JPH11601A - 塗布ノズルおよび塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 基板幅方向に亘ってより均一な塗布膜厚を得
る。 【解決手段】 スリット２６の塗布液槽２３側の開口部
２６ａの近傍を広く構成したので、ノズル口９と塗布液
槽２３の水平距離を変えずにスリット２６の流路長が短
縮されスリット２６内を塗布液２２が通過するときの抵
抗も減少することになり、塗布液２２のスリット通過抵
抗がノズル口９の基板幅方向（ノズル口９の開口長手方
向）に亘ってばらつくことがなく塗布液２２の流出量が
より均一となって、より均一な塗布膜厚となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示デバイス
（ＬＣＤ）、プラズマ表示デバイス（ＰＤＰ）、半導体
デバイスおよび各種電子部品などの製造プロセスにおい
て、ＬＣＤまたはＰＤＰ用ガラス基板、半導体基板およ
びプリント基板などの基板表面に対して、フォトレジス
ト膜、カラーフィルタ材、平坦化材、層間絶縁膜、絶縁
膜および導電膜などを形成するために各種塗布液を毛細
管現象で汲み上げて塗布する塗布ノズルおよび塗布装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、基板表面に塗布液を塗布する方式
としては、回転塗布方式、ブレード塗布方式、スプレイ
塗布方式およびロールコート方式などがある。

【０００３】近年、液晶表示デバイスや半導体デバイス
などの製造プロセスにおいて、基板を水平に保った状態
で回転させ、その中央部に塗布液を供給して塗布液に遠
心力を与えることで、基板表面上の中央部から外周部に
均一に塗布液を塗布する回転塗布方式が広く利用されて
いる。

【０００４】ところが、この回転塗布方式では、基板の
大型化や角形化の傾向とも相俟って、塗布液を遠心力で
外方に飛ばすため、使用される塗布液の有効利用という
点で無駄があり、塗布液の利用効率が悪かった。また、
角形の基板を水平姿勢で回転させることで、基板の大型
化にも伴って装置も大型化し、その設置スペースも増大
せざるを得なかった。さらに、角形の基板を高速に回転
させると、基板表面に気流の乱れが発生し易く、しか
も、その基板が大型化すると、その回転時における基板
表面上の線速度差が増大することにより、塗布むらや塗
布膜厚の均一性などの塗布品質を確保することが難しく
なっていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このような回転塗布方
式の上記問題、つまり、塗布液の利用効率の低下、設置
スペースの増大および塗布膜厚の不均一を解決すべく、
基板を鉛直姿勢または傾斜した姿勢に立てて保持し、そ
の基板の幅方向（左右方向）のノズルから基板表面に対
して塗布液を吐出させつつ、そのノズルを基板上端から
下端に移動させるようにして塗布液を塗布する方式の塗
布装置が、特願平８−２４７４０号公報「基板への塗布
液塗布装置」で提案されているが、この塗布装置につい
て、以下に説明する。

【０００６】図９は、塗布装置の概略構成を示す正面図
であり、図１０は、図９の塗布装置におけるＡＡ線の断
面図である。

【０００７】図９および図１０において、この塗布装置
は、基板１００を垂直方向に立てて保持するステージ１
０１と、基板１００の被塗布面に塗布液１０２を供給す
る塗布液槽を内部に有するノズル部材１０３と、このノ
ズル部材１０３を基板１００に沿って下方に直線移動さ
せる移動手段（図示せず）とから構成されている。この
ノズル部材１０３は、両端が閉塞され基板１００の幅方
向に延在する筒状をなしており、基板１００の被塗布面
と対向する前面壁部１０４に槽内から外部に貫通したス
リット状の塗布液流出路１０５をその幅方向に形成して
いる。また、基板１００の被塗布面と対向する前面壁部
１０４の前端面１０６は、基板１００の被塗布面に非接
触でかつ近接するように配設され、その下端１０６ａが
塗布液流出路１０５の出口よりも下方で且つその反対側
の入口よりも上方に位置し、その上端１０６ｂが、基板
１００の被塗布面と前端面１０６との間の隙間１０７を
上方へ無限に延長させたと仮定した場合に塗布液流出路
１０５を通って隙間１０７内に流入した塗布液が少なく
とも、毛細管現象などによって上昇するときの到達高さ
位置と塗布液流出路１０５の流出口との間に位置するよ
うになっている。

【０００８】上記構成により、塗布液槽内に塗布液流出
路１０５の入口と前端面１０６の下端１０６ａとの間の
高さまで塗布液１０２を注入し、塗布液槽を大気開放と
すると、塗布液槽内に供給された塗布液１０２は、毛管
現象によって、塗布液流出路１０５を通って槽外に流出
し、ステージ１０１によって鉛直姿勢に保持された基板
１００の被塗布面と前端面１０６との間の隙間１０７内
に流入する。

【０００９】この隙間１０７内に流入した塗布液は、毛
細管現象などによってその隙間１０７内を前端面１０６
の下端１０６ａまで下降するが、前端面１０６の下端１
０６ａから流下することはない。また、隙間１０７内に
流入した塗布液の上方への流動は、毛細管現象などによ
ってその隙間１０７内を前端面１０６の上端１０６ｂま
で上昇するが、前端面１０６の上端１０６ｂで規制され
てそれ以上には上昇しない。このようにして、基板１０
０の被塗布面と前端面１０６との間の隙間１０７内に、
基板１００の幅方向に延びる帯状の塗布液の液溜りが形
成されることになる。

【００１０】さらに、この塗布液の液溜りが形成された
状態で、基板１００の被塗布面と前端面１０６との間の
隙間１０７を保持したまま、基板１００の縦方向（基板
１００の幅方向と直交する上下方向）ａにノズル部材１
０３を直動させると、基板１００の被塗布面に塗布液が
塗布されることになる。このとき、基板１００の被塗布
面と前端面１０６の隙間１０７にある液溜りの塗布液
は、基板１００の被塗布面に塗布されていくに従って消
費されるが、大気開放されたノズル部材１０３の塗布液
槽の塗布液にかかる大気圧と毛細管現象などによって、
その消費量とほぼ同等の塗布液が塗布液槽内から塗布液
流出路１０５を通ってその隙間１０７内に供給される。
そのため、塗布時の隙間１０７内の塗布液量は常にほぼ
一定に保持されることになって、基板１００に塗布液が
連続して塗布されることになる。

【００１１】このように、基板１００の被塗布面とノズ
ル部材１０３の前端面１０６との隙間１０７内にある液
溜り量を一定に保持して塗布することにより、塗布膜厚
を一定にすることができると考えられていた。しかしな
がら、現実には基板幅方向で塗布膜厚が変動し、一定の
厚みの塗布膜を得ることは困難であった。そこで、本発
明者らが鋭意研究したところ、かかる塗布膜厚の変動
は、塗布液流出路１０５の塗布液１０２に対する流出抵
抗が基板１００の幅方向にばらついており、塗布液１０
２の流出量に影響を与えたためであることがわかってき
た。すなわち、このように、塗布膜厚の均一性は、水平
方向に長いスリット状の塗布液流出路１０５を上昇する
塗布液の流出抵抗によっており、上記従来の塗布液流出
路１０５では、スリット間隙が狭く流出路が長いため
に、この塗布液流出路１０５の流出抵抗はかなり大き
く、塗布膜厚の均一性に大きく悪影響していた。特に、
塗布液１０２の粘度が高い場合などに顕著であった。こ
の場合、スリット間隙を単に広げれば上記流路抵抗が軽
減されることは明白であるが、毛細管現象を利用してい
るため、スリット間隙を広げ過ぎると、基板１００とノ
ズル部材１０３との隙間１０７内に塗布液１０２を供給
することができなくなるという原理的な課題があった。
また、塗布液流出路１０５の流出口と塗布液槽との間の
水平距離についても、これを短縮して上記流路長を短く
することはノズル構造上限界があった。

【００１２】また、特に、上記内部塗布液槽の代りに、
図１１に示すように、別置式の外部塗布液槽１１１を設
けた場合には、基板１００の幅方向に対して塗布膜厚の
均一性がさらに悪くなる。これは、ノズル部材１１２の
前端面１１３と底面１１４の間に配設されたスリット状
の塗布液流出路１１５において、その流路長が上記内部
塗布液槽がノズル部材１１２内になくなった分だけ長く
なって流路抵抗が大きくなると共に、これに、外部塗布
液槽１１１から塗布液流出路１１５に塗布液１０２が供
給される塗布液供給管１１６の流路抵抗分が加算される
ので、塗布液の流出抵抗はかなり大きくなって、基板１
００の幅方向に流出量がばらついて塗布膜厚の均一性が
さらに悪くなってしまう。

【００１３】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、基板幅方向に亘ってより均一な塗布膜厚を得ること
ができる塗布ノズルおよび塗布装置を提供することを目
的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の塗布ノズルは、
一端が塗布液槽に開口され塗布液槽から斜め上方に延び
るスリット状の塗布液流出路が前面壁部に配設され、こ
の前面壁部の前端面に、塗布液流出路の他端が連通され
た外部流出口が配設され、毛管現象で塗布液槽から塗布
液流出路を介して汲み上げられた塗布液を外部流出口か
ら供給して基板の被塗布面に塗布可能な塗布ノズルにお
いて、塗布液流出路の一端開口部が、基板幅方向に亘っ
て外部流出口のスリット間隙よりも広く構成されている
ことを特徴とするものである。

【００１５】この構成により、塗布液流出路の塗布液槽
内への一端開口部が、基板幅方向に亘って外部流出口の
スリット間隙よりも広く構成されているので、塗布液流
出路の流路長が短縮され、スリット状の塗布液流出路内
部を塗布液が通過するときの抵抗が減少する。よって、
その塗布液流出路の塗布液通過抵抗が塗布液流出路の基
板幅方向にばらつくことが抑えられて塗布液の流出量が
より均一となり、より均一な塗布膜厚となる。

【００１６】また、本発明の塗布ノズルは、一端が塗布
液槽に連通され塗布液槽から斜め上方に延びるスリット
状の塗布液流出路が前面壁部に配設され、この前面壁部
の前端面に、塗布液流出路の他端が連通された外部流出
口が配設され、毛管現象で塗布液槽から塗布液流出路を
介して汲み上げられた塗布液を外部流出口から供給して
基板の被塗布面に塗布可能な塗布ノズルにおいて、塗布
液流出路が、基板幅方向に亘って外部流出口のスリット
間隙よりも前記塗布液槽側に広がっていることを特徴と
するものである。

【００１７】この構成により、塗布液流出路が、基板幅
方向に亘って前記外部流出口のスリット間隙よりも塗布
液槽側に広がっているので、毛細管現象で塗布液槽から
塗布液を汲み上げる力を確保しつつ塗布液流出路の塗布
液通過抵抗が軽減されて塗布液流出路の基板幅方向にば
らつくことが抑えられ塗布液の流出量がより均一とな
り、より均一な塗布膜厚となる。

【００１８】さらに、本発明の塗布ノズルは、一端が塗
布液槽に連通され塗布液槽から斜め上方に延びるスリッ
ト状の塗布液流出路が前面壁部に配設され、この前面壁
部の前端面に、塗布液流出路の他端が連通された外部流
出口が配設され、毛管現象で塗布液槽から塗布液流出路
を介して汲み上げられた塗布液を外部流出口から供給し
て基板の被塗布面に塗布可能な塗布ノズルにおいて、基
板幅方向に亘って塗布液流出路の液流量が均一となるよ
うに、斜め上方に延びる塗布液流出路の傾斜角度が設定
されていることを特徴とするものである。

【００１９】この構成により、基板幅方向に亘って塗布
液流出路の液流量を均一とするべく、斜め上方に延びる
塗布液流出路の傾斜角度を現状の傾斜角度よりも小さく
設定しているので、塗布液流出路の流路長が短縮されて
スリット状の塗布液流出路内部を塗布液が通過するとき
の抵抗が減少すると共に、毛細管現象で汲み上げる高さ
が低くなる分だけ汲み上げる高さが低くなる分だけ容易
に塗布液を汲み上げることが可能となって、塗布液の流
出量が基板幅方向にばらつくことが抑えられてより均一
となり、より均一な塗布膜厚となる。

【００２０】さらに、本発明の塗布ノズルは、斜め上方
に延びる塗布液流出路が前面壁部に配設され、この前面
壁部の前端面に、塗布液流出路の一端が連通された外部
流出口が配設され、毛管現象で塗布液流出路を介して汲
み上げられた塗布液を外部流出口から供給して基板の被
塗布面に塗布可能な塗布ノズルにおいて、ノズル本体内
部の塗布液流出路下端部に液溜り部が配設され、この液
溜り部に、外部塗布液槽と連通した塗布液供給管が連結
されていることを特徴とするものである。

【００２１】この構成により、ノズル本体内部の塗布液
流出路下端部に液溜り部が配設され、この液溜り部に外
部塗布液槽が接続されているので、この液溜り部で塗布
液流出路の塗布液通過抵抗が軽減され、流出抵抗が基板
幅方向にばらつくことが抑えられて塗布液の流出量がよ
り均一となり、より均一な塗布膜厚となる。

【００２２】さらに、本発明の塗布装置は、立設した基
板の被塗布面に対して、毛管現象で塗布液槽から塗布液
流出路を介して汲み上げられた塗布液を外部流出口から
供給して塗布する塗布装置において、請求項１〜４のう
ち少なくとも何れかに記載の塗布ノズルと、塗布ノズル
と基板を被塗布面に沿って相対移動させる移動手段と、
塗布ノズルと基板の被塗布面を接近または離間するよう
に移動させるギャップ可変手段と、移動手段およびギャ
ップ可変手段を駆動制御する制御手段とを有することを
特徴とするものである。

【００２３】この構成により、上記作用に加えて、基板
を立設した状態で、被塗布面に沿って塗布ノズルを移動
させつつ、毛管現象で供給された塗布液をその被塗布面
に塗布するので、基板を水平状態で回転させ、その遠心
力で塗布液を塗布する回転塗布方式に比べて、設置スペ
ースが縮小されると共に塗布液も節約される。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る塗布装置の実
施形態について図面を参照して説明するが、本発明は以
下に示す実施形態に限定されるものではない。

【００２５】（実施形態１）図１は本発明の実施形態１
における塗布装置の概略構成を示す斜視図である。

【００２６】図１において、壁状に構成されて立設され
た架台１の表面側中央部に、ガラス基板などの基板２の
被塗布面を外側に向けた状態で基板２を吸着して保持す
る吸着ステージ３が配設されている。この吸着ステージ
３は、用いるサイズの基板２毎の外周部に対応した適所
に、吸引可能な吸着部材としての吸盤（図示せず）が出
退自在に為されている細長い凹部３ａが複数配設されて
おり、基板２への吸盤（図示せず）による吸着後に吸盤
（図示せず）を凹部３ａ内の所定位置に引き込んで収納
することで基板２を保持するようになっている。また、
この吸着ステージ３による基板２の保持状態は、鉛直
（垂直）方向であってもよく、また傾斜した姿勢であっ
てもよく、例えば基板２が吸着ステージ３の上側に位置
するように若干傾いた状態でもよい。さらに、吸着部材
としての吸盤（図示せず）が基板２の中央部を保持しな
いのは、基板２の中央部は重要な回路などが配置される
部分であり、吸盤（図示せず）による真空吸引と解除に
よって温度が下がったり上がったりすることで塗布むら
となるのを防止するためである。したがって、吸盤（図
示せず）の形状も基板２の外周部だけを吸引すべく、細
長い凹部３ａと同様の細長い吸盤形状となっている。な
お、ここでは、吸着ステージ３による基板２の保持は、
吸盤（図示せず）による吸着の場合を示したが、基板２
の上下左右を爪状の部材でひっかけて保持するような構
成であってもよいことは言うまでもないことである。

【００２７】また、この架台１の表面側および裏面側の
幅方向両端部の上下位置の４角部にそれぞれ４個の各ア
イドルギヤ４が２組回転自在に各軸受部５でそれぞれ軸
支されて配設されている。これらの上部に位置する左右
２組の各アイドルギヤ４にそれぞれ架けられた左右の各
スチールベルト６の一方端にはそれぞれ、ベース部材７
の両端上部がそれぞれ連結されており、また、左右の各
スチールベルト６の他方端にはそれぞれ、バランスウェ
イト８の両端上部がそれぞれ連結されている。また、下
部に位置する左右２組の各アイドルギヤ４にそれぞれ架
けられた左右の各スチールベルト６の一方端にはそれぞ
れ、ベース部材７の両端下部がそれぞれ連結されてお
り、また、その左右の各スチールベルト６の他方端には
それぞれ、バランスウェイト８の両端下部がそれぞれ連
結されて、ベース部材７が架台１の表面側で、バランス
ウェイト８が架台１の裏面側でそれぞれ水平に保持され
かつ上下に移動可能な状態で、各スチールベルト６が、
架台１の幅方向両端部の上下方向にそれぞれ左右２組の
各アイドルギヤ４をそれぞれ介して巻回されている。こ
のベース部材７上の中央部には、基板２の幅寸法のノズ
ル口９を有し、そのノズル口９から塗布液を吐出可能な
ノズルユニット１０が配設されている。これらのベース
部材７およびノズルユニット１０とバランスウェイト８
とがそれぞれバランスが取れた静止状態で架台１の表と
裏の幅方向両端部間に水平にそれぞれ保持されるように
なっている。

【００２８】また、架台１の表面側の両端部にはそれぞ
れ各上下方向に縦型の各リニアモータ１１の固定子１２
が配設されており、これら左右の各リニアモータ１１は
その駆動によって、ノズルユニット１０を載置したベー
ス部材７の両端部を各固定子１２に沿って上下に直線移
動させる構成となっている。この移動手段としてのリニ
アモータ１１は、各上下方向に配設された各スチールベ
ルト６にそれぞれ沿ってベース部材７の両端部および各
スチールベルト６の内側にそれぞれ配設されており、図
２に示すように、幅方向両端部の各レール部１３間にベ
ース部１４を有する固定子１２と、ベース部材７の両端
部裏側の各側壁にそれぞれ各固定子１２とそれぞれ対向
して配設され、各固定子１２の上をスライド自在なスラ
イダ部材１５とを有している。このスライダ部材１５
は、その幅方向両側に各レール部１３とそれぞれ嵌合し
て上下方向に案内される各リニアガイド部１６と、各リ
ニアガイド部１６の間に配設されると共に、固定子１２
のベース部１４に対向し、図示しない巻線による励磁に
よって磁力を発生させる磁気回路部１７と、この磁気回
路部１７の巻線（図示せず）の両端に接続されたコネク
タ１８とを有しており、この磁気回路部１７の励磁によ
る磁力で、スライダ部材１５は固定子１２の各レール部
１３に各リニアガイド部１６で案内されて上下に移動自
在である。このスライダ部材１５が、ノズルユニット１
０を載置したベース部材７の両端部裏側にそれぞれ固着
されており、これらの各スライダ部材１５の移動によっ
てベース部材７が上下に移動自在になっている。

【００２９】ここでは、ノズルユニット１０を載置した
ベース部材７の両端部を各固定子１２に沿って上下に移
動させるように構成したが、ノズルユニット１０と基板
２とが被塗布面に沿って相対的に移動するように構成す
ればよく、ノズルユニット１０を固定して基板２を吸着
ステージ３と共に上下にリニアモータやボールねじなど
の移動手段で移動するように構成することもできる。こ
のように、吸着ステージ３を上下に移動させる方がノズ
ルユニット１０を移動させるよりも振動が少なく、その
振動による塗布むら防止などの観点から吸着ステージ３
を移動させる方がよいのであるが、吸着ステージ３を上
下に移動させると、装置の高さが倍必要となり、クリー
ンルームの天井高さには制限があるので、非現実的なも
のとなってしまう。なお、４４は配線や薬液供給チュー
ブなどを収容したケーブルベアである。

【００３０】さらに、ノズルユニット１０は、図３に示
すように、基板２の被塗布面２ａに対向して開口した水
平方向の細長いノズル口９から塗布液を吐出可能な塗布
ノズルとしてのノズル部材１９と、このノズル部材１９
のノズル口９を基板２の被塗布面への対向位置Ｍと点線
で示す洗浄用の下方位置Ｎとの間で、ノズル部材１９を
その長手方向を回動軸として回動させるノズル部材回動
機構部２０と、ノズル部材１９のノズル口９と基板２の
被塗布面との水平方向の隙間（ギャップ）を可変させる
べく、ノズル部材１９を基板２に対して接近または離間
自在に駆動するギャップ可変機構部２１とを備えてい
る。このノズルユニット１０は、塗布処理される基板２
のサイズに合った幅寸法のノズル部材１９と付け変え可
能に構成されている。

【００３１】このノズル部材１９のうち、図４（ａ）に
はノズル部材１９ａが、図４（ｂ）には別の型のノズル
部材１９ｂが模式的に示されている。これらのノズル部
材１９ａ，１９ｂ内には、塗布液２２を溜める塗布液槽
２３が配設されており、この塗布液槽２３は、両端が閉
塞され基板２の幅方向に延在する水平方向に細長い筒状
に構成されている。この塗布液槽２３の中央部に塗布液
２２を供給する図１の供給チューブ２４が連結されてお
り、ベース部材７上に載置されたポンプ４３によって供
給チューブ２４を介して外部から塗布液２２を塗布液槽
２３内に供給可能に構成している。なお、ノズル部材１
９ａ，１９ｂのいずれにおいても、塗布液槽２３はその
内部に貯留される塗布液の液面よりも上方部分におい
て、外部と連通する連通路２３ｐによって大気開放され
ており、内部は大気圧となっている。また、基板２の被
塗布面２ａと対向する前面壁部２５に塗布液槽２３内か
ら外部に斜め上向きに貫通した塗布液流出路としてスリ
ット２６が基板２の幅方向に形成されている。このスリ
ット２６は、塗布液槽２３の下部とノズル口９との間で
直線状に左上向きに傾斜した状態で連結しており、スリ
ット２６の下方端が塗布液槽２３内に開口し、その上方
端が水平方向に細長いノズル口９となっている。また、
このスリット２６の下方端の塗布液槽２３内への開口部
２６ａでは、塗布液槽２３内の液面高さよりも下方位置
で、基板幅方向に亘ってノズル口９のスリット間隙ｄよ
りも広く開口している。さらに、基板２の被塗布面２ａ
と対向する前面壁部２５の前端面２７は、塗布液の液溜
りが形成可能なように、基板２の被塗布面２ａに非接触
でかつ所定の隙間２８で近接するように配置される。

【００３２】この開口部２６ａの形状としては、本実施
形態では開口部２６ａの天井壁面２６ｂは水平面に構成
され、底壁面２６ｃはスリット２６の傾斜と同一の傾斜
状態で塗布液槽２３内に至っている。この天井壁面２６
ｂは傾斜面となっていてもよく、要は、スリット２６の
流路長および流路抵抗が低減されるように開口部２６ａ
が広がっていればよい。また、スリット２６の間隙ｄ
は、塗布液槽２３内の塗布液２２が毛細管現象によって
スリット２６内を上昇することができて、ノズル口９か
ら基板２とノズル部材１９との隙間２８内に塗布液２２
を供給することができる最も大きい間隙寸法である。こ
れは、スリット２６の間隙ｄは大きいほど流路抵抗は小
さくなって塗布膜厚の均一性への影響は少なくなるから
である。

【００３３】次に、図４（ａ）のノズル部材１９ａで
は、前端面２７の下端２７ａは、スリット２６の出口で
あるノズル口９と、その反対側の塗布液槽２３内への開
口との間の高さに位置するように形成されている。ま
た、この前端面２７の下端２７ａとスリット２６の塗布
液槽２３内への開口部２６ａの上端との高さ範囲Ｂ内に
塗布液槽２３内の塗布液面が位置するように液面を設定
し、その前端面２７の上端２７ｂが、基板２の被塗布面
２ａと前端面２７との間の隙間２８を上方へ無限に延長
させたと仮定した場合にその隙間内に流入した塗布液２
２が毛細管現象などによって上昇することができる到達
高さ位置とスリット２６の流出口であるノズル口９との
間に位置するようになっている。

【００３４】また、図４（ｂ）の別の型のノズル部材１
９ｂでは、前端面２７の下端２７ａは、スリット２６の
出口であるノズル口９と、その反対側の塗布液槽２３内
への開口との間の高さに位置するように形成されてい
る。また、前端面２７の下端２７ａとスリット２６の塗
布液槽２３内への開口部２６ａの上端との高さ範囲Ｂ内
に塗布液槽２３内の塗布液面が位置するように液面を設
定し、ノズル口９から前端面２７の前端面上部２９は、
上方に開くように傾斜している。つまり、基板２の被塗
布面２ａと前端面上部２９との間の隙間３０は上に行く
ほど広がっており、塗布液２２が毛細管現象などによっ
てスリット２６さらにノズル口９を介して隙間３０内を
上昇する液面到達高さ位置まで来ている。

【００３５】これらのタイプが異なるノズル部材１９
ａ，１９ｂの特徴を比較すると、ノズル部材１９ａで
は、塗布液２２が毛細管現象などによって上昇する到達
高さ位置よりも低い位置で前端面２７の上端２７ｂが形
成されているため、毛細管現象などによる塗布液２２の
上昇力が内在されており、塗布液２２の塗始めから所定
膜厚に至るまでの時間がノズル部材１９ｂの場合よりも
早く到達するというメリットがある。つまり、ノズル部
材１９ａでは、塗布液２２の塗始めの薄い膜厚範囲が、
ノズル部材１９ｂの場合よりも狭いというメリットがあ
る。

【００３６】また、ノズル部材１９ａでは、その前端面
２７は塗布液２２で常に濡れているために塗布液２２が
乾くことがなく、乾くことによるコンタミネーションの
発生原因は抑えられることになる。一方、ノズル部材１
９ｂでは、前端面上部２９の傾斜面を、塗布液２２の液
面が毛細管現象などによって上昇する到達高さ位置は、
塗始めと塗終わりなどで、消費した液量差による槽内の
液面高さの低下などのため一定しておらず、液面が低下
することによって、今まで塗布液２２で濡れていた前端
面上部２９の傾斜面が乾いてコンタミネーションが生
じ、そこから発生したパーティクルが塗布液２２中に混
入して塗布されることになって、塗布膜の品質が低下す
るという虞がある。また、ノズル部材１９ｂでは、次に
別の基板２の被塗布面２ａを塗布する場合にも同様に、
前端面上部２９の傾斜面を、塗布液２２の液面が毛細管
現象などによって上昇する到達高さ位置は、前回の塗布
時と比べて、基板２の被塗布面２ａと前端面上部２９と
の隙間３０が広くなったり狭くなったりすることで一定
化しない。このため、その隙間３０が広くなったギャッ
プ部分では液面到達高さ位置が低下することによって、
今まで塗布液２２で濡れていた前端面上部２９の傾斜面
が乾くことになる。その乾いた部分にコンタミネーショ
ンが発生し、それによるパーティクルが塗布液２２中に
混入して塗布されることになって、塗布膜の品質が低下
するという虞がある。

【００３７】さらに、ノズル部材１９ａでは、基板２の
被塗布面２ａと前端面２７との隙間２８の寸法によって
塗布する塗布液２２の膜厚が変化するために、膜厚調整
用としては効力を発揮するが、細長いノズル口９と基板
２の被塗布面２ａとの隙間２８に、細長いノズル口９の
両端位置で、また、塗始めの位置と塗終わりの位置など
でギャップ差が生じるような場合には、その隙間２８の
差が塗布膜厚差となって反映することになって、基板２
の被塗布面２ａに均一な膜厚の塗布液２２を塗布するこ
とができないという虞がある。これに対して、ノズル部
材１９ｂでは、基板２の厚みが変化したり基板２の被塗
布面２ａと細長いノズル口９との隙間３０に、基板２が
反っていたりノズル部材１９ｂが傾いていたりして、細
長いノズル口９の両端位置で、また、塗始めの位置と塗
終わりの位置でギャップ差があるような場合にも、隙間
３０が上方に広がっているので、細長いノズル口９の両
端部などでのギャップ差が吸収されて、塗布膜厚差が生
じにくく、基板２の被塗布面２ａにより均一な膜厚の塗
布液２２を塗布することができるようになる。つまり、
隙間３０の寸法が小さくなるほど塗布膜厚が厚くなる
が、この場合、隙間３０を上昇する塗布液２２の液面到
達高さ位置も上昇することになり、前端面２９の傾斜面
で液面が上になるほど液面位置における隙間寸法も増え
て、細長いノズル口９の両端部などでのギャップ差が吸
収されることになる。この上昇液面位置における隙間寸
法が塗布膜厚に影響しているため、隙間３０の寸法が小
さくなるほど塗布膜厚が厚くなるが、上昇液面位置にお
ける隙間寸法は広がって塗布膜厚が薄くなる方向に移行
して塗布膜厚差は生じにくくなり、基板２の被塗布面２
ａに対してより均一な膜厚の塗布液２２を塗布すること
ができるようになる。

【００３８】一方、図３のノズル部材回動機構部２０
は、図示しない電磁弁で制御されて、ロッド先端部３１
を伸長位置と収縮位置との間を移動させるエアーシリン
ダ３２が、矢印方向Ｃにシリンダ前方部のピン３２ａを
回動中心として回動可能に軸支されている。このロッド
先端部３１は、アーム部材３３の一方端部と回動可能に
ピン連結されてリンク機構を構成しており、アーム部材
３３の他方端部は駆動軸３４にその長手方向に直交する
方向から回動力を伝達可能に固定されている。この駆動
軸３４は、所定幅で水平方向に延びたベース部材３５を
下方から支持する支持部材３５ａを横方向に貫通して固
定されている。このベース部材３５の前方端縁上側には
ノズル部材１９がそのノズル口９を基板２の被塗布面２
ａ側に向けた状態で、ノズル部材１９の長手方向と駆動
軸３４の軸方向が一致する方向になるように取り付けら
れている。図３は、エアーシリンダ３２のロッド先端部
３１が伸長した場合であり、このとき、ノズル部材１９
のノズル口９は基板２の被塗布面２ａに対向して塗布可
能な状態である。これに対して、エアーシリンダ３２の
ロッド先端部３１が短縮した場合には、ノズル部材１９
のノズル口９は、２点鎖線で示すように下方を向いて洗
浄可能な状態となる。このロッド短縮の途中で、ピン３
２ａを回動中心としてエアーシリンダ３２が矢印方向Ｃ
に揺動しつつロッド先端部３１が短縮されることにな
る。

【００３９】また、ギャップ可変機構部２１は、ステッ
ピングモータやサーボモータなどの接離モータ３６と、
前後の軸受部３７，３８で軸支され、この接離モータ３
６の回転軸に連結部３９を介して連結されたボールねじ
４０と、このボールねじ４０に螺合した移動部材４１
と、移動部材４１の上端が下面で固着されていると共に
ノズル部材回動機構部２０を支持して基板２の被塗布面
２ａに対してノズル部材１９の前端面２７が接近または
離間するようにスライド自在なスライド部材４２とを備
えており、接離モータ３６によるボールねじ４０の回転
で、移動部材４１が、ノズル部材１９およびノズル部材
回動機構部２０を載置した状態で前後に移動自在に構成
されている。

【００４０】ここでは、ギャップ可変機構部２１は中央
部１個所として、基板２の厚さのばらつき範囲内でギャ
ップ寸法を調整するようにしているが、さらに、基板２
の厚さのばらつきだけではなく、基板２の幅方向にテー
パがあって左右両端部での厚さ寸法に差があるような場
合には、ギャップ可変機構部２１をベース部材７の左右
２個所配設することで左右独立にギャップ寸法を調整す
ることができ、ノズルユニット１０の左右に長いノズル
部材１９を、基板２の幅両端部で厚さが異なることによ
る幅方向テーパに合わせて平行に、左右位置で等ギャッ
プ寸法として傾け得るように構成することもできる。

【００４１】図５は、図１の塗布装置の概略制御構成を
示すブロック図である。

【００４２】図５において、操作部５２としては、数字
を入力するテンキー、電源のオン・オフを入力する電源
キー、塗布スタートキー、リニアモータ１１の駆動速度
の基準値を任意に手動で設定する速度設定キーおよび、
接離モータ３６を駆動させて基板２の被塗布面２ａとノ
ズル口９との隙間２８または隙間３０を調整する隙間設
定キー、基板サイズ、基板厚さ、塗布液粘度および塗布
膜厚などを設定する各種設定キーなどで構成されてい
る。また、この操作部５２が接続される制御部５３はＲ
ＯＭ５４およびＲＡＭ５５に接続されており、ＲＯＭ５
４内に登録された各制御プログラムで用いる制御データ
を、操作部５２から制御部５３を介してＲＡＭ５５内に
書き込み可能である。

【００４３】また、これらの操作部５２、ＲＯＭ５４お
よびＲＡＭ５５が接続される制御部５３は、リニアモー
タ駆動回路５６を介してリニアモータ１１に接続されて
おり、ＲＯＭ５４内に登録されたリニアモータ駆動制御
プログラムと、操作部５２から入力され、リニアモータ
駆動制御プログラムに対応した制御データに基づいて、
制御部５３は、その制御信号をリニアモータ駆動回路５
６に出力し、リニアモータ駆動回路５６がリニアモータ
１１を駆動してベース部材７上のノズルユニット１０を
基板２の被塗布面２ａに対する所定上下位置に移動自在
である。また、制御部５３は、ＲＯＭ５４内に登録され
たリニアモータ駆動制御プログラムと、基板サイズ、塗
布液粘度および塗布膜厚などの各種設定キーからの入力
や、操作部５２の塗布スタートキーの入力によって、リ
ニアモータ駆動制御プログラムに対応した制御データに
基づいて、リニアモータ駆動回路５６を介してリニアモ
ータ１１を駆動して所定速度でノズル走行させつつ塗布
可能なように制御するようになっている。

【００４４】さらに、これらの操作部５２、ＲＯＭ５４
およびＲＡＭ５５が接続される制御部５３は、接離モー
タ駆動回路５７を介して接離モータ３６に接続されてお
り、ＲＯＭ５４内に登録された接離モータ駆動制御プロ
グラムと、操作部５２から入力され、接離モータ駆動制
御プログラムに対応した制御データに基づいて、制御部
５３は、その制御信号を接離モータ駆動回路５７に出力
し、接離モータ駆動回路５７が接離モータ３６を駆動し
てベース部材７上のノズルユニット１０を基板２の被塗
布面２ａに対して接近または離間させて所定ギャップ位
置に移動自在に制御可能である。

【００４５】上記構成により、以下、その動作を説明す
る。

【００４６】まず、所定の塗布液を塗布処理する基板２
を搬送ロボット（図示せず）などによって搬送後に、基
板２の外周部を吸着ステージ３の複数の吸盤に対応させ
た状態で所定の位置に位置決めして、基板２の被塗布面
を外側に向けた状態で基板２を各吸盤で吸着する。さら
に、各吸盤を吸着ステージ３の凹部３ａ内の所定位置に
引き込んで収納することで基板２を保持する。

【００４７】次に、ノズル部材１９内の塗布液槽２３に
所定量の塗布液２２を、図１のベース部材７上に載置さ
れたポンプ４３にて供給チューブ２４を介して供給す
る。この塗布液槽２３への塗布液２２の供給は、ノズル
ユニット１０の停止中に行う方がよい。これは、塗布中
に塗布液槽２３に塗布液２２の供給を行えば、塗布液槽
２３内の塗布液２２の液面が揺れて、その高さが変化す
る液面に応じた波動がノズル口９を介して伝播して塗布
むらとなる虞があるためである。

【００４８】さらに、制御部５３は、基板２の被塗布面
２ａに対する原点位置にノズルユニット１０におけるノ
ズル部材１９のノズル口９を上方向または下方向に移動
するべく、ノズルユニット１０と共にベース部材７をリ
ニアモータ１１によって移動させる。このとき、ＲＯＭ
５４内に登録されたリニアモータ駆動制御プログラムと
その制御データに基づいて、制御部５３が、その制御信
号をリニアモータ駆動回路５６に出力することで、リニ
アモータ駆動回路５６がリニアモータ１１を駆動してベ
ース部材７上のノズルユニット１０を基板２の被塗布面
２ａに対する所定の塗始め位置に原点復帰させることが
できる。この場合の制御データは、基板２の保持位置が
精密な場合には、登録された原点データであり、また、
マニュアル的に操作部５２から所定の高さ位置が入力さ
れたデータであってもよい。さらに、塗布液２２の塗始
め位置に原点センサ（図示せず）を設けて、その原点セ
ンサ（図示せず）がベース部材７を検知する所定の塗始
め位置で、制御部５３がベース部材７を停止するように
リニアモータ駆動回路５６を介してリニアモータ１１を
駆動制御してもよい。

【００４９】さらに、基板２の被塗布面とノズル部材１
９のノズル口９との所定のギャップ寸法に移動するべ
く、接離モータ３６の駆動によるボールねじ４０および
移動部材４１によりノズル部材１９の前端面２７のノズ
ル口９を基板２の被塗布面に対して接近または離間する
ように移動させる。このとき、ＲＯＭ５４内に登録され
た接離モータ駆動制御プログラムとその制御データに基
づいて、制御部５３が、その出力制御信号を接離モータ
駆動回路５７に出力し、接離モータ駆動回路５７が接離
モータ３６を駆動してベース部材７上のノズル部材１９
を基板２の被塗布面２ａに対する所定のギャップ位置に
移動させる。この場合の制御データは、塗布液２２の粘
度や必要塗布膜厚、塗布速度などの各種塗布条件に応じ
て設定され登録されたギャップデータ（所定ギャップ位
置データ）であってもよく、また、これらの各種条件に
応じた実験データを参照してマニュアル的に操作部５２
から入力されたギャップデータであってもよい。この所
定のギャップ位置にノズル部材１９を移動させたとき、
基板２の被塗布面２ａとノズル部材１９の前端面２７と
の間には、塗布液２２が毛管現象で塗布液槽２３内から
汲み上げられて液溜りが形成されている。

【００５０】さらに、基板２の被塗布面２ａに所定の塗
布膜厚で塗布するべく、操作部５２の塗布スタートキー
を操作すると、ＲＯＭ５４内に登録されたリニアモータ
駆動制御プログラムと所定の塗布膜厚に応じた制御デー
タとに基づいて、制御部５３は、その出力制御信号をリ
ニアモータ駆動回路５６に出力し、リニアモータ駆動回
路５６がリニアモータ１１を駆動してベース部材７をノ
ズルユニット１０と共に基板２の被塗布面２ａに沿って
下方向に移動させてノズル走行を行いつつ基板２の被塗
布面２ａに対して塗布する。

【００５１】以上のように、本実施形態１によれば、ス
リット２６の開口部２６ａの近傍を広く構成したので、
ノズル口９と塗布液槽２３の水平距離を変えずにスリッ
ト２６の流路長が実質的に短縮され、スリット２６内を
塗布液２２が通過するときの抵抗も減少することにな
り、塗布液２２のスリット通過抵抗がノズル口９の基板
幅方向（ノズル口９の開口長手方向）に亘って全体的に
低下することにより、その通過抵抗の基板幅方向でのば
らつきも少なくなり、塗布液２２の流出量がより均一と
なって、より均一な塗布膜厚となる。また、このように
して、スリット２６の流路長および流路抵抗を減少させ
たので、塗布速度を上げても均一な塗布膜厚を確保する
ことができ、生産性の向上や厚膜化を容易に図ることが
できる。さらに、ノズル部材１９は複数の部品を組み立
てることで構成されているが、一部の部品を水平に削る
だけの簡単な平面加工だけで、ノズル部材１９の基本設
計を大きく変更することなく、塗布膜厚の均一化に対応
することができる。

【００５２】また、従来の回転塗布方式のように基板２
を水平に支持せず基板２を立設するために、その設置ス
ペースの縮小を図ることができ、また、従来の回転塗布
方式のように基板２を回転させた遠心力で塗布液を周り
に振りきりつつ塗布するのではなく、立設した基板２に
対して、基板２の被塗布面に沿ってノズル部材１９をリ
ニアモータ１１で移動させつつ、毛管現象で供給された
塗布液を基板２の被塗布面に必要量だけ塗布するため、
塗布液の節約を図ることができる。

【００５３】（実施形態２）図６（ａ）および図６
（ｂ）は本発明の実施形態２の塗布装置におけるノズル
部材の概略断面構成を示す模式図であって、（ａ）と
（ｂ）はそれぞれ異なるタイプを示す断面図である。こ
こでは、図１〜図５の各部材と同一の作用効果を奏する
部材には同一の符号を付けてその説明を省略する。

【００５４】図６（ａ）および図６（ｂ）において、ス
リット２６ｅはノズル口９から塗布液槽２３に至るに従
ってスリット間隙ｄが連続的（または段階的）に広くな
るように構成されている。つまり、塗布液流出路として
のスリット２６ｅが、基板幅方向に亘ってノズル口９の
スリット間隙ｄよりも塗布液槽２３側に広がっている。
このスリット２６ｅの間隙ｄの、ノズル口９と塗布液槽
２３側の開口とにおける差は、塗布液槽２３内の塗布液
２２が毛細管現象によってスリット２６ｅ内を上昇する
ことができて、ノズル口９から基板２とノズル部材１９
との隙間２８内に塗布液２２を供給することができる最
大間隙差である。これは、スリット２６ｅの間隙ｄの差
が大きいほど流路抵抗は小さくなって塗布膜厚への抵抗
は小さくなるからである。つまり、塗布液槽２３内の液
面高さ位置におけるスリット２６ｅの間隙ｄが毛細管現
象によってスリット２６ｅ内を上昇することができる最
も大きな間隙ｄであればよいことになる。

【００５５】以上のように、本実施形態２によれば、ス
リット２６ｅの間隙ｄを、ノズル口９から塗布液槽２３
の開口部に至るまで広くなるように構成したので、ノズ
ル口９と塗布液槽２３の水平距離を変えずにスリット２
６内を塗布液２２が通過するときの抵抗が減少すること
になり、先の実施形態１と同様に、塗布液２２のスリッ
ト通過抵抗がノズル口９の基板幅方向（ノズル口９の開
口長手方向）ばらつくことがなく塗布液の流出量がより
均一となって、より均一な塗布膜厚となる。また、この
ようにして、スリット２６の流路長および流路抵抗を減
少させたので、塗布速度を上げても均一な塗布膜厚を確
保することができ、生産性の向上や厚膜化を容易に図る
ことができる。

【００５６】（実施形態３）図７（ａ）および図７
（ｂ）は本発明の実施形態３の塗布装置におけるノズル
部材の概略断面構成を示す模式図であって、（ａ）と
（ｂ）はそれぞれ異なるタイプを示す断面図である。こ
こでは、図１〜図５の各部材と同一の作用効果を奏する
部材には同一の符号を付けてその説明を省略する。

【００５７】図７（ａ）および図７（ｂ）において、ノ
ズル口９から斜め下方の塗布液槽２３に直線状に至るス
リット２６ｇの傾斜角度θ（例えば３０°）を図４
（ａ）および図４（ｂ）のスリット２６の傾斜角度（例
えば４５°）に比べて小さく構成している。この場合、
ノズル口９の位置は変えずに、塗布液槽２３を上方向に
移動させてノズル口９と塗布液槽２３の流出開口部とを
スリット２６ｇで連結するればよい。つまり、スリット
２６ｇは、傾斜角度を現状よりも小さくすることで流路
長を短くし、基板２の幅方向に亘ってノズル口９からの
液流量がより均一となるように、斜め延びる傾斜角度が
設定されている。かかる傾斜角度θは、塗布時の塗布液
２２の液面高さを前端面２７の下端２７ａよりも下方に
保つことができる範囲で且つ流路抵抗の低下により所望
の塗布均一性が得られる程度に設定される。

【００５８】以上のように、本実施形態３によれば、ス
リット２６ｇの傾斜角度θを現状の傾斜角度よりも小さ
く構成したので、ノズル口９と塗布液槽２３の水平距離
を変えずにスリット２６ｅの流路長が短縮されると共に
毛細管現象による塗布液２２の到達すべき高さが低くな
って、スリット２６内を塗布液２２が通過するときの抵
抗も減少することになり、塗布液２２のスリット通過抵
抗が基板幅方向（ノズル口９の開口長手方向）に亘って
ばらつくことがなく塗布液の流出量がより均一となっ
て、より均一な塗布膜厚となる。また、このようにし
て、スリット２６の流路長および流路抵抗を減少させた
ので、塗布速度を上げても均一な塗布膜厚を確保するこ
とができ、生産性の向上や厚膜化を容易に図ることがで
きる。

【００５９】（実施形態４）図８は本発明の実施形態４
の塗布装置における要部構成を模式的に示す断面図であ
る。ここでは、図１〜図５の各部材と同一の作用効果を
奏する部材には同一の符号を付けてその説明を省略す
る。

【００６０】図８において、塗布液２２を供給可能な塗
布ノズルとしてのノズル部材６０には、ノズル内部に設
けられて、連通路２３ｐにより外部と連通されて内側が
大気圧とされた上記塗布液槽２３の代りに、気層がなく
且つ大気開放されていない液溜り部６１が形成されてい
る。この液溜り部６１は、斜め上方に位置するノズル口
９に塗布液流出路としてのスリット６２ａを介して連結
されていると共に、その液溜り部６１の下方部には塗布
液供給管６２ｂの一端が連結されている。この塗布液供
給管６２ｂの他端は、塗布液２２を所定量貯留可能で且
つ上方に設けた連通路２２ｐにより大気開放されて内部
が大気圧とされた外部塗布液槽６３の底部に連結されて
いる。この気層のない液溜り部６１の形状は、エアー抜
きを容易にするため上部には上方にのみ傾斜を有する形
状となっている。また、このような外部塗布液槽６３に
よる外部タンク方式であれば上記塗布液槽２３による内
部タンク方式に比べてメンテナンスも容易である。

【００６１】以上のように、本実施形態４によれば、外
部塗布液槽６３による外部タンク構造において、スリッ
ト６２ａの下部に液溜り部６１を設けたので、液溜り部
６１がスリット６２ａの幅方向の圧力分布を分散し、ス
リット６２ａ内を塗布液２２が通過する流路長も短くな
ってその流路抵抗も減少することになり、塗布液２２の
スリット通過抵抗がノズル口９の基板幅方向でばらつく
ことがなく、塗布液の流出量が基板幅方向（ノズル口９
の開口長手方向）に亘ってより均一となって、より均一
な塗布膜厚となる。

【００６２】なお、上記実施形態１では、スリット２６
の開口部２６ａの近傍を広く構成し、上記実施形態２で
は、スリット２６ｅの間隙ｄをノズル口９から塗布液槽
２３の開口部に至るまで連続的または段階的に広くなる
ように構成し、上記実施形態３では、スリット２６ｇの
傾斜角度θを小さく構成したが、上記塗布液槽２３のス
リット２６の開口部近傍を広くすると共に、スリット傾
斜角度θを現状よりも小さく構成するなど、これら３項
目（実施形態１〜３）のうち少なくとの２項目を同時に
実施するようにしてもよい。この場合には、更なる塗布
膜厚の均一化を図ることができる。

【００６３】また、上記実施形態１〜４では、塗布移動
機構としてリニアモータ１１を用いたが、その他に、ボ
ールねじによる塗布移動機構、ピニオンとラックによる
塗布移動機構、ワイヤーとプーリおよびモータによる塗
布移動機構などであってもよい。

【００６４】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、塗布液流
出路を一部広くしたりその傾斜角度を小さくしたりし
て、塗布液が毛細管現象で上昇する塗布液流出路の流路
抵抗を軽減したため、基板幅方向に亘ってより均一な塗
布膜厚を得ることができる。また、基板を立設した状態
で、被塗布面に沿って塗布ノズルを移動させつつ、毛管
現象で供給された塗布液をその被塗布面に塗布するた
め、基板を水平状態で回転させ、その遠心力で塗布液を
塗布する回転塗布方式に比べて、省塗布液で省設置スペ
ースを図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態１における塗布装置の概略構
成を示す斜視図である。

【図２】図１のリニアモータの概略構成を示す一部破断
斜視図である。

【図３】図１のノズルユニットの概略構成図である。

【図４】図１のノズル部材の概略断面構成を示す模式図
であって、（ａ）と（ｂ）はそれぞれ異なるタイプを示
す図である。

【図５】図１の塗布装置の概略制御構成を示すブロック
図である。

【図６】本発明の実施形態２の塗布装置におけるノズル
部材の概略断面構成を示す模式図であって、（ａ）と
（ｂ）はそれぞれ異なるタイプを示す断面図である。

【図７】本発明の実施形態３の塗布装置におけるノズル
部材の概略断面構成を示す模式図であって、（ａ）と
（ｂ）はそれぞれ異なるタイプを示す断面図である。

【図８】本発明の実施形態４の塗布装置における要部構
成を模式的に示す断面図である。

【図９】本出願人による塗布装置の概略構成を示す正面
図である。

【図１０】図９の塗布装置におけるＡＡ線の断面図であ
る。

【図１１】外部タンク方式の塗布装置における要部構成
を模式的に示す断面図である。

【符号の説明】

２ 基板 ３ 吸着ステージ ９ ノズル口 １０ ノズルユニット １１ リニアモータ １９，１９ａ，１９ｂ，１９ｅ，１９ｆ，１９ｇ，１９
ｈ，６０ ノズル部材 ２１ ギャップ可変機構部 ２２ 塗布液 ２３ 塗布液槽 ２６，２６ｅ，２６ｇ，６２ａ スリット ２６ａ 開口部 ２６ｂ 天井壁面 ２６ｃ 下壁面 ２７ 前端面 ３６ 接離モータ ４０ ボールねじ ４１ 移動部材 ５３ 制御部 ５４ ＲＯＭ ５５ ＲＡＭ ５６ リニアモータ駆動回路 ５７ 接離モータ駆動回路 ６１ 液溜り部 ６３ 外部塗布槽

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一端が塗布液槽に開口され前記塗布液槽
   から斜め上方に延びるスリット状の塗布液流出路が前面
   壁部に配設され、この前面壁部の前端面に、前記塗布液
   流出路の他端が連通された外部流出口が配設され、毛管
   現象で塗布液槽から塗布液流出路を介して汲み上げられ
   た塗布液を前記外部流出口から供給して基板の被塗布面
   に塗布可能な塗布ノズルにおいて、 前記塗布液流出路の一端開口部が、基板幅方向に亘って
   前記外部流出口のスリット間隙よりも広く構成されてい
   ることを特徴とする塗布ノズル。
2. 【請求項２】 一端が塗布液槽に連通され前記塗布液槽
   から斜め上方に延びるスリット状の塗布液流出路が前面
   壁部に配設され、この前面壁部の前端面に、前記塗布液
   流出路の他端が連通された外部流出口が配設され、毛管
   現象で塗布液槽から塗布液流出路を介して汲み上げられ
   た塗布液を前記外部流出口から供給して基板の被塗布面
   に塗布可能な塗布ノズルにおいて、 前記塗布液流出路が、基板幅方向に亘って前記外部流出
   口のスリット間隙よりも前記塗布液槽側に広がっている
   ことを特徴とする塗布ノズル。
3. 【請求項３】 一端が塗布液槽に連通され前記塗布液槽
   から斜め上方に延びるスリット状の塗布液流出路が前面
   壁部に配設され、この前面壁部の前端面に、前記塗布液
   流出路の他端が連通された外部流出口が配設され、毛管
   現象で塗布液槽から塗布液流出路を介して汲み上げられ
   た塗布液を前記外部流出口から供給して基板の被塗布面
   に塗布可能な塗布ノズルにおいて、 基板幅方向に亘って前記塗布液流出路の液流量が均一と
   なるように、斜め上方に延びる前記塗布液流出路の傾斜
   角度が設定されていることを特徴とする塗布ノズル。
4. 【請求項４】 斜め上方に延びる塗布液流出路が前面壁
   部に配設され、この前面壁部の前端面に、前記塗布液流
   出路の一端が連通された外部流出口が配設され、毛管現
   象で塗布液流出路を介して汲み上げられた塗布液を前記
   外部流出口から供給して基板の被塗布面に塗布可能な塗
   布ノズルにおいて、 ノズル本体内部の前記塗布液流出路下端部に液溜り部が
   配設され、この液溜り部に、外部塗布液槽と連通した塗
   布液供給管が連結されていることを特徴とする塗布ノズ
   ル。
5. 【請求項５】 立設した基板の被塗布面に対して、毛管
   現象で塗布液槽から塗布液流出路を介して汲み上げられ
   た塗布液を外部流出口から供給して塗布する塗布装置に
   おいて、 前記請求項１〜４のうち少なくとも何れかに記載の塗布
   ノズルと、 前記塗布ノズルと基板を被塗布面に沿って相対移動させ
   る移動手段と、 前記塗布ノズルと基板の被塗布面を接近または離間する
   ように移動させるギャップ可変手段と、 前記移動手段およびギャップ可変手段を駆動制御する制
   御手段とを有することを特徴とする塗布装置。