JPH11305030A - 赤色フィルタ―膜の形成方法 - Google Patents
赤色フィルタ―膜の形成方法Info
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- JPH11305030A JPH11305030A JP1021799A JP1021799A JPH11305030A JP H11305030 A JPH11305030 A JP H11305030A JP 1021799 A JP1021799 A JP 1021799A JP 1021799 A JP1021799 A JP 1021799A JP H11305030 A JPH11305030 A JP H11305030A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 環境汚染の問題を軽減し、工程を単純化しう
る赤色フィルター膜の形成方法を提供すること。 【解決手段】 下記化学式１で示される化合物を含有す
るネガ型フォトレジストをブラックマトリックスパター
ンの形成されているパネルに塗布してフォトレジスト層
を形成した後、所定領域を露光する段階と、前記露光さ
れたフォトレジスト層上に赤色顔料組成物を塗布及び乾
燥した後、現像する段階とを含むことを特徴とする赤色
フィルター膜の形成方法。 【化１】 但し、前記化学式１においてｌ：ｍ：ｎは１．０−４．
５：７０．０−９８．０：１．０−２０．０である。
る赤色フィルター膜の形成方法を提供すること。 【解決手段】 下記化学式１で示される化合物を含有す
るネガ型フォトレジストをブラックマトリックスパター
ンの形成されているパネルに塗布してフォトレジスト層
を形成した後、所定領域を露光する段階と、前記露光さ
れたフォトレジスト層上に赤色顔料組成物を塗布及び乾
燥した後、現像する段階とを含むことを特徴とする赤色
フィルター膜の形成方法。 【化１】 但し、前記化学式１においてｌ：ｍ：ｎは１．０−４．
５：７０．０−９８．０：１．０−２０．０である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は赤色フィルター膜の
形成方法に係り、特にエッチング溶液の使用による環境
汚染を大幅に減らしながらも簡単な工程で赤色フィルタ
ー膜を形成しうる方法に関する。
形成方法に係り、特にエッチング溶液の使用による環境
汚染を大幅に減らしながらも簡単な工程で赤色フィルタ
ー膜を形成しうる方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、カラー陰極線管スクリーンには
緑色、青色及び赤色発光蛍光体パターンがドットまたは
ストライプ状に規則的に配列されている。各蛍光体パタ
ーンの間にはスクリーンのコントラスト、色純度などを
向上させるためにブラックマトリックスが形成されてい
る。電子銃からこのようなスクリーン上に電子が照射さ
れると、蛍光体が発光して要求される画像が実現され
る。
緑色、青色及び赤色発光蛍光体パターンがドットまたは
ストライプ状に規則的に配列されている。各蛍光体パタ
ーンの間にはスクリーンのコントラスト、色純度などを
向上させるためにブラックマトリックスが形成されてい
る。電子銃からこのようなスクリーン上に電子が照射さ
れると、蛍光体が発光して要求される画像が実現され
る。
【０００３】陰極線管のスクリーンには様々な性質が要
求されるが、コントラスト及び輝度はその中でも重要な
特性である。コントラスト及び輝度はその重要性にもか
かわらず、何れか一方の特性を高めようとすると、他の
特性によくない影響を及ぼすという問題点がある。例え
ば、ガラスパネルは透過度に応じてダークチント（ｄａ
ｒｋ−ｔｉｎｔ）、セミチント（ｓｅｍｉ−ｔｉｎ
ｔ）、クリアチント（ｃｌｅａｒ−ｔｉｎｔ）に大別さ
れ、それぞれ透過度が４０〜５０％、５０〜６０％及び
８０〜９０％である。このように透過度の相異するパネ
ルを用いるとコントラスト及び輝度に相反する影響を及
ぼすことになる。即ち、ダークチントガラスパネルに蛍
光膜を形成すると外部の光はダークガラスに吸収されて
コントラストは向上するが、蛍光体により励起された光
もガラスに吸収されて輝度が低下する問題が発生する。
反対に、クリアチントパネルに蛍光膜を形成すると蛍光
体により励起された光の大部分はガラスを透過して輝度
は高いが、外部の光もパネルにより吸収されないのでコ
ントラストが低下する問題点が発生する。
求されるが、コントラスト及び輝度はその中でも重要な
特性である。コントラスト及び輝度はその重要性にもか
かわらず、何れか一方の特性を高めようとすると、他の
特性によくない影響を及ぼすという問題点がある。例え
ば、ガラスパネルは透過度に応じてダークチント（ｄａ
ｒｋ−ｔｉｎｔ）、セミチント（ｓｅｍｉ−ｔｉｎ
ｔ）、クリアチント（ｃｌｅａｒ−ｔｉｎｔ）に大別さ
れ、それぞれ透過度が４０〜５０％、５０〜６０％及び
８０〜９０％である。このように透過度の相異するパネ
ルを用いるとコントラスト及び輝度に相反する影響を及
ぼすことになる。即ち、ダークチントガラスパネルに蛍
光膜を形成すると外部の光はダークガラスに吸収されて
コントラストは向上するが、蛍光体により励起された光
もガラスに吸収されて輝度が低下する問題が発生する。
反対に、クリアチントパネルに蛍光膜を形成すると蛍光
体により励起された光の大部分はガラスを透過して輝度
は高いが、外部の光もパネルにより吸収されないのでコ
ントラストが低下する問題点が発生する。
【０００４】このような問題点を解決するために、コン
トラスト及び輝度を同時に向上させる方法に関する研究
が行われてきた。その１つとして蛍光体パターンに対応
する位置にフィルター膜を形成する方法が提案された。
フィルター膜は外部の光を吸収してコントラストを向上
させながらも、蛍光体により励起される光に対しては不
要な波長のみを選択的に吸収するので輝度減少の効果が
小さい。従って、フィルター膜を形成すると、フィルタ
ー膜の形成されない場合と同一なコントラストである場
合、輝度が２０〜３０％向上することが知られている。
トラスト及び輝度を同時に向上させる方法に関する研究
が行われてきた。その１つとして蛍光体パターンに対応
する位置にフィルター膜を形成する方法が提案された。
フィルター膜は外部の光を吸収してコントラストを向上
させながらも、蛍光体により励起される光に対しては不
要な波長のみを選択的に吸収するので輝度減少の効果が
小さい。従って、フィルター膜を形成すると、フィルタ
ー膜の形成されない場合と同一なコントラストである場
合、輝度が２０〜３０％向上することが知られている。
【０００５】一般に、フィルター膜はリソグラフィー工
程を用いて形成される。リソグラフィー工程は用いられ
るフォトレジストがポジ型か、またはネガ型かに応じて
形成されるパターンの形が正反対である。ポジ型の場合
には現像液によって露光部位が除去されるが、ネガ型の
場合には現像液によって露光部位が硬化され、非露光部
が除去される。従って、蛍光膜及びフィルター膜もネガ
型フォトレジストを用いて形成している。例えば、緑色
顔料とフォトレジストとの混合スラリーをパネルの内面
に塗布し、シャドーマスクを装着した後、露光及び現像
工程を経ると露光部位に緑色フィルター膜が形成され
る。
程を用いて形成される。リソグラフィー工程は用いられ
るフォトレジストがポジ型か、またはネガ型かに応じて
形成されるパターンの形が正反対である。ポジ型の場合
には現像液によって露光部位が除去されるが、ネガ型の
場合には現像液によって露光部位が硬化され、非露光部
が除去される。従って、蛍光膜及びフィルター膜もネガ
型フォトレジストを用いて形成している。例えば、緑色
顔料とフォトレジストとの混合スラリーをパネルの内面
に塗布し、シャドーマスクを装着した後、露光及び現像
工程を経ると露光部位に緑色フィルター膜が形成され
る。
【０００６】しかし、赤色フィルター膜は緑色や青色フ
ィルター膜を形成するような方法を採用しにくいという
問題がある。赤色顔料として用いられる酸化鉄（Ｆ2 Ｏ
3）は紫外線を吸収する性質があって、紫外線が照射さ
れると不透明なフィルター膜が得られるからである。こ
れにより、緑色及び青色フィルター膜と異なって赤色フ
ィルター膜は他の方法を利用すべきである。
ィルター膜を形成するような方法を採用しにくいという
問題がある。赤色顔料として用いられる酸化鉄（Ｆ2 Ｏ
3）は紫外線を吸収する性質があって、紫外線が照射さ
れると不透明なフィルター膜が得られるからである。こ
れにより、緑色及び青色フィルター膜と異なって赤色フ
ィルター膜は他の方法を利用すべきである。
【０００７】従来の赤色フィルター膜を形成する方法で
は赤色顔料を含まないネガ型フォトレジストを用いる。
このような方法でフィルター膜を形成する場合、一般の
方法に比べて工程が非常に複雑になる。
は赤色顔料を含まないネガ型フォトレジストを用いる。
このような方法でフィルター膜を形成する場合、一般の
方法に比べて工程が非常に複雑になる。
【０００８】図２は従来の方法により赤色フィルター膜
を形成する方法を説明するための概略的な図面である。
を形成する方法を説明するための概略的な図面である。
【０００９】図２を参照すれば、まず、パネル１にブラ
ックマトリックスパターン２を形成する（図２
（Ａ））。次いで、ブラックマトリックスパターン２の
形成されたパネルの全面に顔料を含まないネガ型フォト
レジストを塗布、乾燥してフォトレジスト層３を形成す
る（図２（Ｂ））。引続き、マスク４を介して緑色及び
青色発光蛍光体パターンを形成する部位に紫外線５を照
射して露光し（図２（Ｃ））、現像すると露光部にフォ
トレジストパターン６Ｇ、６Ｂが形成される（図２
（Ｄ））。フォトレジストパターン６Ｇ、６Ｂの形成面
に顔料組成物を塗布、乾燥してフィルター膜７を形成す
る（図２（Ｅ））。最後に、過酸化水素を用いて、フォ
トレジストパターン６Ｇ、６Ｂ及びその上に形成されて
いるフィルター膜７をエッチングする。ネガ型フォトレ
ジストはポリビニルアルコールとビスアジド系化合物よ
りなり、過酸化水素と反応して膨張する。これにより、
フォトレジストパターン６Ｇ、６Ｂの除去と同時にその
上に形成されているフィルター膜も共に除去され、結果
的にブラックマトリックスパターン２及び赤色発光蛍光
体パターンの形成される領域に赤色フィルター膜７Ｒが
形成される（図２（Ｆ））。
ックマトリックスパターン２を形成する（図２
（Ａ））。次いで、ブラックマトリックスパターン２の
形成されたパネルの全面に顔料を含まないネガ型フォト
レジストを塗布、乾燥してフォトレジスト層３を形成す
る（図２（Ｂ））。引続き、マスク４を介して緑色及び
青色発光蛍光体パターンを形成する部位に紫外線５を照
射して露光し（図２（Ｃ））、現像すると露光部にフォ
トレジストパターン６Ｇ、６Ｂが形成される（図２
（Ｄ））。フォトレジストパターン６Ｇ、６Ｂの形成面
に顔料組成物を塗布、乾燥してフィルター膜７を形成す
る（図２（Ｅ））。最後に、過酸化水素を用いて、フォ
トレジストパターン６Ｇ、６Ｂ及びその上に形成されて
いるフィルター膜７をエッチングする。ネガ型フォトレ
ジストはポリビニルアルコールとビスアジド系化合物よ
りなり、過酸化水素と反応して膨張する。これにより、
フォトレジストパターン６Ｇ、６Ｂの除去と同時にその
上に形成されているフィルター膜も共に除去され、結果
的にブラックマトリックスパターン２及び赤色発光蛍光
体パターンの形成される領域に赤色フィルター膜７Ｒが
形成される（図２（Ｆ））。
【００１０】このように、従来の方法により赤色フィル
ター膜を形成すると、次のような問題点がある。
ター膜を形成すると、次のような問題点がある。
【００１１】第１には、赤色フィルター膜の形成方法は
ブラックマトリックスパターンの形成方法のような複雑
な工程が要求される。
ブラックマトリックスパターンの形成方法のような複雑
な工程が要求される。
【００１２】第２には、過酸化水素のようなエッチング
溶液を使用することにより環境汚染を誘発する。
溶液を使用することにより環境汚染を誘発する。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は環境汚染の問題を軽減し、工程を単純化しうる赤色フ
ィルター膜の形成方法を提供するにある。
は環境汚染の問題を軽減し、工程を単純化しうる赤色フ
ィルター膜の形成方法を提供するにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明は、下記化学式１で示される化合物（以下、Ｐ
ＶＡ−ＳｂＱと称する）を含有するネガ型フォトレジス
トをブラックマトリックスパターンの形成されているパ
ネルに塗布してフォトレジスト層を形成した後、所定領
域を露光する段階と、前記露光されたフォトレジスト層
上に赤色顔料組成物を塗布及び乾燥した後、現像する段
階とを含むことを特徴とする赤色フィルター膜の形成方
法を提供する。
に本発明は、下記化学式１で示される化合物（以下、Ｐ
ＶＡ−ＳｂＱと称する）を含有するネガ型フォトレジス
トをブラックマトリックスパターンの形成されているパ
ネルに塗布してフォトレジスト層を形成した後、所定領
域を露光する段階と、前記露光されたフォトレジスト層
上に赤色顔料組成物を塗布及び乾燥した後、現像する段
階とを含むことを特徴とする赤色フィルター膜の形成方
法を提供する。
【００１５】
【化２】
【００１６】但し、前記化学式１においてｌ：ｍ：ｎは
１．０−４．５：７０．０−９８．０：１．０−２０．
０である。
１．０−４．５：７０．０−９８．０：１．０−２０．
０である。
【００１７】特に前記化学式１で示される化合物の重合
度は３００〜４０００であることが望ましい。また、前
記ネガ型フォトレジストは前記化学式１で示される化合
物に対して０．５〜１．０重量％の界面活性剤をさらに
含むことが望ましい。
度は３００〜４０００であることが望ましい。また、前
記ネガ型フォトレジストは前記化学式１で示される化合
物に対して０．５〜１．０重量％の界面活性剤をさらに
含むことが望ましい。
【００１８】本発明において用いられるフォトレジスト
は前記化学式１で示される高分子を主成分とする。ネガ
型フォトレジストはベース樹脂及びベース樹脂と架橋反
応を起こす感光剤を含むことが一般的であるが、本発明
において用いられる高分子はこのような２つの機能を全
て有している。また、化学式１で示される高分子は水の
ような極性溶媒によく溶解する性質がある。特に、高分
子の溶解度を高め、パネルとの湿潤性を向上させるため
に極性溶媒に表面活性剤を含有させることが望ましい。
このための表面活性剤の望ましい例としてはポリオキシ
エチレン−ポリオキシプロピレン共重合体（例えば、Ｂ
ＡＳＦ ＡＧのＰＥＳ）、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノラウレート（例えば、ＩＣＩ Ａｍｅｒｉｃａ
Ｉｎｃ．のＳＬＳ）があり、その含量は前記化学式１で
示される高分子に対して０．５〜１．０重量％が望まし
い。一方、フォトレジストの膜厚もレッドフィルターの
フィルター膜の厚さに影響を及ぼすが、前記フォトレジ
ストの膜厚はフォトレジストの粘度を種々変えることに
より調節する。
は前記化学式１で示される高分子を主成分とする。ネガ
型フォトレジストはベース樹脂及びベース樹脂と架橋反
応を起こす感光剤を含むことが一般的であるが、本発明
において用いられる高分子はこのような２つの機能を全
て有している。また、化学式１で示される高分子は水の
ような極性溶媒によく溶解する性質がある。特に、高分
子の溶解度を高め、パネルとの湿潤性を向上させるため
に極性溶媒に表面活性剤を含有させることが望ましい。
このための表面活性剤の望ましい例としてはポリオキシ
エチレン−ポリオキシプロピレン共重合体（例えば、Ｂ
ＡＳＦ ＡＧのＰＥＳ）、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノラウレート（例えば、ＩＣＩ Ａｍｅｒｉｃａ
Ｉｎｃ．のＳＬＳ）があり、その含量は前記化学式１で
示される高分子に対して０．５〜１．０重量％が望まし
い。一方、フォトレジストの膜厚もレッドフィルターの
フィルター膜の厚さに影響を及ぼすが、前記フォトレジ
ストの膜厚はフォトレジストの粘度を種々変えることに
より調節する。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、図１に基づき本発明を詳し
く説明する。
く説明する。
【００２０】図２（Ａ）に示すように従来の方法を用い
て、パネル１１上にブラックマトリックスパターン１２
を形成する（図１（Ａ））。次いで、ブラックマトリッ
クスパターン１２の形成されたパネルの全面に、前記化
学式１で示される化合物を含むネガ型フォトレジストを
塗布してフォトレジスト層１３を形成する（図１
（Ｂ））。引続き、マスク１４を介して緑色及び青色発
光蛍光体パターンを形成する部位に紫外線１５を照射し
て露光する（図１（Ｃ））。一般のネガ型フォトレジス
トに比べ、本発明で用いられるフォトレジストは感光性
に非常に優れ、紫外線の照射部位における硬化反応が充
分に行われる。露光工程を経ると、従来の方法と異なっ
て現像工程を経なく、直ちにフォトレジスト層１３上に
一般の赤色顔料組成物を塗布及び乾燥してフォトレジス
ト層の全面を覆う赤色フィルター膜１７を形成する（図
１（Ｄ））。最後に、現像工程を経ると、緑色及び青色
発光蛍光体パターンの形成される部位のフィルター膜が
除去され、ブラックマトリックスパターン１２及び赤色
発光蛍光体パターンの形成部位のみを覆う赤色フィルタ
ー膜１７Ｒが形成される（図１（Ｅ））。
て、パネル１１上にブラックマトリックスパターン１２
を形成する（図１（Ａ））。次いで、ブラックマトリッ
クスパターン１２の形成されたパネルの全面に、前記化
学式１で示される化合物を含むネガ型フォトレジストを
塗布してフォトレジスト層１３を形成する（図１
（Ｂ））。引続き、マスク１４を介して緑色及び青色発
光蛍光体パターンを形成する部位に紫外線１５を照射し
て露光する（図１（Ｃ））。一般のネガ型フォトレジス
トに比べ、本発明で用いられるフォトレジストは感光性
に非常に優れ、紫外線の照射部位における硬化反応が充
分に行われる。露光工程を経ると、従来の方法と異なっ
て現像工程を経なく、直ちにフォトレジスト層１３上に
一般の赤色顔料組成物を塗布及び乾燥してフォトレジス
ト層の全面を覆う赤色フィルター膜１７を形成する（図
１（Ｄ））。最後に、現像工程を経ると、緑色及び青色
発光蛍光体パターンの形成される部位のフィルター膜が
除去され、ブラックマトリックスパターン１２及び赤色
発光蛍光体パターンの形成部位のみを覆う赤色フィルタ
ー膜１７Ｒが形成される（図１（Ｅ））。
【００２１】このような効果は従来に使用されたフォト
レジスト、例えばＰＶＡ−ＳＤＣ（ポリビニルアルコー
ル−重クロム酸ナトリウム）のようなものを用いる場合
には得られない。即ち、従来のフォトレジストを用いて
前述のような工程を経る場合には、赤色フィルター膜１
７と露光されたフォトレジスト層１３との間の付着力が
強くて赤色フィルター膜１７を現像しにくい。反面、本
発明において使用される前記化学式１で示されたネガ型
フォトレジストを塗布して形成されたフォトレジスト層
１３は露光部位が固く硬化されるために、その上部に形
成された赤色フィルター膜１７との付着力が弱い。従っ
て、露光部では赤色フィルター膜１７とフォトレジスト
層１３との間の付着力が弱くて現像工程により赤色フィ
ルター膜１７が除去される反面、非露光部では赤色フィ
ルター膜１７とフォトレジスト層１３との間の付着力が
強くて赤色フィルター膜１７が除去されない。 実施例１ ＰＶＡ−ＳｂＱ（日本東洋合成工業（株）のＳ−１３タ
イプ）２０ｇ、水７９ｇ、及びＰＥＳ １ｇを混合して
得たフォトレジスト組成物を、ブラックマトリックスパ
ターンの形成されたパネルの全面に塗布してフォトレジ
スト層を形成した。引続き、マスクを介して緑色及び青
色発光蛍光体パターンの形成部位に紫外線を照射して露
光した。次いで、これに、水１００ｇ、界面活性剤（Ｒ
ｏｈｍ＆ Ｈａａｓ社、商品名：ＯＲＯＴＡＮ）０．１
９５ｇ、エチレングリコール１０ｇ、赤色顔料Ｆｅ2 Ｏ
3 ６ｇ、ＰＥＳ １．０ｇ、Ｌｕｄｏｘ（Ｅ．Ｉ．ＤＵ
ＰＯＮＴ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａ
ｎｙ、商品名：Ｌｕｄｏｘ ＡＭ）バインダー０．７５
ｇを混合して得た赤色顔料組成物を塗布及び乾燥してフ
ォトレジスト層の全面を覆う赤色フィルター膜を形成し
た。最後に、現象剤として水を使用して現像工程を実施
し、緑色及び青色発光蛍光体パターンの形成部位のフィ
ルター膜を除去し、ブラックマトリックスパターン及び
赤色発光蛍光体パターンの形成部位のみを覆う赤色フィ
ルター膜を形成した。 実施例２ フォトレジスト組成物としてＰＶＡ−ＳｂＱ（日本東洋
合成工業（株）のＨ−１３タイプ）１５ｇ、水８４ｇ、
及びＰＥＳ １ｇを混合して得たものを使用し、赤色顔
料組成物として水１００ｇ、界面活性剤（Ｒｏｈｍ ＆
Ｈａａｓ社、商品名：ＯＲＯＴＡＮ）０．１９５ｇ、
赤色顔料Ｆｅ2 Ｏ3 ６ｇ、ＳＬＳ １．０ｇ、Ｌｕｄｏ
ｘ（ＤＵＰＯＮＴ社、商品名：Ｌｕｄｏｘ ＡＭ）バイ
ンダー０．１ｇ、及びＰＶＡバインダー０．３２ｇを混
合して得たものを使用することを除いては実施例１と同
じ方法でブラックマトリックスパターン及び赤色発光蛍
光体パターンの形成部位のみを覆う赤色フィルター膜を
形成した。 実施例３ フォトレジスト組成物として実施例２のフォトレジスト
組成物を使用し、赤色顔料組成物として水１００ｇ、界
面活性剤（Ｒｏｈｍ ＆ Ｈａａｓ社、商品名：ＯＲＯ
ＴＡＮ）０．１９５ｇ、赤色顔料Ｆｅ2 Ｏ3 ６ｇ、ＰＥ
Ｓ １．０ｇ、ケイ酸カリウム（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ
ｓｉｌｉｃａｔｅ）バインダー０．２ｇを混合して得た
ものを使用することを除いては実施例１と同じ方法でブ
ラックマトリックスパターン及び赤色発光蛍光体パター
ンの形成部位のみを覆う赤色フィルター膜を形成した。
但し、本実施例において現像工程は水を５〜６ｋｇ／ｃ
ｍ 2 の高圧で赤色フィルター膜に噴射する方法で実施し
た。
レジスト、例えばＰＶＡ−ＳＤＣ（ポリビニルアルコー
ル−重クロム酸ナトリウム）のようなものを用いる場合
には得られない。即ち、従来のフォトレジストを用いて
前述のような工程を経る場合には、赤色フィルター膜１
７と露光されたフォトレジスト層１３との間の付着力が
強くて赤色フィルター膜１７を現像しにくい。反面、本
発明において使用される前記化学式１で示されたネガ型
フォトレジストを塗布して形成されたフォトレジスト層
１３は露光部位が固く硬化されるために、その上部に形
成された赤色フィルター膜１７との付着力が弱い。従っ
て、露光部では赤色フィルター膜１７とフォトレジスト
層１３との間の付着力が弱くて現像工程により赤色フィ
ルター膜１７が除去される反面、非露光部では赤色フィ
ルター膜１７とフォトレジスト層１３との間の付着力が
強くて赤色フィルター膜１７が除去されない。 実施例１ ＰＶＡ−ＳｂＱ（日本東洋合成工業（株）のＳ−１３タ
イプ）２０ｇ、水７９ｇ、及びＰＥＳ １ｇを混合して
得たフォトレジスト組成物を、ブラックマトリックスパ
ターンの形成されたパネルの全面に塗布してフォトレジ
スト層を形成した。引続き、マスクを介して緑色及び青
色発光蛍光体パターンの形成部位に紫外線を照射して露
光した。次いで、これに、水１００ｇ、界面活性剤（Ｒ
ｏｈｍ＆ Ｈａａｓ社、商品名：ＯＲＯＴＡＮ）０．１
９５ｇ、エチレングリコール１０ｇ、赤色顔料Ｆｅ2 Ｏ
3 ６ｇ、ＰＥＳ １．０ｇ、Ｌｕｄｏｘ（Ｅ．Ｉ．ＤＵ
ＰＯＮＴ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａ
ｎｙ、商品名：Ｌｕｄｏｘ ＡＭ）バインダー０．７５
ｇを混合して得た赤色顔料組成物を塗布及び乾燥してフ
ォトレジスト層の全面を覆う赤色フィルター膜を形成し
た。最後に、現象剤として水を使用して現像工程を実施
し、緑色及び青色発光蛍光体パターンの形成部位のフィ
ルター膜を除去し、ブラックマトリックスパターン及び
赤色発光蛍光体パターンの形成部位のみを覆う赤色フィ
ルター膜を形成した。 実施例２ フォトレジスト組成物としてＰＶＡ−ＳｂＱ（日本東洋
合成工業（株）のＨ−１３タイプ）１５ｇ、水８４ｇ、
及びＰＥＳ １ｇを混合して得たものを使用し、赤色顔
料組成物として水１００ｇ、界面活性剤（Ｒｏｈｍ ＆
Ｈａａｓ社、商品名：ＯＲＯＴＡＮ）０．１９５ｇ、
赤色顔料Ｆｅ2 Ｏ3 ６ｇ、ＳＬＳ １．０ｇ、Ｌｕｄｏ
ｘ（ＤＵＰＯＮＴ社、商品名：Ｌｕｄｏｘ ＡＭ）バイ
ンダー０．１ｇ、及びＰＶＡバインダー０．３２ｇを混
合して得たものを使用することを除いては実施例１と同
じ方法でブラックマトリックスパターン及び赤色発光蛍
光体パターンの形成部位のみを覆う赤色フィルター膜を
形成した。 実施例３ フォトレジスト組成物として実施例２のフォトレジスト
組成物を使用し、赤色顔料組成物として水１００ｇ、界
面活性剤（Ｒｏｈｍ ＆ Ｈａａｓ社、商品名：ＯＲＯ
ＴＡＮ）０．１９５ｇ、赤色顔料Ｆｅ2 Ｏ3 ６ｇ、ＰＥ
Ｓ １．０ｇ、ケイ酸カリウム（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ
ｓｉｌｉｃａｔｅ）バインダー０．２ｇを混合して得た
ものを使用することを除いては実施例１と同じ方法でブ
ラックマトリックスパターン及び赤色発光蛍光体パター
ンの形成部位のみを覆う赤色フィルター膜を形成した。
但し、本実施例において現像工程は水を５〜６ｋｇ／ｃ
ｍ 2 の高圧で赤色フィルター膜に噴射する方法で実施し
た。
【００２２】
【発明の効果】前述したように、本発明により赤色フィ
ルター膜を形成すれば次のような長所がある。
ルター膜を形成すれば次のような長所がある。
【００２３】第１、赤色フィルター膜の形成工程が単純
化されることによりライン工程設備にかかる費用を節減
しうる。
化されることによりライン工程設備にかかる費用を節減
しうる。
【００２４】第２、エッチング溶液を使用しないため
に、環境汚染の問題を減らしうる。
に、環境汚染の問題を減らしうる。
【図１】 本発明による赤色フィルター膜の形成方法を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図２】 従来の方法による赤色フィルター膜の形成方
法の各工程を説明するための図である。
法の各工程を説明するための図である。
１１．．．パネル １２．．．ブラックマトリックスパターン １３．．．フォトレジスト層 １４．．．マスク １７Ｒ・・・赤色フィルター膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 599008241 575 Ｓｈｉｎ−ｄｏｎｇ， Ｐａｌｄａ ｌ−ｇｕ， Ｓｕｗｏｎ−ｃｉｔｙ， Ｋ ｙｕｎｇｋｉ−ｄｏ， Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ (72)発明者 ホン−キュ チョイ 大韓民国 キュンキ−ドー スウォン−シ ティ パルダル−グ マエタン−ドン 897 ジュコン アパートメント 501− 504 (72)発明者 ヒュン−ジン キム 大韓民国 キュンキ−ドー セオンナム− シティ プンダン−グ セオヒュン−ドン 92 ヒュンダイ アパートメント 416 −1003
Claims (4)
- 【請求項１】 下記化学式１で示される化合物を含有す
るネガ型フォトレジストをブラックマトリックスパター
ンの形成されているパネルに塗布してフォトレジスト層
を形成した後、所定領域を露光する段階と、 前記露光されたフォトレジスト層上に赤色顔料組成物を
塗布及び乾燥した後、現像する段階とを含むことを特徴
とする赤色フィルター膜の形成方法。 【化１】 但し、前記化学式１においてｌ：ｍ：ｎは１．０−４．
５：７０．０−９８．０：１．０−２０．０である。 - 【請求項２】 前記化学式１で示される化合物の重合度
は３００〜４０００であることを特徴とする請求項１に
記載の赤色フィルター膜の形成方法。 - 【請求項３】 前記ネガ型フォトレジストは前記化学式
１で示される化合物に対して０．５〜１．０重量％の界
面活性剤をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載
の赤色フィルター膜の形成方法。 - 【請求項４】 前記界面活性剤はポリオキシエチレン−
ポリオキシプロピレン共重合体、及びポリオキシエチレ
ンソルビタンモノラウレートよりなる群から選択された
少なくとも１つであることを特徴とする請求項３に記載
の赤色フィルター膜の形成方法。
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