JPH11295847A - 熱現像画像記録材料 - Google Patents

熱現像画像記録材料

Info

Publication number
JPH11295847A
JPH11295847A JP10112722A JP11272298A JPH11295847A JP H11295847 A JPH11295847 A JP H11295847A JP 10112722 A JP10112722 A JP 10112722A JP 11272298 A JP11272298 A JP 11272298A JP H11295847 A JPH11295847 A JP H11295847A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
image recording
silver
heat
recording material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10112722A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3893417B2 (ja
Inventor
Kazunobu Kato
和信 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP11272298A priority Critical patent/JP3893417B2/ja
Priority to US09/272,552 priority patent/US6146823A/en
Publication of JPH11295847A publication Critical patent/JPH11295847A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3893417B2 publication Critical patent/JP3893417B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
    • G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
    • G03C1/49836—Additives
    • G03C1/49845—Active additives, e.g. toners, stabilisers, sensitisers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
    • G03C1/34—Fog-inhibitors; Stabilisers; Agents inhibiting latent image regression
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
    • G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
    • G03C1/49827—Reducing agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
    • G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
    • G03C1/49836—Additives
    • G03C1/49863—Inert additives, e.g. surfactants, binders
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
    • G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
    • G03C1/4989—Photothermographic systems, e.g. dry silver characterised by a thermal imaging step, with or without exposure to light, e.g. with a thermal head, using a laser
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • G03C2001/7448—Dispersion
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C2200/00—Details
    • G03C2200/36—Latex

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 より低い現像温度で現像できる熱現像画像記
録材料を提供する。 【解決手段】 支持体上に、非感光性有機銀塩と、この
非感光性有機銀塩を還元しうる還元剤と、熱可塑性ポリ
マーのバインダーとを含む画像記録層を有する熱現像可
能な画像記録材料において、一般式（Ｉ）で示される化
合物を含むことを特徴とする熱現像画像記録材料。 一般式（Ｉ） Ａ1−Ｃ≡Ｃ−Ａ2 ［一般式（Ｉ）中、Ａ1およびＡ2は、それぞれ同じでも
異なっていてもよく、水素原子、総炭素数１６以下のア
ルキル基、または芳香環基を表し、Ａ1およびＡ2の少な
くとも一方は置換基としてヒドロキシ基を有する総炭素
数１６以下のアルキル基、またはアリール基である。］

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像可能な画像記
録材料に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】熱現像処理法を用いて写真画像を形成す
る熱現像感光材料は、例えば米国特許第３１５２９０４
号、同３４５７０７５号、およびＤ．モーガン（Morga
n）とＢ．シェリー(Shely) による「熱によって処理さ
れる銀システム（Thermally Processed Silver System
s）」（イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテ
リアルズ(Imaging Processes and Materials)Neblette
第８版、スタージ（Sturge）、Ｖ．ウォールワース（Wa
lworth）、Ａ．シェップ(Shepp) 編集、第２頁、１９６
９年に開示されている。
【０００３】このような熱現像感光材料は、還元可能な
銀源（例えば有機銀塩）、触媒活性量の光触媒（例えば
ハロゲン化銀）、銀の色調を制御する色調剤および還元
剤を通常バインダーマトリックス中に分散した状態で含
有している。熱現像感光材料は常温で安定であるが、露
光後高温（例えば、８０℃以上）に加熱した場合に還元
可能な銀源（酸化剤として機能する）と還元剤との間の
酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応
は露光で発生した潜像の触媒作用によって促進される。
露光領域中の有機銀塩の反応によって生成した銀は黒色
画像を提供し、これは非露光領域と対照をなし、画像の
形成がなされる。
【０００４】このような熱現像感光材料は、一般写真
用、マイクロ記録用、医療画像記録用、印刷製版用など
多方面に用いられる。用いられる光源としても、紫外
（ＵＶ）光、可視光、近赤外光など広い波長範囲が使わ
れる。特に、近年はレーザーや発光ダイオードの発達に
より、可視光から近赤外領域の発振波長で露光される用
途が増加してきている。
【０００５】また、一方では、これらのレーザー記録装
置に比べて、簡便で、低価格であることから、サーマル
ヘッドで記録するシステムも開発されてきている。この
用途の記録材料は、光触媒となる感光性ハロゲン化銀を
含まないこと以外は、上述の熱現像記録材料と同様の素
材より構成されている。
【０００６】印刷製版用途に適した硬調画像が得られる
熱現像記録材料として、次に挙げるような多くの特許出
願がなされている。これらには、硬調な画像を与える硬
調化剤として、各種のヒドラジン誘導体、アクリロニト
リル誘導体、イソキサゾロン誘導体、テトラゾリウム誘
導体などが記載されている。例えば、米国特許第5,464,
738 号、同5,496,695 号、同6,512,411 号、同5,536,62
2 号、日本特許特願平7-228627号、同8-215822号、同8-
130842号、同8-148113号、同8-156378号、同8-148111
号、同8-148116号に記載のヒドラジン誘導体、あるい
は、日本特許特願平8-83566 号に記載の四級窒素原子を
有する化合物や米国特許第5,545,515 号に記載のアクリ
ロニトリル化合物を用いることができる。化合物の具体
例としては、前記米国特許第5,464,738 号の化合物1 〜
10、同5,496,695 号のH-1 〜H-28、特願平8-215822号の
Ｉ-1〜Ｉ-86 、同8-130842号のH-1 〜H-62、同8-148113
号の1-1 〜1-21、同8-148111号の1 〜50、同8-148116号
の1 〜40、同8-83566 号のP-1〜P-26、およびT-1 〜T-1
8、米国特許第5,545,515 号のCN-1〜CN-13 などが挙げ
られる。
【０００７】熱現像記録材料の１つの大きな問題は、現
像温度が高いため、フィルムが変形したり、黒化濃度ム
ラを引き起こし、あるいは臭気や刺激性のガスを発生し
たり、あるいは酸性の揮散した物質がエレクトロニクス
機器に付着して腐蝕させるなどのトラブルを引き起こす
ことである。
【０００８】従って、熱現像温度を低くすることが求め
られた。特に、水分散ポリマーラテックスをバインダー
に用いた場合や超硬調化剤を用いて硬調画像を作る場合
に、現像により高い温度を必要とするため、特に熱現像
温度の低温化が切実な要望であった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、改良された
熱現像画像記録材料に関するものであり、具体的にはよ
り低い現像温度で現像できる熱現像画像記録材料を提供
することである。特に、環境面、コスト面で有利な水系
塗布を実現し、良好な写真性能を与える熱可塑性ポリマ
ーラテックスを画像記録層のバインダーに用いた場合
や、超硬調な画像を得るために超硬調化剤を含有させた
場合において、より低い現像温度で現像できる熱現像画
像記録材料を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的は、下記の本発
明によって達成される。 （１） 支持体上に、非感光性有機銀塩と、この非感光
性有機銀塩を還元しうる還元剤と、熱可塑性ポリマーの
バインダーとを含む画像記録層を有する熱現像可能な画
像記録材料において、一般式（Ｉ）で示される化合物を
含むことを特徴とする熱現像画像記録材料。 一般式（Ｉ） Ａ1−Ｃ≡Ｃ−Ａ2 ［一般式（Ｉ）中、Ａ1およびＡ2は、それぞれ同じでも
異なっていてもよく、水素原子、総炭素数１６以下のア
ルキル基、または芳香環基を表し、Ａ1およびＡ2の少な
くとも一方は置換基としてヒドロキシ基を有する総炭素
数１６以下のアルキル基、またはアリール基である。］ （２） 感光性ハロゲン化銀を含む上記（１）の熱現像
画像記録材料。 （３） 超硬調化剤を含む上記（１）または（２）の熱
現像画像記録材料。 （４） 前記バインダーが熱可塑性ポリマーの水分散ラ
テックスより形成される上記（１）〜（３）のいずれか
の熱現像画像記録材料。 （５） 前記還元剤が水に固体分散されて添加される上
記（４）の熱現像画像記録材料。 （６） カブリ防止剤を含み、カブリ防止剤が水に固体
分散されて添加される上記（４）または（５）の熱現像
画像記録材料。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の熱現像画像記録材料は、支持体上に、非
感光性有機銀塩と、これを還元しうる還元剤と、熱可塑
性バインダーとを含有する画像記録層を有するものであ
り、好ましくは感光性ハロゲン化銀および／または超硬
調化剤を含有する。このような熱現像画像記録材料にお
いて、一般式（Ｉ）で示される化合物を含有させること
によって、良好な写真性能を得るための熱現像温度を低
くすることができる。このため、フィルム変形や黒化濃
度ムラの発生等の種々のトラブルを防止することができ
る。特に、環境面、コスト面で有利な水系塗布が可能と
なり、かつ良好な写真性能を与える熱可塑性ポリマーの
水分散ラテックスを画像記録層のバインダーに用いた場
合や、超硬調な画像を得るために超硬調化剤を含有させ
た場合に、熱現像温度を高くする必要がある。このよう
な場合に、一般式（Ｉ）で示される化合物の使用は特に
有効である。
【００１２】なお、画像記録層のバインダーとして熱可
塑性ポリマーの水分散ラテックスを用いる場合、非感光
性有機銀塩とともに、還元剤やカブリ防止剤も水の固体
分散物として添加することが好ましく、一般式（Ｉ）で
示される化合物をこのような水の固体分散物の調製の際
に添加すると分散を促進する副次的効果が得られる。
【００１３】まず、一般式（Ｉ）について説明する。 一般式（Ｉ） Ａ1−Ｃ≡Ｃ−Ａ2
【００１４】式中、Ａ1およびＡ2は、それぞれ同じでも
異なっていてもよく、水素原子、総炭素数１６以下のア
ルキル基、または芳香環基を表し、Ａ1およびＡ2の少な
くとも一方は置換基としてヒドロキシ基を有する総炭素
数１６以下のアルキル基、またはアリール基である。
【００１５】一般式（Ｉ）のＡ1とＡ2の総炭素数１６以
下のアルキル基は、直鎖でも分岐していてもよく、ある
いは環状でもよく、好ましくは総炭素数１０以下であ
る。
【００１６】芳香環基は、フェニル基、ナフチル基等の
アリール基、ピリジル基等の芳香族ヘテロ環基であり、
好ましくはアリール基であり、特に好ましくはフェニル
基である。この場合の総炭素数は１〜１６であることが
好ましい。
【００１７】Ａ1、Ａ2の少なくとも一方は、置換基とし
てヒドロキシ基を有するアルキル基、または芳香環基で
ある。アルキル基、芳香環基は、置換基としてヒドロキ
シ基、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Br、Ｉ）、シアノ基、ニト
ロ基、アミノ基（総炭素数５以下のアルキル基、ヒドロ
キシアルキル基で置換されてもよい）、またはアルコキ
シ基（総炭素数５以下）、ヒドロキシアルキル基（総炭
素数５以下）を有してもよい。また、アルキル基の置換
基としては、アリール基（例えばフェニル基、クロロフ
ェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基）など
も挙げられ、芳香環基の置換基としてはアルキル基など
であってもよい。Ａ1、Ａ2としては、アルキル基が好ま
しい。
【００１８】以下に一般式（Ｉ）で示される化合物の具
体例を挙げるが、本発明はこれらに限られるものではな
い。
【００１９】
【化１】
【００２０】
【化２】
【００２１】これらの化合物は公知であり、市販品とし
て入手するか、あるいは公知の方法により合成される。
【００２２】これらの一般式（Ｉ）の化合物は、画像記
録層、または画像記録層側の他の補助層（下塗層、アン
チハレーション層、中間層、保護層など）に添加して用
いられる。水、または有機溶媒に溶かして添加するか、
あるいは固体を機械的に分散して添加することができ
る。好ましくは、還元剤やカブリ防止剤の固体分散物を
調製するときに、添加するのが望ましい。その理由は、
まとめて分散できるので分散が１度で済むという生産性
の向上の他に、これらの一般式（Ｉ）の化合物は、還元
剤やカブリ防止剤の分散時に発生する発泡を抑制し、分
散を促進する効果もあることも思いがけず認められたか
らである。
【００２３】これらの一般式（Ｉ）の化合物は、記録材
料１m2当たりの塗布量で示して、０．０５mg/m2〜５０
０mg/m2、好ましくは０．１mg/m2〜１００mg/m2で用い
られる。
【００２４】本発明に用いられる有機銀塩のための還元
剤は、銀イオンを金属銀に還元する任意の物質、好まし
くは有機物質であってよい。フェニドン、ハイドロキノ
ンおよびカテコールなどの従来の写真現像剤は有用であ
るが、ヒンダードフェノール還元剤が好ましい。還元剤
は、画像形成層の１〜１０重量％として存在すべきであ
る。多層構成において、還元剤をエマルジョン層以外の
層に加える場合は、わずかに高い割合である約２〜１５
重量％がより望ましい傾向がある。
【００２５】有機銀塩を利用した熱現像画像記録材料に
おいては広範囲の還元剤が開示されている。例えば、フ
ェニルアミドオキシム、２−チエニルアミドオキシムお
よびｐ−フェノキシフェニルアミドオキシムなどのアミ
ドオキシム；例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジメトキ
シベンズアルデヒドアジンなどのアジン；２，２′−ビ
ス（ヒドロキシメチル）プロピオニル−β−フェニルヒ
ドラジンとアスコルビン酸との組合せのような脂肪族カ
ルボン酸アリールヒドラジドとアスコルビン酸との組合
せ；ポリヒドロキシベンゼンと、ヒドロキシルアミン、
レダクトンおよび／またはヒドラジンの組合せ（例えば
ハイドロキノンと、ビス（エトキシエチル）ヒドロキシ
ルアミン、ピペリジノヘキソースレダクトンまたはホル
ミル−４−メチルフェニルヒドラジンの組合せなど）；
フェニルヒドロキサム酸、ｐ−ヒドロキシフェニルヒド
ロキサム酸およびβ−アリニンヒドロキサム酸などのヒ
ドロキサム酸；アジンとスルホンアミドフェノールとの
組合せ（例えば、フェノチアジンと２，６−ジクロロ−
４−ベンゼンスルホンアミドフェノールなど）；エチル
−α−シアノ−２−メチルフェニルアセテート、エチル
−α−シアノフェニルアセテートなどのα−シアノフェ
ニル酢酸誘導体；２，２′−ジヒドロキシ−１，１′−
ビナフチル、６，６′−ジブロモ−２，２′−ジヒドロ
キシ−１，１′−ビナフチルおよびビス（２−ヒドロキ
シ−１−ナフチル）メタンに例示されるようなビス−β
−ナフトール；ビス−β−ナフトールと１，３−ジヒド
ロキシベンゼン誘導体（例えば、２，４−ジヒドロキシ
ベンゾフェノンまたは２′，４′−ジヒドロキシアセト
フェノンなど）の組合せ；３−メチル−１−フェニル−
５−ピラゾロンなどの、５−ピラゾロン；ジメチルアミ
ノヘキソースレダクトン、アンヒドロジヒドロアミノヘ
キソースレダクトンおよびアンヒドロジヒドロピペリド
ンヘキソースレダクトンに例示されるようなレダクト
ン；２，６−ジクロロ−４−ベンゼンスルホンアミドフ
ェノールおよびｐ−ベンゼンスルホンアミドフェノール
などのスルホンアミドフェノール還元剤；２−フェニル
インダン−１，３−ジオンなど；２，２−ジメチル−７
−ｔ−ブチル−６−ヒドロキシクロマンなどのクロマ
ン；２，６−ジメトキシ−３，５−ジカルボエトキシ−
１，４−ジヒドロピリジンなどの１，４−ジヒドロピリ
ジン；ビスフェノール（例えば、ビス（２−ヒドロキシ
−３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）メタン、２，
２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロ
パン、４，４−エチリデン−ビス（２−ｔ−ブチル−６
−メチルフェノール）、１，１−ビス（２−ヒドロキシ
−３，５−ジメチルフェニル）−３，５，５−トリメチ
ルヘキサンおよび２，２−ビス（３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロパンなど）；アスコルビン
酸誘導体（例えば、パルミチン酸１−アスコルビル、ス
テアリン酸アスコルビルなど）；ならびにベンジルおよ
びビアセチルなどのアルデヒドおよびケトン；３−ピラ
ゾリドンおよびある種のインダン−１，３−ジオンなど
がある。
【００２６】特に好ましい還元剤は、少なくとも１つの
フェノール性水酸基を有し、そのオルト位が水素原子以
外の置換基で置換されている化合物である。フェノール
環が１つでも良いし、複数個を１分子内に含んでもよ
い。
【００２７】具体的には、次の一般式（Ｉａ）、（Ｉ
ｂ）、（IIａ）、（IIｂ）、（III）、（IVａ）および
（IVｂ）で表される化合物が好ましい。
【００２８】
【化３】
【００２９】なお、一般式（IVａ）においてＺが作る環
は下記のものである。
【００３０】
【化４】
【００３１】また、一般式（IVｂ）においてＺが作る環
は下記のものである。
【００３２】
【化５】
【００３３】式中、置換Ｒ（Ｒ1〜Ｒ6、Ｒ1’〜Ｒ3’、
Ｒ11〜Ｒ16、Ｒ11’〜Ｒ14’を含む）は、水素原子、ア
ルキル基（炭素数１〜３０）、水酸基、アルコキシ基
（炭素数１〜３０）、芳香族基（炭素数３０以下の置換
もしくは無置換のフェニル基）、アラルキル基（炭素数
３０以下）、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアミ
ノ基である。以下に具体例を挙げる。
【００３４】
【化６】
【００３５】
【化７】
【００３６】
【化８】
【００３７】
【化９】
【００３８】
【化１０】
【００３９】本発明の還元剤の使用量は好ましくは銀１
モル当たり１×１０-2〜１０モル、特に１×１０-2〜
１．５モルである。
【００４０】また本発明では還元剤と超硬調化剤のモル
比を１：１０-3〜１：１０-1の範囲に設定することが好
ましい。
【００４１】本発明の熱現像画像記録材料は、熱現像処
理法を用いて写真画像を形成するものである。このよう
な熱現像画像記録材料としては前述のとおり例えば米国
特許第３１５２９０４号、同３４５７０７５号、および
Ｄ．モーガン(Morgan)とＢ．シェリー(Shely) による
「熱によって処理される銀システム(Thermally Process
ed Silver Systems)」（イメージング・プロセッシーズ
・アンド・マテリアルズ(Imaging Processes and Mater
ials)Neblette 第８版、スタージ(Sturge)、Ｖ．ウォー
ルワース(Walworth)、Ａ．シェップ(Shepp) 編集、第２
頁、１９６９年）等に開示されている。
【００４２】本発明の熱現像画像記録材料は、熱現像処
理を用いて写真画像を形成するものであればよいが、還
元可能な銀源（有機銀塩）、触媒活性量の光触媒（例え
ばハロゲン化銀）、銀の色調を抑制する色調剤および還
元剤を通常（有機）バインダーマトリックス中に分散し
た状態で含有している熱現像画像記録材料であることが
好ましい。本発明の熱現像画像記録材料は常温で安定で
あるが、一般的には露光後処理液を供給することなく高
温に加熱することで現像される。加熱することで還元可
能な銀源（酸化剤として機能する）と還元剤との間の酸
化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は
露光で発生した潜像の触媒作用によって促進される。露
光領域中の有機銀塩の反応によって生成した銀は黒色画
像を提供し、これは非露光領域と対照をなし、画像の形
成がなされる。
【００４３】熱現像画像記録材料の場合は支持体上に少
なくとも一層の画像記録層、好ましくは感光層を有して
いる。支持体の上に画像記録層のみを形成しても良い
が、画像記録層の上に少なくとも１層の非画像記録層を
形成することが好ましい。
【００４４】本発明の感光性熱現像画像記録材料におい
ては、感光層に通過する光の量または波長分布を制御す
るために感光層と同じ側または反対側にフィルター層を
形成しても良いし、感光層に染料または顔料を含ませて
も良い。染料としては特願平７−１１１８４号の化合物
が好ましい。
【００４５】感光層は複数層にしても良く、また階調の
調節のため感度を高感層／低感層または低感層／高感層
にしても良い。
【００４６】各種の添加剤は感光層のような画像記録
層、非感光層のような非画像記録層、またはその他の構
成層のいずれに添加しても良い。
【００４７】本発明の熱現像画像記録材料には例えば、
界面活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸
収剤、被覆助剤等を用いても良い。
【００４８】好適なバインダーは透明または半透明で、
一般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマーお
よびコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例え
ば；ゼラチン、アラビアゴム、ポリ（ビニルアルコー
ル）、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート、ポリ（ビニル
ピロリドン）、カゼイン、デンプン、ポリ（アクリル
酸）、ポリ−（メチルメタクリル酸）、ポリ（塩化ビニ
ル）、ポリ（メタクリル酸）、コポリ（スチレン−無水
マレイン酸）、コポリ（スチレン−アクリロニトリ
ル）、コポリ（スチレン−ブタジエン）、ポリ（ビニル
アセタール）類（例えば、ポリ（ビニルホルマール）お
よびポリ（ビニルブチラール））、ポリ（エステル）
類、ポリ（ウレタン）類、フェノキシ樹脂、ポリ（塩化
ビニリデン）、ポリ（エポキシド）類、ポリ（カーボネ
ート）類、ポリ（ビニルアセテート）、セルロースエス
テル類、ポリ（アミド）類がある。バインダーは水また
は有機溶媒またはエマルジョンから被覆形成してもよ
い。
【００４９】色調剤の添加は非常に望ましい。好適な色
調剤の例は調査報告第１７０２９号に開示されており、
次のものがある：イミド類（例えば、フタルイミド）；
環状イミド類、ピラゾリン−５−オン類、およびキナゾ
リノン（例えば、スクシンイミド、３−フェニル−２−
ピラゾリン−５−オン、１−フェニルウラゾール、キナ
ゾリンおよび２，４−チアゾリジンジオン）；ナフター
ルイミド類（例えば、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタ
ールイミド）；コバルト錯体（例えば、コバルトのヘキ
サミントリフルオロアセテート）、メルカプタン類（例
えば、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール）；
Ｎ−（アミノメチル）アリールジカルボキシイミド類
（例えば、Ｎ−（ジメチルアミノメチル）フタルイミ
ド）；ブロックされたピラゾール類、イソチウロニウム
(isothiuronium) 誘導体およびある種の光漂白剤の組み
合わせ（例えば、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレン（１−カル
バモイル−３，５−ジメチルピラゾール）、１，８−
（３，６−ジオキサオクタン）ビス（イソチウロニウム
トリフルオロアセテート）、および２−（トリプロモメ
チルスルホニル）ベンゾチアゾールの組み合わせ）；メ
ロシアニン染料（例えば、３−エチル−５−（（３−エ
チル−２−ベンゾチアゾリニリデン(benzothiazolinyli
dene))−１−メチルエチリデン）−２−チオ−２，４−
オキサゾリジンジオン(oxazolidinedione)) ；フタラジ
ノン、フタラジノン誘導体またはこれらの誘導体の金属
塩（例えば、４−（１−ナフチル）フタラジノン、６−
クロロフタラジノン、５，７−ジメチルオキシフタラジ
ノン、および２，３−ジヒドロ−１，４−フタラジンジ
オン）；フタラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わ
せ（例えば、６−クロロフタラジノン＋ベンゼンスルフ
ィン酸ナトリウムまたは８−メチルフタラジノン＋ｐ−
トリスルホン酸ナトリウム）；フタラジン＋フタル酸の
組み合わせ；フタラジン（フタラジンの付加物を含む）
とマレイン酸無水物、およびフタル酸、２，３−ナフタ
レンジカルボン酸またはｏ−フェニレン酸誘導体および
その無水物（例えば、フタル酸、４−メチルフタル酸、
４−ニトロフタル酸およびテトラクロロフタル酸無水
物）から選択される少なくとも１つの化合物との組み合
わせ；キナゾリンジオン類、ベンズオキサジン、ナルト
キサジン誘導体；ベンズオキサジン−２，４−ジオン類
（例えば、１，３−ベンズオキサジン−２，４−ジオ
ン）；ピリミジン類および不斉−トリアジン類（例え
ば、２，４−ジヒドロキシピリミジン）、およびテトラ
アザペンタレン誘導体（例えば、３，６−ジメルカプト
−１，４−ジフェニル−１Ｈ，４Ｈ−２，３ａ，５，６
ａ−テトラアザペンタレン。好ましい色調剤としてはフ
タラジンである。
【００５０】触媒活性量の光触媒として有用なハロゲン
化銀は感光性のいかなるハロゲン化銀（例えば、臭化
銀、ヨウ化銀、塩化銀、塩臭化銀、ヨウ臭化銀、塩ヨウ
臭化銀等）であってもよいがヨウ素イオンを含むことが
好ましい。このハロゲン化銀はいかなる方法で画像記録
層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀は還元可
能な銀源に近接するように配置する。一般にハロゲン化
銀は還元可能な銀源に対して０．７５〜３０重量％の量
を含有することが好ましい。ハロゲン化銀は、ハロゲン
イオンとの反応による銀石鹸部の変換によって調製して
もよく、予備形成して石鹸の発生時にこれを添加しても
よく、またはこれらの方法の組み合わせも可能である。
後者が好ましい。この感光性ハロゲン化銀については後
述する。
【００５１】還元可能な銀源は還元可能な銀イオン源を
含有する有機およびヘテロ有機酸の銀塩、特に長鎖（１
０〜３０、好ましくは１５〜２５の炭素原子数）の脂肪
族カルボン酸が好ましい。配位子が４．０〜１０．０の
銀イオンに対する総安定度定数を有する有機または無機
の銀塩錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Research
Disclosure 第１７０２９および２９９６３に記載され
ており、次のものがある：有機酸の銀塩（例えば、没食
子酸、シュウ酸、ベヘン酸、ステアリン酸、パルミチン
酸、ラウリン酸、アラキン酸等）；銀のカルボキシアル
キルチオ尿素塩（例えば、１−（３−カルボキシプロピ
ル）チオ尿素、１−（３−カルボキシプロピル）−３，
３−ジメチルチオ尿素等）；アルデヒドとヒドロキシ置
換芳香族カルボン酸とのポリマー反応生成物の銀錯体
（例えば、アルデヒド類（ホルムアルデヒド、アセトア
ルデヒド、ブチルアルデヒド）、ヒドロキシ置換酸類
（例えば、サリチル酸、安息香酸、３，５−ジヒドロキ
シ安息香酸、５，５−チオジサリチル酸）、チオエン類
の銀塩または錯体（例えば、３−（２−カルボキシエチ
ル）−４−ヒドロキシメチル−４−（チアゾリン−２−
チオエン、および３−カルボキシメチル−４−チアゾリ
ン−２−チオエン）、イミダゾール、ピラゾール、ウラ
ゾール、１，２，４−チアゾールおよび１Ｈ−テトラゾ
ール、３−アミノ−５−ベンジルチオ−１，２，４−ト
リアゾールおよびベンゾトリアゾールから選択される窒
素酸と銀との錯体また塩；サッカリン、５−クロロサリ
チルアルドキシム等の銀塩；およびメルカプチド類の銀
塩。好ましい銀源はベヘン酸銀であり、これと他の有機
酸銀とを併用することも好ましい。還元可能な銀源は好
ましくは銀量として記録材料１m2当たりの塗布量で示し
て５g/m2以下である。さらに好ましくは０．３〜３．０
g/m2である。
【００５２】このような記録材料中にはカブリ防止剤が
含まれて良い。最も有効なカブリ防止剤は水銀イオンで
あった。感光材料中にカブリ防止剤として水銀化合物を
使用することについては、例えば米国特許第３５８９９
０３号に開示されている。しかし、水銀化合物は環境的
に好ましくない。非水銀カブリ防止剤としては例えば米
国特許第４５４６０７５号および同４４５２８８５号お
よび日本特許公開第５９−５７２３４号に開示されてい
るようなカブリ防止剤が好ましい。
【００５３】特に好ましい非水銀カブリ防止剤は、米国
特許第３８７４９４６号および同４７５６９９９号に開
示されているような化合物、−Ｃ（Ｘ1 ）（Ｘ2 ）（Ｘ
3 ）（ここでＸ1 およびＸ2 はハロゲン（例えば、Ｆ，
Ｃｌ，ＢｒおよびＩ）でＸ3は水素またはハロゲン）で
表される１以上の置換基を備えたヘテロ還状化合物であ
る。好適なカブリ防止剤の例としては次のものがある。
【００５４】
【化１１】
【００５５】
【化１２】
【００５６】更により好適なカブリ防止剤は米国特許第
５０２８５２３号および英国特許出願第９２２２１３８
３．４号、同９３００１４７．７号、同９３１１７９
０．１号に開示されている。
【００５７】本発明の熱現像画像記録材料には、例えば
特開昭６３−１５９８４１号、同６０−１４０３３５
号、同６３−２３１４３７号、同６３−２５９６５１
号、同６３−３０４２４２号、同６３−１５２４５号、
米国特許第４６３９４１４号、同４７４０４５５号、同
４７４１９６６号、同４７５１１７５号、同４８３５０
９６号に記載された増感色素が使用できる。
【００５８】本発明に使用される有用な増感色素は例え
ばRESEARCH DISCLOSURE Item１７６４３IV−Ａ項（１９
７８年１２月ｐ．２３）、同 Item １８３１Ｘ項（１９
７８年８月ｐ．４３７）に記載もしくは引用された文献
に記載されている。
【００５９】特に各種スキャナー光源の分光特性に適し
た分光感度を有する増感色素を有利に選択することがで
きる。
【００６０】例えば、 Ａ）アルゴンレーザー光源に対しては、特開昭６０−１
６２２４７号、特開平２−４８６５３号、米国特許第
２，１６１，３３１号、西独特許９３６，０７１号、特
願平３−１８９５３２号記載のシンプルメロシアニン
類、Ｂ）ヘリウム−ネオンレーザー光源に対しては、特
開昭５０−６２４２５号、同５４−１８７２６号、同５
９−１０２２２９号に示された三核シアニン色素類、特
願平６−１０３２７２号に示されたメロシアニン類、
Ｃ）ＬＥＤ光源および赤色半導体レーザーに対しては特
公昭４８−４２１７２号、同５１−９６０９号、同５５
−３９８１８号へ特開昭６２−２８４３４３号、特開平
２−１０５１３５号に記載されたチアカルボシアニン
類、Ｄ）赤外半導体レーザー光源に対しては特開昭５９
−１９１０３２号、特開昭６０−８０８４１号に記載さ
れたトリカルボシアニン類、特開昭５９−１９２２４２
号、特開平３−６７２４２号の一般式（IIIa）、一般式
（IIIb）に記載された４−キノリン核を含有するジカル
ボシアニン類などが有利に選択される。
【００６１】これらの増感色素は単独に用いてもよい
が、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せ
は特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色
素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素ある
いは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増
感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。
【００６２】本発明の熱現像画像記録材料の露光は、Ａ
ｒレーザー（４８８nm）、Ｈｅ−Ｎｅレーザー（６３３
nm）、赤色半導体レーザー（６７０nm）、赤外半導体レ
ーザー（７８０nm，８３０nm）などが好ましい。
【００６３】本発明の熱現像画像記録材料にはハレーシ
ョン防止層として、染料を含有する層を設けることがで
きる。Ａｒレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、赤色半導体
レーザー用には４００nm〜７５０nmの範囲で、露光波長
に少なくとも０．３以上、好ましくは０．８以上の吸収
となるように染料を添加する。赤外半導体レーザー用に
は７５０nm〜１５００nmの範囲で、露光波長に少なくと
も０．３以上、好ましくは０．８以上の吸収となるよう
に染料を添加する。染料は１種でも数種を組み合わせて
も良い。
【００６４】このような染料は画像記録層である感光層
と同じ側の支持体に近い染料層あるいは、感光層と反対
側の染料層に添加することができる。
【００６５】本発明には現像を抑制あるいは促進させる
現像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、
現像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化
合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させる
ことができる。
【００６６】本発明にメルカプト化合物を使用する場
合、いかなる構造のものでも良いが、Ａｒ−ＳＭ，Ａｒ
−Ｓ−Ｓ−Ａｒで表されるものが好ましい。式中、Ｍは
水素原子またはアルカリ金属原子であり、Ａｒは１個以
上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムもしくはテルリウ
ム原子を有する芳香環基または縮合芳香環基である。好
ましくは、これらの基中の複素芳香環はベンズイミダゾ
ール、ナフトイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフト
チアゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾー
ル、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラゾール、イミダ
ゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、チ
アジアゾール、テトラゾール、トリアジン、ピリミジ
ン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリ
ンまたはキナゾリノンである。この複素芳香環は、例え
ば、ハロゲン（例えば、ＢｒおよびＣｌ）、ヒドロキ
シ、アミノ、カルボキシ、アルキル（例えば、１個以上
の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素原子を有するも
の）およびアルコキシ（例えば、１個以上の炭素原子、
好ましくは１〜４個の炭素原子を有するもの）からなる
置換基群から選択されるものを有してもよい。メルカプ
ト置換複素芳香族化合物としては、２−メルカプトベン
ズイミダゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、
２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプト−５
−メチルベンズイミダゾール、６−エトキシ−２−メル
カプトベンゾチアゾール、２，２′−ジチオビス−ベン
ゾチアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾ
ール、４，５−ジフェニル−２−イミダゾールチオー
ル、２−メルカプトイミダゾール、１−エチル−２−メ
ルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトキノリ
ン、８−メルカプトプリン、２−メルカプト−４（３
Ｈ）−キナゾリノン、７−トリフルオロメチル−４−キ
ノリンチオール、２，３，５，６−テトラクロロ−４−
ピリジンチオール、４−アミノ−６−ヒドロキシ−２−
メルカプトピリミジンモノヒドレート、２−アミノ−５
−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール、３−アミ
ノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−
ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジン、２−メルカプ
トピリミジン、４，６−ジアミノ−２−メルカプトピリ
ミジン、２−メルカプト−４−メチルピリミジンヒドロ
クロリド、３−メルカプト−５−フェニル−１，２，４
−トリアゾール、２−メルカプト−４−フェニルオキサ
ゾールなどが挙げられるが、本発明はこれらに限定され
ない。
【００６７】これらのメルカプト化合物の添加量として
は画像記録層である乳剤層中に銀１モル当たり０．００
１〜１．０モルの範囲が好ましく、さらに好ましくは、
銀の１モル当たり０．０１〜０．３モルの量である。
【００６８】本発明における感光性ハロゲン化銀の形成
方法は当業界ではよく知られており例えば、リサーチデ
ィスクロージャー１９７８年６月の第１７０２９号、お
よび米国特許第３，７００，４５８号に記載されている
方法を用いることができる。本発明で用いることのでき
る具体的な方法としては、調製された有機銀塩中にハロ
ゲン含有化合物を添加することにより有機銀塩の銀の一
部を感光性ハロゲン化銀に変換する方法、ゼラチンある
いは他のポリマー溶液の中に銀供給化合物およびハロゲ
ン供給化合物を添加することにより感光性ハロゲン化銀
粒子を調製し有機銀塩と混合する方法を用いることがで
きる。本発明において好ましくは後者の方法を用いるこ
とができる。感光性ハロゲン化銀の粒子サイズは、画像
形成後の白濁を低く抑える目的のために小さいことが好
ましく具体的には０．２０μｍ以下、より好ましくは
０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下、更に好ましくは
０．０２μｍ以上０．１２μｍ以下がよい。ここでいう
粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子が立方体あるいは八
面体のいわゆる正常晶である場合にはハロゲン化銀粒子
の稜の長さをいう。また、ハロゲン化銀粒子が平板状粒
子である場合には主表面の投影面積と同面積の円像に換
算したときの直径をいう。その他正常晶でない場合、例
えば球状粒子、棒状粒子等の場合には、ハロゲン化銀粒
子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。
【００６９】ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、
八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ
状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特
に立方体状粒子、平板状粒子が好ましい。平板状ハロゲ
ン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は好ましく
は１００：１〜２：１、より好ましくは５０：１〜３：
１がよい。更に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まっ
た粒子も好ましく用いることができる。感光性ハロゲン
化銀粒子の外表面の面指数（ミラー指数）については特
に制限はないが、分光増感色素が吸着した場合の分光増
感効率が高い｛１００｝面の占める割合が高いことが好
ましい。その割合としては５０％以上が好ましく、６５
％以上がより好ましく、８０％以上が更に好ましい。ミ
ラー指数｛１００｝面の比率は増感色素の吸着における
｛１１１｝面と｛１００｝面との吸着依存性を利用した
T.Tani;J.Imaging Sci.,29,165（１９８５年）に記載の
方法により求めることができる。感光性ハロゲン化銀の
ハロゲン組成としては特に制限はなく、前記したよう
に、塩化銀、塩臭化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭
化銀、ヨウ化銀のいずれであっても良いが、本発明にお
いては臭化銀、あるいはヨウ臭化銀を好ましく用いるこ
とができる。特に好ましくはヨウ臭化銀であり、ヨウ化
銀含有率は０．１モル％以上４０モル％以下が好まし
く、０．１モル％以上２０モル％以下がより好ましい。
粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一であってもよ
く、ハロゲン組成がステップ状に変化したものでもよ
く、あるいは連続的に変化したものでもよいが、好まし
い例として粒子内部のヨウ化銀含有率の高いヨウ臭化銀
粒子を使用することができる。また、好ましくはコア／
シェル構造を有するハロゲン化銀粒子を用いることがで
きる。構造としては好ましくは２〜５重構造、より好ま
しくは２〜４重構造のコア／シェル粒子を用いることが
できる。
【００７０】本発明の感光性ハロゲン化銀粒子は、ロジ
ウム、レニウム、ルテニウム、オスミウム、イリジウ
ム、コバルトまたは鉄から選ばれる金属の錯体を少なく
とも一種含有することが好ましい。これら金属錯体は１
種類でもよいし、同種金属および異種金属の錯体を二種
以上併用してもよい。好ましい含有率は銀１モルに対し
１ｎモルから１０ｍモルの範囲が好ましく、１０ｎから
１００μモルの範囲がより好ましい。具体的な金属錯体
の構造としては特開平７−２２５４４９号等に記載され
た構造の金属錯体を用いることができる。コバルト、鉄
の化合物については六シアノ金属錯体を好ましく用いる
ことができる。具体例としては、フェリシアン酸イオ
ン、フェロシアン酸イオン、ヘキサシアノコバルト酸イ
オンなどが挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。ハロゲン化銀中の金属錯体の含有量は均一でも、
コア部に高濃度に含有させてもよく、あるいはシェル部
に高濃度に含有させてもよく特に制限はない。
【００７１】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが本発明においては脱塩
してもしなくてもよい。
【００７２】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は
化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感
法としては当業界でよく知られているように硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法を用いることができ
る。また金化合物や白金、パラジウム、イリジウム化合
物等の貴金属増感法や還元増感法を用いることができ
る。硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法に好まし
く用いられる化合物としては公知の化合物を用いること
ができるが、特開平７−１２８７６８号等に記載の化合
物を使用することができる。テルル増感剤としては例え
ばジアシルテルリド類、ビス（オキシカルボニル）テル
リド類、ビス（カルバモイル）テルリド類、ジアシルテ
ルリド類、ビス（オキシカルボニル）ジテルリド類、ビ
ス（カルバモイル）ジテルリド類、Ｐ＝Ｔｅ結合を有す
る化合物、テルロカルボン酸塩類、Ｔｅ−オルガニルテ
ルロカルボン酸エステル類、ジ（ポリ）テルリド類、テ
ルリド類、テルロール類、テルロアセタール類、テルロ
スルホナート類、Ｐ−Ｔｅ結合を有する化合物、含Ｔｅ
ヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機テルル化合
物、コロイド状テルルなどを用いることができる。貴金
属増感法に好ましく用いられる化合物としては例えば塩
化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチ
オシアネート、硫化金、金セレナイド、あるいは米国特
許第２，４４８，０６０号、英国特許第６１８，０６１
号などに記載されている化合物を好ましく用いることが
できる。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコル
ビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一スズ、
アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、
ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用
いることができる。また、乳剤のｐＨを７以上またはｐ
Ａｇを８．３以下に保持して熟成することにより還元増
感することができる。また、粒子形成中に銀イオンのシ
ングルアディション部分を導入することにより還元増感
することができる。
【００７３】本発明の感光性ハロゲン化銀の使用量とし
ては有機銀塩１モルに対して感光性ハロゲン化銀０．０
１モル以上０．５モル以下が好ましく、０．０２モル以
上０．３モル以下がより好ましく、０．０３モル以上
０．２５モル以下が特に好ましい。別々に調製した感光
性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合方法および混合条件に
ついては、それぞれ調製終了したハロゲン化銀粒子と有
機銀塩を高速撹拌機やボールミル、サンドミル、コロイ
ドミル、振動ミル、ホモジナイザー等で混合する方法
や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれかのタイミング
で調製終了した感光性ハロゲン化銀を混合して有機銀塩
を調製する方法等があるが、本発明の効果が十分に現れ
る限りにおいては特に制限はない。
【００７４】本発明における銀の塗布量は記録材料１m2
当たり０．１〜５ｇ、さらには０．３〜３．０ｇである
ことが好ましい。
【００７５】本発明における熱現像画像記録材料は、支
持体の一方の側に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤を
含む画像記録層を有し、他方の側にバック層（バッキン
グ層）を有する、いわゆる片面記録材料であることが好
ましい。
【００７６】好ましくはバッキング層に導電性金属酸化
物や導電性ポリマー化合物から選ばれる帯電防止剤、摩
擦係数を下げるためのマット剤、ハレーション防止用の
染料、すべり剤（ワックス類）、界面活性剤、架橋剤な
どを添加する。
【００７７】上記導電性金属酸化物粒子の材料として
は、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、
ＭｇＯ、ＢａＯおよびＭｏＯ3ならびにこれらの複合酸
化物、そしてこれらの金属酸化物にさらに異種原子を含
む金属酸化物を挙げることができる。金属酸化物として
は、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、
およびＭｇＯが好ましく、さらに、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、
Ｉｎ2Ｏ3およびＴｉＯ2が好ましく、ＳｎＯ2が特に好ま
しい。異種原子を少量含む例としては、ＺｎＯに対して
ＡｌあるいはＩｎ、ＴｉＯ2に対してＮｂあるいはＴ
ａ、Ｉｎ2Ｏ3に対してＳｎ、およびＳｎＯ2に対してＳ
ｂ、Ｎｂあるいはハロゲン元素などの異種元素を０．０
１〜３０モル％（好ましくは０．１〜１０モル％）ドー
プしたものを挙げることができる。異種元素の添加量
が、０．０１モル％未満の場合は酸化物または複合酸化
物に充分な導電性を付与することができにくくなり、３
０モル％を超えると粒子の黒化度が増し、帯電防止層が
黒ずむため記録材料用としては適さない。従って、導電
性金属酸化物粒子の材料としては、金属酸化物または複
合金属酸化物に対し異種元素を少量含むものが好まし
い。また結晶構造中に酸素欠陥を含むものも好ましい。
また、粒子形状は、球形よりも針状ないし繊維状のもの
が好ましい。
【００７８】上記異種原子を少量含む導電性金属酸化物
微粒子としては、アンチモンがドープされたＳｎＯ2粒
子が好ましく、特にアンチモンが０．２〜２．０モル％
ドープされたＳｎＯ2粒子が好ましい。
【００７９】本発明において片面記録材料は、搬送性改
良のためにマット剤を添加しても良い。マット剤は、一
般に水に不溶性の有機または無機化合物の微粒子であ
る。マット剤としては任意のものを使用でき、例えば米
国特許第１，９３９，２１３号、同２，７０１，２４５
号、同２，３２２，０３７号、同３，２６２，７８２
号、同３，５３９，３４４号、同３，７６７，４４８号
等の各明細書に記載の有機マット剤、同１，２６０，７
７２号、同２，１９２，２４１号、同３，２５７，２０
６号、同３，３７０，９５１号、同３，５２３，０２２
号、同３，７６９，０２０号等の各明細書に記載の無機
マット剤など当業界で良く知られたものを用いることが
できる。例えば具体的にはマット剤として用いることの
できる有機化合物の例としては、水分散性ビニル重合体
の例としてポリメチルアクリレート、ポリメチルメタク
リレート（ＰＭＭＡ）、ポリアクリロニトリル、アクリ
ロニトリル−α−メチルスチレン共重合体、ポリスチレ
ン、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、ポリビニル
アセテート、ポリエチレンカーボネート、ポリテトラフ
ルオロエチレンなど、セルロース誘導体の例としてはメ
チルセルロース、セルロースアセテート、セルロースア
セテートプロピオネートなど、澱粉誘導体の例としてカ
ルボキシ澱粉、カルボキシニトロフェニル澱粉、尿素−
ホルムアルデヒド−澱粉反応物など、公知の硬化剤で硬
化したゼラチンおよびコアセルベート硬化して微少カプ
セル中空粒体とした硬化ゼラチンなど好ましく用いるこ
とができる。無機化合物の例としては二酸化珪素、二酸
化チタン、二酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、硫
酸バリウム、炭酸カルシウム、公知の方法で減感した塩
化銀、同じく臭化銀、ガラス、珪藻土などを好ましく用
いることができる。上記のマット剤は必要に応じて異な
る種類の物質を混合して用いることができる。マット剤
の大きさ、形状に特に限定はなく、任意の粒径のものを
用いることができる。本発明の実施に際しては０．１μ
ｍ〜３０μｍの粒径のものを用いるのが好ましい。ま
た、マット剤の粒径分布は狭くても広くても良い。一
方、マット剤は塗膜のヘイズ、表面光沢に大きく影響す
ることから、マット剤作製時あるいは複数のマット剤の
混合により、粒径、形状および粒径分布を必要に応じた
状態にすることが好ましい。
【００８０】本発明においてバッキング層のマット度と
してはベック平滑度が１２００秒以下１０秒以上が好ま
しく、さらに好ましくは７００秒以下５０秒以上であ
る。
【００８１】本発明において、マット剤は記録材料の最
外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あるい
は外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわ
ゆる保護層として作用する層に含有されることが好まし
い。
【００８２】本発明においてバッキング層の好適なバイ
ンダーは透明または半透明で、一般に無色であり、天然
ポリマー、合成樹脂やポリマーおよびコポリマー、その
他フィルムを形成する媒体、例えば：ゼラチン、アラビ
アゴム、ポリ（ビニルアルコール）、ヒドロキシエチル
セルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテ
ートブチレート、ポリ（ビニルピロリドン）、カゼイ
ン、デンプン、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メチルメタ
クリル酸）、ポリ（塩化ビニル）、ポリ（メタクリル
酸）、コポリ（スチレン−無水マレイン酸）、コポリ
（スチレン−アクリロニトリル）、コポリ（スチレン−
ブタジエン）、ポリ（ビニルアセタール）類（例えば、
ポリ（ビニルホルマール）およびポリ（ビニルブチラー
ル）、ポリ（エステル）類、ポリ（ウレタン）類、フェ
ノキシ樹脂、ポリ（塩化ビニリデン）、ポリ（エポキシ
ド）類、ポリ（カーボネート）類、ポリ（ビニルアセテ
ート）、セルロースエステル類、ポリ（アミド）類があ
る。バインダーは水または有機溶媒またはエマルジョン
から被覆形成してもよい。
【００８３】本発明においてバッキング層は、所望の波
長範囲での最大吸収が０．３以上２以下であることが好
ましく、さらに好ましくは０．５以上２以下のＩＲ吸収
であり、かつ可視領域においての吸収が０．００１以上
０．５未満であることが好ましく、さらに好ましくは
０．００１以上０．３未満の光学濃度を有するハレーシ
ョン防止層であることが好ましい。
【００８４】本発明でハレーション防止染料を使用する
場合、この染料は所望の波長範囲で目的の吸収を有し、
可視領域での吸収が充分少なく、上記バッキング層の好
ましい吸光度スペクトルの形状が得られればいかなる化
合物でも良い。例えば、特開平７−１３２９５号、米国
特許第５，３８０，６３５号記載の化合物、特開平２−
６８５３９号公報第１３頁左下欄１行目から同第１４頁
左下欄９行目、同３−２４５３９号公報第１４頁左下欄
から同第１６頁右下欄記載の化合物があげられるが、本
発明はこれに限定されるものではない。
【００８５】米国特許第４，４６０，６８１号および同
第４，３７４，９２１号に示されるような裏面抵抗性加
熱層(backside resistive heating layer)を本発明のよ
うな感光性熱現像写真画像系に使用することもできる。
【００８６】本発明における記録材料は画像記録層の付
着防止などの目的で表面保護層を設けることができる。
表面保護層としては、いかなる付着防止材料を使用して
もよい。付着防止材料の例としては、ワックス、シリカ
粒子、スチレン含有エラストマー性ブロックコポリマー
（例えば、スチレン−ブタジエン−スチレン、スチレン
−イソプレン−スチレン）、酢酸セルロース、セルロー
スアセテートブチレート、セルロースプロピオネートや
これらの混合物などがある。
【００８７】本発明における画像記録層または画像記録
層の保護層には、米国特許第３，２５３，９２１号、同
第２，２７４，７８２号、同第２，５２７，５８３号お
よび同第２，９５６，８７９号に記載されているような
光吸収物質およびフィルター染料を使用することができ
る。また、例えば米国特許第３，２８２，６９９号に記
載のように染料を媒染することができる。
【００８８】本発明における画像記録層もしくは画像記
録層の保護層には、艶消剤、例えばデンプン、二酸化チ
タン、酸化亜鉛、シリカ、米国特許第２，９９２，１０
１号および同第２，７０１，２４５号に記載された種類
のビーズを含むポリマービーズなどを含有することがで
きる。また、乳剤面のマット度は星屑故障が生じなけれ
ばいかようでも良いが、ベック平滑度が１０００秒以上
１００００秒以下が好ましく、特に２０００秒以上１０
０００秒以下が好ましい。
【００８９】本発明における画像記録層のバインダーと
しては、よく知られている天然または合成樹脂、例え
ば、ゼラチン、ポリビニルアセタール、ポリビニルクロ
リド、ポリビニルアセテート、セルロースアセテート、
ポリオレフィン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリア
クリロニトリル、ポリカーボネートなどから任意のもの
を選択することができる。当然ながら、コポリマーおよ
びターポリマーも含まれる。好ましいポリマーは、ポリ
ビニルブチラール、ブチルエチルセルロース、メタクリ
レートコポリマー、無水マレイン酸エステルコポリマ
ー、ポリスチレンおよびブタジエン−スチレンコポリマ
ーである。必要に応じて、これらのポリマーを２種また
はそれ以上組合せて使用することができる。そのような
ポリマーは、成分をその中に保持するのに十分な量で使
用される。すなわち、バインダーとして機能するのに効
果的な範囲で使用される。効果的な範囲は、当業者が適
切に決定することができる。少なくとも有機銀塩を保持
する場合の目安として、バインダー対有機銀塩の割合
は、１５：１〜１：２、特に８：１〜１：１の範囲が好
ましい。
【００９０】本発明では、熱可塑性ポリマーをバインダ
ーの必須成分とし、画像記録層の全バインダーの５０重
量％以上を熱可塑性ポリマーが占めることが好ましい。
これにより、画像記録層が塗布されて熱現像するまでの
性能劣化が少なく、熱現像して良好な画像が得られる。
本発明に用いられる熱可塑性ポリマーの例として、ポリ
ビニルアルコール、セルロースアセテートブチレート、
セルロースアセテートプロピオネート、スチレン−ブタ
ジエンコポリマー、ポリビニルアセタール類（例えば、
ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール）、ポリ
ウレタン類、ポリ酢酸ビニルおよびアクリル樹脂（アク
リルゴムも含む）などが好ましい。このようなポリマー
の平均分子量は重量平均分子量Ｍｗで１０００〜１０万
程度である。
【００９１】画像記録層およびその他のバインダー層の
バインダーとしては、特開平２−１８５４２号公報第３
頁右下１行目から２０行目に記載のバインダーが用いら
れる。
【００９２】本発明の熱現像記録材料は、特願平８−１
３０８４５号、同８−３１６９８５号、同８−１３０８
４号、同８−３１６９８６号に記載されているように熱
可塑性樹脂（熱可塑性ポリマー）の水分散物に有機酸銀
と還元剤を分散し支持体上に塗布して作成してもよい。
熱可塑性ポリマーの水分散ラテックスを用いて、画像記
録層を形成することは好ましい。この場合、還元剤やカ
ブリ防止剤も水に固体分散して画像記録層塗布液に添加
することが好ましい。固体分散する方法は公知のいずれ
の方法であってもよい。分散粒子の平均粒子径は０．０
１〜１０μm であることが好ましく、粒子全体の９０vo
l％以上が０．１〜５μm の範囲にあることが好まし
い。
【００９３】本発明に用いる超硬調化剤について説明す
る。超硬調化剤としては、次のような公知の各種の超硬
調化剤の中から選ぶことができる。
【００９４】本発明の熱現像画像記録材料には超硬調化
剤として、下記一般式（１）〜一般式（３）で表される
置換アルケン誘導体，置換イソオキサゾール誘導体，お
よび特定のアセタール化合物を含有することが好ましい
が、一般式（１）、一般式（２）および一般式（３）に
ついて説明する。
【００９５】
【化１３】
【００９６】一般式（１）においてＲ1，Ｒ2，Ｒ3は、
それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｚは電子
吸引性基またはシリル基を表す。 一般式（１）におい
てＲ1とＺ、Ｒ2とＲ3、Ｒ1とＲ2、あるいはＲ3とＺは、
互いに結合して環状構造を形成していてもよい。一般式
（２）においてＲ4は、置換基を表す。一般式（３）に
おいてＸ，Ｙはそれぞれ独立に水素原子または置換基を
表し、Ａ，Ｂはそれぞれ独立に、アルコキシ基、アルキ
ルチオ基、アルキルアミノ基、アリールオキシ基、アリ
ールチオ基、アニリノ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環
チオ基、またはヘテロ環アミノ基を表す。一般式（３）
においてＸとＹ、あるいはＡとＢは、互いに結合して環
状構造を形成していてもよい。
【００９７】一般式（１）で表される化合物について詳
しく説明する。
【００９８】一般式（１）においてＲ1，Ｒ2，Ｒ3は、
それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｚは電子
吸引性基またはシリル基を表す。一般式（１）において
Ｒ1とＺ、Ｒ2とＲ3、Ｒ1とＲ2、あるいはＲ3とＺは、互
いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【００９９】Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3が置換基を表す時、置換基
の例としては、例えばハロゲン原子（フッ素原子、クロ
ル原子、臭素原子、または沃素原子）、アルキル基（ア
ラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含
む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテ
ロ環基（Ｎー置換の含窒素ヘテロ環基を含む）、４級化
された窒素原子を含むヘテロ環基（例えばピリジニオ
基）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基また
はその塩、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、チオ
カルボニル基、スルホニルカルバモイル基、アシルカル
バモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾ
イル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、チ
オカルバモイル基、ヒドロキシ基またはその塩、アルコ
キシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基
単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシもしく
はアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキ
ル，アリール，またはヘテロ環）アミノ基、アシルアミ
ノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド
基、イミド基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）
カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカ
ルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、４
級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ基、（アルキル
もしくはアリール）スルホニルウレイド基、アシルウレ
イド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メ
ルカプト基、（アルキル，アリール，またはヘテロ環）
チオ基、アシルチオ基、（アルキルまたはアリール）ス
ルホニル基、（アルキルまたはアリール）スルフィニル
基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、アシル
スルファモイル基、スルホニルスルファモイル基または
その塩、ホスホリル基、リン酸アミドもしくはリン酸エ
ステル構造を含む基、シリル基、スタニル基等が挙げら
れる。これら置換基は、これら置換基でさらに置換され
ていてもよい。
【０１００】一般式（１）においてＺで表される電子吸
引性基とは、ハメットの置換基定数σｐが正の値を取り
うる置換基のことであり、具体的には、シアノ基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、
チオカルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、ニトロ基、ハロゲン原
子、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルカンア
ミド基、スルホンアミド基、アシル基、ホルミル基、ホ
スホリル基、カルボキシ基（またはその塩）、スルホ基
（またはその塩）、ヘテロ環基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、スルホニルオ
キシ基、またはこれら電子吸引性基で置換されたアリー
ル基等である。ここにヘテロ環基としては、飽和もしく
は不飽和のヘテロ環基で、例えばピリジル基、キノリル
基、ピラジニル基、キノキサリニル基、ベンゾトリアゾ
リル基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、ヒダ
ントインー１―イル基、スクシンイミド基、フタルイミ
ド基等がその例として挙げられる。
【０１０１】一般式（１）においてＺで表される電子吸
引性基は、さらに置換基を有していてもよく、その置換
基としては、一般式（１）のＲ1，Ｒ2，Ｒ3が置換基を
表す時に有していてもよい置換基と同じものが挙げられ
る。
【０１０２】一般式（１）においてＲ1とＺ、Ｒ2と
Ｒ3、Ｒ1とＲ2、あるいはＲ3とＺは、互いに結合して環
状構造を形成していてもよいが、この時形成される環状
構造とは、非芳香族の炭素環もしくは非芳香族のヘテロ
環である。
【０１０３】次に一般式（１）で表される化合物の好ま
しい範囲について述べる。一般式（１）においてＺで表
されるシリル基として好ましくは、具体的にトリメチル
シリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメ
チルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピル
シリル基、トリメチルシリルジメチルシリル基等であ
る。
【０１０４】一般式（１）においてＺで表される電子吸
引性基として好ましくは、総炭素数０から３０の以下の
基、即ち、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、カルバモイル基、チオカルボニ
ル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、スルファ
モイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、ニトロ基、パーフルオロアルキル基、アシル基、ホ
ルミル基、ホスホリル基、アシルオキシ基、アシルチオ
基、または任意の電子吸引性基で置換されたフェニル基
等であり、さらに好ましくは、シアノ基、アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、イミノ基、スルファモイ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、トリフルオロメ
チル基、または任意の電子吸引性基で置換されたフェニ
ル基等であり、特に好ましくはシアノ基、ホルミル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、イミノ基またはカ
ルバモイル基である。一般式（１）においてＺで表され
る基は、電子吸引性基がより好ましい。
【０１０５】一般式（１）においてＲ1，Ｒ2およびＲ3
で表される置換基として好ましくは、総炭素数０〜３０
の基で、具体的には上述の一般式（１）のＺで表される
電子吸引性基と同義の基、およびアルキル基、ヒドロキ
シ基(またはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミ
ノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環
アミノ基、ウレイド基、アシルアミノ基、スルホンアミ
ド基、または置換もしくは無置換のアリール基等が挙げ
られる。
【０１０６】さらに一般式（１）においてＲ1は、好ま
しくは電子吸引性基、アリール基、アルキルチオ基、ア
ルコキシ基、アシルアミノ基、水素原子、またはシリル
基である。
【０１０７】Ｒ1が電子吸引性基を表す時、好ましくは
総炭素数０〜３０の以下の基、即ち、シアノ基、ニトロ
基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、チオカルボニル基、イミ
ノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、スルファ
モイル基、トリフルオロメチル基、ホスホリル基、カル
ボキシ基（またはその塩）、または飽和もしくは不飽和
のヘテロ環基であり、さらにシアノ基、アシル基、ホル
ミル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イ
ミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、スルファモイル
基、カルボキシ基（またはその塩）、または飽和もしく
は不飽和のヘテロ環基が好ましい。特に好ましくはシア
ノ基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、または飽和もしくは不飽和のヘテ
ロ環基である。
【０１０８】Ｒ1がアリール基を表す時、好ましくは総
炭素数６〜３０の、置換もしくは無置換のフェニル基で
あり、置換基としては、任意の置換基が挙げられるが、
中でも電子吸引性の置換基が好ましい。
【０１０９】一般式（１）においてＲ1は、より好まし
くは、電子吸引性基またはアリール基を表す時である。
【０１１０】一般式（１）においてＲ2およびＲ3で表さ
れる置換基として好ましくは、具体的に、上述の一般式
（１）のＺで表される電子吸引性基と同義の基、アルキ
ル基、ヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(ま
たはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテ
ロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテ
ロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ
基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、置換もしくは
無置換のフェニル基等である。
【０１１１】一般式（１）においてＲ2およびＲ3は、さ
らに好ましくは、どちらか一方が水素原子で、他方が置
換基を表す時である。その置換基として好ましくは、ア
ルキル基、ヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基
(またはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘ
テロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ
基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基(特にパーフル
オロアルカンアミド基)、スルホンアミド基、置換もし
くは無置換のフェニル基、またはヘテロ環基等であり、
さらに好ましくはヒドロキシ基(またはその塩)、メルカ
プト基(またはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環基であり、特に好
ましくはヒドロキシ基(またはその塩)、アルコキシ基、
またはヘテロ環基である。
【０１１２】一般式（１）においてＺとＲ1、あるいは
またＲ2とＲ3とが環状構造を形成する場合もまた好まし
い。この場合に形成される環状構造は、非芳香族の炭素
環もしくは非芳香族のヘテロ環であり、好ましくは５員
〜７員の環状構造で、置換基を含めたその総炭素数は１
〜４０、さらには３〜３０が好ましい。
【０１１３】一般式（１）で表される化合物の中で、よ
り好ましいものの１つは、Ｚがシアノ基、ホルミル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、イミノ基、または
カルバモイル基を表し、Ｒ1が電子吸引性基またはアリ
ール基を表し、Ｒ2またはＲ3のどちらか一方が水素原子
で、他方がヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基
(またはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘ
テロ環チオ基、またはヘテロ環基を表す化合物である。
【０１１４】さらにまた一般式（１）で表される化合物
の中で特に好ましいものの１つは、ＺとＲ1とが非芳香
族の５員〜７員の環状構造を形成していて、Ｒ2または
Ｒ3のどちらか一方が水素原子で、他方がヒドロキシ基
(またはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、またはヘ
テロ環基を表す化合物である。この時、Ｒ1と共に非芳
香族の環状構造を形成するＺとしては、アシル基、カル
バモイル基、オキシカルボニル基、チオカルボニル基、
スルホニル基等が好ましく、またＲ1としては、アシル
基、カルバモイル基、オキシカルボニル基、チオカルボ
ニル基、スルホニル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイ
ミノ基、アシルアミノ基、カルボニルチオ基等が好まし
い。
【０１１５】次に一般式（２）で表される化合物につい
て説明する。一般式（２）においてＲ4は置換基を表
す。一般式（２）においてＲ4で表される置換基として
は、一般式（１）のＲ1〜Ｒ3の置換基について説明した
ものと同じものが挙げられる。
【０１１６】一般式（２）においてＲ4で表される置換
基は、好ましくは電子吸引性基またはアリール基であ
る。Ｒ4が電子吸引性基を表す時、好ましくは、総炭素
数０〜３０の以下の基、即ち、シアノ基、ニトロ基、ア
シル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、
トリフルオロメチル基、ホスホリル基、イミノ基、また
は飽和もしくは不飽和のヘテロ環基であり、さらにシア
ノ基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスル
ホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環基が好まし
い。特に好ましくはシアノ基、ホルミル基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、またはヘテ
ロ環基である。
【０１１７】Ｒ4がアリール基を表す時、好ましくは総
炭素数０〜３０の、置換もしくは無置換のフェニル基で
あり、置換基としては、一般式（１）のＲ1，Ｒ2，Ｒ3
が置換基を表す時にその置換基として説明したものと同
じものが挙げられる。
【０１１８】一般式（２）においてＲ4は、特に好まし
くはシアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、ヘテロ環基、または置換もしくは無置換のフェニル
基であり、最も好ましくはシアノ基、ヘテロ環基、また
はアルコキシカルボニル基である。
【０１１９】次に一般式（３）で表される化合物につい
て詳しく説明する。一般式（３）においてＸ，Ｙはそれ
ぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ａ，Ｂはそれ
ぞれ独立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキル
アミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリ
ノ基、ヘテロ環チオ基、ヘテロ環オキシ基、またはヘテ
ロ環アミノ基を表す。ＸとＹ、あるいはＡとＢは、互い
に結合して環状構造を形成していてもよい。
【０１２０】一般式（３）においてＸ，Ｙで表される置
換基としては、一般式（１）のＲ1〜Ｒ3の置換基につい
て説明したものと同じものが挙げられる。具体的には、
アルキル基（パーフルオロアルキル基、トリクロロメチ
ル基等を含む）、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、アルケニル基、アルキニル
基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、イミノ基、Ｎ原子で置換
したイミノ基、カルバモイル基、チオカルボニル基、ア
シルオキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイ
ル基、ホスホリル基、カルボキシ基（またはその塩）、
スルホ基（またはその塩）、ヒドロキシ基（またはその
塩）、メルカプト基（またはその塩）、アルコキシ基、
アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アル
キルアミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、シリル
基等が挙げられる。
【０１２１】これらの基はさらに置換基を有していても
よい。またＸとＹは、互いに結合して環状構造を形成し
ていてもよく、この場合に形成される環状構造として
は、非芳香族の炭素環でも、非芳香族のヘテロ環であっ
てもよい。
【０１２２】一般式（３）においてＸ，Ｙで表される置
換基は、好ましくは総炭素数１から４０の、より好まし
くは総炭素数１から３０の基であり、シアノ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カル
バモイル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、チ
オカルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロ
アルキル基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、ア
シルアミノ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ヘテロ
環基、アルキルチオ基、アルコキシ基、またはアリール
基等が挙げられる。
【０１２３】一般式（３）においてＸ，Ｙは、より好ま
しくはシアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、
カルバモイル基、アシル基、ホルミル基、アシルチオ
基、アシルアミノ基、チオカルボニル基、スルファモイ
ル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、ホスホリル基、
トリフルオロメチル基、ヘテロ環基、または置換された
フェニル基等であり、特に好ましくはシアノ基、アルコ
キシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、アシル基、アシルチオ
基、アシルアミノ基、チオカルボニル基、ホルミル基、
イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、ヘテロ環基、ま
たは任意の電子吸引性基で置換されたフェニル基等であ
る。
【０１２４】ＸとＹが、互いに結合して非芳香族の炭素
環、または非芳香族のヘテロ環を形成している場合もま
た好ましい。この時、形成される環状構造は５員〜７員
環が好ましく、その総炭素数は１〜４０、さらには３〜
３０が好ましい。環状構造を形成するＸおよびＹとして
は、アシル基、カルバモイル基、オキシカルボニル基、
チオカルボニル基、スルホニル基、イミノ基、Ｎ原子で
置換したイミノ基、アシルアミノ基、カルボニルチオ基
等が好ましい。
【０１２５】一般式（３）においてＡ，Ｂはそれぞれ独
立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ
基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、
ヘテロ環チオ基、ヘテロ環オキシ基、またはヘテロ環ア
ミノ基を表し、これらは互いに結合して環状構造を形成
していてもよい。
【０１２６】一般式（３）においてＡ，Ｂで表される基
は、好ましくは総炭素数１〜４０の、より好ましくは総
炭素数１〜３０の基であり、さらに置換基を有していて
もよい。
【０１２７】一般式（３）においてＡ，Ｂは、これらが
互いに結合して環状構造を形成している場合がより好ま
しい。この時形成される環状構造は５員〜７員環の非芳
香族のヘテロ環が好ましく、その総炭素数は１〜４０、
さらには３〜３０が好ましい。この場合に、Ａ，Ｂが連
結した例(−Ａ−Ｂ−)を挙げれば、例えば−Ｏ−（ＣＨ
2）2−Ｏ−，−Ｏ−（ＣＨ2）3−Ｏ−，−Ｓ−（Ｃ
Ｈ2）2−Ｓ−，−Ｓ−（ＣＨ2）3−Ｓ−，−Ｓ−ｐｈ−
Ｓ−，−Ｎ（ＣＨ3）−（ＣＨ2）2−Ｏ−，−Ｎ（Ｃ
Ｈ3）−（ＣＨ2）2−Ｓ−，−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｓ−，
−Ｏ−（ＣＨ2）3−Ｓ−，−Ｎ（ＣＨ3）−ｐｈ−Ｏ
−，−Ｎ（ＣＨ3）−ｐｈ−Ｓ−，−Ｎ（ｐｈ）−（Ｃ
Ｈ2）2−Ｓ−等である。
【０１２８】本発明に用いられる一般式（１）〜一般式
（３）で表される化合物は、ハロゲン化銀に対して吸着
する吸着性の基が組み込まれていてもよい。こうした吸
着基としては、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオ
尿素基、チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾ
ール基などの米国特許第４，３８５，１０８号、同４，
４５９，３４７号、特開昭５９−１９５２３３号、同５
９−２００２３１号、同５９−２０１０４５号、同５９
−２０１０４６号、同５９−２０１０４７号、同５９−
２０１０４８号、同５９−２０１０４９号、特開昭６１
−１７０７３３号、同６１−２７０７４４号、同６２−
９４８号、同６３−２３４２４４号、同６３−２３４２
４５号、同６３−２３４２４６号に記載された基が挙げ
られる。またこれらハロゲン化銀への吸着基は、プレカ
ーサー化されていてもよい。その様なプレカーサーとし
ては、特開平２−２８５３４４号に記載された基が挙げ
られる。
【０１２９】本発明に用いられる一般式（１）〜一般式
（３）で表される化合物は、その中にカプラー等の不動
性写真用添加剤において常用されているバラスト基また
はポリマーが組み込まれているものでもよい。特にバラ
スト基が組み込まれているものは本発明の好ましい例の
１つである。バラスト基は８以上の炭素数を有する、写
真性に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル
基、アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキ
ルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基な
どの中から選ぶことができる。またポリマーとしては、
例えば特開平１−１００５３０号に記載のものが挙げら
れる。
【０１３０】本発明に用いられる一般式（１）〜一般式
（３）で表される化合物は、その中にカチオン性基（具
体的には、４級のアンモニオ基を含む基、または４級化
された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基等）、エチレン
オキシ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を
含む基、（アルキル，アリール，またはヘテロ環）チオ
基、あるいは塩基により解離しうる解離性基（カルボキ
シ基、スルホ基、アシルスルファモイル基、カルバモイ
ルスルファモイル基等）が含まれていてもよい。特にエ
チレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し
単位を含む基、あるいは（アルキル，アリール，または
ヘテロ環）チオ基が含まれているものは、本発明の好ま
しい例の１つである。これらの基の具体例としては、例
えば特開平７ー２３４４７１号、特開平５−３３３４６
６号、特開平６−１９０３２号、特開平６−１９０３１
号、特開平５−４５７６１号、米国特許４９９４３６５
号、米国特許４９８８６０４号、特開平３−２５９２４
０号、特開平７−５６１０号、特開平７−２４４３４８
号、独国特許４００６０３２号等に記載の化合物が挙げ
られる。
【０１３１】次に本発明に用いられる一般式（１）〜一
般式（３）で表される化合物の具体例を以下に示す。た
だし、本発明は以下の化合物に限定されるものではな
い。
【０１３２】
【化１４】
【０１３３】
【化１５】
【０１３４】
【化１６】
【０１３５】本発明に用いられる一般式（１）〜一般式
（３）で表される化合物は、水または適当な有機溶媒、
例えばアルコール類（メタノール、エタノール、プロパ
ノール、フッ素化アルコール）、ケトン類（アセトン、
メチルエチルケトン）、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用い
ることができる。
【０１３６】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、本発明の一般式（１）〜一
般式（３）で表される化合物の粉末を水等の適当な溶媒
中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によっ
て分散し用いることができる。
【０１３７】本発明に用いられる一般式（１）〜一般式
（３）で表される化合物は、支持体に対して画像記録層
側の層、即ち画像記録層あるいはこの層側の他のどの層
に添加してもよいが、画像記録層あるいはそれに隣接す
る層に添加することが好ましい。
【０１３８】本発明の一般式（１）〜一般式（３）で表
される化合物の添加量は、銀１モルに対し１×１０-6〜
１モルが好ましく、１×１０-5〜５×１０-1モルがより
好ましく、２×１０-5〜２×１０-1モルが最も好まし
い。
【０１３９】一般式（１）〜一般式（３）で表される化
合物は公知の方法により容易に合成することができる
が、例えば、米国特許第５５４５５１５号、米国特許第
５６３５３３９号、米国特許第５６５４１３０号、国際
特許ＷＯ−９７／３４１９６号、あるいは特願平９−３
５４１０７号、特願平９―３０９８１３号、特願平９―
２７２００２号に記載の方法を参考に合成することがで
きる。
【０１４０】本発明に用いられる一般式（１）〜一般式
（３）で表される化合物は、１種のみ用いても、２種以
上を併用しても良い。また上記のものの他に、米国特許
第５５４５５１５号、米国特許第５６３５３３９号、米
国特許第５６５４１３０号、国際特許ＷＯ−９７／３４
１９６号、米国特許第５６８６２２８号に記載の化合
物、あるいはまた特願平８―２７９９６２号、特願平９
―２２８８８１号、特願平９―２７３９３５号、特願平
９−３５４１０７号、特願平９―３０９８１３号、特願
平９―２９６１７４号、特願平９―２８２５６４号、特
願平９―２７２００２号、特願平９―２７２００３号、
特願平９―３３２３８８号に記載された化合物を併用し
て用いても良い。
【０１４１】さらに本発明においては、特願平９―１６
６６２８号、特願平８―２７９９５７号、特願平９―２
４０５１１号に記載のヒドラジン誘導体を組み合わせて
用いることもできる。さらには下記のヒドラジン誘導体
を組み合わせて用いることもできる。即ち、特公平６−
７７１３８号に記載の（化１）で表される化合物で、具
体的には同公報３頁、４頁に記載の化合物。特公平６−
９３０８２号に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物
で、具体的には同公報８頁〜１８頁に記載の１〜３８の
化合物。特開平６−２３０４９７号に記載の一般式
（４）、一般式（５）および一般式（６）で表される化
合物で、具体的には同公報２５頁、２６頁に記載の化合
物４−１〜化合物４−１０、２８頁〜３６頁に記載の化
合物５−１〜５−４２、および３９頁、４０頁に記載の
化合物６−１〜化合物６−７。特開平６−２８９５２０
号に記載の一般式（１）および一般式（２）で表される
化合物で、具体的には同公報５頁〜７頁に記載の化合物
１−１）〜１−１７）および２−１）。特開平６−３１
３９３６号に記載の（化２）および（化３）で表される
化合物で、具体的には同公報６頁〜１９頁に記載の化合
物。特開平６−３１３９５１号に記載の（化１）で表さ
れる化合物で、具体的には同公報３頁〜５頁に記載の化
合物。特開平７−５６１０号に記載の一般式（Ｉ）で表
される化合物で、具体的には同公報５頁〜１０頁に記載
の化合物Ｉ−１〜Ｉ−３８。特開平７−７７７８３号に
記載の一般式（II）で表される化合物で、具体的には同
公報１０頁〜２７頁に記載の化合物II−１〜II−１０
２。特開平７−１０４４２６号に記載の一般式（Ｈ）お
よび一般式（Ｈａ）で表される化合物で、具体的には同
公報８頁〜１５頁に記載の化合物Ｈ−１〜Ｈ−４４。欧
州特許７１３１３１Ａ号に記載の、ヒドラジン基の近傍
にアニオン性基またはヒドラジンの水素原子と分子内水
素結合を形成するノニオン性基を有することを特徴とす
る化合物で、特に一般式（Ａ）、一般式（Ｂ）、一般式
（Ｃ）、一般式（Ｄ）、一般式（Ｅ）、一般式（Ｆ）で
表される化合物で、具体的には同公報に記載の化合物Ｎ
−１〜Ｎ−３０。欧州特許７１３１３１Ａ号に記載の一
般式（１）で表される化合物で、具体的には同公報に記
載の化合物Ｄ−１〜Ｄ−５５。
【０１４２】さらに1991年3月22日発行の「公知技術(1〜
207頁)」(アズテック社刊)の２５頁から３４頁に記載の
種々のヒドラジン誘導体。特開昭６２ー８６３５４号
（６頁〜７頁）の化合物Ｄ−２およびＤ−３９。
【０１４３】これらヒドラジン誘導体は、水または適当
な有機溶媒、例えばアルコール類（メタノール、エタノ
ール、プロパノール、フッ素化アルコール）、ケトン類
（アセトン、メチルエチルケトン）、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに
溶解して用いることができる。
【０１４４】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を
水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波に
よって分散し用いることができる。
【０１４５】これらヒドラジン誘導体は、支持体に対し
て画像記録層側の層、即ち画像記録層あるいはこの層側
の他のどの層に添加してもよいが、画像記録層あるいは
それに隣接する層に添加することが好ましい。
【０１４６】これらヒドラジン誘導体の添加量は銀１モ
ルに対し１×１０-6〜１モルが好ましく、１×１０-5〜
５×１０-1モルがより好ましく、２×１０-5〜２×１０
-1モルが最も好ましい。
【０１４７】また、本発明は硬調な画像形成のために、
前記の超硬調化剤とともに硬調化促進剤を併用すること
ができる。例えば、米国特許第5,545,505 号に記載のア
ミン化合物、具体的にはAM-1〜AM-5、同5,545,507 号に
記載のヒドロキサム酸類、具体的にはHA-1〜HA-11 、同
5,545,507 号に記載のアクリロニトリル類、具体的には
CN-1〜CN-13 、同5,558,983 号に記載のヒドラジン化合
物、具体的にはCA-1〜CA-6、日本特許特願平8-132836号
に記載のオニュ−ム塩類、具体的にはA-1 〜A-42、B-1
〜B-27、C-1 〜C-14などを用いることができる。
【０１４８】前記の超硬調化剤、およびこれらの硬調化
促進剤の合成方法、添加方法、添加量等は、それぞれの
前記引用特許に記載されているように行うことができ
る。
【０１４９】本発明で用いられる支持体は、紙、合成
紙、合成樹脂（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン）をラミネートした紙、プラスチック
フィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
カーボネート、ポリイミド、ナイロン、セルローストリ
アセテート）、金属板（例えば、アルミニウム、アルミ
ニウム合金、亜鉛、鉄、銅）、上記のような金属ラミネ
ートあるいは蒸着された紙やプラスチックフィルムなど
が用いられる。
【０１５０】一方、プラスチックフィルムを熱現像機に
通すとフィルムの寸法が伸縮する。印刷感光材料として
使用する場合、この伸縮は精密多色印刷を行う時に重大
な問題となる。よって本発明では寸法変化の小さいフィ
ルムを用いることが好ましい。例えば、シンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体や熱緩和処理したポ
リエチレンテレフタレートなどがある。ガラス転移点の
高いものも好ましく、ポリエーテルエチルケトン、ポリ
スチレン、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、
ポリアリレート等が使用できる。
【０１５１】支持体の熱緩和処理（熱処理ともいう。）
についてもう少し詳細に説明する。この場合の支持体と
しては、ポリエステル類（ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリカーボネー
ト、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、シンジオ
タクチックポリスチレンなどのポリマーフィルムが用い
られる。特に好ましいのは、ポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）である。
【０１５２】熱処理はプラスチックフィルムの製膜後、
画像記録層を塗布するまでの任意の段階で行うことがで
きる。この間の工程としては、下塗層の塗布、バック層
の塗布、支持体と画像記録層との間のアンチハレーショ
ン層（ＡＨ層）の塗布などがある。熱処理は製膜後下塗
層塗布の前、下塗層塗布の後、バック層塗布の後、ある
いはＡＨ層塗布の後などの種々の段階で行うことができ
る。
【０１５３】以下に支持体の熱処理について説明する。
熱処理は支持体を構成するポリマーのＴｇより高い温度
で行われる。
【０１５４】支持体の材質によるが、熱処理は８０〜２
００℃、より好ましくは１００〜１８０℃、さらに好ま
しくは１１０〜１６０℃で実施するのが好ましい。熱処
理はこの温度範囲内の一定温度で実施してもよく、昇温
あるいは冷却しながらの熱処理してもよい。なかでも好
ましいのが、一定温度あるいは、冷却しながらの熱処理
である。この熱処理時間は、１分以上２００時間以下で
ある。１分未満では充分な効果を得ることができず、２
００時間を超えると効果が飽和し、支持体の着色や脆化
が起こり易くなるとともに、作業効率が極端に悪くな
る。
【０１５５】このような支持体の熱処理は、ロール状で
実施してもよく、またウエッブ状で搬送しながら実施し
てもよい。ロール状で熱処理する場合、ロールを室温
から恒温槽中で熱処理する方法（以降低温巻き取り法と
呼ぶ）、ウエッブ搬送中に所定温度にした後ロール状
に巻き取り熱処理する方法（以降高温巻き取り法と呼
ぶ）のいずれの方法で実施しても良い、の方法は昇
温、降温に時間を要するが、設備投資が少なくて済む利
点がある。の方法は高温での巻き取り設備が必要だが
昇温時間を省略できる利点がある。
【０１５６】ロール状での熱処理では、熱処理中に発生
する熱収縮応力のために、巻き締まりによるしわや、巻
き芯部の切り口写り等の面状故障が発生し易い。このた
め、支持体の両端にローレットを付与し端部のみ少し高
くすることで巻き芯部の切り口写りを防止するなどの工
夫を行うことが望ましい。ローレットの巾は２〜５０m
m、より好ましくは５〜３０mmさらに好ましくは、７〜
２０mmであり、高さは、０．５〜１００μｍが好まし
く、さらに１〜５０μｍが好ましく、２〜２０μｍが最
も好ましい。ローレットは片押しでも両押しでもかまわ
ず、付与時の温度は、Ｔｇ以上が好ましい。またこのよ
うな熱処理を実施するときの雰囲気の絶対湿度は、熱処
理中のブロッキングの観点から空気１kg当たり、水の含
量が２２ｇ以下、より好ましくは１６ｇ以下、さらに好
ましくは８ｇ以下で行なうのが良い。この絶対湿度に特
に下限値はないが、通常空気１kg当たりの水の含量が
０．１ｇ程度である。
【０１５７】ロールの単位巾当たりの巻き張力が初期張
力が３〜７５kg／cm2 、巻き終わりの張力が３〜７５kg
／cm2 が好ましい。この範囲以下では、緩巻きのため熱
処理中にロールが自重でたるみ変形が発生しやすく、一
方、この値以上は、巻き締まりによるしわが発生しやす
い。初期張力のより好ましい範囲は、５〜４０kg／cm
2 、巻き終わりのより好ましい範囲は、２〜３５kg／cm
2 である。初期張力を巻き終わり張力より大きくしなが
ら巻き取った方がより好ましい。
【０１５８】本発明では、熱処理時の支持体の搬送張力
を１３kg／cm2 以下、さらには１０kg/cm2以下、特には
４kg/cm2以下にすることが好ましい。そうすると支持体
の熱寸法変化率が飛躍的に小さくなる。それにより意外
にも記録材料と支持体との密着性が飛躍的に向上するこ
とがわかった。
【０１５９】また、本発明の巻き芯の直径は、１００〜
６００mmであることが好ましい。これよりも直径が小さ
くなると加熱処理をするとベコやシワが発生する。６０
０mmを超えるとかさ高くなり貯蔵および搬送において不
便であり現実的でない。好ましくは、直径が１５０〜４
５０mm、さらに好ましくは２００〜４００mmである。巻
き芯の断面は真円であることが好ましい。
【０１６０】熱現像処理は、現像が起こりうる充分な温
度と時間で行われる。通常８０℃〜２５０℃、好ましく
は１００℃〜２００℃で行われる。現像時間は１秒から
約２分の間で行われる。加熱方法としては、特に制限は
なく、ホットプレートやホットローラーに記録材料を接
触させる方法（例えばＷＯ９５／３０９３４号）、加熱
した空気中を通過させるオーブン方式（例えばＷＯ９７
／２８４８８号）、赤外線加熱や高周波加熱などの方
式、記録材料中の適当な層にカーボンブラックなどの電
気的抵抗物質を添加しておき、通電によって発熱させる
方式など、公知のいずれの方法を用いてもよい。
【０１６１】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１６２】実施例１ 《バック層を塗布した支持体の作成》ポリエステルフィ
ルム（厚み１２０μm ）に次の層を順に塗布した。 塗布液-Aの調製 ジュリマーET410（30wt%） 32.9g ゼラチン 6.3g 化合物A（後記） 0.02g 導電性金属酸化物（SbドープＳｎＯ2）（２０wt%水分散物） 83g ポリオキシエチレンフェニルエーテル 1g スミテックスレジンM-3（8wt%水溶液） 22g （水溶性メラミン化合物、住友化学工業（株）製） 染料-A 2.1g マット剤（PMMA、平均粒子サイズ５μm ）（１０wt%水分散物） 7.3g 蒸留水 加えて1000gとなる量
【０１６３】
【化１７】
【０１６４】上記塗布液-Aを上記支持体の片面に厚さが
０．３５μm になるように塗布し、180℃で30秒乾燥し
て、第一層を形成した。
【０１６５】 塗布液-Bの調製 ケミパールS-120（27wt% 水分散物） 90g （ポリオレフィン水分散物、三井石油化学（株）製） スノーテックスC（30wt% 水分散物） 60g （コロイダルシリカ水分散物、日産化学（株）製） ポリスチレンスルホン酸塩（分子量1000〜5000） 3g デナコール EX614B（1wt% 水溶液） 90g （エポキシ化合物、ナガセ化成工業（株）製） 蒸留水 757g
【０１６６】上記塗布液-Bを上記第一層上に塗布し、17
0℃で30秒乾燥して、０．２５μmの膜厚をもつ第二層を
形成し、バック面塗布サンプルを作成した。
【０１６７】次に支持体のもう一方の面に画像記録層用
の下塗層を塗布した。 ジュリマーET410（30wt% 水分散物） 32.9g ポリオキシエチレンフェニルエーテル 1g スミテックスレジンM-3（8wt% 水溶液） 22g コロイダルシリカ(20wt% 水分散物) 10g １８０℃で３０秒乾燥して、０．２０μm の厚みの下塗
層であった。
【０１６８】このようにして作成した支持体を150℃に
設定した全長200m熱処理ゾーンに入れ、張力3kg/m2、搬
送速度20m/分で搬送した。その後、40℃のゾーンに15秒
間通し、10kg/cm2の巻き取り張力で巻き取った。
【０１６９】（4）熱現像記録層（乳剤層）の作成 《ハロゲン化銀乳剤の調製》 （乳剤Ａ）水700mlにフタル化ゼラチン11gおよび臭化カ
リウム30mg、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム10mgを
溶解して温度55℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.
6gを含む水溶液159mlと臭化カリウムを1モル/リットル
で含む水溶液をpAg7.7に保ちながらコントロールダブル
ジェット法で6分30秒間かけて添加した。ついで、硝酸
銀55.5gを含む水溶液476mlと臭化カリウムを1モル/リッ
トルで含むハロゲン塩水溶液をpAg7.7に保ちながらコン
トロールダブルジェット法で28分30秒間かけて添加し
た。その後pHを下げて凝集沈降させて脱塩処理をし、化
合物Ａを0.17g、脱イオンゼラチン（カルシウム含有量
として20ppm以下）23.7g加え、pH5.9。pAg8.0に調整し
た。得られた粒子は平均粒子サイズ0.11μm、投影面積
変動係数8%、(100)面比率93%の立方体粒子であった。
【０１７０】こうして得たハロゲン化銀粒子を60℃に昇
温して銀1モル当たりベンゼンチオスルホン酸ナトリウ
ム76μモルを添加し、3分後にチオ硫酸ナトリウム154μ
モルを添加して、100分熟成した。
【０１７１】その後、40℃に温度を保ち、ハロゲン化銀
1モルに対して6.4×１０-4モルの増感色素Ａ、6.4×１
０-3モルの化合物Ｂを撹拌子ながら添加し、20分後に30
℃に急冷してハロゲン化銀乳剤Ａの調製を終了した。
【０１７２】
【化１８】
【０１７３】《有機酸銀分散物の調製》 ＜有機酸銀Ａ＞アラキン酸4.4g、ベヘン酸39.4g、蒸留
水770mlを85℃で攪拌しながら1N-NaOH水溶液103mlを60
分かけて添加し240分反応させ、75℃に降温した。次い
で、硝酸銀19.2gの水溶液112.5ml を45秒かけて添加
し、そのまま20分間放置し、30℃に降温した。その後、
吸引濾過で固形分を濾別し、固形分を濾水の伝導度が30
μS/cmになるまで水洗した。こうして得られた固形分
は、乾燥させないでウエットケーキとして取り扱い、乾
燥固形分100ｇ相当のウエットケーキに対し、ポリビニ
ルアルコール(商品名：PVA-205)5ｇおよび水を添加し、
全体量を500ｇとしてからホモミキサーにて予備分散し
た。
【０１７４】次に予備分散済みの原液を分散機(商品
名：マイクロフルイダイザーＭ−１１０Ｓ−ＥＨ、マイ
クロフルイデックス・インターナショナル・コーポレー
ション製、Ｇ１０Ｚインタラクションチャンバー使用)
の圧力を１７５０kg/cm2に調節して、三回処理し、有機
酸銀分散物Ａを得た。こうして得た有機酸銀分散物に含
まれる有機酸銀粒子は平均短径0.04μm、平均長径0.8μ
m、変動係数30%の針状粒子であった。粒子サイズの測定
は、Malvern Instruments Ltd.製MasterSizerXにて行っ
た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャ
ンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節すること
で所望の分散温度に設定した。
【０１７５】《1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフ
ェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサンの固体微粒子分散物
の調製》1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニ
ル)-3,5,5-トリメチルヘキサン20gに対してクラレ(株)
製ＭＰポリマーのMP-203を3.0gと水77mlを添加してよく
攪拌して、スラリーとして3時間放置した。その後、0.5
mmのジルコニアビーズを360g用意してスラリーと一緒に
ベッセルに入れ、分散機（1/4Ｇサンドグラインダーミ
ル：アイメックス(株)製）にて3時間分散し還元剤固体
微粒子分散物を調製した。平均粒子径は０．６５μm
で、粒子の80vol%が0.3μm以上1.0μm以下であった。
【０１７６】《トリブロモメチルフェニルスルホンの固
体微粒子分散物の調製》トリブロモメチルフェニルスル
ホン30gに対してヒドロキシプロピルメチルセルロース
0.5g、化合物Ｃ0.5gと、水88.5gを添加し良く攪拌して
スラリーとして3時間放置した。その後、還元剤固体微
粒子分散物の調製と同様にしてカブリ防止剤の固体微粒
子分散物を調製した。平均粒子径は０．６３μm で、粒
子の80vol%が0.3μm以上1.0μm以下であった。
【０１７７】《乳剤層塗布液の調製》上記で作成した有
機酸銀微結晶分散物の銀1モルに対して、以下のバイン
ダー、素材、およびハロゲン化銀乳剤Ａを添加して、水
を加えて、乳剤層塗布液とした。
【０１７８】 バインダー；ラックスター3307B 固形分として 470g （大日本インキ化学工業(株)製；SBRラテックスでガラス転移温度17℃） 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン 固形分として 110g トリブロモメチルフェニルスルホン 固形分として 12.4g ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 0.25g ポリビニルアルコール（クラレ(株)製MP-203） 46g 6-iso-ブチルフタラジン 0.12mol 造核剤-A 0.9g 造核剤-B 0.9g 染料-A 0.62g ハロゲン化銀乳剤Ａ Ag量として0.05mol
【０１７９】
【化１９】
【０１８０】《乳剤面保護層塗布液の調製》固形分27.5
%のポリマーラテックス（メチルメタクリレート/スチレ
ン/2-エチルヘキシルアクリレート/2-ヒドロキシエチル
メタクリレートメタアクリル酸＝59/9/26/5/1の共重合
体でガラス転移温度55℃）109gにH2O 3.75gを加え、造
膜助剤としてベンジルアルコール4.5g、化合物Ｄ 0.45
g、化合物Ｅ 0.125g、化合物Ｆ 0.0125モル、および
ポリビニルアルコール（クラレ(株)製，PVA-217）0.225
gを加え、さらにH2Oを加えて、150gとし、塗布液とし
た。
【０１８１】
【化２０】
【０１８２】《熱現像画像記録材料の調製（比較サンプ
ルＡ）》前記支持体の下塗り層の上に前記の乳剤層塗布
液を塗布銀量1.6g/m2になるように塗布した。さらにそ
の上に、前記乳剤面保護層塗布液をポリマーラテックス
の固形分の塗布量が2.0g/m2になるように塗布し、比較
サンプルＡを得た。
【０１８３】《本発明のサンプルの調製》本発明のサン
プル１−１）：比較サンプルＡの乳剤塗布液に本発明の
一般式（Ｉ）の化合物１−４を塗布量が7.0mg/m2になる
ように加えた。
【０１８４】本発明のサンプル１−２）：比較サンプル
Ａの１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチル
フェニル）−３，５，５−トリメチルヘキサンの固体微
粒子分散物の調製の際に本発明の化合物１−４を塗布量
が7.0mg/m2になるように添加した。分散中の発泡が軽減
し、分散終了後、分散物がスムーズに取り出せた。分散
物の平均粒子径は０．４５μm 、粒子の９０vol％が
０．３μm 以上１．０μm以下であった。
【０１８５】メッシュサイズが３μm のフィルターで濾
過すると比較分散物は直ちに目詰まりを起こしたのに対
して、本発明の分散物は全く目詰まりを起こさなかっ
た。
【０１８６】本発明のサンプル１−３）：比較サンプル
Ａのトリブロモメチルフェニルスルホンの固体微粒子分
散物の調製の際に本発明の化合物１−４を７．０mg/m2
になるように添加した。分散中、発泡はほとんど認めら
れず、分散終了後、次のような微細な分散物がスムーズ
に取り出すことができた。
【０１８７】分散物の平均粒子径は０．３３μm 、９０
vol％が０．３μm 以上１．０μm以下であり、３μm メ
ッシュサイズのフィルターでの濾過も、全く圧損がなか
った。
【０１８８】《性能評価》これらのサンプルにＸｅ光源
に７８０nm干渉フィルターをつけて、センシトメトリー
露光を行った。その後、加熱した熱板にバック面を向け
て圧着して熱現像を行った。現像時間２５秒で、種々の
温度で現像した結果を表１に示した。
【０１８９】
【表１】
【０１９０】本発明のサンプルは、Dmaxが高く、高い硬
調性を示すことがわかる。比較サンプルＡの１１４℃現
像の性能が、本発明のサンプルでは１１０℃〜１１２℃
で得られることがわかる。即ち、２〜４℃低温化してい
る。また、本発明のサンプル１−３は、全ての温度にわ
たってカブリが低い。
【０１９１】実施例２ 実施例１の一般式（Ｉ）の化合物１−４の代わりに、１
−２、１−３、１−１４を用いてサンプルを作成し、実
施例１と同様にテストを行った。その結果、本発明のサ
ンプルは実施例１と同様に良好な性能を示した。
【０１９２】実施例３ 以下のように、塗布サンプルを調製して本発明の効果を
確認した。 （有機銀分散物-Aの調製）ベヘン酸40ｇ、ステアリン酸
7.3ｇ、水500mlを温度90℃で15分間攪拌し、1NのNaOH18
7mlを15分間かけて添加し、1Nの硝酸水溶液61mlを添加
して50℃に降温した。次に1N硝酸銀水溶液124mlを2分間
かけて添加し、そのまま30分間攪拌した。その後、吸引
濾過で固形分を濾別し、濾水の伝導度30μS／cmになる
まで固形分を水洗した。こうして得られた固形分は、乾
燥させないでウエットケーキとして取り扱い、乾燥固形
分100ｇ相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアル
コール(商品名：PVA-205)10ｇおよび水を添加し、全体
量を500ｇとしてからホモミキサーにて予備分散した。
【０１９３】次に予備分散済みの原液を分散機(商品
名：マイクロフルイダイザーＭ−１１０Ｓ−ＥＨ、マイ
クロフルイデックス・インターナショナル・コーポレー
ション製、Ｇ１０Ｚインタラクションチャンバー使用)
の圧力を１７５０kg/cm2に調節して、三回処理し、体積
加重平均直径0.93μｍの有機酸銀微結晶分散物の調製を
終了した。粒子サイズの測定は、Malvern Instruments
Ltd.製MasterSizerXにて行った。
【０１９４】（ハロゲン化銀粒子-Aの調製）水700mlに
フタル化ゼラチン22ｇおよび臭化カリウム30mgを溶解し
て温度40℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.6ｇを
含む水溶液159mlと臭化カリウム水溶液をpAg7.7に保ち
ながらコントロールドダブルジェット法で10分間かけて
添加した。ついで硝酸銀55.4ｇを含む水溶液476mlと六
塩化イリジウム酸二カリウムを8μモル／リットルと臭
化カリウムを１モル／リットルで含む水溶液をpAg7.7に
保ちながらコントロールドダブルジェット法で30分間か
けて添加した。その後pHを下げて凝集沈降させ脱塩処理
をし、フェノキシエタノール0.1ｇを加え、pH5.9、pAg
8.0に調整した。得られた粒子は平均粒子サイズ0.07μ
ｍ、投影面積直径の変動係数8％、（100）面比率86％の
立方体粒子であった。
【０１９５】調製したハロゲン化銀粒子Aに対し温度を6
0℃に昇温して、銀1モル当たりチオ硫酸ナトリウム85μ
モルと２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニルジ
フェニルフォスフィンセレニドを11μモル、2μモルの
下記テルル化合物1、塩化金酸3.3μモル、チオシアン酸
230μモルを添加し、120分間熟成した。
【０１９６】その後温度を40℃に変更して下記増感色素
Ｂをハロゲン化銀に対して3.5×10- 4モルを攪拌しなが
ら添加し、5分後に下記化合物Ｇをハロゲン化銀に対し
て4.6×10-3モル添加し、5分間撹拌後、25℃に急冷して
ハロゲン化銀粒子-Aの調製を終了した。
【０１９７】
【化２１】
【０１９８】
【化２２】
【０１９９】
【化２３】
【０２００】（素材固体微粒子分散物の調製）実施例１
で調製したものを用いた。
【０２０１】《染料を含有するポリマー微粒子分散物の
調製》下記染料Ｂ（２ｇ）、メチルメタクリレート−メ
タクリル酸共重合体（85:15)（６ｇ）、および酢酸エチ
ル４０ｍｌからなる溶液を６０℃に加温、溶解した後、
ポリビニルアルコール５ｇを含む水溶液１００ｍｌに加
え、高速攪拌機（ホモジナイザー、日本精機製作所製）
にて１２０００ｒｐｍ、５分間、微細分散して平均粒径
０．３μｍのポリマー微粒子乳化分散物Ｐを得た。
【０２０２】
【化２４】
【０２０３】（乳剤層塗布液−１の調製）先に調製した
有機銀微結晶分散物-A（銀1モル相当）に対し、ハロゲ
ン化銀粒子-Aをハロゲン化銀10モル％／有機酸銀相当
と、以下のバインダーおよび現像用素材を添加して乳剤
塗布液-1とした。
【０２０４】 バインダー： ラックスター−3307B(大日本インキ化学工業（株）製；SBRラテックス） 430ｇ 現像用素材： テトラクロロフタル酸 5ｇ １，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，５，５−ト リメチルヘキサン 98ｇ相当の固体分散物 フタラジン 9.2ｇ トリブロモメチルフェニルスルホン 12ｇ相当の固体分散物 ４−メチルフタル酸 7ｇ 染料： 上記染料Ｂ、４ｇ相当の上記染料含有ポリマー微粒子分散物
【０２０５】上記において用いたラックスター(LACSTA
R)-3307Bは、スチレン−ブタジエン系コポリマーのポリ
マーラテックスであり、分散粒子の平均粒径は、０．１
〜０．１５μm程度である。また、２５℃６０％ＲＨ条
件下でのポリマーの平衡含水率は０．６wt% である。
【０２０６】（乳剤面保護層塗布液の調製）イナートゼ
ラチン10ｇに対し、下記界面活性剤Aを0.26g、下記界面
活性剤Bを0.09g、シリカ微粒子（平均粒径2.5μｍ）0.9
ｇ、１，２−（ビスビニルスルホニルアセトアミド）エ
タン0.3ｇ、水64ｇ添加して表面保護層塗布液とした。
【０２０７】
【化２５】
【０２０８】（染料分散物の調製）酢酸エチル３５ｇに
対し、下記染料Ｃを０．８ｇ添加して攪拌して溶解し
た。その液にあらかじめ溶解したポリビニルアルコール
（ＰＶＡ−２１７）６重量％溶液を８５ｇ添加し、５分
間ホモジナイザーで攪拌した。その後、酢酸エチルを脱
溶媒で揮発させ、最後に水で希釈し、染料分散物を調製
した。
【０２０９】
【化２６】
【０２１０】（固体塩基微粒子分散物の調製）下記固体
塩基２６ｇに対し、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−２
１５）２ｇ水溶液を２３４ｇ添加して良く攪拌してスラ
リーとして10時間放置した。その後、平均直径0.5mmの
ジルコニア製ビーズを100ml用意し、スラリーと一緒に
ベッセルに入れ、分散機（1／4Ｇサンドグラインダーミ
ル：アイメックス（株）製）で5時間分散して固体塩基
微粒子分散液を得た。
【０２１１】
【化２７】
【０２１２】（バック面塗布液の調製）１０％ゼラチン
溶液３８ｇに対し、先に調製した染料分散物２０ｇ、固
体塩基微粒子分散物２０ｇ、水３５ｇを添加してバック
面塗布液とした。
【０２１３】（バック面保護層塗布液の調製）イナート
ゼラチン10ｇに対し、前記の界面活性剤Aを0.26g、前記
の界面活性剤Bを0.09g、１，２−（ビスビニルスルホニ
ルアセトアミド）エタン0.3ｇ、シルデックスＨ１２１
（洞海化学社製真球シリカ、平均サイズ１２μｍ）０．
４ｇ、水64ｇ添加してバック面保護層塗布液とした。
【０２１４】（塗布サンプルの作成）上記のように調製
した乳剤層塗布液−１に感光層添加染料を175μｍポリ
エチレンテレフタレート支持体上に塗布銀量が2.2g/m2
となるように調節して塗布した後、乳剤塗布層上に乳剤
面保護層塗布液をゼラチンの塗布量が1.8g/m2となるよ
うに塗布した。乾燥後、乳剤層と反対の面上にバック面
塗布液を染料Ｂの塗布量が５６mg/m2となるように塗布
し、さらに、バック面塗布層上にバック面保護層塗布液
をゼラチンの塗布量が1.8g/m2となるように塗布し、試
料３−１を作成した。
【０２１５】試料３−１に用いた固体分散物はいずれも
本発明の一般式（Ｉ）の化合物を添加しないものを用い
た。従って試料３−１は比較サンプルである（表中では
サンプルＢとする。）
【０２１６】サンプル３−２は、１，１−ビス（２−ヒ
ドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，５，５−
トリメチルヘキサンの固体分散物の調製の際に本発明の
化合物Ｉ−４を実施例１と同じ量を添加したものである
（本発明のサンプル）。
【０２１７】サンプル３−３は、トリブロモメチルフェ
ニルスルホンの固体分散の際に実施例１と同様に化合物
Ｉ−４を添加したものである（本発明のサンプル）。
【０２１８】《性能評価》６６０nmのダイオードを備え
たレーザー感光計でこれらのサンプルを露光した後、実
施例１と同様に種々の温度で熱現像を行った。結果を表
２に示した。実施例１と同様に本発明のサンプルは現像
温度が２〜４℃低くて同等の性能を与える。
【０２１９】
【表２】
【０２２０】
【発明の効果】本発明によれば、良好な写真性能を得る
ための熱現像温度を低くすることができる。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 支持体上に、非感光性有機銀塩と、この
    非感光性有機銀塩を還元しうる還元剤と、熱可塑性ポリ
    マーのバインダーとを含む画像記録層を有する熱現像可
    能な画像記録材料において、一般式（Ｉ）で示される化
    合物を含むことを特徴とする熱現像画像記録材料。 一般式（Ｉ） Ａ1−Ｃ≡Ｃ−Ａ2 ［一般式（Ｉ）中、Ａ1およびＡ2は、それぞれ同じでも
    異なっていてもよく、水素原子、総炭素数１６以下のア
    ルキル基、または芳香環基を表し、Ａ1およびＡ2の少な
    くとも一方は置換基としてヒドロキシ基を有する総炭素
    数１６以下のアルキル基、またはアリール基である。］
  2. 【請求項２】 感光性ハロゲン化銀を含む請求項１の熱
    現像画像記録材料。
  3. 【請求項３】 超硬調化剤を含む請求項１または２の熱
    現像画像記録材料。
  4. 【請求項４】 前記バインダーが熱可塑性ポリマーの水
    分散ラテックスより形成される請求項１〜３のいずれか
    の熱現像画像記録材料。
  5. 【請求項５】 前記還元剤が水に固体分散されて添加さ
    れる請求項４の熱現像画像記録材料。
  6. 【請求項６】 カブリ防止剤を含み、カブリ防止剤が水
    に固体分散されて添加される請求項４または５の熱現像
    画像記録材料。
JP11272298A 1998-04-08 1998-04-08 熱現像画像記録材料 Expired - Fee Related JP3893417B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11272298A JP3893417B2 (ja) 1998-04-08 1998-04-08 熱現像画像記録材料
US09/272,552 US6146823A (en) 1998-04-08 1999-03-19 Thermographic image-recording element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11272298A JP3893417B2 (ja) 1998-04-08 1998-04-08 熱現像画像記録材料

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11295847A true JPH11295847A (ja) 1999-10-29
JP3893417B2 JP3893417B2 (ja) 2007-03-14

Family

ID=14593901

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11272298A Expired - Fee Related JP3893417B2 (ja) 1998-04-08 1998-04-08 熱現像画像記録材料

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6146823A (ja)
JP (1) JP3893417B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006240199A (ja) * 2005-03-07 2006-09-14 Ricoh Co Ltd 透明感熱記録媒体
US7429447B2 (en) 2005-02-02 2008-09-30 Fujifilm Corporation Photothermographic material and image forming method

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001235833A (ja) * 1999-03-30 2001-08-31 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像感光材料
JP3985884B2 (ja) * 1999-04-12 2007-10-03 富士フイルム株式会社 熱現像画像記録材料
US6485898B2 (en) * 2000-01-05 2002-11-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photothermographic material
JP2002082410A (ja) * 2000-06-28 2002-03-22 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像感光材料
US6682878B2 (en) * 2000-12-05 2004-01-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Thermal development photosensitive material
JP2002303987A (ja) * 2001-04-03 2002-10-18 Konica Corp 平版印刷版材料および平版印刷版の作製方法
KR100858854B1 (ko) * 2001-06-01 2008-09-17 가부시키가이샤 에이피아이 코포레이션 감열 기록 재료용 현색제 및 감열 기록 재료
JP4279482B2 (ja) * 2001-08-06 2009-06-17 富士フイルム株式会社 熱現像感光材料
JP2003121961A (ja) 2001-10-19 2003-04-23 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像感光材料
US6548233B1 (en) 2002-03-28 2003-04-15 Eastman Kodak Company Thermally developable emulsions and imaging materials containing mixture of silver ion reducing agents
US7105288B2 (en) * 2002-08-22 2006-09-12 Konica Corporation Silver salt photothermographic dry imaging material
EP1435298A3 (en) * 2002-12-19 2004-07-14 Agfa-Gevaert Toning agents for use in thermographic and photothermographic recording materials
US7192695B2 (en) * 2003-04-03 2007-03-20 Fujifilm Corporation Image forming method using photothermographic material
US20040202970A1 (en) * 2003-04-03 2004-10-14 Minoru Sakai Image forming method using photothermographic material
US20040259044A1 (en) * 2003-06-13 2004-12-23 Eastman Kodak Company Photothermographic materials with improved image tone
JP2005063838A (ja) * 2003-08-13 2005-03-10 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 光学デバイス及び有機ｅｌ表示装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6287957A (ja) * 1985-10-14 1987-04-22 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法
US5496695A (en) * 1995-01-06 1996-03-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Hydrazide compounds useful as co-developers for black-and-white photothermographic elements
US5545515A (en) * 1995-09-19 1996-08-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Acrylonitrile compounds as co-developers for black-and-white photothermographic and thermographic elements

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7429447B2 (en) 2005-02-02 2008-09-30 Fujifilm Corporation Photothermographic material and image forming method
JP2006240199A (ja) * 2005-03-07 2006-09-14 Ricoh Co Ltd 透明感熱記録媒体

Also Published As

Publication number Publication date
US6146823A (en) 2000-11-14
JP3893417B2 (ja) 2007-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6174663B1 (en) Heat-developable image-recording material
JP3893417B2 (ja) 熱現像画像記録材料
JPH1010669A (ja) 熱現像感光材料の製造方法
JP2000267226A (ja) 熱現像画像記録材料
JP2000029163A (ja) 熱現像画像記録材料
JP2001318449A (ja) 熱現像システム
JP2000284412A (ja) 熱現像写真材料
JP2001281792A (ja) 熱現像画像形成方法、および熱現像画像記録材料
JP4191358B2 (ja) 熱現像感光材料
JP2000241928A (ja) 熱現像感光材料
JP2000019678A (ja) 熱現像画像記録材料
JP3675598B2 (ja) 熱現像感光材料
JPH11218873A (ja) 画像形成方法
JP2000284403A (ja) 光消色性着色層を有する記録材料及び熱現像感光材料
JP2000194090A (ja) 熱現像感光材料の製造方法
JP2000162732A (ja) 熱現像感光材料
JP2000284405A (ja) 熱現像感光材料
JPH1010671A (ja) 熱現像感光材料
JPH1031282A (ja) 熱現像感光材料
JP2001264928A (ja) 熱現像感光材料
JPH11231459A (ja) 熱現像記録材料
JPH09274274A (ja) 熱現像感光材料およびそれを用いた画像形成方法
JP2000199935A (ja) 熱現像感光材料
JPH11316438A (ja) 熱現像感光材料
JP2000284409A (ja) 熱現像感光材料

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040304

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20040618

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060628

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060828

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060920

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061020

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061204

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101222

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101222

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111222

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111222

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121222

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121222

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131222

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees