JPH1128407A - 塗布ノズル、塗布装置および塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の両端部の薄膜化を防止する。 【解決手段】 スリット２６の流出抵抗はその両端側の
側壁２６ａによって高められるが、スリット２６のノズ
ル口９の幅Ｈ２が基板幅Ｈ１よりも広く構成されている
ため、スリット２６の流出抵抗の大きい両端部分を使用
することなく、側壁２６ａから適度に離れた流出抵抗の
影響を受けないスリット部分で基板２の被塗布面２ａに
塗布することができ、図８に示すように基板２の両端部
分Ｘにおける薄膜化を防止することができて、基板幅方
向Ｈに亘って塗布膜厚の均一性を向上させることができ
る。このように、基板２の両端部分Ｘにまで塗布膜厚の
均一性領域を拡大することができて塗布有効範囲を広げ
ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示デバイス
（ＬＣＤ）、プラズマ表示デバイス（ＰＤＰ）、半導体
デバイスおよび各種電子部品などの製造プロセスにおい
て、ＬＣＤまたはＰＤＰ用ガラス基板、半導体基板およ
びプリント基板などの基板表面に対して、フォトレジス
ト膜、カラーフィルタ材、平坦化材、層間絶縁膜、絶縁
膜および導電膜などを形成するために各種塗布液を毛細
管現象で汲み上げて塗布する塗布ノズル、塗布装置およ
び塗布方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、基板表面に塗布液を塗布する方式
としては、回転塗布方式、ブレード塗布方式、スプレイ
塗布方式およびロールコート方式などがある。

【０００３】近年、液晶表示デバイスや半導体デバイス
などの製造プロセスにおいて、基板を水平に保った状態
で回転させ、その中央部に塗布液を供給して塗布液に遠
心力を与えることで、基板表面上の中央部から外周部に
均一に塗布液を塗布する回転塗布方式が広く利用されて
いる。

【０００４】ところが、この回転塗布方式では、基板の
大型化や角形化の傾向とも相俟って、塗布液を遠心力で
外方に飛ばすため、使用される塗布液の有効利用という
点で無駄があり、塗布液の利用効率が悪かった。また、
角形の基板を水平姿勢で回転させることで、基板の大型
化にも伴って装置も大型化し、その設置スペースも増大
せざるを得なかった。さらに、角形の基板を高速に回転
させると、基板表面に気流の乱れが発生し易く、しか
も、その基板が大型化すると、その回転時における基板
表面上の線速度差が増大することにより、塗布むらや塗
布膜厚の均一性などの塗布品質を確保することが難しく
なっていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このような回転塗布方
式の上記問題、つまり、塗布液の利用効率の低下、設置
スペースの増大および塗布膜厚の不均一を解決すべく、
基板を鉛直姿勢または傾斜した姿勢に立てて保持し、そ
の基板の幅方向（左右方向）のノズルから基板表面に対
して塗布液を吐出させつつ、そのノズルを基板上端から
下端に移動させるようにして塗布液を塗布する方式の塗
布装置が、特開平８−２４７４０号公報「基板への塗布
液塗布装置」で提案されているが、この塗布装置につい
て、以下に説明する。

【０００６】図１１は、塗布装置の概略構成を示す正面
図であり、図１２は、図１１の塗布装置におけるＡＡ線
の断面図である。

【０００７】図１１および図１２において、この塗布装
置は、基板１００を垂直方向に立てて保持するステージ
１０１と、基板１００の被塗布面に塗布液１０２を供給
する塗布液槽を内部に有するノズル部材１０３と、この
ノズル部材１０３を基板１００に沿って下方に直線移動
させる移動手段（図示せず）とから構成されている。こ
のノズル部材１０３は、両端が閉塞され基板１００の幅
方向に延在する筒状をなしており、基板１００の被塗布
面と対向する前面壁部１０４に槽内から外部に貫通した
スリット状の塗布液流出路１０５をその幅方向に形成し
ている。また、基板１００の被塗布面と対向する前面壁
部１０４の前端面１０６は、基板１００の被塗布面に非
接触でかつ近接するように配設され、その下端１０６ａ
が塗布液流出路１０５の流出口よりも下方で且つその反
対側の入口よりも上方に位置し、その上端１０６ｂが、
基板１００の被塗布面と前端面１０６との間の隙間１０
７を上方へ無限に延長させたと仮定した場合に塗布液流
出路１０５を通って隙間１０７内に流入した塗布液が少
なくとも毛細管現象などによって上昇するときの到達高
さ位置と塗布液流出路１０５の流出口との間に位置する
ようになっている。

【０００８】上記構成により、塗布液槽内に塗布液流出
路１０５の入口と前端面１０６の下端１０６ａとの間の
高さまで塗布液１０２を注入し、塗布液槽を大気開放す
ると、塗布液槽内に供給された塗布液１０２は、毛管現
象によって、塗布液流出路１０５を通って槽外に流出
し、ステージ１０１によって鉛直姿勢に保持された基板
１００の被塗布面と前端面１０６との間の隙間１０７内
に流入する。

【０００９】この隙間１０７内に流入した塗布液は、毛
細管現象などによってその隙間１０７内を前端面１０６
の下端１０６ａまで下降するが、前端面１０６の下端１
０６ａから流下することはない。また、隙間１０７内に
流入した塗布液の上方への流動は、毛細管現象などによ
ってその隙間１０７内を前端面１０６の上端１０６ｂま
で上昇するが、前端面１０６の上端１０６ｂで規制され
てそれ以上には上昇しない。このようにして、基板１０
０の被塗布面と前端面１０６との間の隙間１０７内に、
基板１００の幅方向に延びる帯状の塗布液の液溜りが形
成されることになる。

【００１０】さらに、この塗布液の液溜りが形成された
状態で、基板１００の被塗布面と前端面１０６との間の
隙間１０７を保持したまま、基板１００の縦方向（基板
１００の幅方向と直交する上下方向）ａにノズル部材１
０３と基板１００とを相対的に直動させると、基板１０
０の被塗布面に塗布液が塗布される。このとき、基板１
００の被塗布面と前端面１０６の隙間１０７にある液溜
りの塗布液は、基板１００の被塗布面に塗布されていく
に従って消費されるが、大気開放されたノズル部材１０
３の塗布液槽の塗布液にかかる大気圧と毛細管現象など
によって、その消費量とほぼ同等の塗布液が塗布液槽内
から塗布液流出路１０５を通ってその隙間１０７内に供
給される。そのため、塗布時の隙間１０７内の塗布液量
は常にほぼ一定に保持されることになって、基板１００
に塗布液が連続して塗布されることになる。

【００１１】このように、基板１００の塗布液面とノズ
ル部材１０３の前端面１０６との隙間１０７内にある液
溜り量を一定に保持して塗布することにより、塗布膜厚
を一定にすることができると考えられていた。しかしな
がら実際には、基板幅方向で膜厚が変動し、一定の厚さ
の塗布膜が得られない場合があった。そこで本発明者ら
が鋭意研究したところ、特に図１１のようにノズル部材
１０３の長さが基板の幅よりも短い場合に、図１４に示
すように基板の両端部１０９で膜厚が薄くなる傾向があ
ることがわかり、この両端部１０９がノズル部材１０３
の両端に対応するところであることから、ノズル部材１
０３の塗布液流出路１０５を通過する塗布液の流出抵抗
が、図１３の横断面図に示すように、その塗布液流出路
１０５の幅方向両端側で、塗布液流出路１０５の側壁１
０８によって高くなっており、その幅方向両端側で塗布
液の流出量が減少し、基板１００の両端部１０９で塗布
膜厚が薄くなっていたことが明らかになってきた。

【００１２】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、基板の幅方向両端部における薄膜化を防止すること
ができる塗布ノズル、塗布装置および塗布方法を提供す
ることを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の塗布ノズルは、
一端が塗布液槽に連通されこの一端から斜め上方に延び
るスリット状の塗布液流出路が前面壁部に配設され、こ
の前面壁部の前端面に、塗布液流出路の他端が連通され
た外部流出口が配設され、毛管現象で塗布液槽から塗布
液流出路を介して汲み上げられた塗布液を外部流出口か
ら供給して基板の被塗布面に塗布可能な塗布ノズルにお
いて、外部流出口の基板幅方向の幅が基板幅よりも広く
構成されていることを特徴とするものである。また、本
発明の塗布方法は、毛管現象で塗布液槽から汲み上げら
れた塗布液をスリット状の塗布液流出路を介してノズル
の前端面に形成された外部流出口へ供給し、立設した基
板の被塗布面とノズルの前端面の間のギャップに塗布液
を保持して塗布する塗布方法において、外部流出口の幅
が基板の幅よりも広いノズルを用意する工程と、基板の
被塗布面を前記ノズルの外部流出口の中央部に対向させ
て、ノズルの前端面との間に塗布液を保持する工程と、
前端面と被塗布面との間に塗布液を保持した状態で前記
ノズルを基板の前記被塗布面に沿って相対移動させて基
板に塗布液を塗布する工程とを有することを特徴とする
ものである。

【００１４】この構成により、基板に対して塗布液を付
着させ供給して塗布動作に寄与する外部流出口の幅が外
部流出口の全幅よりも狭いので、塗布動作に寄与する外
部流出口幅が、スリット状の塗布液流出路の幅方向両端
側の側壁から適度に離れていて、この側壁による塗布液
の流出抵抗の影響を受けないことから、基板の両端部分
における薄膜化が防止されて、基板幅方向に亘って塗布
膜厚の均一性が向上し、塗布有効範囲を基板の両端部ま
で広げることが可能となる。

【００１５】また、本発明の塗布ノズルは、一端が塗布
液槽に連通されこの一端から斜め上方に延びるスリット
状の塗布液流出路が前面壁部に配設され、この前面壁部
の前端面に、塗布液流出路の他端が連通された外部流出
口が配設され、毛管現象で塗布液槽から塗布液流出路を
介して汲み上げられた塗布液を外部流出口から供給して
基板の被塗布面に塗布可能な塗布ノズルにおいて、塗布
液流出路の一端の基板幅方向の幅が、外部流出口の基板
幅方向の幅よりも広く構成されていることを特徴とする
ものである。

【００１６】この構成により、塗布液流出路の下方端の
幅が、その上方端の外部流出口の幅よりも広く構成され
ているので、塗布液流出路の幅方向両端部分において、
塗布液が集中して流れると共に、外部流出口の両端部か
ら塗布液流出路の幅方向両端側の側壁が離れていて、そ
の側壁の流出抵抗への影響も少ないことから、塗布液流
出路の両端部近傍の外部流出口における塗布液の流出性
が向上して、基板の両端部分における薄膜化が防止さ
れ、基板幅方向に亘って塗布膜厚の均一性が向上して、
塗布有効範囲を基板の両端部まで広げることが可能とな
る。

【００１７】さらに、本発明の塗布ノズルは、一端が塗
布液槽に連通されこの一端から斜め上方に延びるスリッ
ト状の塗布液流出路が前面壁部に配設され、この前面壁
部の前端面に、塗布液流出路の他端が連通された外部流
出口が配設され、毛管現象で塗布液槽から塗布液流出路
を介して汲み上げられた塗布液を外部流出口から供給し
て基板の被塗布面に塗布可能な塗布ノズルにおいて、外
部流出口の基板幅方向の幅が基板幅よりも広く構成さ
れ、かつ塗布液流出路の一端の基板幅方向の幅が、外部
流出口の基板幅方向の幅よりも広く構成されていること
を特徴とするものである。

【００１８】この構成により、外部流出口の基板幅方向
の幅が基板幅よりも広く、かつ塗布液流出路の下方開口
端の幅が外部流出口の幅よりも広く構成されているの
で、基板の両端部分における薄膜化防止効果はいっそう
顕著になる。

【００１９】さらに、本発明の塗布ノズルは、一端が塗
布液槽に連通されこの一端から斜め上方に延びるスリッ
ト状の塗布液流出路が前面壁部に配設され、この前面壁
部の前端面に、塗布液流出路の他端が連通された外部流
出口が配設され、毛管現象で塗布液槽から塗布液流出路
を介して汲み上げられた塗布液を外部流出口から供給し
て基板の被塗布面に塗布可能な塗布ノズルにおいて、外
部流出口の基板幅方向の幅が基板幅よりも狭く構成さ
れ、かつ塗布液流出路の一端の基板幅方向の幅が、外部
流出口の基板幅方向の幅よりも広く構成されていること
を特徴とするものである。

【００２０】この構成により、塗布液流出路の下方端の
基板幅方向の幅が、その上方端の外部流出口の基板幅方
向の幅よりも広く構成されており、外部流出口の基板幅
方向の幅を基板幅よりも内側で、塗布したい幅に設定す
れば、基板の両端部分以外に塗布したい場合にも、塗布
部分の両端での薄膜化が防止され得る。

【００２１】次に、本発明の塗布装置は、立設した基板
の被塗布面に対して、毛管現象で塗布液槽から塗布液流
出路を介して汲み上げられた塗布液を外部流出口から供
給して塗布する塗布装置において、請求項１〜４のうち
何れかに記載の塗布ノズルと、塗布ノズルと基板を被塗
布面に沿って相対移動させる移動手段と、塗布ノズルと
基板の被塗布面を接近または離間するように移動させる
ギャップ可変手段と、移動手段およびギャップ可変手段
を駆動制御する制御手段とを有することを特徴とするも
のである。

【００２２】この構成により、上記作用に加えて、従来
の回転塗布方式のように基板を水平に支持せず基板を立
設するために、その設置スペースの縮小が図られ、ま
た、従来の回転塗布方式のように基板を回転させた遠心
力で塗布液を周りに振りきりつつ塗布するのではなく、
立設した基板に対して、基板の被塗布面に沿ってノズル
部材を移動手段で移動させつつ、毛管現象で供給された
塗布液を基板の被塗布面に塗布するので、塗布液の節約
が図られることになる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る塗布装置の実
施形態について図面を参照して説明するが、本発明は以
下に示す実施形態に限定されるものではない。

【００２４】（実施形態１）図１は本発明の実施形態１
における塗布装置の概略構成を示す斜視図である。

【００２５】図１において、壁状に構成されて立設され
た架台１の表面側中央部に、ガラス基板などの基板２の
被塗布面を外側に向けた状態で基板２を吸着して保持す
る吸着ステージ３が配設されている。この吸着ステージ
３は、用いるサイズの基板２毎の外周部に対応した適所
に、吸引可能な吸着部材としての吸盤（図示せず）が出
退自在に為されている細長い凹部３ａが複数配設されて
おり、基板２への吸盤（図示せず）による吸着後に吸盤
（図示せず）を凹部３ａ内の所定位置に引き込んで収納
することで基板２を保持するようになっている。また、
この吸着ステージ３による基板２の保持状態は、鉛直
（垂直）方向であってもよく、また、傾斜した姿勢であ
ってもよく、例えば基板２が吸着ステージ３の上側に乗
るように若干傾いた状態でもよい。さらに、吸着部材と
しての吸盤（図示せず）が基板２の中央部を保持しない
のは、基板２の中央部は重要な回路などが配置される部
分であり、吸盤（図示せず）による真空吸引と解除によ
って温度が下がったり上がったりすることで塗布むらと
なるのを防止するためである。したがって、吸盤（図示
せず）の形状も基板２の外周部だけを吸引すべく、細長
い凹部３ａと同様の細長い吸盤形状となっている。な
お、ここでは、吸着ステージ３による基板２の保持は、
吸盤（図示せず）による吸着の場合を示したが、基板２
の上下左右を爪状の部材でひっかけて保持するような構
成であってもよいことは言うまでもないことである。

【００２６】また、この架台１の表面側および裏面側の
幅方向両端部の上下位置の４角部にそれぞれ４個の各ア
イドルギヤ４が左右２組回転自在に各軸受部５でそれぞ
れ軸支されて配設されている。これらの上部に位置する
左右２組の各アイドルギヤ４にそれぞれ架けられた左右
の各スチールベルト６の一方端にはそれぞれ、ベース部
材７の両端上部がそれぞれ連結されており、また、左右
の各スチールベルト６の他方端にはそれぞれ、バランス
ウェイト８の両端上部がそれぞれ連結されている。ま
た、下部に位置する左右２組の各アイドルギヤ４にそれ
ぞれ架けられた左右の各スチールベルト６の一方端には
それぞれ、ベース部材７の両端下部がそれぞれ連結され
ており、また、その左右の各スチールベルト６の他方端
にはそれぞれ、バランスウェイト８の両端下部がそれぞ
れ連結されて、ベース部材７が架台１の表面側で、バラ
ンスウェイト８が架台１の裏面側でそれぞれ水平に保持
されかつ上下に移動可能な状態で、各スチールベルト６
が、架台１の幅方向両端部の上下方向にそれぞれ左右２
組の各アイドルギヤ４をそれぞれ介して巻回されてい
る。このベース部材７上の中央部には、基板２の幅寸法
のノズル口９を有し、そのノズル口９から塗布液を吐出
可能なノズルユニット１０が配設されている。これらの
ベース部材７およびノズルユニット１０とバランスウェ
イト８とがそれぞれバランスが取れた静止状態で架台１
の表と裏の幅方向両端部間に水平にそれぞれ保持される
ようになっている。

【００２７】また、架台１の表面側の両端部にはそれぞ
れ各上下方向に縦型の各リニアモータ１１の固定子１２
が配設されており、これら左右の各リニアモータ１１は
その駆動によって、ノズルユニット１０を載置したベー
ス部材７の両端部を各固定子１２に沿って上下に直線移
動させる構成となっている。この移動手段としてのリニ
アモータ１１は、各上下方向に配設された各スチールベ
ルト６にそれぞれ沿ってベース部材７の両端部および各
スチールベルト６の内側にそれぞれ配設されており、図
２に示すように、幅方向両端部の各レール部１３間にベ
ース部１４を有する固定子１２と、ベース部材７の両端
部裏側の各側壁にそれぞれ各固定子１２とそれぞれ対向
して配設され、各固定子１２の上をスライド自在なスラ
イダ部材１５とを有している。このスライダ部材１５
は、その幅方向両側に各レール部１３とそれぞれ嵌合し
て上下方向に案内される各リニアガイド部１６と、各リ
ニアガイド部１６の間に配設されると共に、固定子１２
のベース部１４に対向し、図示しない巻線による励磁に
よって磁力を発生させる磁気回路部１７と、この磁気回
路部１７の巻線（図示せず）の両端に接続されたコネク
タ１８とを有しており、この磁気回路部１７の励磁によ
る磁力で、スライダ部材１５は固定子１２の各レール部
１３に各リニアガイド部１６で案内されて上下に移動自
在である。このスライダ部材１５が、ノズルユニット１
０を載置したベース部材７の両端部裏側にそれぞれ固着
されており、これらの各スライダ部材１５の移動によっ
てベース部材７が上下に移動自在になっている。

【００２８】ここでは、ノズルユニット１０を載置した
ベース部材７の両端部を各固定子１２に沿って上下に移
動させるように構成したが、ノズルユニット１０と基板
２とが被塗布面に沿って相対的に移動するように構成す
ればよく、ノズルユニット１０を固定して基板２を吸着
ステージ３と共に上下にリニアモータやボールねじなど
の移動手段で移動するように構成することもできる。こ
のように、吸着ステージ３を上下に移動させる方がノズ
ルユニット１０を移動させるよりも振動が少なく、その
振動による塗布むら防止などの観点から吸着ステージ３
を移動させる方がよいのであるが、吸着ステージ３を上
下に移動させると、装置の高さが倍必要となり、クリー
ンルームの天井高さには制限があるので、非現実的なも
のとなってしまう。

【００２９】さらに、ノズルユニット１０は、図３に示
すように、基板２の被塗布面に対向して開口した水平方
向の細長いノズル口９から塗布液を吐出可能なノズル手
段としてのノズル部材１９と、このノズル部材１９のノ
ズル口９を基板２の被塗布面への対向位置Ｍと点線で示
す洗浄用の下方位置Ｎとの間で、ノズル部材１９をその
長手方向を回動軸として回動させるノズル部材回動機構
部２０と、ノズル部材１９のノズル口９と基板２の被塗
布面との水平方向の隙間（ギャップ）を可変させるべ
く、ノズル部材１９を基板２に対して接近または離間自
在に駆動するギャップ可変機構部２１とを備えている。
このノズルユニット１０は、塗布処理される基板２のサ
イズに合った幅寸法のノズル部材１９と付け変え可能に
構成されている。

【００３０】このノズル部材１９のうち、図４（ａ）に
はノズル部材１９ａが、図４（ｂ）には別の型のノズル
部材１９ｂが模式的に示されている。これらのノズル部
材１９ａ，１９ｂ内には、塗布液２２を溜める塗布液槽
２３が配設されており、この塗布液槽２３は、両端が閉
塞され基板２の幅方向に延在する水平方向に細長い筒状
に構成されている。なお、ノズル部材１９ａ，１９ｂの
いずれにおいても、塗布液槽２３はその内部に貯留され
る塗布液の液面よりも上方部分において外部と連通する
連通路２３ｐによって大気開放されており、内部は大気
圧となっている。

【００３１】また、この塗布液槽２３の中央部に塗布液
２２を供給する図１の供給チューブ２４が連結されてお
り、ベース部材７上に載置されたポンプ４３によって供
給チューブ２４を介して外部から塗布液を塗布液槽２３
内に供給可能に構成している。また、基板２の被塗布面
２ａと対向する前面壁部２５に塗布液槽２３内から外部
に斜め上向きに貫通した塗布液流出路としてスリット２
６がその幅方向に形成されている。このスリット２６
は、塗布液槽２３の下部とノズル口９との間で直線状に
左上向きに傾斜した状態で連結しており、スリット２６
の下方端が塗布液槽２３内に開口し、その上方端が水平
方向に細長いノズル口９となっている。さらに、基板２
の被塗布面２ａと対向する前面壁部２５の前端面２７
は、塗布液の液溜りが形成可能なように、基板２の被塗
布面２ａに非接触でかつ所定の隙間２８で近接するよう
に配置される。

【００３２】さらに、図４（ａ）のノズル部材１９ａで
は、前端面２７の下端２７ａは、スリット２６の出口で
あるノズル口９と、その反対側の塗布液槽２３内への開
口との間の高さに位置するよう形成されている。また、
この前端面２７の下端２７ａとスリット２６の塗布液槽
２３内への開口上端との高さ範囲Ｂ内に塗布液槽２３内
の塗布液面が位置するように液面を設定し、その前端面
２７の上端２７ｂが、基板２の被塗布面２ａと前端面２
７との間の隙間２８を上方へ無限に延長させたと仮定し
た場合にその隙間２８内に流入した塗布液２２が毛細管
現象などによって上昇できる到達高さ位置とスリット２
６の出口であるノズル口９との間に位置するようになっ
ている。

【００３３】また、図４（ｂ）の別の型のノズル部材１
９ｂでは、前端面２７の下端２７ａは、スリット２６の
出口であるノズル口９と、その反対側の塗布液槽２３内
への開口との間の高さに位置するよう形成されている。
また、前端面２７の下端２７ａとスリット２６の塗布液
槽２３内への開口上端との高さ範囲Ｂ内に塗布液槽２３
内の塗布液面が位置するように液面を設定し、ノズル口
９から前端面２７の前端面上部２９は、上方に開くよう
に傾斜している。つまり、基板２の被塗布面２ａと前端
面上部２９との間の隙間３０は上に行くほど広がってお
り、塗布液２２が毛細管現象などによってスリット２６
さらにノズル口９を介して隙間３０内を上昇する液面到
達高さ位置まで来ている。

【００３４】そして、本実施形態１では、これらのノズ
ル部材１９ａ，１９ｂにおいて、スリット２６を通過す
る塗布液２２の流出抵抗がその幅方向の両端側で高くな
るのを回避するために、図５に示すように基板２の幅Ｈ
１よりもノズル部材１９のノズル口９の幅Ｈ２の方が大
きくなるように構成している。このように、ノズル口９
の基板幅方向Ｈの幅Ｈ２が基板２の両端部からはみ出る
構成であり、ノズル部材１９ｂの場合も同様であるが、
図６のノズル部材１９ａを例にとって説明すると、基板
幅方向Ｈの両端側のうち片側におけるノズル口と基板の
幅寸法差ｈは、塗布液の粘度によってもことなるが、一
般的なフォトレジスト液では、具体的には塗布速度が１
０ｍｍ／ｓｅｃでは５ｍｍ前後で側壁２６ａによる流出
抵抗の影響を受けることがなくなり、基板端部での薄膜
化を防止することができる。この場合、塗布速度が早く
なるほどこの幅寸法差ｈを大きくとる必要がある。例え
ば塗布速度が３５ｍｍ／ｓｅｃと早くなれば、上記幅寸
法差ｈも１５ｍｍ前後必要となって、幅寸法差ｈが１５
ｍｍ前後あればスリット２６の両端側の側壁２６ａの影
響を受けることがなくなり、基板端部での薄膜化を防止
することができる。なお、ここでは、このノズル口９の
幅寸法Ｈ２がスリット２６および塗布液槽２３の幅寸法
と略同一幅寸法の場合を示している。

【００３５】この場合、スリット２６のノズル口９の幅
が基板２の幅の外側にまで設ける構成としているが、毛
管現象による塗布方式では、ノズル部材１９ｂ内の塗布
液に吐出のための圧力はかかっておらず、塗布液はギャ
ップ間に満たされるとともに基板の触れた部分にのみ付
着するだけであるので、塗布時に、基板２の両端からは
み出したノズル口９ａからは、図６に示すように塗布液
は吐出しないため、基板２の側端面２ｂに塗布液が付着
することはない。

【００３６】なお、これらのノズル部材１９ａ，１９ｂ
の特徴を比較すると、ノズル部材１９ａでは、塗布液２
２が毛細管現象などによって上昇する到達高さ位置より
も低い位置で前端面２７の上端２７ｂが形成されている
ため、毛細管現象などによる塗布液２２の上昇力が内在
されており、塗布液２２の塗始めから所定膜厚に至るま
での時間がノズル部材１９ｂの場合よりも早く到達する
というメリットがある。つまり、ノズル部材１９ａで
は、塗布液２２の塗始めの薄い膜厚範囲が、ノズル部材
１９ｂの場合よりも狭いというメリットがある。

【００３７】また、ノズル部材１９ａでは、その前端面
２７は塗布液２２で常に濡れているために塗布液２２が
乾くことがなく、乾くことによるコンタミネーションの
発生原因は抑えられることになる。一方、ノズル部材１
９ｂでは、前端面上部２９の傾斜面を、塗布液２２の液
面が毛細管現象などによって上昇する到達高さ位置は、
塗始めと塗終わりなどで、消費した液量差による槽内の
液面高さの低下などのため一定しておらず、液面が低下
することによって、今まで塗布液２２で濡れていた前端
面上部２９の傾斜面が乾いてコンタミネーションが生
じ、そこから発生したパーティクルが塗布液２２中に混
入して塗布されることになって、塗布膜の品質が低下す
るという虞がある。また、ノズル部材１９ｂでは、次に
別の基板２の被塗布面２ａを塗布する場合にも同様に、
前端面上部２９の傾斜面を、塗布液２２の液面が毛細管
現象などによって上昇する到達高さ位置は、前回の塗布
時と比べて、基板２の被塗布面２ａと前端面上部２９と
の隙間３０が広くなったり狭くなったりすることで一定
化しない。このため、その隙間３０が広くなったギャッ
プ部分では液面到達高さ位置が低下することによって、
今まで塗布液２２で濡れていた前端面上部２９の傾斜面
が乾くことになる。その乾いた部分にコンタミネーショ
ンが発生し、それによるパーティクルが塗布液２２中に
混入して塗布されることになって、塗布膜の品質が低下
するという虞がある。

【００３８】さらに、ノズル部材１９ａでは、基板２の
被塗布面２ａと前端面２７との隙間２８の寸法によって
塗布する塗布液２２の膜厚が変化するために、膜厚調整
用としては効力を発揮するが、細長いノズル口９と基板
２の被塗布面２ａとの隙間２８に、細長いノズル口９の
両端位置で、また、塗始めの位置と塗終わりの位置など
でギャップ差が生じるような場合には、その隙間２８の
差が塗布膜厚差となって反映することになって、基板２
の被塗布面２ａに均一な膜厚の塗布液２２を塗布するこ
とができないという虞がある。これに対して、ノズル部
材１９ｂでは、基板２の厚みが変化したり基板２の被塗
布面２ａと細長いノズル口９との隙間３０に、基板２が
反っていたりノズル部材１９ｂが傾いていたりして、細
長いノズル口９の両端位置で、また、塗始めの位置と塗
終わりの位置でギャップ差があるような場合にも、隙間
３０が上方に広がっているので、細長いノズル口９の両
端部などでのギャップ差が吸収されて、塗布膜厚差が生
じにくく、基板２の被塗布面２ａにより均一な膜厚の塗
布液２２を塗布することができるようになる。つまり、
隙間３０の寸法が小さくなるほど塗布膜厚が厚くなる
が、この場合、隙間３０を上昇する塗布液２２の液面到
達高さ位置も上昇することになり、前端面２９の傾斜面
で液面が上になるほど液面位置における隙間寸法も増え
て、細長いノズル口９の両端部などでのギャップ差が吸
収されることになる。この上昇液面位置における隙間寸
法が塗布膜厚に影響しているため、隙間３０の寸法が小
さくなるほど塗布膜厚が厚くなるが、上昇液面位置にお
ける実質的な隙間寸法は広がって塗布膜厚が薄くなるよ
うに作用し、塗布膜厚差は生じにくくなり、基板２の被
塗布面２ａに対してより均一な膜厚の塗布液２２を塗布
することができるようになる。

【００３９】一方、図３のノズル部材回動機構部２０
は、図示しない電磁弁で制御されて、ロッド先端部３１
を伸長位置と収縮位置との間を移動させるエアーシリン
ダ３２が、矢印方向Ｃにシリンダ前方部のピン３２ａを
回動中心として回動可能に軸支されている。このロッド
先端部３１は、アーム部材３３の一方端部と回動可能に
ピン連結されてリンク機構を構成しており、アーム部材
３３の他方端部は駆動軸３４にその長手方向に直交する
方向から回動力を伝達可能に固定されている。この駆動
軸３４は、所定幅で水平方向に延びたベース部材３５を
下方から支持する支持部材３５ａを横方向から貫通して
固定されている。このベース部材３５の前方端縁上側に
はノズル部材１９がそのノズル口９を基板２の被塗布面
２ａ側に向けた状態で、ノズル部材１９の長手方向と駆
動軸３４の軸方向が一致する方向になるように取り付け
られている。図３は、エアーシリンダ３２のロッド先端
部３１が伸長した場合であり、このとき、ノズル部材１
９のノズル口９は基板２の被塗布面２ａに対向して塗布
可能な状態である。これに対して、エアーシリンダ３２
のロッド先端部３１が短縮した場合には、ノズル部材１
９のノズル口９は、２点鎖線で示すように下方を向いて
洗浄可能な状態となる。このロッド短縮の途中で、ピン
３２ａを回動中心としてエアーシリンダ３２が矢印方向
Ｃに揺動しつつロッド先端部３１が短縮されることにな
る。

【００４０】また、ギャップ可変機構部２１は、ステッ
ピングモータやサーボモータなどの接離モータ３６と、
前後の軸受部３７，３８で軸支され、この接離モータ３
６の回転軸に連結部３９を介して連結されたボールねじ
４０と、このボールねじ４０に螺合した移動部材４１
と、移動部材４１の上端が下面で固着されていると共に
ノズル部材回動機構部２０を支持して基板２の被塗布面
２ａに対してノズル部材１９の前端面２７が接近または
離間するようにスライド自在なスライド部材４２とを備
えており、接離モータ３６によるボールねじ４０の回転
で、移動部材４１が、ノズル部材１９およびノズル部材
回動機構部２０を載置した状態で前後に移動自在に構成
されている。

【００４１】ここでは、ギャップ可変機構部２１は中央
部１個所として、基板２の厚さのばらつき範囲内でギャ
ップ寸法を調整するようにしているが、さらに、基板２
の厚さのばらつきだけではなく、基板２の幅方向にテー
パがあって左右両端部での厚さ寸法に差があるような場
合には、ギャップ可変機構部２１をベース部材７の左右
２個所配設することで左右独立にギャップ寸法を調整す
ることができ、ノズルユニット１０の左右に長いノズル
部材１９を、基板２の幅両端部で厚さが異なることによ
る幅方向テーパに合わせて平行に、左右位置で等ギャッ
プ寸法として傾け得るように構成することもできる。

【００４２】図７は、図１の塗布装置の概略制御構成を
示すブロック図である。

【００４３】図７において、操作部５２としては、数字
を入力するテンキー、電源のオン・オフを入力する電源
キー、塗布スタートキー、リニアモータ１１の駆動速度
の基準値を任意に手動で設定する速度設定キーおよび、
接離モータ３６を駆動させて基板２の被塗布面２ａとノ
ズル口９との隙間２８または隙間３０を調整する隙間設
定キー、基板サイズ、基板厚さ、塗布液粘度および塗布
膜厚などを設定する各種設定キーなどで構成されてい
る。この操作部５２が接続される制御部５３はＲＯＭ５
４およびＲＡＭ５５に接続されており、ＲＯＭ５４内に
登録された各制御プログラムで用いる制御データを操作
部５２からＲＡＭ５５内に書き込み可能である。

【００４４】また、これらの操作部５２、ＲＯＭ５４お
よびＲＡＭ５５が接続される制御部５３は、リニアモー
タ駆動回路５６を介してリニアモータ１１に接続されて
おり、ＲＯＭ５４内に登録されたリニアモータ駆動制御
プログラムと、操作部５２から入力され、リニアモータ
駆動制御プログラムに対応した制御データに基づいて、
制御部５３は、その制御信号をリニアモータ駆動回路５
６に出力し、リニアモータ駆動回路５６がリニアモータ
１１を駆動してベース部材７上のノズルユニット１０を
基板２の被塗布面２ａに対する所定の上下位置に移動自
在である。この場合の制御データは、基板２の保持位置
が精密な場合には、登録された原点データであり、ま
た、マニュアル的に操作部５２から所定の高さ位置が入
力されたデータであってもよい。さらに、塗布液２２の
塗始め位置に原点センサ（図示せず）を設けて、その原
点センサ（図示せず）がベース部材７を検知する所定の
塗始め位置で、制御部５３がベース部材７を停止するよ
うにリニアモータ駆動回路５６を介してリニアモータ１
１を駆動制御してもよい。また、制御部５３は、ＲＯＭ
５４内に登録されたリニアモータ駆動制御プログラム
と、基板サイズ、塗布液粘度および塗布膜厚などの各種
設定キーからの入力や、操作部５２の塗布スタートキー
の入力によって、リニアモータ駆動制御プログラムに対
応した制御データに基づいて、リニアモータ駆動回路５
６を介してリニアモータ１１を駆動して所定速度でノズ
ル走行させつつ塗布可能なようになっている。

【００４５】さらに、これらの操作部５２、ＲＯＭ５４
およびＲＡＭ５５が接続される制御部５３は、接離モー
タ駆動回路５７を介して接離モータ３６に接続されてお
り、ＲＯＭ５４内に登録された接離モータ駆動制御プロ
グラムと、操作部５２から入力され、接離モータ駆動制
御プログラムに対応した制御データに基づいて、制御部
５３は、その制御信号を接離モータ駆動回路５７に出力
し、接離モータ駆動回路５７が接離モータ３６を駆動し
てベース部材７上のノズルユニット１０を基板２の被塗
布面２ａに対して接近または離間させて所定のギャップ
位置に移動自在に制御可能である。この場合の制御デー
タは、塗布液２２の粘度や必要塗布膜厚、塗布速度など
の各種塗布条件に応じて設定され登録されたギャップデ
ータ（所定ギャップ位置データ）であってもよく、ま
た、これらの各塗布種条件に応じた実験データを参照し
てマニュアル的に操作部５２から入力されたギャップデ
ータであってもよい。

【００４６】上記構成により、以下、その動作と塗布方
法を説明する。

【００４７】まず、所定の塗布液を塗布処理する基板２
を搬送ロボット（図示せず）などによって搬送後に、基
板２の外周部を吸着ステージ３の複数の吸盤に対応させ
た状態で所定の位置に位置決めして、基板２の被塗布面
を外側に向けた状態で基板２を各吸盤で吸着する。さら
に、各吸盤を吸着ステージ３の凹部３ａ内の所定位置に
引き込んで収納することで基板２を保持する。

【００４８】次に、ノズル部材１９内の塗布液槽２３に
所定量の塗布液２２を、図１のベース部材７上に載置さ
れたポンプ４３にて所定の供給速度で供給チューブ２４
を介して供給する。この塗布液槽２３への塗布液２２の
供給は、ノズルユニット１０の停止中に行う方がよい。
これは、塗布中に塗布液槽２３に塗布液２２の供給を行
えば、塗布液槽２３内の塗布液２２の液面が揺れて、そ
の高さが変化する液面に応じた波動がノズル口９を介し
て伝播して塗布むらとなる虞があるためである。

【００４９】さらに、制御部５３は、基板２の被塗布面
に対する原点位置にノズルユニット１０におけるノズル
部材１９のノズル口９を上方向または下方向に移動する
べく、ノズルユニット１０と共にベース部材７をリニア
モータ１１によって移動させる。このとき、ＲＯＭ５４
内に登録されたリニアモータ駆動制御プログラムとその
制御データに基づいて、制御部５３が、その制御信号を
リニアモータ駆動回路５６に出力することで、リニアモ
ータ駆動回路５６がリニアモータ１１を駆動してベース
部材７上のノズルユニット１０を基板２の被塗布面２ａ
に対する所定の塗始め位置に原点復帰させることができ
る。

【００５０】さらに、基板２の被塗布面とノズル部材１
９のノズル口９との所定のギャップ寸法に移動するべ
く、接離モータ３６の駆動によるボールねじ４０および
移動部材４１によりノズル部材１９のノズル口９を基板
２の被塗布面２ａに対して接近または離間するように移
動させる。このとき、ＲＯＭ５４内に登録された接離モ
ータ駆動制御プログラムとその制御データに基づいて、
制御部５３が、その出力制御信号を接離モータ駆動回路
５７に出力し、接離モータ駆動回路５７が接離モータ３
６を駆動してベース部材７上のノズル部材１９を基板２
の被塗布面２ａに対する所定のギャップ位置に移動させ
る。この所定のギャップ位置にノズル部材１９を移動さ
せたとき、ディスペンス動作によって基板２の被塗布面
２ａとノズル部材１９の前端面２７との間には、塗布液
２２が毛管現象などで塗布液槽２３内から汲み上げられ
て液溜りが形成される。

【００５１】さらに、基板２の被塗布面２ａに所定の塗
布膜厚で塗布するべく、操作部５２のスタートキーを操
作すると、ＲＯＭ５４内に登録されたリニアモータ駆動
制御プログラムとその制御データとに基づいて、制御部
５３は、その出力制御信号をリニアモータ駆動回路５６
に出力し、リニアモータ駆動回路５６がリニアモータ１
１を駆動してベース部材７をノズルユニット１０と共に
基板２の被塗布面２ａに対して下方向に移動させつつ塗
布することになる。

【００５２】以上のように、本実施形態１によれば、ス
リット２６の流出抵抗はその両端側の側壁２６ａによっ
て高められるが、スリット２６のノズル口９の幅Ｈ２が
基板幅Ｈ１よりも広く構成され、塗布に際してその広い
ノズル口９の中央部分に基板を対応させているため、ス
リット２６の流出抵抗の大きい両端部分を使用すること
なく、側壁２６ａから適度に離れた流出抵抗の影響を受
けないスリット部分で基板２の被塗布面２ａに塗布する
ことができ、図８に示すように基板２の両端部分Ｘにお
ける薄膜化を防止することができて、基板幅方向Ｈに亘
って塗布膜厚の均一性を向上させることができる。ま
た、このように、基板２の両端部分Ｘにまで塗布膜厚の
均一性領域を拡大することができて塗布有効範囲を広げ
ることができる。

【００５３】また、従来の回転塗布方式のように基板２
を水平に支持せず基板２を立設するために、その設置ス
ペースの縮小を図ることができ、また、従来の回転塗布
方式のように基板２を回転させた遠心力で塗布液を周り
に振りきりつつ塗布するのではなく、立設した基板２に
対して、基板２の被塗布面に沿ってノズル部材１９をリ
ニアモータ１１で移動させつつ、毛管現象で供給された
塗布液を基板２の被塗布面に塗布するため、塗布液の節
約を図ることができる。

【００５４】（実施形態２）上記実施形態１では、スリ
ット２６のノズル口９の幅Ｈ２が基板２の幅Ｈ１よりも
大きく、ノズル口９の幅Ｈ２がスリット２６および塗布
液槽２３の幅寸法と同一幅寸法の場合について説明した
が、本実施形態２では、スリット２６の基板幅方向Ｈの
幅をノズル口９側に狭く構成している。例えば、図９
（ａ）のスリット２６の幅方向の形状は、スリット２６
の幅方向両端側の側壁２６ａが円弧または楕円弧など内
側に凸の曲線状にノズル口９側で狭くなっている形状で
ある。また、図９（ｂ）のスリット２６の幅方向の形状
は、スリット２６の幅方向両端側の側壁２６ａが直線状
にノズル口９側で順に狭くなっている形状である。さら
に、図９（ｃ）のスリット２６の幅方向の形状は、スリ
ット２６の幅方向両端側の側壁２６ａが円弧または楕円
弧など外側に凸の曲線状にノズル口９側で狭くなってい
る形状である。

【００５５】このように、スリット２６の幅方向の形状
を、ノズル口９の幅よりも塗布液槽２３側で基板幅方向
Ｈに広く開口した形状とする場合であり、逆に言えば、
スリット２６の幅方向の形状を、流出側のノズル口９側
で狭くなるようにする場合であって、スリット２６のノ
ズル口９の幅が基板２の幅と略同一とする場合である。
この場合、スリット２６の幅方向両端部分において、塗
布液の流出量が矢印Ｑに示すように集中して流れると共
に、ノズル口９の両端部からスリット２６の幅方向両端
側の側壁２６ａが適度に離れていて、その側壁２６ａの
流出抵抗への影響も少ないので、スリット両サイド端部
近傍のノズル口９における塗布液の流出性を向上させる
ことができる。

【００５６】したがって、上記実施形態１のようにスリ
ット２６のノズル口９の幅を基板２の幅の外側まではみ
出させる量（上記幅寸法差ｈの量）をより少なくするこ
とができるかまたは、はみ出させる必要がなく、基板２
の両端部分における薄膜化を防止することができて、塗
布膜厚の均一性を向上させることができる。このよう
に、基板２の両端部分にまで塗布膜厚の均一性領域を拡
大することができて塗布有効範囲を広げることができ
る。

【００５７】このように、上記ノズル口９の両端側のは
み出た領域（上記幅寸法差ｈの塗布に寄与しない領域）
をより少なくしても基板両端位置での薄膜化防止効果を
得ることができるとともに、次の点で好ましい。即ち、
塗布に寄与しないノズル口９の領域は、塗布液の乾燥膜
をつくってしまい、この乾燥膜がノズル汚染に発展しや
すく、洗浄を怠るとパーティクル発生の原因になるた
め、頻繁にこの部分を洗浄をする必要があったり基板の
スループットを悪くしたりすることから、このノズル口
９の塗布に寄与しない領域をより少なくまたは無くすこ
とができるということは有意義なことである。

【００５８】（実施形態３）上記実施形態１では、スリ
ット２６のノズル口９の幅が基板２の幅よりも大きくし
てスリット１６の流出抵抗の大きい両端部分を使用しな
いことによって基板２の両端部分における薄膜化を防止
し、また、上記実施形態２では、スリット２６の幅方向
においてその流出側のノズル口９側で狭く、塗布液槽２
３側で広く構成することによって、その両端部分で塗布
液が集中して流れるなど、スリット両サイド端部近傍の
ノズル口９における塗布液の流出性を向上させてその部
分の薄膜化を防止する構成としたが、本実施形態３で
は、これらを共に兼ね備えた場合である。つまり、図１
０（ａ）および図１０（ｂ）に示すように、スリット２
６のノズル口９の幅Ｈ３が基板２の幅Ｈ４よりも大き
く、かつスリット２６の平面形状をノズル口９側で狭く
塗布液槽２３側で広く構成する場合である。この場合に
は、上記基板２の両端部分における薄膜化防止効果はい
っそう顕著になる。

【００５９】（実施形態４）本実施形態４では、図１０
（ｃ）に示すようにノズル口９の基板幅方向Ｈの幅Ｈ５
が基板幅Ｈ６よりも狭く構成され、かつスリット２６の
下方端の基板幅方向Ｈの幅Ｈ７が、ノズル口９の幅Ｈ５
よりも広く構成されている場合である。この場合には、
基板２の幅寸法全体に亘って塗布するのではなく、基板
２の両端部分を除いた中央部のみに塗布したい場合に
も、塗布部分の両端での薄膜化が防止され得る。

【００６０】なお、上記実施形態１〜４では、塗布液槽
２３の中央部に塗布液２２を供給する図１の供給チュー
ブ２４が連結されており、ベース部材７上に載置された
ポンプ４３によって供給チューブ２４を介して外部から
塗布液を塗布液槽２３内に供給するように構成したが、
特に、塗布液槽２３内に塗布液を供給しながら塗布する
ような場合には、スリット２６の基板幅方向両端部で塗
布液の流出性が悪いことを考慮して、基板幅方向に細長
い塗布液槽２３への塗布液の供給位置は、塗布液槽２３
の中央部だけではなく基板幅方向両端部にも設ける方が
よく、その供給口も塗布液槽２３内を塗布液が一様に流
れるように広く構成した方がよい。

【００６１】（変形例）以上の実施形態では、図４に示
すように塗布液槽２３がノズル部材１９の内部に一体に
形成されているものについて説明したが、本発明はこれ
に限らず、例えば図１０（ｄ）に示すようにノズル部材
１９の外部に塗布液槽２３を離れて設け、スリット２６
の一端を塗布液槽２３に、他端をノズル口９に、それぞ
れ連通させる構成のものとしてもよい。この場合には、
塗布液槽２３とスリット２６を連通させる連通路２６ｒ
についても、できる限り流出抵抗が少なくなるように短
く太く幅広なものとすることが好ましい。なおこの例の
場合、塗布液槽２３は大気開放されており、その内部に
貯留された塗布液２２の液面は前端面２７の下端２７ａ
よりも下方に位置する高さに設定されている。

【００６２】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、外部流出
口の幅が基板幅よりも大きく、スリット状の塗布液流出
路の幅方向両端側を塗布に用いないため、基板の両端部
分における薄膜化を防止することができて、基板幅方向
に亘って塗布膜厚の均一性を向上させることができ、塗
布有効範囲を基板の両端部まで広げることができる。

【００６３】また、塗布液流出路の下方端の幅が、その
上方端の外部流出口の幅よりも広く、塗布液が集中して
流れ、かつ外部流出口の両端部から塗布液流出路の幅方
向両端側の側壁が離れているため、塗布液流出路の両端
部近傍の外部流出口における塗布液の流出性を向上させ
ることができて、基板の両端部分における薄膜化を防止
することができ、基板幅方向に亘って塗布膜厚の均一性
が向上して、塗布有効範囲を基板の両端部まで広げるこ
とができる。

【００６４】さらに、外部流出口の基板幅方向の幅が基
板幅よりも広く、かつ塗布液流出路の下方開口端の幅が
外部流出口の幅よりも広く構成されていれば、基板の両
端部分における薄膜化をいっそう防止することができ
る。

【００６５】さらに、塗布液流出路の下方端の幅が、そ
の上方端の外部流出口の幅よりも広く構成されており、
外部流出口の幅を基板幅よりも内側の塗布幅とすれば、
基板の両端部分以外に塗布したい場合にも、その塗布部
分の両端側での薄膜化を防止することができる。

【００６６】さらには、従来の回転塗布方式のように基
板を基板を回転させた遠心力で塗布液を周りに振りきり
つつ塗布するのではなく、立設した基板に対して、塗布
方向にノズル手段を移動させつつ、毛管現象で供給され
た塗布液をその被塗布面に塗布するために、塗布液の節
約を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態１における塗布装置の概略構
成を示す斜視図である。

【図２】図１のリニアモータの概略構成を示す一部破断
斜視図である。

【図３】図１のノズルユニットの概略構成図である。

【図４】図１のノズル部材の概略断面構成を示す模式図
であって、（ａ）と（ｂ）はそれぞれ異なるタイプを示
す図である。

【図５】図１の基板とノズル部材との関係を模式的に示
す正面図である。

【図６】図４（ａ）の基板とノズル部材におけるスリッ
トに沿ったＧＧ線の横断面図である。

【図７】図１の塗布装置の概略制御構成を示すブロック
図である。

【図８】図１の塗布装置で塗布した基板の幅方向一方端
部の断面図である。

【図９】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は本発明の実施形
態２を示す塗布装置の基板とノズル部材におけるスリッ
トに沿った横断面図である。

【図１０】（ａ）および（ｂ）は本発明の実施形態３を
示す塗布装置の基板とノズル部材におけるスリットに沿
った横断面図であり、（ｃ）は本発明の実施形態４を示
す塗布装置の基板とノズル部材におけるスリットに沿っ
た横断面図、（ｄ）は変形例のノズル部材を示す模式図
である。

【図１１】本出願人による塗布装置の概略構成を示す正
面図である。

【図１２】図１１の塗布装置におけるＡＡ線の断面図で
ある。

【図１３】図１２の塗布装置の基板とノズル部材におけ
るスリットに沿ったＦＦ線の横断面図である。

【図１４】図１１および図１２の塗布装置で塗布した基
板の幅方向一方端部の断面図である。

【符号の説明】

２ 基板 ２ｂ 側端面 ３ 吸着ステージ ９，９ａ ノズル口 １０ ノズルユニット １１ リニアモータ １９，１９ａ，１９ｂ ノズル部材 ２１ ギャップ可変機構部 ２２ 塗布液 ２３ 塗布液槽 ２６ スリット ２６ａ 側壁 ２７ 前端面 ３６ 接離モータ ４０ ボールねじ ４１ 移動部材 ５３，７１ 制御部 ５４，７２ ＲＯＭ ５５，７３ ＲＡＭ ５６ リニアモータ駆動回路 ５７ 接離モータ駆動回路

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 9/20 Ｈ０１Ｊ 9/20 Ａ Ｈ０１Ｌ 21/00 Ｈ０１Ｌ 21/00

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一端が塗布液槽に連通され前記一端から
   斜め上方に延びるスリット状の塗布液流出路が前面壁部
   に配設され、この前面壁部の前端面に、前記塗布液流出
   路の他端が連通された外部流出口が配設され、毛管現象
   で塗布液槽から塗布液流出路を介して汲み上げられた塗
   布液を前記外部流出口から供給して基板の被塗布面に塗
   布可能な塗布ノズルにおいて、 前記外部流出口の基板幅方向の幅が基板幅よりも広く構
   成されていることを特徴とする塗布ノズル。
2. 【請求項２】 一端が塗布液槽に連通され前記一端から
   斜め上方に延びるスリット状の塗布液流出路が前面壁部
   に配設され、この前面壁部の前端面に、前記塗布液流出
   路の他端が連通された外部流出口が配設され、毛管現象
   で塗布液槽から塗布液流出路を介して汲み上げられた塗
   布液を前記外部流出口から供給して基板の被塗布面に塗
   布可能な塗布ノズルにおいて、 前記塗布液流出路の一端の基板幅方向の幅が、前記外部
   流出口の基板幅方向の幅よりも広く構成されていること
   を特徴とする塗布ノズル。
3. 【請求項３】 一端が塗布液槽に連通され前記一端から
   斜め上方に延びるスリット状の塗布液流出路が前面壁部
   に配設され、この前面壁部の前端面に、前記塗布液流出
   路の他端が連通された外部流出口が配設され、毛管現象
   で塗布液槽から塗布液流出路を介して汲み上げられた塗
   布液を前記外部流出口から供給して基板の被塗布面に塗
   布可能な塗布ノズルにおいて、 前記外部流出口の基板幅方向の幅が基板幅よりも広く構
   成され、かつ前記塗布液流出路の一端の基板幅方向の幅
   が、前記外部流出口の基板幅方向の幅よりも広く構成さ
   れていることを特徴とする塗布ノズル。
4. 【請求項４】 一端が塗布液槽に連通され前記一端から
   斜め上方に延びるスリット状の塗布液流出路が前面壁部
   に配設され、この前面壁部の前端面に、前記塗布液流出
   路の他端が連通された外部流出口が配設され、毛管現象
   で塗布液槽から塗布液流出路を介して汲み上げられた塗
   布液を前記外部流出口から供給して基板の被塗布面に塗
   布可能な塗布ノズルにおいて、 前記外部流出口の基板幅方向の幅が基板幅よりも狭く構
   成され、かつ前記塗布液流出路の一端の基板幅方向の幅
   が、前記外部流出口の基板幅方向の幅よりも広く構成さ
   れていることを特徴とする塗布ノズル。
5. 【請求項５】 立設した基板の被塗布面に対して、毛管
   現象で塗布液槽から塗布液流出路を介して汲み上げられ
   た塗布液を外部流出口から供給して塗布する塗布装置に
   おいて、 前記請求項１〜４のうち何れかに記載の塗布ノズルと、 前記塗布ノズルと基板を被塗布面に沿って相対移動させ
   る移動手段と、 前記塗布ノズルと基板の被塗布面を接近または離間する
   ように移動させるギャップ可変手段と、 前記移動手段およびギャップ可変手段を駆動制御する制
   御手段とを有することを特徴とする塗布装置。
6. 【請求項６】 毛管現象で塗布液槽から汲み上げられた
   塗布液をスリット状の塗布液流出路を介してノズルの前
   端面に形成された外部流出口へ供給し、立設した基板の
   被塗布面とノズルの前端面の間のギャップに塗布液を保
   持して塗布する塗布方法において、 前記外部流出口の幅が基板の幅よりも広いノズルを用意
   する工程と、 前記基板の被塗布面を前記ノズルの前記外部流出口の中
   央部に対向させて、前記ノズルの前記前端面との間に塗
   布液を保持する工程と、 前記前端面と被塗布面との間に塗布液を保持した状態で
   前記ノズルを前記基板の前記被塗布面に沿って相対移動
   させて前記基板に塗布液を塗布する工程とを有すること
   を特徴とする塗布方法。