JPH1129855A - 反射干渉色膜の製造方法 - Google Patents

反射干渉色膜の製造方法

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JPH1129855A
JPH1129855A JP17879797A JP17879797A JPH1129855A JP H1129855 A JPH1129855 A JP H1129855A JP 17879797 A JP17879797 A JP 17879797A JP 17879797 A JP17879797 A JP 17879797A JP H1129855 A JPH1129855 A JP H1129855A
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JP
Japan
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mask
film
film thickness
opening
thickness distribution
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Application number
JP17879797A
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Inventor
Isao Hara
庸 原
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MEIHAN KK
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MEIHAN KK
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 真空成膜法において、装飾的に利用されるよ
うな、多色の反射干渉色膜を同時に、且つ、安価に製造
する方法を提供することにある。 【解決手段】 真空成膜法による反射干渉色膜の製造方
法において、図1に示す膜厚分布作成マスク2が (1)被膜基材1の表面から適当な距離を隔て、開口部
を有している。 (2)被膜基材1に接する部分が、上記開口部よりも広
い開口面積を有している。 (3)一つの被膜基材に対して、複数個の開口部が設け
られている。 ように構成され、あるいは、図2に示すように、膜厚分
布作成マスク2と被膜基材1との間に、膜厚分布作成マ
スク2の開口部よりも狭い、開口部を有するパターンマ
スク3を同時に使用して反射干渉色膜を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】真空成膜法によって、種々の
カラーを同時に被膜基材に成膜する膜の製造方法。
【0002】
【従来の技術】従来の真空成膜法は、一定の膜厚をなる
べく均一に成膜するように、工夫されてきた。従って、
コールドミラーやフィルターのような、反射干渉膜を利
用した膜の製造も一定膜厚の複数材料の膜を重ね合わせ
て製作することが通常である。しかし、最近になって装
飾的にいろいろの基材に対して、反射干渉色膜を多色的
に利用しようとする傾向が見られるようになってきた。
この様な場合に従来の真空成膜法では、種々の部分的な
マスクを何度も使用して成膜することになり、非常に多
くの工程が必要となり、同時にコストも高くなることと
なる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】真空成膜法において、
装飾的に利用されるような、多色の反射干渉色膜を同時
に、且つ、安価に製造する方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】真空成膜法による反射干
渉色膜の製造方法において、図1に示す膜厚分布作成マ
スク2が (1)被膜基材1の表面より適当な距離を隔て、開口部
を有している。 (2)被膜基材1に接する部分が、上記、開口部よりも
広い開口面積を有している。 (3)一つの被膜基材に対して、複数個の開口部が設け
られている。 ように構成され、あるいは図2に示すように、膜厚分布
作成マスク2と被膜基材1との間に、膜厚分布作成マス
ク2の開口部よりも狭い開口部を有するパターンマスク
3を同時に使用して反射干渉色膜を製造する。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明により成膜された反射干渉
色膜は、膜厚分布作成マスク2の開口部に対応する被膜
基材1の表面の膜厚とマスク2が被膜基材1に接する近
辺の膜厚とは大きく異なるため、膜厚分布作成マスク2
の形状に応じて、多色の分布が出来る。又、図2に示す
ような構成で成膜するとパターンマスク3の開口部に相
当する膜厚の色が形成されることになる。従って、目的
に応じたカラフルな被膜基材1が得られることになる。
【0006】
【実施例1】本発明の実施例1について、図面に従って
説明する。図1においては被膜基材1を平板として示し
ているが、立体的な基材であっても差し支えない。又、
膜厚分布作成マスク2の形状についても便宜的に円錐状
で示しているが形状についても自由に設計可能である。
図1に示しているように、膜厚分布作成マスク2は被膜
基材1に対して、部分的に円錐状に距離が離れて行き、
最長距離の部分に開口部4を形成してある。この様な状
態で通常の真空成膜法による成膜をした場合、被膜基材
1上に形成される膜は、開口部4に対応する位置は、設
定された所定の膜厚となるが、マスクとの接触部に近づ
くにつれ、徐々に膜厚が減少する。この膜厚の変化によ
り、被膜基材1状に形成された膜の反射干渉色は、種々
の色に変化して分布することになる。
【0007】
【実施例2】本発明の実施例2についてその構成を図2
に示す。実施例1における膜厚分布作成マスク2よりも
大きな形状の膜厚分布作成マスク2を製作し、被膜基材
1との間にパターンマスク3を挟み込んだ状態で、重ね
合わせてセットする。この様な構成で通常の真空成膜法
により成膜した場合、膜厚分布作成マスク2により形成
される反射干渉色のパターンマスク3の開口部4に相当
する干渉色が被膜基材1に形成されることになる。
【0008】
【発明の効果】本発明における製造方法により、種々の
反射干渉色を同時に形成することが出来ることから、従
来の装飾的な基材よりも多色的な基材を、安価に提供す
ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1における概略の構成斜視図
【図2】実施例2における概略の構成斜視図
【符号の説明】
1 ‥‥‥‥被膜基材 2 ‥‥‥‥膜厚分布作成マスク
【符号の説明】
3 ‥‥‥‥パターンマスク 4 ‥‥‥‥開口部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】真空成膜法による反射干渉色膜の製造方法
    において、図1に示す膜厚分布作成マスク2が (1)被膜基材1の表面より適当な間隔を持って開口部
    を有している。 (2)被膜基材1に接する部分が、上記、開口部よりも
    広い開口面積を有している。 (3)一つの被膜基材に対して、複数個の開口部が設け
    られている。 ように構成され、その膜厚分布作成マスク2を使用して
    反射干渉色膜を製造することを特徴とした膜の製造方
    法。
  2. 【請求項2】図2に示すように膜厚分布作成マスク2と
    被膜基材1との間に、膜厚分布作成マスク2の開口部よ
    りも狭い開口部を有するパターンマスク3を同時に使用
    することを特徴とした、特許請求の範囲第1項記載の膜
    の製造方法。
JP17879797A 1997-05-30 1997-05-30 反射干渉色膜の製造方法 Pending JPH1129855A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010186189A (ja) * 1998-07-31 2010-08-26 3M Co 二次成形性多層光学フィルムおよび成形方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010186189A (ja) * 1998-07-31 2010-08-26 3M Co 二次成形性多層光学フィルムおよび成形方法

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