JP2006235091A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 単純マトリックス型の液晶表示装置の品質を向上する。
【解決手段】 信号電極を分割して多画面駆動する場合に、複数の信号電極が形成される第一のＣＦ基板には配線電極が形成され、配線電極上には接続領域を除いた部位に遮光膜、ＣＦ層、透明絶縁膜などの絶縁層が形成されている。そして、この絶縁層が形成されない接続領域で配線電極と信号電極が電気的に接続されている。
【選択図】 図１

Description

本発明は、単純マトリクス型の液晶表示装置の構造に関し、特に、画面を２つ以上に分割して駆動する多画面駆動の液晶表示パネルの構造に関する。

単純マトリクス型の液晶表示装置は、行電極群と列電極群との間に液晶層を保持してマトリクス状の画素を設けて構成されている。そして、この液晶表示装置の駆動方法には、電圧平均化法、ＳＡ法、ＭＬＡ法等がある。いずれの駆動方法でも表示画面の行数が大きくなると液晶に加わる実効値のＯＮ／ＯＦＦ比が小さくなり、コントラストが低下すると共に応答速度も遅くなる。この問題の解決するために、一つの液晶表示装置の画面を２つ以上の画面に分割して、それぞれの部分を分割された行数で駆動することで実効値のＯＮ／ＯＦＦ比を大きくする。これにより、高コントラスト、高応答速度の液晶表示装置が実現できる。表示画面を上下２分割以上に分割する液晶表示装置の構造としては、第一層の電極とその一部に絶縁膜を介して電気的に分離された第二層の電極の少なくとも２つの電極が積層する構造が知られている（例えば、特許文献１を参照）。

図５に従来の一般的な半透過型のカラー液晶表示装置の構造を示す。カラーフィルタ側の基板１Ａの製造方法は、透明基板に０．１５μｍ程度のアルミをスパッタリングで成膜し、その後パターニングして反射板３を形成し、その上に顔料を分散させたアクリル系樹脂をスピナーで塗布し、その後パターニングを繰り返し行なってブラックマトリクス（遮光膜）４および３原色のカラーフィルタ５Ｒ，５Ｇ，５Ｂを形成する。その上に透明アクリル系樹脂をスピナーで塗布し透明絶縁膜６を形成する。次にＩＴＯ等をスパッタで成膜後、パターニングして液晶駆動用の透明電極８を形成する。透明絶縁膜６は、ブラックマトリックス４およびカラーフィルタ５Ｒ，５Ｇ，５Ｂの表面を平坦化する機能を有すると同時に、透明電極８の密着性を向上させる機能を有している。対向基板１Ｂの表面には、透明基板に形成された透明電極８のパターンと直交するように対向電極９が形成されている。カラーフィルタ基板１Ａと対向基板１Ｂをシール材１０により貼り合わせた空間に液晶１１を注入する。
特開平５−３２３３３８号公報

従来の単純マトリクス型の液晶表示装置では、画質を維持するために、走査電極数を約１２８〜４８０に設定する必要があった。一般的に、走査電極数の増加に従い、コントラストと視角が狭くなる。また、画面を２分割して、それぞれの部分を構成する電極を分けて駆動する２画面駆動方式が行われていた。分割された画面をさらに分割して駆動するためには、特許文献１に記載されたように、第一層の電極とその一部に絶縁膜を介して電気的に分離された第二層の電極の少なくとも２つの電極を積層する構造が必要である。しかしながら、このような構造では第一層の電極の上方に第二層の電極が形成されるため、第一層の電極と第二層の電極の間に大きな寄生容量が付加されてしまい、消費電力が増えるという課題があった。また、寄生容量により第一層の電極と第二層の電極に印加される信号が互いに影響しあい、波形を歪めてしまうことになった。そのため、分割された画面で異なった輝度になり、全体の表示品質を低下させるという課題があった。本発明の目的は多分割駆動におけるこれらの問題点を解決することにある。

上記課題を解決するために、列電極を分割して多画面駆動をする場合の列電極基板の構造を平面的に分離すると同時に一部を２層構造とした。第一層の電極の一部はカラーフィルタ基板を構成する遮光膜、カラーフィルタ層および感光性の透明絶縁膜で形成し、第二層の電極との電気的絶縁性を確保した。遮光膜、カラーフィルタおよび感光性の透明絶縁膜部分の一部にパターニングにより絶縁膜を設けない領域を形成した後、第一層の電極の上に第二層の電極を形成することにより電気的な接続をした。この際、感光性の透明絶縁膜は設けず第一層の電極を遮光膜とカラーフィルタ層の表面に直接形成しても構わない。また、第一層の電極を低抵抗の透明電極やアルミなどの金属薄膜で形成することにより、低抵抗で細い電極として寄生容量を少なくした。また、第一層の電極と第二層の電極が導通のために重なった領域以外は第一層の電極と第二層の電極を重ならないように平面的配置をすることで低消費電力、高画質表示を実現した。さらに、遮光膜、カラーフィルタおよび感光性の絶縁膜を設けない領域に感光性の透明樹脂を用いて表面が平坦化するようにした。

本発明によれば、積層した電極が上下に配置されないので寄生容量が発生せず、低消費電力化ができると同時に、従来の一層電極構成の液晶表示装置に比べてコントラストや視角等の表示品質が良く、低消費電力の液晶表示装置が実現できる。また、カラーフィルタ基板側の反射膜形成工程と同時に、列電極を分離した配線が可能となり、低ｄｕｔｙ数での駆動が実現できる。さらに遮光膜、カラーフィルタおよび感光性の透明絶縁膜を設けない領域を平坦化することにより、液晶表示装置の液晶層の厚みが均一化され表示品質が向上できる。

本発明の液晶表示装置は、複数の信号電極が形成された第一基板と、複数の走査電極が形成された第二基板と、第一基板と第二基板の間に設けられた液晶層を備えており、複数の信号電極と複数の走査電極が交差するそれぞれの部分で画素を形成する液晶表示装置であって、複数の列電極は分割して画面駆動するために第一の信号電極群と第二の信号電極群に分割され、第一基板には第二の信号電極群に駆動信号を導く配線電極が形成され、配線電極上には接続領域を除いた部位にカラーフィルタ層と遮光層の少なくともひとつを含む絶縁体が形成されている。そして、絶縁体が形成されない接続領域で配線電極と第二の信号電極群を構成する信号電極が電気的に接続されている。

そして、このカラーフィルタ層と遮光層の少なくともひとつを含む絶縁体と第二の信号電極との間に絶縁層を設けることとした。また、接続領域上に凹部があると、この部分で液晶分子の配列に乱れが生じることがある。これを防ぐため、接続領域上に凸平坦化膜を設けることとした。

ここで、接続領域を第二の信号電極群を構成する一つの信号電極に対して複数個設けても良い。

ここで、配線電極は、第一の信号電極群を構成する信号電極の直下に形成しないことが望ましい。これにより配線電極と第一の信号電極群との間に寄生容量が発生することを防ぐことができる。配線電極に用いる材料として金属薄膜や透明導電性薄膜が用いられる。

また、反射特性を備える材料で配線電極を形成し、第一基板上の画素に対応する部位にこの反射特性を備える材料で反射部を形成することもできる。これにより、半透過型あるいは反射型の液晶表示装置が実現できる。

また、本発明の液晶表示装置の製造方法は、第一基板上に導電性薄膜からなる配線電極を形成する配線電極形成工程と、配線電極上に接続領域となる部分を除いて遮光膜とカラーフィルタ層の少なくとも一つを形成する工程と、第一基板上に透明導電膜を形成することにより、接続領域の配線電極上に直接的に透明導電膜を設ける工程と、透明導電膜をエッチングして第一の信号電極群と第二の信号電極群を形成するエッチング工程を備えている。そして、エッチング工程において、第二の信号電極群を構成する信号電極は接続領域を介して配線電極と電気的に接続され、その後、接続領域を感光性樹脂により平坦化する工程を備えている。さらに、導電性薄膜に反射特性を備える材料を用いるとともに、配線電極形成工程において、配線電極とは電気的に接続されていない反射電極を配線電極と同一の材料で形成することにした。さらに、アクリル系の感光性樹脂を用いて絶縁膜が設けられていない凹んだ領域のみにパターニングして表面を平坦化した。この際、表面の平坦化を向上させるためにパターニングした感光性透明樹脂を研磨してもよい。以下、本発明の液晶表示装置について実施例を基に詳細に説明する。

本実施例の半透過型液晶表示装置を図１、図２に基づいて説明する。図１は半透過型液晶表示装置を構成するカラーフィルタ基板を上方から見た模式図である。説明を判り易くするために、図１ではカラーフィルタ層を省略した。図２は半透過型液晶表示装置の断面図を示す。図２（Ａ）は図１のＡ−Ａ線の、図２（Ｂ）はＢ−Ｂ線の断面を表している。図２に示すように、カラーフィルタ５Ｒ、５Ｇ、５Ｂが形成された基板１Ａと走査電極９が形成された対向基板１Ｂの間にシール材１０を用いて液晶１１が封入されている。カラーフィルタ基板１Ａには液晶に電圧を印加するための信号電極が形成されている。本発明では、カラーフィルタ基板１Ａに形成される信号電極の構成に特徴がある。本実施例ではカラーフィルタ基板１Ａとしてガラス基板を用いる場合を説明する。ガラス基板に良導電性の金属薄膜をスパッタリング等で成膜し、その後、フォトリソグラフィー法等のパターニングにより配線電極２と反射部３を同時に形成する。このとき配線電極２と反射部３は電気的に分離しており、配線電極２と反射部３の間に寄生容量が生じないようにする。次に、この上に感光性のアクリル系黒色樹脂をスピナー法等で塗布し、用いてブラックマトリックスをフォトリソグラフィー法でパターニングすることにより遮光膜４として形成する。このとき、図１、図２に示すように、配線電極上には遮光膜４が形成されるが、配線電極上に遮光膜を設けない領域も存在している。この領域が接続領域７となる。この遮光膜を設けない領域の形状は任意であるが、大きさは小さい程好ましい。その後、同様にして赤色の感光性アクリル樹脂をスピナー等で塗布し、フォトリソグラフィー法でパターニングすることでカラーフィルタ５Ｒを形成する。このとき、図１，２Ａに示すように配線電極上の遮光膜が設けられていない部分にカラーフィルタ５Ｒも設けない領域も存在している。しかし、前述したように、遮光膜４とカラーフィルタ５Ｒを設けない領域、すなわち接続領域７は小さい方が好ましいので、遮光膜が設けられていない部分の一部にカラーフィルタ５Ｒを設けない領域を作成しても良い。同様にして、緑色および青色の感光性アクリル樹脂を用いて、カラーフィルタ５Ｇ，５Ｂを形成する。次に、感光性の透明アクリル樹脂をスピナー法等によりカラーフィルタ基板１Ａ全面に塗布し、フォトリソグラフィー法により透明絶縁膜６を形成する。このとき配線電極上の接続領域７には透明絶縁膜６が存在しないように形成されている。

次に、スパッタリング等により透明導電膜を形成する。この時、透明導電膜は遮光膜、カラーフィルタ、透明絶縁膜が形成されていない凹部、すなわち接続領域７の少なくとも表面を覆うことになり、凹部底面の配線電極２と透明絶縁膜６上の透明導電膜が電気的に接続されることとなる。このように形成された透明導電膜をパターニングして液晶駆動用の第一の信号電極８Ａと第二の信号電極８Ｂを形成する。このパターニング時に、接続領域７の配線電極と所定の第二の信号電極８Ｂが電気的に接続されることとなる。

さらに、接続領域７の凹部を平坦化するために、感光性のアクリル系樹脂をスピナー法等により基板表面に設け、フォトリソグラフィー法により接続領域７と同じ形状にパターニングして平坦化膜７’とする。このとき平坦化膜７’の表面を研磨等により平坦性を向上させても良い。このようにして半透過型のカラーフィルタ基板が形成できる。接続領域７と同じ形状にパターニングする場合には、平坦化膜に用いる材料は、透明であっても着色していても構わない。また絶縁性であっても導電性があっても構わない。

ここで、第一の信号電極８Ａには配線電極２を用いずに駆動信号が供給され、第二の信号電極８Ｂには配線電極２を経由して駆動信号が供給される。複数の第一の信号電極８Ａと走査電極で構成された第一画素群と、複数の第二の信号電極８Ｂと走査電極で構成された第二画素群は、同一の走査信号で駆動することができるため、同じ画素数を従来の半分の分割数で駆動することができる。また、配線電極２を用いずに駆動信号が印加される第一の信号電極８Ａと配線電極２との間に寄生容量が生じないように、配線電極は第一の信号電極８Ａ間の間に対応する部位に設けることが好ましい。第二の信号電極８Ｂに配線電極２を介して駆動信号を供給するためには、配線電極２と表示パネルの電極端子との間にも上述の絶縁膜等を設けない接続領域を設ける必要がある。そうすれば、外部のドライバからの信号は電極端子から配線電極２に入り、第二の信号電極８Ｂに供給される。

また、もう一方の対向基板１Ｂには、スパッタリング法等により設けた透明電極をフォトリソグラフィー法によりパターニングして走査電極９を形成した。これらの２枚のカラーフィルタ基板１Ａ、対向基板１Ｂをシール材１０により貼り合わせ、形成された空間に液晶１１を注入して液晶表示装置を作製した。

カラーフィルタ基板１Ａ上に形成する金属薄膜の膜厚は、低抵抗の配線を可能とするレベルであればよいが、加工性や経済性を考慮すると０．１０μｍから０．３０μｍ程度の膜厚が好ましい。本実施例では、この金属薄膜は反射部にも用いられるため、低抵抗であるだけでなく反射特性を備えている必要がある。また、金属薄膜で形成される配線電極２の上に設けられる遮光膜４、カラーフィルタ５Ｒ，５Ｇ，５Ｂおよび透明絶縁膜６の膜厚は、任意であるが、厚すぎると第二の信号電極８のパターニング加工が難しくなるので、それぞれ０．５μｍから２μｍの膜厚が好ましい。

上述したように、一般的なカラーフィルタ基板の加工工程に平坦化のための感光性樹脂の塗布工程とこれをパターニングする工程を加えるだけで信号電極を分離すると同時に表面の平坦化が可能となり、同一画素構成を従来より低いｄｕｔｙ数で駆動できる。

本実施例では、金属薄膜としてアルミニウムまたはアルミニウム合金を用いることができる。その膜厚を０．１５μｍとした。また、透明絶縁膜４の膜厚を１．５μｍとした。あるいは、金属薄膜として銀または銀合金を用いることもできる。この場合には、金属薄膜の膜厚を０．１２μｍとした。また、金属薄膜としてクロムを用いることもできる。

また、上述の構成で、反射部の面積を大きくすれば、実質的に反射型の液晶表示装置が得られることになる。

本実施例の透過型液晶表示装置を図３及び図４を用いて説明する。図３は本実施例の透過型液晶表示装置を構成する基板を上方から見た模式図である。図４はこの透過型液晶表示装置の断面図を示す。図４（Ａ）、図４（Ｂ）は、それぞれ図３のＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線の断面を表している。図４に示すように、カラーフィルタが形成された基板１Ａと走査電極が形成された対向基板１Ｂの間にシール材１０を用いて液晶１１が封入されている。基板１Ｂには液晶に電圧を印加するための走査電極９が形成されている。本実施例は透過型の表示装置に関するので、実施例１で形成された反射部を備えていない。その他の点では実施例１と同じ構成なので重複する説明は適宜省略する。実施例１と同様に、信号電極を形成するカラーフィルタ基板１Ａにはガラス基板を用いた。このガラス基板に銀または銀合金等の金属薄膜をスパッタリングで成膜し、これをパターニングして配線電極２を形成する。本実施例では、銀または銀合金の膜厚を０．１２μｍとした。本実施例では、金属薄膜を配線電極としてのみ用いるため、実施例１のような反射特性を備える必要なく、電極に信号を印加したときに駆動ができる程度の低抵抗の材料を用いればよい。そのため、ＩＴＯ等の透明導電膜を用いることもできる。配線電極の材料に透明導電膜を用いる場合には、金属薄膜を用いる場合よりも膜厚を大きくする必要がある。次に、配線電極２の上にアクリル系の黒色の感光性樹脂をスピナーで塗布し、これをパターニングすることにより遮光膜４を形成する。このとき、図３、図４に示すように、配線電極上には遮光膜４が形成されるが、遮光膜を設けない領域も接続領域７として存在している。その後、実施例１と同様にカラーフィルタ５Ｒ，５Ｇ，５Ｂおよび透明絶縁膜６を形成する。次に、ＩＴＯ等の透明導電膜をスパッタリングで成膜し、パターニングして液晶駆動用の第一の信号電極８Ａ，第二の信号電極８Ｂを形成する。さらに感光性の樹脂を用いて接続領域にフォトリソグラフィー法により平坦化膜７’を形成する。

もう一方の基板には、スパッタリングにより透明導電膜を成膜し、パターニングにより液晶駆動用の走査電極９を形成した。これらのカラーフィルタ基板１Ａと対向基板１Ｂをシール材２０を用いて貼り合わせ、形成された空間に液晶１９を注入して液晶表示装置を作製した。

本実施例の透過型液晶表示装置の構成を図６に模式的に示す。本実施例では絶縁層として遮光膜とカラーフィルタ材料のみを用い、実施例１で用いた感光性のアクリル系透明樹脂を必要としない構成を説明する。ここでは実施例１と重複する説明は適宜省略する。カラーフィルタ基板１Ａにガラス基板を用い、これにスパッタリング等により透明導電膜を成膜し、パターニングして配線電極２を形成する。本実施例では、配線電極の膜厚を０．２０μｍとした。その後、実施例１と同様に遮光膜４、カラーフィルタ５Ｒ、５Ｇ、５Ｂをフォトリソグラフィー法により形成した。このとき、配線電極２上には遮光膜４、カラーフィルタ５Ｒ、５Ｇ、５Ｂが形成されない接続領域７が存在している。次に、遮光膜４およびカラーフィルタ５Ｒ、５Ｇ、５Ｂの表面にプラズマイオン処理を施す。これによって、この上に形成する透明導電膜の密着性が向上することになる。この透明導電膜をフォトリソグラフィー法によりパターニングして第一の信号電極８Ａと第二の信号電極８Ｂを形成した。その後、感光性樹脂をスピナー法等で塗布し、フォトリソグラフィー法を用いて接続領域７に平坦化膜７’を形成した。

実施例１と同様に、もう一方の基板には、スパッタリングにより透明導電膜を成膜し、パターニングにより液晶駆動用の走査電極９を形成した。これら一対の基板をシール材１０により貼り合わせ、形成された空間に液晶１１を注入して液晶表示装置を作製した。

図７に本実施例の半透過型液晶表示装置の断面図を示す。半透過型液晶パネルを構成する基板の上面図は図１と同様である。まず、信号電極が形成されるカラーフィルタ基板１Ａについて説明する。ガラス基板に良導電性の金属薄膜をスパッタリング等で成膜し、これをフォトリソグラフィー法等でパターニングし、配線電極２と反射板３を同時に形成する。すなわち、金属薄膜のパターニング時に画素部分の少なくとも一部分に金属薄膜を残すことにより反射板３が形成される。反射板３と配線電極２は電気的に分離され、かつ、信号電極との間に寄生容量が生じないように形成されている。このような基板上にアクリル系の黒色感光性樹脂をスピナー法等で塗布し透遮光膜４形成する。次にパターニングにより遮光膜４には遮光膜を設けない領域を設け接続領域７とする。この遮光膜４が存在しない接続領域の形状は任意である。その後、実施例１と同様に、カラーフィルタ５Ｒ，５Ｇ，５Ｂをフォトリソグラフィー法により形成した。このとき、配線電極２上には遮光膜４、カラーフィルタ５Ｒ、５Ｇ、５Ｂが形成されない接続領域７が存在している。次に、ＩＴＯ等の透明導電膜をスパッタリングで成膜し、パターニングにより液晶駆動用の第一の信号電極８Ａと第二の信号電極８Ｂを形成する。その後感光性樹脂をスピナー法等で塗布し、遮光膜４、カラーフィルタ５Ｒ，５Ｇ，５Ｂを設けない領域にフォトリソグラフィー法により平坦化膜７’を形成した。

また、もう一方の基板１Ｂには、スパッタリングにより透明導電膜を成膜し、パターニングして液晶駆動用の走査電極９を形成した。これら一対の基板をシール材１０により貼り合わせ、形成された空間に液晶１１を注入して液晶表示装置を作製した。

ここで、金属薄膜の膜厚は、低抵抗の配線を可能とするレベルであればよいが、加工性や経済性を考慮すると０．１０μｍから０．３０μｍ程度の膜厚が好ましい。遮光膜の膜厚は、低消費電力化のためには厚い方がよいが、厚すぎると透明電極８のパターニング加工が難しくなるので、０．５μｍから２．０μｍが好ましい。

このように一般的なカラーフィルタ基板の加工工程に感光性樹脂の塗布工程とパターニング工程を加えるだけで信号電極を分離し、カラーフィルタ基板を平坦化することが可能となる。そのため、同一画素構成を従来より低いｄｕｔｙ数で駆動し、均一な液晶層を形成することができる。また、低消費電力化のために配線電極２を第一の信号電極群の間に配置したが、配線電極が十分細く、遮光膜４およびカラーフィルタ５Ｒ，５Ｇ，５Ｂの膜厚が十分とれるのであれば配線電極２を第一の信号電極の直下に配置してもよい。

本実施例では、金属薄膜としてアルミニウムまたはアルミニウム合金を用い、その膜厚を０．１５μｍとした。また、遮光膜４、カラーフィルタ５Ｒ、５Ｇ、５Ｂの膜厚を１．０μｍとした。

単純マトリクス型の液晶表示装置に本発明の構成を用いることにより、情報量（画素数）が多くても従来より低い分割数で駆動できるので、コントラストや視野角が改善され、さらに、低消費電力化も可能となる。したがって、携帯情報機器、パソコン、モニター等のカラー液晶表示装置に適用でき、ＴＦＴ−ＬＣＤとの置き換えも可能である。

本発明の半透過型液晶表示装置を構成する基板を上から見た模式図である。 本発明の半透過型液晶表示装置の断面を示す模式図である。 本発明の透過型液晶表示装置を構成する基板を上から見た模式図である。 本発明の透過型液晶表示装置の断面を示す模式図である。 従来の半透過型液晶表示装置の断面図である。 本発明の透過型液晶表示装置の断面図である。 本発明の半透過型液晶表示装置の断面図である。

符号の説明

１Ａ カラーフィルタ基板
１Ｂ 対向基板
２ 配線電極
３ 反射部
４ 遮光膜
５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ カラーフィルタ
６ 透明絶縁膜
７ 接続領域
７’ 平坦化膜
８ 信号電極
９ 走査電極
１０ シール材
１１ 液晶

Claims (8)

1. 複数の信号電極が形成された第一基板と、複数の走査電極が形成された第二基板と、前記第一基板と第二基板の間に設けられた液晶層を備え、前記複数の信号電極と前記複数の走査電極が交差するそれぞれの部分で画素を形成する液晶表示装置において、
   前記複数の信号電極は分割して画面駆動するために第一の信号電極と第二の信号電極に分割され、
   前記第一基板には、前記第二の信号電極に駆動信号を導く配線電極と、カラーフィルタ層と遮光層の少なくともひとつを含む絶縁体と、前記第一の信号電極と前記第二の信号電極が形成され、
   前記配線電極上には前記絶縁体が形成されない接続領域を備え、
   前記接続領域で前記配線電極と前記第二の信号電極が電気的に接続されたことを特徴とする液晶表示装置。
2. 前記絶縁体と前記第二の信号電極との間に絶縁層が設けられたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記接続領域上に平坦化膜を設けたことを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
4. 前記接続領域が前記第二の信号電極群を構成する一つの信号電極に対して複数個設けられたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
5. 前記配線電極は、第一の信号電極群を構成する信号電極の直下に形成されていないことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
6. 前記配線電極が反射特性を備える材料で形成されるとともに、前記第一基板上の前記画素に対応する部位に、前記反射特性を備える材料で形成された反射部を備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
7. 第一基板上に導電性薄膜からなる配線電極を形成する配線電極形成工程と、
   前記配線電極上に、接続領域となる部分を除いて遮光膜とカラーフィルタ層の少なくとも一つを形成する工程と、
   前記第一基板上に透明導電膜を形成することにより、前記接続領域の配線電極上に直接的に透明導電膜を設ける工程と、
   前記透明導電膜をエッチングして第一の信号電極群と第二の信号電極群を形成するエッチング工程を備えるとともに、前記エッチング工程において、前記第二の信号電極群を構成する信号電極は前記接続領域を介して前記配線電極と電気的に接続され、前記接続領域を感光性樹脂により平坦化することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
8. 前記導電性薄膜に反射特性を備える材料を用いるとともに、前記配線電極形成工程において、前記配線電極とは電気的に接続されていない反射電極を形成することを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置の製造方法。

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