JPH11295747A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

液晶表示装置およびその製造方法

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JPH11295747A
JPH11295747A JP9368498A JP9368498A JPH11295747A JP H11295747 A JPH11295747 A JP H11295747A JP 9368498 A JP9368498 A JP 9368498A JP 9368498 A JP9368498 A JP 9368498A JP H11295747 A JPH11295747 A JP H11295747A
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electrode
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JP9368498A
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Shoji Hiuga
章二 日向
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶を駆動するための透明電極を保護するこ
とにより、断線に起因する表示不良の発生を防止し、か
つ、入出力端子に対してフレキシブル配線基板の端子や
ICチップの端子を圧着してもクラックが発生するのな
い液晶表示装置およびその製造方法を提供すること。 【解決手段】 液晶表示装置1において、ITO膜から
なるストライプ状電極105、205および入出力端子
110の表面は、それらをエッチング形成する際のレジ
ストマスクをそのまま残した電極保護膜107、207
および端子保護膜119で覆われている。電極保護膜1
07、207はストライプ状電極105、205の冗長
配線として機能し、端子保護膜119は異方性導電膜A
CFでフレキシブル配線基板2の端子210を加熱圧着
する際に入出力端子110を保護する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置および
その製造方法に関するものである。さらに詳しくは、液
晶表示装置の透明基板上に形成された透明電極や入出力
端子に対する保護技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図6および図7に示すように、液晶表示
装置1Aにおいて、液晶パネル100Aを構成する第1
の透明基板10と第2の透明基板20とはスペーサ32
を挟んでシール剤30によって貼り合わされ、このスペ
ーサ32によって構成されている隙間31に液晶LCが
封入されている。第1の透明基板10および第2の透明
基板20の外側表面には、それぞれ偏光板102、20
2が貼られ、偏光板202には反射板203が貼られて
いる。第1の透明基板10の内側表面には、透明導電膜
であるITO膜(Indium Tin Oxide)
などによって、横方向に延びる複数の透明なストライプ
状電極105が形成され、第2の透明基板20の内側表
面には、ITO膜によって、縦方向に延びる複数の透明
なストライプ状電極205が形成されている。これらの
ストライプ状電極105、205同士の各交差部分に画
素が構成される。第1の透明基板10および第2の透明
基板20の双方には配向膜101、201が形成され、
液晶LCをSTN(Super Twisted Ne
matic)方式で用いるようになっている。
【0003】図8(A)に示すように、第2の透明基板
20の端部には、ストライプ状電極205と同時形成さ
れたITO膜からなる多数の入出力端子110が形成さ
れている。従って、図8(B)に示すように、入出力端
子110と、フレキシブル配線基板2の端子210との
間に異方性導電膜ACF(Anisotropicco
nducttive film)を挟んで、圧着ツール
Tによって第1の透明基板10の方から加熱圧着すれ
ば、図8(C)に示すように、フレキシブル配線基板2
の端子210を第2の透明基板20の入出力端子110
に異方性導電膜ACFの導電粒子によって電気的に接続
することができる。
【0004】このような液晶表示装置1Aにおいて、ス
トライプ状電極105、205や入出力端子110は、
第1の透明基板10や第2の透明基板20に対するフォ
トリソグラフィ工程により形成する。すなわち、図9に
示すフォトリソグラフィ工程において、第1の透明基板
10や第2の透明基板20にスパッタ形成したITO膜
501の表面全体にフォトレジスト502Aを塗布した
後、フォトマスク503を用いて露光、現像を行って、
レジストマスク504Aを形成する。次に、レジストマ
スク504AをマスクとしてITO膜501にエッチン
グを行って、ストライプ状電極105、205、入出力
端子110(図6および図8を参照。)およびその他の
配線パターンをそれぞれパターニング形成した後、レジ
ストマスク504Aを剥離、除去する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】液晶表示装置1Aに対
しては、液晶パネル100Aの薄型化、軽量化が要求さ
れており、このような要求に対応するために、第1の透
明基板10および第2の透明基板20として、ガラス基
板に代えて、透明なプラスチックフィルムが使用されつ
つある。このような透明なプラスチックフィルムは、薄
型化、軽量化に適しているとともに、割れないという利
点もある。
【0006】しかしながら、従来の構造のままで、第1
の透明基板10および第2の透明基板20として透明な
プラスチックフィルムを使用すると、プラスチックフィ
ルムにわずかな傷があっただけでも、第1の透明基板1
0および第2の透明基板20が熱や応力によって変形し
たときにストライプ状電極105、205にクラックが
入り、断線が発生しやすいという問題点がある。
【0007】また、従来の液晶表示装置1Aにおいて、
第2の透明基板20の入出力端子110に対してフレキ
シブル配線基板2の端子210を異方性導電膜ACFを
用いて加熱圧着すると、その際の応力で、入出力端子2
10にクラックが入り、部分の信頼性が低いという問題
点がある。この加熱圧着時の問題は、第1の透明基板1
0および第2の透明基板20としてガラスを使用した場
合、およびプラスチックフィルムを使用した場合のいず
れにおいても発生する。
【0008】以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、
液晶パネルにおいて液晶を駆動するための透明電極を保
護し、断線に起因する表示不良の発生を防止することの
できる液晶表示装置、およびその製造方法を提供するこ
とにある。
【0009】また、本発明の課題は、液晶パネルに形成
した入出力端子に対して可撓性を有する配線基板の端子
やICチップの端子を異方性導電膜等を用いて加熱圧着
しても、入出力端子にクラックが発生するのを防止し、
信頼性を向上することのできる液晶表示装置およびその
製造方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本願の請求項1に係る発明では、液晶を挟持する第
1の透明基板と第2の透明基板の各々の内面に透明電極
が形成されてなる液晶表示装置において、前記第1の透
明基板に形成された第1の透明電極および前記第2の透
明基板に形成された第2の透明電極のうち、少なくとも
一方の透明電極の表面には、導電性透明樹脂からなる電
極保護膜が積層されていることを特徴とする。
【0011】本発明では、前記第1の透明基板に形成さ
れた第1の透明電極、または前記第2の透明基板に形成
された第2の透明電極は、その表面に積層された電極保
護膜で保護され、かつ、この電極保護膜は導電性透明樹
脂から構成されている。従って、透明電極に対しては、
導電性を有する電極保護膜によって冗長配線が構成され
ているので、たとえ、透明電極にクラックが入って透明
電極の方が断線したとしても、電極保護膜を介して信号
の供給が可能なので、表示不良が発生しない。それ故、
液晶表示装置の信頼性を向上することができる。また、
透明電極の表面には、導電性を有する電極保護膜が積層
されているため、透明電極の電気的抵抗を小さくしたの
と同様な効果を得ることができる。それ故、表示動作の
高速化が可能である。しかも、電極保護膜は透明である
ので、表示に支障がない。
【0012】本願の請求項2に係る発明では、請求項1
に係る液晶表示装置において、前記第1の透明基板およ
び前記第2の透明基板のいずれもが、可撓性の透明プラ
スチックフィルムを基材としていることを特徴とする。
このように構成すると、第1の透明基板および第2の透
明基板を薄型化、軽量化できるので、液晶パネルを薄型
化、軽量化できる。しかも、本発明では、透明電極の断
線に起因する表示不良が発生しないので、第1の透明基
板および第2の透明基板としてプラスチックフィルムを
用いても、信頼性の高い液晶表示装置を実現できる。
【0013】本願の請求項3に係る発明では、請求項1
または2に係る液晶表示装置において、前記第1の透明
基板および前記第2の透明基板のうち、前記透明電極の
表面に前記電極保護膜が積層されている側の透明基板で
は、前記透明電極および前記電極保護膜が形成する凹凸
は、当該凹凸の凹部を埋めるようにコーティングした透
明なコーティング剤によって平坦化されていることを特
徴とする。本発明のように、透明電極の表面に電極保護
膜を積層すると、その分だけ、透明基板表面の凹凸が顕
著になるが、このような凹凸をコーティング剤によって
平坦化しておくと、液晶の配向や駆動をスムーズに行う
ことができる。
【0014】本願の請求項4に係る発明では、請求項1
ないし3のいずれかに係る液晶表示装置において、前記
第1の透明基板および前記第2の透明基板のうち、前記
透明電極の表面に前記電極保護膜が積層されている側の
透明基板では、前記透明電極と同一材質の透明導電膜か
らなる入出力端子の表面に前記電極保護膜と同一材質の
導電性透明樹脂からなる端子保護膜が積層され、該端子
保護膜に対して、可撓性を有する配線基板の端子、ある
いは半導体チップの端子が圧着されていることを特徴と
する。本発明では、入出力端子に対して、可撓性を有す
る配線基板の端子あるいは半導体チップの端子を異方性
導電膜等を用いて配線接続するといっても、可撓性を有
する配線基板の端子、あるいは半導体チップの端子が実
際に圧着されるのは、導電性透明樹脂からなる端子保護
膜の方である。従って、可撓性を有する配線基板の端子
あるいは半導体チップの端子を異方性導電膜等を用いて
加熱圧着するとしても、入出力端子には過大な力が加わ
らない。それ故、入出力端子にクラックが発生しないの
で、可撓性を有する配線基板の端子、あるいは半導体チ
ップの端子の液晶パネルに対する接続部分の信頼性が高
い。
【0015】本願の請求項5に係る発明では、請求項1
または2に係る液晶表示装置を製造する方法として、前
記第1の透明基板および前記第2の透明基板のうちの少
なくとも一方の透明基板の表面に透明導電膜を形成する
透明導電膜形成工程と、該透明導電膜の表面に、導電性
を有する透明なフォトレジストを塗布し、該フォトレジ
ストに露光、現像を行って当該フォトレジストからレジ
ストマスクを形成した後、該レジストマスクを介して前
記透明導電膜にエッチングを行って透明電極を形成する
フォトリソグラフィ工程とを行い、該フォトリソグラフ
ィ工程によって前記透明電極をエッチング形成した以降
は、前記レジストマスクを当該透明電極の表面に前記電
極保護膜として残しておくことを特徴とする。
【0016】ここでいう導電性を有する透明なフォトレ
ジストとは、それから形成したレジストマスクが導電性
を有し、かつ、透明なことをいい、硬化前の段階で導電
性が低い、あるいは導電性がないものであってもよい。
【0017】本発明では、透明基板の表面に形成した透
明導電膜をレジストマスクを用いてエッチングすること
により透明電極を形成するので、透明で導電性を有する
フォトレジストを用いれば、透明電極を形成した後、透
明電極の表面にレジストマスクを残しておくだけで、こ
のレジストマスクを電極保護膜として利用できる。それ
故、製造工程を新たに追加することなく、液晶表示装置
の信頼性を向上することができる。
【0018】本発明において、本願の請求項6に係る発
明では、請求項3に係る液晶表示装置を製造するため
に、請求項5に係る液晶表示装置の製造方法において、
前記透明電極の表面に前記電極保護膜を形成した後、該
電極保護膜の表面側に透明なコーティング剤を塗布し、
前記透明電極および前記電極保護膜が形成する凹凸を当
該コーティング剤によって平坦化することを特徴とす
る。このように構成すると、透明電極の表面に電極保護
膜を積層した分だけ、透明基板表面の凹凸が顕著になっ
たとしても、凹凸をコーティング剤によって平坦化して
おくので、液晶の配向や駆動をスムーズに行うことがで
きる。
【0019】本願の請求項7に係る発明では、請求項4
に係る液晶表示装置を製造するために、請求項5に係る
液晶表示装置の製造方法において、前記第1の透明基板
および前記第2の透明基板のうち、前記電極保護膜を形
成した側の透明基板には、前記フォトリソグラフィ工程
によって入出力端子を前記透明電極と同時形成した後、
当該フォトリソグラフィ工程において当該入出力端子を
エッチング形成するのに用いたレジストマスクを前記入
出力端子の表面に端子保護膜として残し、しかる後に、
当該端子保護膜に対して、可撓性を有する配線基板の端
子、あるいは半導体チップの端子を加熱圧着することを
特徴とする。本発明では、透明電極を形成する場合と同
様、透明基板の表面に形成した透明導電膜をレジストマ
スクを用いてエッチングすることにより入出力端子も形
成する。従って、このレジストマスクを透明で導電性を
有するフォトレジストで形成すれば、入出力端子を形成
した後、この入出力端子の表面にレジストマスクを残し
ておくだけで端子保護膜を形成できでる。それ故、製造
工程を新たに追加することなく、液晶表示装置の信頼性
を向上することができる。
【0020】
【発明の実施の形態】添付図面を参照して、本発明の実
施の形態を説明する。
【0021】(全体構成)図1および図2はそれぞれ、
液晶表示装置の構成を示す縦断面図、および偏光反射板
の概略構成図である。
【0022】図1において、本形態の液晶表示装置1に
は液晶パネル100が用いられ、この液晶パネル100
は、可撓性を有する透明なプラスチックフィルムで形成
された第1の透明基板10と、同じく可撓性を有する透
明なプラスチックフィルムで形成された第2の透明基板
20とを有している。ここで、プラスチックフィルムに
ついては、薄いハードコート層や薄いガスバリアー層が
積層されている場合もある。これらの透明基板の一方に
はシール剤30が印刷等によって形成され、このシール
剤30を挟んで第1の透明基板10と第2の透明基板2
0とは、所定の間隙31(セルギャップ)を隔てて接着
固定されている。隙間31の寸法は、第1の透明基板1
0と第2の透明基板20との間に介在するスペーサ32
によって規定されている。第1の透明基板10と第2の
透明基板20との間のうち、シール剤30で区画形成さ
れた液晶封入領域300内には液晶LCが封入されてい
る。第1の透明基板10および第2の透明基板20の双
方には配向膜101、201が形成され、液晶LCをS
TN(Super Twisted Nematic)
方式で用いるようになっている。
【0023】第1の透明基板10の外側表面、および第
2の透明基板20の外側表面には、各々矩形の偏光板1
02、202が貼られている。また、偏光板202には
矩形の反射板203が貼られている。従って、液晶表示
装置1では、第1の透明基板10の方から入射した光を
反射板203で反射して表示に利用でき、バックライト
を設ける必要がない。
【0024】第1の透明基板10の内側表面には、たと
えば、透明導電膜であるITO膜によって、横方向に延
びる複数の透明なストライプ状電極105(第1の透明
電極)が形成され、第2の透明基板20の内側表面に
は、ITO膜によって、縦方向に延びる複数の透明なス
トライプ状電極205(第2の透明電極)が形成されて
いる。これらのストライプ状電極105、205同士の
各交差部分に画素が構成される。
【0025】図2に拡大して示すように、本形態では、
第1の透明基板10に形成されたストライプ状電極10
5の表面には、導電性透明樹脂からなる電極保護膜10
7が積層されている。また、第2の透明基板20に形成
されたストライプ状電極206の表面にも、導電性透明
樹脂からなる電極保護膜207が積層されている。これ
らの導電性透明樹脂は、たとえば光硬化性を有するアク
リル系樹脂である。電極保護膜107は、ストライプ状
電極105の形成パターンに沿って形成され、電極保護
膜207は、ストライプ状電極205の形成パターンに
沿って形成されている。電極保護膜107、207を構
成する導電性透明樹脂は、透明樹脂に対してITO等の
導電性を有する透明な粒子などを配合しておくことによ
って構成されるが、本形態では、後述するように、電極
保護膜107、207はいずれも、ストライプ状電極1
05、205をエッチング形成する際に用いたレジスト
マスクである。それ故、本形態では、電極保護膜10
7、207を構成する導電性透明樹脂として、透明なフ
ォトレジストに対してITO等の導電性を有する透明な
粒子等を配合したものである。
【0026】また、本形態では、第1の透明基板10お
よび第2の透明基板20には、ストライプ状電極10
5、205の表面に電極保護膜107、207をそれぞ
れ積層した分だけ、いずれの基板表面においても凹凸が
大きい。そこで、本形態では、第1の透明基板10およ
び第2の透明基板20のいずれに対しても、電極保護膜
107、207の表面側からコーティング剤108、2
08を塗布することにより、このコーティング剤10
8、208で凹部を埋め、凹凸を平坦化してある。従っ
て、コーティング剤108、208の表面に前記の配向
剤101、201が形成されている。
【0027】図1および図3からわかるように、本形態
において、第2の透明基板20は第1の透明基板10よ
りも大きいので、第2の透明基板20はその一部が第1
の透明基板10の端縁から張り出しており、この張り出
し部分には、多数の入出力端子110が形成されてい
る。この入出力端子110にはフレキシブル配線基板2
(可撓性を有する配線基板)の端子210が電気的に接
続され、フレキシブル配線基板2の他方の端部におい
て、その端子220には駆動用IC60が接続されてい
る(フレキシブル配線基板2上の端子210と端子22
0間の配線は省略してある。)。従って、液晶表示装置
1において駆動用IC60からフレキシブル配線基板2
を介して駆動信号を液晶パネル100に入力すると、こ
の駆動信号に対応するストライプ状電極105、205
に電圧が印加される。それ故、各画素における液晶LC
の配向状態を制御できるので、液晶表示装置1に希望の
像を表示できる。
【0028】なお、入出力端子110にはフレキシブル
配線基板2の端子220に代わって、COF(chip
On flexible printed circ
uit)実装された基板の端子、あるいはTAB(ta
pe automatedbonding)実装された
TCP(tape carrier package)
の基板の端子が接続される場合がある。
【0029】本形態において、液晶パネル100の側の
入出力端子110は、図4(A)に示すように、第2の
透明基板20の端部に対して、ストライプ状電極205
と同時形成されたITO膜からなる。この入出力端子1
10の表面には、電極保護膜107、207を構成する
導電性透明樹脂と同一の導電性透明樹脂からなる端子保
護膜119が積層されている。この端子保護膜119
も、入出力端子110をストライプ状電極105、20
5と同時にエッチング形成する際に用いたレジストマス
クである。
【0030】本形態では、図4(B)に示すように、入
出力端子110と、フレキシブル配線基板2の端子21
0との間に異方性導電膜ACFを挟んで、圧着ツールT
によって第1の透明基板10の方から圧力をかけるが、
実際には、端子保護膜119とフレキシブル配線基板2
の端子210との間に異方性導電膜ACFを挟んで圧着
ツールTから圧力をかける。その結果、図4(C)に示
すように、フレキシブル配線基板2の端子210を端子
保護膜119に異方性導電膜ACFの導電粒子によって
電気的に接続することになるが、この端子保護膜119
は導電性を有している。従って、フレキシブル配線基板
2の端子210と入出力端子110とを介しての信号の
入出力が可能である。それ故、フレキシブル配線基板2
を介して駆動信号を液晶パネル100に入力すると、こ
の駆動信号に対応するストライプ状電極105、205
に電圧が印加されるので、各画素における液晶LCの配
向状態を制御できるので、液晶表示装置1に希望の像を
表示できる。
【0031】(液晶表示装置の製造方法)図5を参照し
て本形態の液晶表示装置1の製造方法を説明する。図7
は、液晶表示装置1の製造方法を示す工程断面図であ
る。
【0032】図5において、第1の基板10および第2
の基板20は、それらを多数取りできる大型基板(プラ
スチックフィルム)がロールRで供給される。この大型
基板に対しては、まず、ITOスパッタ工程ST1にお
いて、ITO膜501(透明導電膜)を連続的にスパッ
タ形成する。このITOスパッタ工程ST1以降、後述
する切断工程ST3までは、第1の透明基板10および
第2の透明基板20の双方が共通の大型基板に対して作
り込まれる。また、切断工程ST3まで、第1の透明基
板10および第2の透明基板20は、大型基板上におい
て同様な処理に供されるので、図5において、シール印
刷工程ST6までは、第1の透明基板10についてのみ
図示してある。
【0033】スパッタ工程ST1の後にはフォトリソグ
ラフィ工程ST2を行う。このフォトリソグラフィ工程
ST2では、まず、大型基板に形成したITO膜501
の表面全体に、導電性を有する透明なフォトレジスト5
02を塗布する。このようなフォトレジスト502は、
透明なフォトレジストに対してITO等の導電性を有す
る透明な粒子等を配合したものである。
【0034】次に、フォトマスク503を用いてフォト
レジスト502に露光、現像を行って、レジストマスク
504を形成する。このレジストマスク504は導電性
透明樹脂である。
【0035】次に、レジストマスク504をマスクとし
てITO膜501にエッチングを行って、ストライプ状
電極105、205、入出力端子110およびその他の
配線パターンをそれぞれエッチング形成する(図2およ
び図4参照。)。
【0036】本形態では、ストライプ状電極105、2
05、入出力端子110およびその他の配線パターンを
形成した後も、レジストマスク504を剥離せず、スト
ライプ状電極105、205や入出力端子110の表面
に電極保護膜107、207、および端子保護膜119
として残す。
【0037】次に、第1の透明基板10および第2の透
明基板20のうち、ストライプ状電極105、205が
形成されている領域、すなわち、入出力端子110など
が形成されている領域を除く領域全体に対して、電極保
護膜107、207の表面側から透明な液状のコーティ
ング剤108、208を塗布する。その結果、第1およ
び第2の透明電極10、20において、ストライプ状電
極105、205および電極保護膜107、207によ
って形成された凹凸のうち、凹部がコーティング剤10
8、208によって埋められるので、凹凸が平坦化され
る。しかる後に、コーティング剤108、208を硬化
させる。このようなコーティング剤108、208とし
ては、シリカ分散アクリル樹脂やシリカ分散エポキシ樹
脂などを用いることができる。また、所定領域にコーテ
ィング剤108、208を塗布するには、フレキソ印刷
などを用いることができる。
【0038】次に、切断工程ST3において、大型基板
を所定の長さ寸法に切断し、第1の透明基板10を多数
取りできるような中型基板と、第2の透明基板20を多
数取りできるような中型基板とに分割する。
【0039】次に、配向膜印刷・焼成工程ST4におい
て、第1の透明基板10および第2の透明基板20の双
方に配向膜101、201を形成する。
【0040】次に、ラビング工程ST5において、第1
の透明基板10および第2の透明基板20の双方に対し
てラビング処理を行う。
【0041】次に、シール印刷工程ST6において、第
1の透明基板10あるいは第2の透明基板20に対して
シール剤30を印刷する。
【0042】次に、組立工程ST7では、第1の透明基
板10あるいは第2の透明基板20にスペーサ32を散
布した後、第1の透明基板10と第2の透明基板20と
を中型基板のままシール剤30を介して貼り合わせる。
なお、第1の透明基板10と第2の透明基板20とシー
ル剤30を介して貼り合わせたとき、第1の透明基板1
0に形成されているストライプ状電極105は、第2の
透明基板20に形成されている配線パターンに対してシ
ール剤30に含まれる導電粒子を介して電気的に接続す
る。従って、ストライプ状電極105も前記の電極11
0に電気的に接続することになる。
【0043】このようにして貼り合わせたものを、短冊
切断工程ST8において、短冊状に切断する。この短冊
切断工程ST8では、後で分割されたときに液晶パネル
100となる部分が短冊状に一列、繋がった状態になる
ので、その切断部分では、液晶パネル100となるいず
れの部分も液晶注入口301(シール剤30の途切れ部
分)がそれぞれ開口する状態となる(図3を参照。)。
【0044】次に、注入・封止工程ST9において、第
1の透明基板10と第2の透明基板20との間の隙間3
1内に液晶LCを注入する。この注入・封止工程ST9
では、たとえば、第1の透明基板10と第2の透明基板
20とを収納した処理室(図示せず。)内を真空にした
後、前記の液晶注入口301を液晶LCに浸けた状態と
し、しかる後に、処理室内を大気開放する。その結果、
処理室内は真空解除されるが、第1の透明基板10と第
2の透明基板20とによって挟まれた隙間3131内は
真空状態のままなので、液晶LCは液晶注入口301か
ら隙間31内に真空注入されていく。そして、液晶LC
を充填し終えた後には、液晶注入口301を紫外線硬化
樹脂からなる封止剤305で封止する(図3を参照。)
次に、単品切断工程ST10において、短冊状の基板を
単品の液晶パネル100として切断する。
【0045】次に、圧着工程ST11において、第2の
透明基板20の入出力端子110に対して、異方性導電
膜ACFを介してフレキシブル配線基板2の端子210
を電気的に接続する。このときの加熱圧着条件は、たと
えば、圧力が20kgf/cm2 、温度が190℃、時
間が10秒である。但し、図4(A)に示すように、第
2の透明基板20に形成された入出力端子110の表面
には、導電性透明樹脂からなる端子保護膜119が積層
されているので、図4(B)に示すように、端子保護膜
119とフレキシブル配線基板2の端子210との間に
異方性導電膜ACFを挟んで圧着ツールTから圧力をか
けることになる。その結果、図4(C)に示すように、
フレキシブル配線基板2の端子210を端子保護膜11
9に加熱圧着したことになるが、この端子保護膜119
は導電性を有しているので、フレキシブル配線基板2の
端子210と入出力端子110とは電気的接続すること
になる。
【0046】次に、偏光板貼付工程ST12において、
第1の透明基板10および第2の透明基板20の各外側
表面に偏光板102、202を貼り付け、偏光板202
の方には反射板203を貼り付ける。
【0047】しかる後には、IC実装工程ST13にお
いて、液晶パネル100に接続されたフレキシブル配線
基板2に対して駆動用IC60を接続して液晶表示装置
1を組み立てる。
【0048】(本形態の効果)このように、本形態に係
る液晶表示装置1において、第1および第2の透明基板
10、20に形成された各ストライプ状電極105、2
05は、その表面に積層された電極保護膜107、20
7で保護され、かつ、この電極保護膜107、207は
導電性透明樹脂から構成されている。従って、各ストラ
イプ状電極105、205に対しては、電極保護膜10
7、207によって冗長配線が構成されているので、た
とえストライプ状電極105、205にクラックが入っ
て断線したとしても、電極保護膜107、207を介し
て信号の供給が可能なので、表示不良が発生しない。そ
れ故、液晶表示装置1の信頼性を向上することができ
る。また、ストライプ状電極105、205の表面に
は、導電性を有する電極保護膜107、207が積層さ
れているため、ストライプ状電極105、205の電気
的抵抗を小さくしたのと同様な効果を得ることができ
る。それ故、表示動作の高速化が可能である。しかも、
電極保護膜107、207は透明であるので、表示に支
障がない。それ故、第1の透明基板10および第2の透
明基板20としてプラスチックフィルムを用いても、信
頼性の高い液晶表示装置1を実現できる。
【0049】また、入出力端子110の表面に導電性透
明樹脂からなる端子保護膜119を積層したので、入出
力端子110に対してフレキシブル配線基板2の端子2
10を異方性導電膜ACF、あるいはヒートシールによ
って配線接続したとしても、フレキシブル配線基板2の
端子210が実際に圧着されるのは、導電性透明樹脂か
らなる端子保護膜119の方である。従って、入出力端
子110には過大な力が加わらない。それ故、入出力端
子110にクラックが発生しないので、フレキシブル配
線基板2の端子210の液晶パネル100に対する接続
部分の信頼性が高い。
【0050】このような2層構造を構成するにあたっ
て、本形態では、ストライプ状電極105、205、入
出力端子110をエッチング形成するのに用いたレジス
トマスク504をそのまま用いるので、製造工程を新た
に追加することなく、液晶表示装置1の信頼性を向上す
ることができる。
【0051】また、ストライプ状電極105、205の
表面に電極保護膜107、207を積層すると、その分
だけ、第1および第2の透明基板10、20表面の凹凸
が顕著になるが、このような凹凸をコーティング剤10
8、208によって平坦化するので、液晶LCの配向や
駆動をスムーズに行うことができる。
【0052】(その他の実施の形態)なお、上記形態で
は、入出力端子110に対してフレキシブル配線基板2
の端子210を異方性導電膜ACF、あるいはヒートシ
ールによって配線接続する例であったが、入出力端子1
10に半導体チップの端子を異方性導電膜ACF等を介
して加熱圧着する場合でも、入出力端子110に対し
て、導電性透明樹脂からなる端子保護膜119を積層し
ておけば、入出力端子110にクラックが発生しないの
で、この部分の信頼性を向上することができる。
【0053】また、上記形態では、ストライプ状電極1
05、205および電極保護膜107、207が形成す
る凹凸をコーティング剤108、208で平坦化する構
成を採用したが、凹凸が表示品質を低下させない程度の
ものであれば、コーティング剤108、208の形成を
省略することもできる。
【0054】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る液晶
表示装置では、透明基板に形成された透明電極は、その
表面に積層された電極保護膜で保護され、かつ、この電
極保護膜は導電性透明樹脂から構成されている。従っ
て、透明電極に対して電極保護膜が冗長配線として機能
する。このため、たとえ透明電極の方が断線したとして
も、電極保護膜を介して信号の供給が可能なので、表示
に支障がない。それ故、液晶表示装置の信頼性を向上す
ることができる。また、透明電極の表面には、導電性を
有する電極保護膜が積層されているため、透明電極の電
気的抵抗を小さくしたのと同様な効果を得ることができ
る。それ故、表示動作の高速化が可能である。しかも、
電極保護膜は透明であるので、表示に支障がない。ま
た、本発明では、透明電極をエッチング形成する際に用
いたレジストマスクを、導電性を有する透明なフォトレ
ジストで形成するので、透明電極の表面にレジストマス
クをそのまま残しておくだけで電極保護膜を形成でき
る。それ故、製造工程を新たに追加することなく、液晶
表示装置の信頼性を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した液晶表示装置の構成を示す縦
断面図である。
【図2】図1に示す液晶表示装置に用いた第1および第
2の透明基板の部分拡大図である。
【図3】液晶表示装置の構成を示す平面図である。
【図4】(A)は、図1に示す液晶表示装置に用いた第
2の透明基板に形成した入出力端子の断面図、(B)
は、この入出力端子に異方性導電膜を介してフレキシブ
ル配線基板の端子を加熱圧着する様子を示す断面図、
(C)は、入出力端子に異方性導電膜を介してフレキシ
ブル配線基板の端子を加熱圧着し終えた様子を示す断面
図である。
【図5】図1に示す液晶表示装置の製造方法を示す工程
断面図である。
【図6】従来の液晶表示装置の構成を示す縦断面図であ
る。
【図7】図6に示す液晶表示装置に用いた第1および第
2の透明基板の部分拡大図である。
【図8】(A)は、図6に示す液晶表示装置に用いた第
2の透明基板に形成した入出力端子の断面図、(B)
は、この入出力端子に異方性導電膜を介してフレキシブ
ル配線基板の端子を加熱圧着する様子を示す断面図、
(C)は、入出力端子に異方性導電膜を介してフレキシ
ブル配線基板の端子を加熱圧着し終えた様子を示す断面
図である。
【図9】図6に示す液晶表示装置の製造工程のうち、フ
ォトリソグラフィ工程を示す工程断面図である。
【符号の説明】
1 液晶表示装置 2 フレキシブル配線基板 10 第1の透明基板 20 第2の透明基板 30 シール剤 32 スペーサ 100 液晶パネル 101、201 配向膜 102、202 偏光板 105 ストライプ状電極(第1の透明電極) 107、207 電極保護膜 108、208 コーティング剤 110 液晶パネルの入出力端子 119 端子保護膜 205 ストライプ状電極(第2の透明電極) 210 フレキシブル配線基板の端子 501 ITO膜(透明導電膜) 502 導電性を有する透明なフォトレジスト 503 フォトマスク 504 レジストマスク ACF 異方性導電膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01B 13/00 503 H01B 13/00 503B

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液晶を挟持する第1の透明基板と第2の
    透明基板の各々の内面に透明電極が形成されてなる液晶
    表示装置において、 前記第1の透明基板に形成された第1の透明電極および
    前記第2の透明基板に形成された第2の透明電極のう
    ち、少なくとも一方の透明電極の表面には、導電性透明
    樹脂からなる電極保護膜が積層されていることを特徴と
    する液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記第1の透明基板
    および前記第2の透明基板はいずれも、基材が可撓性の
    透明プラスチックフィルムから構成されていることを特
    徴とする液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または2において、前記第1の
    透明基板および前記第2の透明基板のうち、前記透明電
    極の表面に前記電極保護膜が積層されている側の透明基
    板では、前記透明電極および前記電極保護膜が形成する
    凹凸は、当該凹凸の凹部を埋めるように形成した透明な
    コーティング剤によって平坦化されていることを特徴と
    する液晶表示装置。
  4. 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれかにおいて、
    前記第1の透明基板および前記第2の透明基板のうち、
    前記透明電極の表面に前記電極保護膜が積層されている
    側の透明基板では、前記透明電極と同一材質の透明導電
    膜からなる入出力端子の表面に前記電極保護膜と同一材
    質の導電性透明樹脂からなる端子保護膜が積層され、 該端子保護膜に対しては、可撓性を有する配線基板の端
    子あるいは半導体チップの端子が圧着されていることを
    特徴とする液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 請求項1または2に規定する液晶表示装
    置の製造方法において、 前記第1の透明基板および前記第2の透明基板のうちの
    少なくとも一方の透明基板の表面に透明導電膜を形成す
    る透明導電膜形成工程と、 該透明導電膜の表面に、導電性を有する透明なフォトレ
    ジストを塗布し、該フォトレジストに露光、現像を行っ
    て当該フォトレジストからレジストマスクを形成した
    後、該レジストマスクを介して前記透明導電膜にエッチ
    ングを行って透明電極を形成するフォトリソグラフィ工
    程とを有し、 該フォトリソグラフィ工程によって前記透明電極をエッ
    チング形成した以降は、前記レジストマスクを当該透明
    電極の表面に前記電極保護膜として残しておくことを特
    徴とする液晶表示装置の製造方法。
  6. 【請求項6】 請求項5において、前記透明電極の表面
    に前記電極保護膜を形成した後、該電極保護膜の表面側
    に透明なコーティング剤を塗布し、前記透明電極および
    前記電極保護膜が形成する凹凸を当該コーティング剤に
    よって平坦化することを特徴とする液晶表示装置の製造
    方法。
  7. 【請求項7】 請求項5または6において、前記第1の
    透明基板および前記第2の透明基板のうち、前記電極保
    護膜を形成した側の透明基板には、前記フォトリソグラ
    フィ工程によって入出力端子を前記透明電極と同時形成
    した後、当該フォトリソグラフィ工程において当該入出
    力端子をエッチング形成するのに用いたレジストマスク
    を前記入出力端子の表面に端子保護膜として残し、しか
    る後に、当該端子保護膜に対して、可撓性を有する配線
    基板の端子あるいは半導体チップの端子を加熱圧着する
    ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
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