は、前記第2のクロッ
    ク位相調整回路がリセットされているときの遅延量と同
    一の遅延量を有するダミー回路を含む請求項11記載の
    半導体装置。
  13. 【請求項13】 前記第2のクロック位相調整回路が、
    前記複数の遅延素子からなるディレイラインを有し、前
    記第2のクロック位相調整回路内の前記複数の遅延素子
    により設定される所定の値は、前記ディレイラインが制
    御可能な遅延量の範囲の中心である請求項11記載の半
    導体装置。
  14. 【請求項14】 前記第2のクロック位相調整回路が、
    互いに遅延量が異なる第1の遅延素子および第2の遅延
    素子を有しており、該第2の遅延素子は該第1の遅延素
    子よりも遅延量が多く、該第1の遅延素子と該第2の遅
    延量との差を前記第2のクロック位相調整回路の精度と
    する請求項1から6のいずれか一項に記載の半導体装
    置。
  15. 【請求項15】 前記第1のクロック位相調整回路が、
    前記外部クロック信号から得られる第1のクロック信号
    を第3の遅延素子にて遅延させた信号と前記内部クロッ
    ク信号から得られる第2のクロック信号との位相比較を
    行い、さらに、前記第1のクロック信号と前記第2のク
    ロック信号を第4の遅延素子にて遅延させた信号との位
    相比較を行うことによって、前記外部クロック信号と前
    記内部クロック信号との位相比較結果を出力する請求項
    1から6のいずれか一項に記載の半導体装置。
  16. 【請求項16】 前記第1のクロック位相調整回路が、
    第1のフリップフロップおよび第2のフリップフロップ
    を有しており、前記第1のフリップフロップは、前記第
    1のクロック信号を前記第3の遅延素子にて遅延させた
    信号と前記第2のクロック信号とを、それぞれセット端
    子およびリセット端子に入力し、前記第2のフリップフ
    ロップは、前記第2のクロック信号を前記第4の遅延素
    子にて遅延させた信号と前記第1のクロック信号とを、
    それぞれセット端子およびリセット端子に入力し、前記
    第1のフリップフロップおよび前記第2のフリップフロ
    ップの組み合わせにより前記外部クロック信号と前記内
    部クロック信号との位相比較結果を出力する請求項15
    記載の半導体装置。
  17. 【請求項17】 前記第1および第2のフリップフロッ
    プはそれぞれ、第1のNANDゲートおよび第2のNA
    NDゲートを有しており、前記第1のNANDゲートの
    第1の入力がセット端子であって、前記第1のNAND
    ゲートの第2の入力が前記第2のNANDゲートの出力
    に接続されて非反転出力となり、前記第2のNANDゲ
    ートの第1の入力がリセット端子であって、前記第2の
    NANDゲートの第2の入力が前記第1のNANDゲー
    トの出力に接続されて反転出力となる請求項15記載の
    半導体装置。
  18. 【請求項18】 前記第1および第2のフリップフロッ
    プはそれぞれ、第1のNANDゲートおよび第2のNA
    NDゲートを有しており、前記第1のNANDゲートの
    第2の入力がセット端子であって、前記第1のNAND
    ゲートの第1の入力が前記第2のNANDゲートの出力
    に接続されて非反転出力となり、前記第2のNANDゲ
    ートの第2の入力がリセット端子であって、前記第2の
    NANDゲートの第1の入力が前記第1のNANDゲー
    トの出力に接続されて反転出力となる請求項15記載の
    半導体装置。
  19. 【請求項19】 前記第2のクロック位相調整回路が、
    第3のフリップフロップおよび第4のフリップフロップ
    を有しており、前記第3のフリップフロップと前記第4
    のフリップフロップとの間に第5の遅延素子および第6
    の遅延素子が設けられ、前記第3のフリップフロップ
    は、前記外部クロック信号から得られる第1のクロック
    信号と前記内部クロック信号から得られる第2のクロッ
    ク信号とを、それぞれセット端子およびリセット端子に
    入力し、前記第4のフリップフロップは、前記第2のク
    ロック信号を前記第6の遅延素子にて遅延させた信号と
    前記第1のクロック信号を前記第5の遅延素子にて遅延
    させた信号とを、それぞれセット端子およびリセット端
    子に入力し、前記第3のフリップフロップおよび前記第
    4のフリップフロップの組み合わせにより前記外部クロ
    ック信号と前記内部クロック信号との位相比較結果を出
    力する請求項1から6のいずれか一項に記載の半導体装
    置。
  20. 【請求項20】 前記第5の遅延素子が、第3のNAN
    Dゲートと第1のインバータにより構成されると共に、
    前記第6の遅延素子が、第4のNANDゲートと第2の
    インバータにより構成され、前記第5の遅延素子と前記
    第6の遅延素子との間に第5のNANDゲートが設けら
    れ、前記第6の遅延素子内の前記第2のインバータの出
    力が、前記第5のNANDゲートを介して、前記第5の
    遅延素子内の前記第3のNANDゲートの入力に接続さ
    れる請求項19記載の半導体装置。
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