DE19827684A1 - Verfahren zur Bildung eines Rotfilterfilms in einer Kathodenstrahlröhre - Google Patents

Verfahren zur Bildung eines Rotfilterfilms in einer Kathodenstrahlröhre

Info

Publication number
DE19827684A1
DE19827684A1 DE19827684A DE19827684A DE19827684A1 DE 19827684 A1 DE19827684 A1 DE 19827684A1 DE 19827684 A DE19827684 A DE 19827684A DE 19827684 A DE19827684 A DE 19827684A DE 19827684 A1 DE19827684 A1 DE 19827684A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
filter film
photoresist
red
red filter
applying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19827684A
Other languages
English (en)
Inventor
Ki-Jun Kim
Hong-Kyu Choi
Hyun-Jin Kim
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung SDI Co Ltd
Original Assignee
Samsung Display Devices Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Display Devices Co Ltd filed Critical Samsung Display Devices Co Ltd
Publication of DE19827684A1 publication Critical patent/DE19827684A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
    • H01J9/22—Applying luminescent coatings
    • H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
    • H01J9/22—Applying luminescent coatings
    • H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
    • H01J9/2271—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

Verfahren zur Bildung eines Rotfilters in einer Kathodenstrahlröhre (CRT) mit den Stufen: Ablagern einer negativen Photoresistzusammensetzung, welche eine Verbindung (PVA-SbQ) gemäß folgender Formel (1) enthält, auf einem Paneel, welches ein schwarzes Matrixmuster aufweist, zur Bildung einer Photoresistschicht und Belichten eines vorbestimmten Bereichs der Photoresistschicht, und Auftragen einer Rotpigmentzusammensetzung auf die Photoresistschicht, Trocknen und anschließendes Entwickeln der entstandenen Struktur: DOLLAR F1 wobei 1 : m : n 1,0-4,5 : 70,0-98,0 : 1,0-20,0 ist; da der Entwicklungsschritt zur Bildung von grünen und roten Leuchtstoffmustern weggelassen wird, kann der Rotfilterfilm einfach gebildet werden, was dadurch ermöglicht wird, daß eine negative Photoresistzusammensetzung, deren gehärteter Bereich sehr leicht an dem Farbfilterfilm haftet, verwendet wird.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bil­ dung eines Rotfilters in einer Kathodenstrahlröhre (CRT) und, im besonderen, ein Verfahren zur Bildung eines Rotfilters durch einen einfachen Prozeß, in dem die Umweltverschmutzung aufgrund der Verwendung eines Ätzmittels weitgehend reduziert wird.
Im allgemeinen sind in dem Schirm einer CRT rot, blau und grün emittierende Leuchtstoffmuster in einem regelmäßigem Muster in der Form von Punkten oder Streifen angeordnet. Zwischen den jeweiligen Leuchtstoffmustern sind schwarze Matrices gebildet, um dem Schirmkontrast oder die Farbreinheit zu verbessern. Wenn Elektronen von einer Elektronenkanone auf den Schirm ausgesendet werden, emittieren die Leuchtstoffe Licht, so daß ein gewünsch­ tes Bild realisiert wird.
Eigenschaften, wie Kontrast und Helligkeit, sind wichtige Erfordernisse für den Schirm einer CRT. Es ist jedoch schwierig, beide dieser Eigenschaften zu verbessern, da eine der beiden Eigenschaften die andere ungünstig beeinflussen kann, wenn eine von ihnen verbessert wird. Beispielsweise wird, entsprechend der Transmittanz, Glaspanele grob in Dunkeltonpanele, Mitteltonpane­ le und Helltonpanele klassifiziert. Die Transmittanz dieser Panele beträgt 40-50%, 50-60% bzw. 803-90%. Die Panele mit den verschiedenen Transmittanzen wirken sich gegensätzlich auf Kon­ trast und Helligkeit aus. Wenn ein Leuchtstoffschirm auf dem Dunkeltonpanel gebildet wird, wird externes Licht in dem Dunkel­ tonglaspanel absorbiert, so daß der Kontrast verbessert wird. Jedoch wird außerdem das durch den Leuchtstoff emittierte Licht in dem Glaspanel absorbiert, so daß die Helligkeit verringert wird. Wenn im Gegensatz dazu ein Leuchtstoffschirm auf dem Hell­ tonpanel gebildet wird, wird das meiste des von dem Leuchtstoff emittierten Lichtes durch das Glaspanel durchgelassen, so daß die Helligkeit hoch wird. Externes Licht wird jedoch nicht in dem Panel absorbiert, so daß der Kontrast erniedrigt wird.
Um das Problem zu lösen, wurde nach Verfahren zum Verbes­ sern sowohl des Kontrastes als auch der Helligkeit gesucht. Es wurde ein Verfahren zur Bildung eines Filterfilms an einer Posi­ tion, welche einem Leuchtstoffmuster entspricht, vorgeschlagen. Der Filterfilm verbessert den Kontrast, indem er externes Licht absorbiert, vermindert aber eine Verringerung der Helligkeit durch selektives Absorbieren von ausschließlich unnötigen Wel­ lenlängen des durch den Leuchtstoff emittierten Lichtes. Deshalb wird, unter der Annahme, daß der Kontrast der gleiche bleibt, durch Bildung eines Filterfilms, im Vergleich zu dem Fall ohne Filterfilm, die Helligkeit um 20-30% verbessert.
Im allgemeinen wird ein Filterfilm unter Verwendung eines lithographischen Verfahrens gebildet. In dem lithographischen Verfahren werden in Abhängigkeit des verwendeten Photoresist­ typs, d. h., Positives oder negatives Photoresist, Muster von vollständig gegensätzlichen Typen gebildet. Im Fall der Verwen­ dung eines positiven Photoresists wird der belichtete Bereich der gebildeten Muster durch eine Entwicklerlösung entfernt. Bei Verwendung eines negativen Photoresists wird der belichtete Bereich der gebildeten Muster gehärtet und der nicht belichtete Bereich durch eine Entwicklerlösung entfernt. Deshalb werden gewöhnlich sowohl der Leuchtstoff- als auch der Filterfilm unter Verwendung des negativen Photoresists gebildet. Beispielsweise wird eine gemischte Aufschlammung eines grünen Pigments und eines Photoresists auf der inneren Oberfläche eines Panels abge­ lagert und darauf eine Schattenmaske getragen. Dann wird der abgelagerte Film belichtet und entwickelt, um einen Grünfilter­ film in einem belichteten Bereich zu bilden.
Jedoch ist ein Rotfilterfilm schwierig durch das gleiche Verfahren, welches für den Grün- oder Blaufilterfilm verwendet wird, herzustellen. Da Eisenoxid (F2O3), welches als rotes Pig­ ment verwendet wird, die Eigenschaft besitzt, ultraviolette Strahlen zu absorbieren, wird ein lichtundurchlässiger Filter­ film erzeugt, wenn ultraviolette Strahlen ausgesendet werden. Somit muß zur Bildung eines Rotfilterfilms ein Verfahren ver­ wendet werden, das sich von dem für einen Grün- oder Blaufilter­ film unterscheidet.
In einem konventionellen Verfahren zur Bildung eines Rot­ filterfilms wird ein negativer Photoresist ohne rotes Pigment verwendet. Jedoch werden in diesem Verfahren, im Vergleich zu anderen konventionellen Verfahren, die Prozesse kompliziert.
Die Fig. 1A bis 1F sind schematische Querschnittsansich­ ten, die ein konventionelles Verfahren zur Bildung eines Rotfil­ terfilms veranschaulichen sollen.
Gemäß Fig. 1A wird zunächst ein schwarzes Matrixmuster 2 auf einem Panel 1 gebildet. Dann wird, wie in Fig. 1B darge­ stellt, eine negative Photoresistzusammensetzung ohne Pigment auf die gesamte Oberfläche des Panels, welches das schwarze Matrixmuster 2 aufweist, aufgetragen und zur Bildung einer Pho­ toresistschicht 3 getrocknet. Anschließend werden ultraviolette Strahlen 5 auf einen Bereich ausgesendet, wo grüne und blaue Leuchtstoffmuster durch eine Maske 4 gebildet werden sollen (Fig. 1C), und dann zur Bildung von Photoresistmustern 6G und 6B an den belichteten Bereichen entwickelt (Fig. 1D). Auf der Ober­ fläche mit den Photoresistmustern 6G und 6B wird eine Pigmentzu­ sammensetzung abgelagert und zur Bildung einer Filterschicht 7 getrocknet (Fig. 1E). Dann werden die Photoresistmuster 6G und 6B und die darauf gebildete Filterschicht 7 unter Verwendung von Wasserstoffperoxid geätzt. Das negative Photoresist ist typi­ scherweise aus Polyvinylalkohol und einer Bisazidverbindung zusammengesetzt und reagiert mit Wasserstoffperoxid unter An­ schwellung. Entsprechend werden die Photoresistmuster 6G und 6B und die darauf gebildete Filterschicht entfernt. Im Ergebnis wird ein Rotfilterfilm 7R auf dem schwarzen Matrixmuster 2 und dem Bereich, in dem ein rotes Leuchtstoffmuster gebildet werden soll, gebildet (Fig. 1F).
Das oben beschriebene konventionelle Verfahren zur Bildung eines Rotfilterfilms birgt jedoch folgende Probleme.
Erstens erfordert das Verfahren einen komplexen Prozeß, wie die Bildung eines schwarzen Matrixmusters.
Zweitens kann aufgrund der Verwendung eines Ätzmittels, wie Wasserstoffperoxid, Umweltverschmutzung verursacht werden.
Zur Lösung der obigen Probleme ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Bildung eines Rotfilterfilms zur Verfügung zu stellen, welches die Umweltverschmutzung reduzieren und den Prozeß vereinfachen kann.
Zur Lösung der erfindungsgemäßen Aufgabe wird ein Verfahren zur Bildung eines Rotfilterfilms gemäß Anspruch 1 zur Verfügung gestellt, welches folgende Stufen umfaßt Auftragen einer nega­ tiven Photoresistzusammensetzung, welche eine Verbindung (PVA- SbQ) gemaß folgender Formel (1) enthält, auf ein Panel, welches ein schwarzes Matrixmuster aufweist, zur Bildung einer Photo­ resistschicht und Belichten des vorbestimmten Bereichs der Pho­ toresistschicht; und Auftragen einer Rotpigmentzusammensetzung auf die Photoresistschicht, Trocknen und anschließendes Entwic­ keln der entstandenen Struktur:
wobei 1:m:n 1,0-4,5 : 70,0-98,0 : 1,0-20,0 ist.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Verfahrens ergeben sich aus den Ansprüchen 2 bis 4.
Bevorzugt ist der Polymerisationsgrad der Verbindung gemäß Formel (1) 300-4000. Außerdem enthalt die negative Photoresist­ zusammensetzung bevorzugt 0,5-1,0 Gew.-%, bezogen auf die Ver­ bindung gemäß Formel (1), eines oberflächenaktiven Mittels.
Das in der vorliegenden Erfindung verwendete Photoresist weist das Polymer gemäß obiger Formel (1) als Hauptkomponente auf. Im allgemeinen ist ein negatives Photoresist eine Mischung aus einem Binderharz und einem Photosensibilisator, der die Binderharzmoleküle quervernetzen kann. Das in der vorliegenden Erfindung als negatives Photoresist verwendete Polymer besitzt jedoch beide Funktionen der zwei Komponenten. Außerdem ist das Polymer gemäß obiger Formel (1) gut in einem polaren Lösungsmit­ tel, wie Wasser, löslich. Zur Erhöhung der Löslichkeit des Poly­ meren und seiner Benetzbarkeit mit den Panel, ist in dem polaren Lösungsmittel bevorzugt ein oberflächenaktives Mittel enthalten. Bei dem oberflächenaktiven Mittel handelt es sich bevorzugt um ein Polyoxyethylen-Polyoxypropylen-Copolymer, zum Beispiel das von BASF Aktiengesellschaft hergestellte PES, und/oder Polyoxy­ ethylensorbitanmonolaurat, zum Beispiel das von ICI Americas Inc. hergestellte SLS. Der Gehalt an dem oberflächenaktiven Mittel beträgt bevorzugt 0,5-1 Gew.-%, bezogen auf das Polymer gemäß obiger Formel (1). Die Filmdicke des Photoresists wirkt sich außerdem auf die Dicke des Rotfilterfilms aus und wird durch Variieren der Viskosität des Photoresists eingestellt.
Die Aufgaben und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden durch die detaillierte Beschreibung einer bevorzugten Ausfüh­ rungsform mit Bezug auf die beigefügten Zeichnungen näher er­ sichtlich, wobei:
die Fig. 1A bis 1F schematische Querschnittsansichten sind, die ein konventionelles Verfahren zur Bildung eines Rot­ filterfilms veranschaulichen; und
die Fig. 2A bis 2E schematische Querschnittsansichten sind, die das erfindungsgemäße Verfahren zur Bildung eines Rot­ filterfilms veranschaulichen.
Im folgenden wird die vorliegende Erfindung detailliert mit Bezug auf die Fig. 2A bis 2E beschrieben.
Unter Verwendung des gleichen Verfahrens wie das in den Fig. 1A bis 1F gezeigte konventionelle Verfahren wird ein schwarzes Matrixmuster 12 auf einem Panel 11 ausgebildet (Fig. 2A). Dann wird ein negatives Photoresist gemäß obiger Formel (1) auf die gesamte Oberfläche des Panels 11, welches das schwarze Matrixmuster 12 aufweist, aufgetragen, um eine Photoresist­ schicht 13 zu bilden (Fig. 2B). Anschließend werden ultraviolet­ te Strahlen 15 durch eine Maske 14 auf einen Bereich ausgesen­ det, in dem grüne und blaue Leuchtstoffmuster gebildet werden sollen (Fig. 2C). Im Vergleich zu einem konventionellen negati­ ven Pbotoresist besitzt das in der vorliegenden Erfindung ver­ wendete Photoresist gute Photosensibilität, so daß an dem Be­ reich, auf den die ultravioletten Strahlen ausgesendet werden, eine ausreichende Härtungsreaktion stattfindet. Sofort wird eine Rotpigmentzusammensetzung auf die Photoresistschicht 13 aufge­ tragen und getrocknet, um eine Rotfilterschicht 17 zu bilden, welche die gesamte Oberfläche der Photoresistschicht 13 bedeckt (Fig. 2D). Dann wird die entstandene Struktur entwickelt, so daß die Filterschicht, die dem Bereich entspricht, wo die grünen und blauen Leuchtstoffmuster gebildet werden sollen, entfernt wird Im Ergebnis wird ein Rotfilterfilm 17R gebildet, der ausschließ­ lich das schwarze Matrixmuster 12 und den Bereich für das rote Leuchtstoffmuster bedeckt (Fig. 2E).
Dieses Ergebnis kann nicht bei Verwendung eines konventio­ nellen Photoresists, beispielsweise Polyvinylalkohol-Natrium­ dichromat (PVA-SDS) erreicht werden. Bei Verwendung eines kon­ ventionellen Photoresists ist die Haftung zwischen dem Rotfil­ terfilm 17 und der belichteten Photoresistschicht 13 so stark, daß der Rotfilterfilm 17 nicht entwickelt werden kann. Im Gegen­ satz dazu ist bei Verwendung des negativen Photoresists gemäß obiger Formel (1) die Haftung zwischen der Photoresistschicht 13 und dem darauf aufgebildeten Rotfilterfilm 17 schwach, da der belichtete Bereich der Photoresistschicht 13 ausreichend gehär­ tet ist. Deshalb wird an dem belichteten Bereich der Rotfilter­ film 17 während der Entwicklung aufgrund der schwachen Haftung zwischen dem Rotfilterfilm 17 und der Photoresistschicht 13 entfernt. Da jedoch die Haftung zwischen dem Rotfilterfilm 17 und der Photoresistschicht 13 in dem nicht belichteten Bereich stark ist, wird der darauf vorliegende Rotfilterfilm 17 nicht entfernt.
Beispiel 1
Eine Photoresistzusammensetzung, die durch Mischen von 20 g PVA-SbQ (Typ S-13, hergestellt von Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. Japan), 79 g Wasser und 1 g PES erhalten worden war, wurde auf die gesamte Oberfläche eines Panels, auf dem ein schwarzes Ma­ trixmuster gebildet worden warb aufgetragen, um eine Photore­ sistschicht zu bilden. Anschließend wurden ultraviolette Strah­ len durch eine Maske auf einen Bereich für grüne und blaue Leuchtstoffmuster ausgesendet. Dann wurde eine Rotpigmentzusam­ mensetzung, die durch Mischen von 100 g Wasser, 0,195 g eines oberflächenaktiven Mittels (OROTAN, hergestellt von Rohm and Haas Company), 10 g Ethylenglycol, 6 g Fe2O3 als rotes Pigment, 1,0 g PES und 0,75 g eines Binders (Ludox AM, hergestellt von E.I. Dupont de Nemours and Company) erhalten worden war, auf die entstandene Struktur aufgetragen und getrocknet, um einen Rot­ filterfilm zu bilden, der die gesamte Oberfläche der Photore­ sistschicht bedeckt. Schließlich wurde ein Entwicklungsprozeß unter Verwendung von Wasser als Entwickler durchgeführt, um den Filterfilm von dem Bereich für die grünen und blauen Leucht­ stoffmuster zu entfernen, wodurch ein Rotfilterfilm gebildet wurde, welcher ausschließlich das schwarze Matrixmuster und den Bereich für das rote Leuchtstoffmuster bedeckt.
Beispiel 2
Auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 beschrieben, mit dem Unterschied, daß ein Material, welches durch Mischen von 15 g PVA-SbQ (Typ H-13, hergestellt von Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. . Japan), 84 g Wasser und 1 g PES erhalten worden war, als Photo­ resistzusammensetzung und ein Material, welches durch Mischen von 100 g Wasser, 0,195 g eines oberflächenaktiven Mittels (ORO- TAN, hergestellt von Rohm and Haas Company), 6 g Fe2O3 als rotes Pigment, 1,0 g SLS, 0,75 g eines Binders (Ludox AM, hergestellt von E.I. Dupont de Nemours and Company) und 0,32 g eines PVA- Binders erhalten worden war, als Rotpigmentzusammensetzung ver­ wendet wurden, wurde ein Rotfilterfilm gebildet, der ausschließ­ lich das schwarze Matrixmuster und den Bereich für das rote Leuchtstoffmuster bedeckte.
Beispiel 3
Auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 beschrieben, mit dem Unterschied, daß die gleiche Photoresistzusammensetzung wie in Beispiel 2 und ein Material, welches durch Mischen von 100 g Wasser, 0,195 q eines oberflächenaktiven Mittels (OROTAN, herge­ stellt von Rohm and Haas Company), 6 g Fe2O3 als rotes Pigment und 0,2 g eines Kaliumsilicatbinders erhalten worden war, als Rotpigmentzusammensetzung verwendet wurden, wurde ein Rotfilter­ film gebildet, welcher ausschließlich das schwarze Matrixmuster und den Bereich für das rote Leuchtstoffmuster bedeckte. In diesem Beispiel wurde jedoch der Entwicklungsprozeß derart durchgeführt, daß Wasser auf den Rotfilterfilm unter einem hohen Druck von 5-6 kg/cm2 gesprüht wurde.
Wie oben beschrieben, besitzt der erfindungsgemäße Rotfil­ terfilm folgende Vorteile.
Erstens werden die erforderlichen Kosten für eine Linien­ fertigungsvorrichtung beträchtlich reduziert, da die Anzahl der Schritte zur Bildung des Rotfilterfilms beträchtlich reduziert ist.
Zweitens wird das Problem der Umweltverschmutzung beträcht­ lich vermindert, da kein Ätzmittel verwendet wird.

Claims (4)

1. Verfahren zur Bildung eines Rotfilterfilms mit den Stu­ fen:
Auftragen einer negativen Photoresistzusammensetzung, wel­ che eine Verbindung (PVA-SbQ) gemaß folgender Formel (1) ent­ hält, auf ein Panel, welches ein schwarzes Matrixmuster auf­ weist, zur Bildung einer Photoresistschicht und Belichten eines vorbestimmten Bereichs der Photoresistschicht; und
Auftragen einer Rotpigmentzusammensetzung auf die Photo­ resistschicht, Trocknen und anschließendem Entwickeln der ent­ standenen Struktur:
wobei 1:m:n 1,0-4, 5 : 70,0-98,0 : 1,0-20,0 ist.
2. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Polymerisations­ grad der Verbindung gemäß Formel (1) 300-4000 beträgt.
3. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei die negative Photore­ sistzusammensetzung außerdem 0,5-1,0 Gew.-%, bezogen auf die Verbindung gemäß Formel (1), eines oberflächenaktiven Mittels enthält.
4. Verfahren gemäß Anspruch 3, wobei das oberflächenaktive Mittel Polyoxyethylen-Polyoxypropylen-Copolymer und/oder Poly­ oxyethylensorbitanmonolaurat ist.
DE19827684A 1998-04-14 1998-06-22 Verfahren zur Bildung eines Rotfilterfilms in einer Kathodenstrahlröhre Withdrawn DE19827684A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019980013324A KR100263860B1 (ko) 1998-04-14 1998-04-14 적색 필터막 형성방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19827684A1 true DE19827684A1 (de) 1999-11-04

Family

ID=19536238

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19827684A Withdrawn DE19827684A1 (de) 1998-04-14 1998-06-22 Verfahren zur Bildung eines Rotfilterfilms in einer Kathodenstrahlröhre

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP3079193B2 (de)
KR (1) KR100263860B1 (de)
CN (1) CN1232283A (de)
DE (1) DE19827684A1 (de)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004105037A1 (en) * 2003-05-20 2004-12-02 Enter Tech Co. Ltd. Portable karaoke system
KR100791583B1 (ko) 2007-03-31 2008-01-04 (주)융스그룹 유에스비 커넥터 겸용 이어폰 젠더
WO2008126921A1 (ja) * 2007-04-11 2008-10-23 Sekisui Chemical Co., Ltd. 架橋ポリビニルアセタール樹脂の製造方法及び架橋ポリビニルアセタール樹脂
CN106959584A (zh) * 2017-04-27 2017-07-18 苏州大学 水溶性负性电子束光刻胶及其成像方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0373537A1 (de) * 1988-12-14 1990-06-20 THE STATE OF JAPAN, as Represented by the DIRECTOR GENERAL of the AGENCY of INDUSTRIAL SCIENCE and TECHNOLOGY Lichtempfindliches Polyvinylalkoholderivat
DE3114468C2 (de) * 1980-04-17 1992-03-12 Agency Of Industrial Science & Technology, Ministry Of International Trade & Industry
US5278009A (en) * 1990-06-20 1994-01-11 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Color filter and method of producing the same
JPH06289613A (ja) * 1993-03-30 1994-10-18 Oji Kako Kk 透明着色画像形成用感光性樹脂組成物およびカラーフィルター
EP0779553A1 (de) * 1995-12-11 1997-06-18 Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. Fotoempfindliches Harz auf Basis von Polyvinylalkohol, fotoempfindliche Zusammensetzung, und Verfahren zur Herstellung von Mustern unter Verwendung dieser Zusammensetzung

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3114468C2 (de) * 1980-04-17 1992-03-12 Agency Of Industrial Science & Technology, Ministry Of International Trade & Industry
EP0373537A1 (de) * 1988-12-14 1990-06-20 THE STATE OF JAPAN, as Represented by the DIRECTOR GENERAL of the AGENCY of INDUSTRIAL SCIENCE and TECHNOLOGY Lichtempfindliches Polyvinylalkoholderivat
US5278009A (en) * 1990-06-20 1994-01-11 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Color filter and method of producing the same
JPH06289613A (ja) * 1993-03-30 1994-10-18 Oji Kako Kk 透明着色画像形成用感光性樹脂組成物およびカラーフィルター
EP0779553A1 (de) * 1995-12-11 1997-06-18 Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. Fotoempfindliches Harz auf Basis von Polyvinylalkohol, fotoempfindliche Zusammensetzung, und Verfahren zur Herstellung von Mustern unter Verwendung dieser Zusammensetzung

Also Published As

Publication number Publication date
KR100263860B1 (ko) 2000-08-16
KR19990080236A (ko) 1999-11-05
JPH11305030A (ja) 1999-11-05
JP3079193B2 (ja) 2000-08-21
CN1232283A (zh) 1999-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4242802A1 (de)
DE69917186T2 (de) Zusammensetzung enthaltend anorganische Partikel, Übertragungsfilm enthaltend dieselbe und Herstellungsverfahren für Plasmabildschirme
DE2231473C3 (de) Fotografisches Verfahren zum Herstellen eines Bildschirms mit einzelnen Leuchtstoffelementen und einer Schwarzmatrix für eine Farbfernsehbildröhre
DE3114468A1 (de) Lichtempfindliche harzmaterialien
DE3003699A1 (de) Mit einem filter beschichteter leuchtstoff
DE2815894A1 (de) Verfahren zur erzeugung einer bildmustergemaess aufgebrachten pulverschicht
DE2303630A1 (de) Verfahren zur herstellung eines musters, insbesondere eines farbbildschirms nach der photolacktechnik
EP0647690A2 (de) Pigmentdispersion, Anzeigevorrichtung und Verfahren zur Herstellung dieser Vorrichtung
DE69835587T2 (de) Verfahren zur erzeugung einer farbfilterschicht auf einer flachen schirmanzeigestruktur
KR100242862B1 (ko) 음극선관 및 그 형광면의 형성방법
DE2014090A1 (de) Verfahren zum Herstellen von Lochblenden für Farbfernsehröhren
DE19827684A1 (de) Verfahren zur Bildung eines Rotfilterfilms in einer Kathodenstrahlröhre
DE2540132C3 (de) Verfahren zur Herstellung der Leuchtstoffpunkte mehrfarbiger flacher Anzeigeplatten
DE2428252C3 (de) Verfahren zum photographischen Drucken einer Schwarzmatrix
JPH1064427A (ja) カラー陰極線管のフィルター付き蛍光面の形成方法
DE69816558T2 (de) Lichtempfindliche zusammensetzung und verfahren zur herstellung von mustern
DE2249060A1 (de) Verfahren zur herstellung von bildern mittels einer stark lichtabsorbierenden oder lichtundurchlaessigen lichtempfindlichen schicht, die sich auf einem durchsichtigen oder durchscheinenden traeger befindet
DE2924714C2 (de) Verfahren zur Wiederaufbereitung eines Leuchtschirms einer Kathodenstrahlröhre unter Erhaltung einer lichtabsorbierenden Matrix
US6614160B1 (en) Fluorescent screen of color CRT and fabricating method thereof
JPS63207888A (ja) カラ−陰極線管用螢光体
DE2159626A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Leuchtschirms einer Kathodenstrahlröhre
DE2049535B2 (de) Verfahren zur herstellung einer lochmasken-farbbildwiedergaberoehre
KR100496271B1 (ko) 보호수지막용조성물및이를이용한음극선관용형광막의제조방법
JPH05266795A (ja) カラー陰極線管の製造方法
DE1614863A1 (de) Verfahren zum Abbilden von Strukturen auf lichtempfindlichen Schichten unter Verwendung von Photomasken

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8139 Disposal/non-payment of the annual fee