JPH1142458A - 塗布ノズルユニットおよび塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板とノズル部材間に間隔差があっても均一
な塗布膜厚を得、かつ塗布時のメニスカスカーブの上昇
を抑える。 【解決手段】 ノズル部材１９を回動させることで基板
２と前端面２７との隙間３０が上方ほど広がるようにす
るため、基板２とノズル部材１９の間隔が小さいほど、
塗布時にメニスカスカーブＤが形成される前端面２７の
上昇液面位置におけるギャップ寸法は広がり、また、そ
の間隔が大きいほどその上昇液面位置におけるギャップ
寸法は狭くなるので、基板２と前端面２７との間隔に差
があっても、その上昇液面位置での基板２と前端面２７
とのギャップ寸法は同等となり、常に均一な塗布膜厚と
なる。また、前端面２７が傾斜しているので、塗布時の
メニスカスカーブの上昇もなく、塗布液によって濡れる
前端面２７の面積も狭くなって前端面２７を高くする必
要はなくなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示デバイス
（ＬＣＤ）、プラズマ表示デバイス（ＰＤＰ）、半導体
デバイスおよび各種電子部品などの製造プロセスにおい
て、ＬＣＤまたはＰＤＰ用ガラス基板、半導体基板およ
びプリント基板などの基板表面に対して、フォトレジス
ト膜、カラーフィルタ材、平坦化材、層間絶縁膜、絶縁
膜および導電膜などを形成するために各種塗布液を毛細
管現象で汲み上げて塗布するための塗布ノズルユニット
および塗布装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、基板表面に塗布液を塗布する方式
としては、回転塗布方式、ブレード塗布方式、スプレイ
塗布方式およびロールコート方式などがある。

【０００３】近年、液晶表示デバイスや半導体デバイス
などの製造プロセスにおいて、基板を水平に保った状態
で回転させ、その中央部に塗布液を供給して塗布液に遠
心力を与えることで、基板表面上の中央部から外周部に
均一に塗布液を塗布する回転塗布方式が広く利用されて
いる。

【０００４】ところが、この回転塗布方式では、基板の
大型化や角形化の傾向とも相俟って、塗布液を遠心力で
外方に飛ばすため、使用される塗布液の有効利用という
点で無駄があり、塗布液の利用効率が悪かった。また、
角形の基板を水平姿勢で回転させることで、基板の大型
化にも伴って装置も大型化し、その設置スペースも増大
せざるを得なかった。さらに、角形の基板を高速に回転
させると、基板表面に気流の乱れが発生し易く、しか
も、その基板が大型化すると、その回転時における基板
表面上の線速度差が増大することにより、塗布むらや塗
布膜厚の均一性などの塗布品質を確保することが難しく
なっていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このような回転塗布方
式の上記問題、つまり、塗布液の利用効率の低下、設置
スペースの増大および塗布膜厚の不均一を解決すべく、
基板を鉛直姿勢または傾斜した姿勢に立てて保持し、そ
の基板の幅方向（左右方向）のノズルから基板表面に対
して塗布液を吐出させつつ、そのノズルを基板上端から
下端に移動させるようにして塗布液を塗布する方式の塗
布装置が、特開平８−２４７４０号公報「基板への塗布
液塗布装置」で提案されているが、この塗布装置につい
て、以下に説明する。

【０００６】図１１は、塗布装置の概略構成を示す正面
図であり、図１２は、図１１の２布装置におけるＡＡ線
の断面図である。

【０００７】図１１および図１２において、この塗布装
置は、基板１００を垂直方向に立てて保持するステージ
１０１と、基板１００の被塗布面に塗布液１０２を供給
する塗布液槽を内部に有するノズル部材１０３と、この
ノズル部材１０３を基板１００に沿って下方に直線移動
させる移動手段（図示せず）とから構成されている。こ
のノズル部材１０３は、両端が閉塞され基板１００の幅
方向に延在する筒状をなしており、基板１００の被塗布
面と平行に対向する前面壁部１０４に槽内から外部に貫
通したスリット状の塗布液流出路１０５をその幅方向に
形成している。また、基板１００の被塗布面と対向する
前面壁部１０４の前端面１０６は、基板１００の被塗布
面に非接触でかつ近接するように配設され、その下端１
０６ａが塗布液流出路１０５の出口よりも下方で且つそ
の反対側の入口よりも上方に位置し、その上端１０６ｂ
が、基板１００の被塗布面と前端面１０６との間の隙間
１０７を上方へ無限に延長させたと仮定した場合に塗布
液流出路１０５を通って隙間１０７内に流入した塗布液
が少なくとも毛細管現象などによって上昇するときの到
達高さ位置と塗布液流出路１０５の出口との間に位置す
るようになっている。

【０００８】上記構成により、塗布液槽内に塗布液流出
路１０５の入口と前端面１０６の下端１０６ａとの間の
高さまで塗布液を注入し、塗布液槽を大気開放とする
と、塗布液槽内に供給された塗布液１０２は、毛管現象
によって、塗布液流出路１０５を通って槽外に流出し、
ステージ１０１によって鉛直姿勢に保持された基板１０
０の被塗布面と前端面１０６との間の隙間１０７内に流
入する。

【０００９】この隙間１０７内に流入した塗布液は、毛
細管現象などによってその隙間１０７内を前端面１０６
の下端１０６ａまで下降するが、前端面１０６の下端１
０６ａから流下することはない。また、隙間１０７内に
流入した塗布液の上方への流動は、毛細管現象などによ
ってその隙間１０７内を前端面１０６の上端１０６ｂま
で上昇するが、前端面１０６の上端１０６ｂで規制され
てそれ以上には上昇しない。このようにして、基板１０
０の被塗布面と前端面１０６との間の隙間１０７内に、
基板１００の幅方向に延びる帯状の塗布液の液溜りが形
成されることになる。

【００１０】さらに、この塗布液の液溜りが形成された
状態で、基板１００の被塗布面と前端面１０６との間の
隙間１０７を保持したまま、基板１００の縦方向（基板
１００の幅方向と直交する上下方向）ａにノズル部材１
０３と基板１００とを相対的に直動させると、基板１０
０の被塗布面に塗布液が塗布されることになる。このと
き、基板１００の被塗布面と前端面１０６の隙間１０７
にある液溜りの塗布液は、基板１００の被塗布面に塗布
されていくに従って消費されるが、大気開放されたノズ
ル部材１０３の塗布液槽の塗布液にかかる大気圧と毛細
管現象などによって、その消費量とほぼ同等の塗布液が
塗布液槽内から塗布液流出路１０５を通ってその隙間１
０７内に供給される。そのため、塗布時の隙間１０７内
の塗布液量は常にほぼ一定に保持されることになって、
基板１００に塗布液が連続して塗布されることになる。

【００１１】このように、基板１００の被塗布面とノズ
ル部材１０３の前端面１０６との隙間１０７内にある液
溜り量を一定に保持して塗布することにより、塗布膜厚
を一定にすることができる。ところが、かかる構成では
実際には、基板１００とノズル部材１０３の前面との間
隔によって塗布膜厚に差が生じ、例えば、基板１００の
左右両端部で厚さ寸法に差があって基板１００の幅方向
にテーパがあり、図１３の基板１００とノズル部材１０
３との上面図のように基板１００の左右両端部で間隔Ｇ
１，Ｇ２が異なるような場合（ただしＧ１＜Ｇ２）に
は、基板１００の左右両端部において塗布膜厚に差が生
じてしまい、基板幅方向の塗布膜厚の均一化は不可能で
あるという問題を有していた。

【００１２】また、上記公報には、上記のノズル部材１
０３のように塗布液の上方への流動を前端面１０６の上
端１０６ｂまでに規制するもののほか、図１４（ａ）に
示すように、隙間１０７内に流入した塗布液が少なくと
も毛細管現象などによって上昇する到達高さ位置よりも
上方まで上端面１０６を延長したノズル部材１０３も記
載されている。しかしかかるノズル部材１０３を用いて
実際に塗布を行うと、塗布中において既に基板に塗布さ
れた塗布液が隙間１０７内の液溜りを引っ張る力が生
じ、塗布液中に図１４（ｂ）のようにメニスカスカーブ
Ｄが最上端１０６ｃに至るまで上昇してしまい、メニス
カスカーブＤが最上端１０６ｃで規制されることになる
ため、塗布の特性が変化してしまう。それを避けるため
には、ノズル部材１０３の塗布液流出路１０５の流出口
よりも上方部分を十分に大きくする必要があり、ノズル
部材１０３が大型化してしまい、また、塗布液によって
濡れて汚れる前端面１０６の面積も広く、複数の基板１
００に対して塗布する場合には、塗布液によって濡れて
汚れた部分が乾くことによってパーティクルの発生原因
になったり、メニスカスのカーブ形状に悪影響を与えて
塗布膜厚が変化したりする虞があった。このため、塗布
液によって濡れた前端面１０６の部分を定期的に洗浄し
なければならず、作業者にとって作業工数が増加し手間
であった。

【００１３】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、基板とノズル部材との間隔に差があっても均一な塗
布膜厚を得ることができると共に、塗布時のメニスカス
カーブの上昇を抑えることができる塗布ノズルユニット
および塗布装置を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の塗布ノズルユニ
ットは、基板の被塗布面に対して、毛管現象で塗布液槽
から汲み上げられた塗布液を塗布可能な塗布ノズルユニ
ットにおいて、一端が塗布液槽に連通し、斜め上方に延
びる塗布液流出路が前面壁部に配設され、この前面壁部
の前端面に、塗布液流出路の他端が連通された外部流出
口が配設され、毛管現象で塗布液流出路を介して汲み上
げられた塗布液を外部流出口から供給して基板の被塗布
面に塗布可能な塗布ノズルと、対向する塗布ノズルの前
端面と基板の被塗布面との間隔が上方ほど広がるように
塗布ノズルを回動させて前端面を基板の被塗布面に対し
て所定角度に傾斜させるノズル回動手段とを有すること
を特徴とするものである。

【００１５】この構成により、塗布ノズルを所定角度に
回動させることで、基板の被塗布面と前端面との間隔が
上方ほど広がるようになるので、例えば基板と塗布ノズ
ルとの間隔が狭ければ、両者の間隔における塗布液の到
達高さは上昇し、かかる上昇位置でのギャップ寸法（す
なわち塗布液の到達高さにおける基板と塗布ノズル前面
との距離）は広くなり、逆に基板と塗布のズルとの間隔
が広ければ、両者の隙間における塗布液の到達高さは下
降し、かかる下降位置でのギャップ寸法は狭くなる。そ
の結果として、基板のそりや厚みの不均一などのために
基板と塗布ノズル前面との間隔が一定でなく差があるよ
うな場合にも、塗布時にメニスカスカーブが形成される
前端面における上昇液面位置での基板と塗布ノズルのギ
ャップ寸法は結果的に同等となって、基板に対して常に
均一な塗布膜厚が得られることになる。また、塗布ノズ
ルを所定角度に回動させて前端面を傾斜させるので、塗
布液の粘度や塗布速度などの塗布特性条件を変更して
も、その都度、傾斜角の異なる塗布ノズルへの交換をす
ることなく、その変更した塗布特性条件に最適の前端面
の傾斜角度となるように設定することが可能となり、よ
り均一な塗布膜厚が得られることになる。さらに、この
前端面の傾斜で塗布時のメニスカスカーブの上昇が抑え
られることから前端面を高くする必要はなく塗布ノズル
のコンパクト化が可能で、また、塗布液によって濡れて
汚れる前端面の面積も狭くなるので、洗浄が容易である
と共にパーティクルの発生も抑えることが可能となる。

【００１６】また、本発明の塗布ノズルユニットは、基
板の被塗布面に対して、毛管現象で塗布液槽から汲み上
げられた塗布液を塗布可能な塗布ノズルユニットにおい
て、一端が塗布液槽に連通し、斜め上方に延びる塗布液
流出路が前面壁部に配設され、この前面壁部の前端面
に、塗布液流出路の他端が連通された外部流出口が配設
され、毛管現象で塗布液流出路を介して汲み上げられた
塗布液を外部流出口から供給して基板の被塗布面に塗布
可能な塗布ノズルと、対向する塗布ノズルの前端面と基
板の被塗布面との間隔が上方ほど広がるように塗布ノズ
ルを回動させるノズル回動手段と、塗布液の粘度および
塗布速度のうち少なくとも何れかに応じて、前端面を基
板の被塗布面に対して所定角度に傾斜させるように塗布
ノズル回動手段を制御するノズル回動制御手段とを有す
ることを特徴とするものである。

【００１７】この構成により、上記作用に加えて、ノズ
ル回動制御手段は、塗布液の粘度および塗布速度のうち
少なくとも何れかに応じて、前端面を基板の被塗布面に
対して所定角度に傾斜させるように塗布ノズル回動手段
を制御するので、塗布液の粘度や塗布速度などの塗布特
性条件を変更しても、その変更した塗布特性条件に最適
の前端面の傾斜角度とすることが可能となる。したがっ
て、その都度、傾斜角の異なる塗布ノズルへの交換は必
要なくなると共に、より精密な傾斜角度の設定をするこ
とが可能となって、より均一な塗布膜厚が得られること
になる。

【００１８】本発明の塗布装置は、立設した基板の被塗
布面に対して、毛管現象で塗布液槽から汲み上げられた
塗布液を塗布する塗布装置において、請求項１または２
記載の塗布ノズルユニットと、塗布ノズルと基板を被塗
布面に沿って相対移動させる移動手段と、塗布ノズルと
基板の被塗布面を接近または離間するように移動させる
間隔可変手段と、移動手段および間隔可変手段を駆動制
御する駆動制御手段とを有することを特徴とするもので
ある。

【００１９】この構成により、上記作用に加えて、従来
の回転塗布方式のように基板を水平に支持せず基板を立
設するために、その設置スペースの縮小が図られ、ま
た、従来の回転塗布方式のように基板を回転させた遠心
力で塗布液を周りに振りきりつつ塗布するのではなく、
立設した基板に対して、基板の被塗布面に沿ってノズル
部材を移動手段で移動させつつ、毛管現象で供給された
塗布液を基板の被塗布面に塗布するので、塗布液の節約
が図られることになる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る塗布装置の実
施形態について図面を参照して説明するが、本発明は以
下に示す実施形態に限定されるものではない。

【００２１】図１は本発明の一実施形態における塗布装
置の概略構成を示す斜視図である。

【００２２】図１において、壁状に構成されて立設され
た架台１の表面側中央部に、ガラス基板などの基板２の
被塗布面を外側に向けた状態で基板２を吸着して鉛直姿
勢に保持する吸着ステージ３が配設されている。この吸
着ステージ３は、用いるサイズの基板２毎の外周部に対
応した適所に、吸引可能な吸着部材としての吸盤（図示
せず）が出退自在に為されている細長い凹部３ａが複数
配設されており、基板２への吸盤（図示せず）による吸
着後に吸盤（図示せず）を凹部３ａ内の所定位置に引き
込んで収納することで基板２を保持するようになってい
る。また、吸着部材としての吸盤（図示せず）が基板２
の中央部を保持しないのは、基板２の中央部は重要な回
路などが配置される部分であり、吸盤（図示せず）によ
る真空吸引と解除によって温度が下がったり上がったり
することで塗布むらとなるのを防止するためである。し
たがって、吸盤（図示せず）の形状も基板２の外周部だ
けを吸引すべく、細長い凹部３ａと同様の細長い吸盤形
状となっている。なお、ここでは、吸着ステージ３によ
る基板２の保持は、吸盤（図示せず）による吸着の場合
を示したが、基板２の上下左右を爪状の部材でひっかけ
て保持するような構成であってもよいことは言うまでも
ないことである。

【００２３】また、この架台１の表面側および裏面側の
幅方向両端部の上下位置の４角部にそれぞれ４個の各ア
イドルギヤ４が左右２組回転自在に各軸受部５でそれぞ
れ軸支されて配設されている。これらの上部に位置する
左右２組の各アイドルギヤ４にそれぞれ架けられた左右
の各スチールベルト６の一方端にはそれぞれ、ベース部
材７の両端上部がそれぞれ連結されており、また、左右
の各スチールベルト６の他方端にはそれぞれ、バランス
ウェイト８の両端上部がそれぞれ連結されている。ま
た、下部に位置する左右２組の各アイドルギヤ４にそれ
ぞれ架けられた左右の各スチールベルト６の一方端には
それぞれ、ベース部材７の両端下部がそれぞれ連結され
ており、また、その左右の各スチールベルト６の他方端
にはそれぞれ、バランスウェイト８の両端下部がそれぞ
れ連結されて、ベース部材７が架台１の表面側で、バラ
ンスウェイト８が架台１の裏面側でそれぞれ水平に保持
されかつ上下に移動可能な状態で、各スチールベルト６
が、架台１の幅方向両端部の上下方向にそれぞれ左右２
組の各アイドルギヤ４をそれぞれ介して巻回されてい
る。このベース部材７上の中央部には、基板２の幅寸法
のノズル口９を有し、そのノズル口９から塗布液を吐出
可能なノズルユニット１０が配設されている。これらの
ベース部材７およびノズルユニット１０とバランスウェ
イト８とがそれぞれバランスが取れた静止状態で架台１
の表と裏の幅方向両端部間に水平にそれぞれ保持される
ようになっている。

【００２４】また、架台１の表面側の両端部にはそれぞ
れ各上下方向に縦型の各リニアモータ１１の固定子１２
が配設されており、これら左右の各リニアモータ１１は
その駆動によって、ノズルユニット１０を載置したベー
ス部材７の両端部を各固定子１２に沿って上下に直線移
動させる構成となっている。この移動手段としてのリニ
アモータ１１は、各上下方向に配設された各スチールベ
ルト６にそれぞれ沿ってベース部材７の両端部および各
スチールベルト６の内側にそれぞれ配設されており、図
２に示すように、幅方向両端部の各レール部１３間にベ
ース部１４を有する固定子１２と、ベース部材７の両端
部裏側の各側壁にそれぞれ各固定子１２とそれぞれ対向
して配設され、各固定子１２の上をスライド自在なスラ
イダ部材１５とを有している。このスライダ部材１５
は、その幅方向両側に各レール部１３とそれぞれ嵌合し
て上下方向に案内される各リニアガイド部１６と、各リ
ニアガイド部１６の間に配設されると共に、固定子１２
のベース部１４に対向し、図示しない巻線による励磁に
よって磁力を発生させる磁気回路部１７と、この磁気回
路部１７の巻線（図示せず）の両端に接続されたコネク
タ１８とを有しており、この磁気回路部１７の励磁によ
る磁力で、スライダ部材１５は固定子１２の各レール部
１３に各リニアガイド部１６で案内されて上下に移動自
在である。このスライダ部材１５が、ノズルユニット１
０を載置したベース部材７の両端部裏側にそれぞれ固着
されており、これらの各スライダ部材１５の移動によっ
てベース部材７が上下に移動自在になっている。

【００２５】ここでは、ノズルユニット１０を載置した
ベース部材７の両端部を各固定子１２に沿って上下に移
動させるように構成したが、ノズルユニット１０と基板
２とが被塗布面に沿って相対的に移動するように構成す
ればよく、ノズルユニット１０を固定して基板２を吸着
ステージ３と共に上下にリニアモータやボールねじなど
の移動手段で移動するように構成することもできる。こ
のように、吸着ステージ３を上下に移動させる方がノズ
ルユニット１０を移動させるよりも振動が少なく、その
振動による塗布むら防止などの観点から吸着ステージ３
を移動させる方がよいのであるが、吸着ステージ３を上
下に移動させると、装置の高さが倍必要となり、クリー
ンルームの天井高さには制限があるので、非現実的なも
のとなってしまう。

【００２６】さらに、ノズルユニット１０は、図３に示
すように、基板２の被塗布面に対向して開口した水平方
向の細長いノズル口９から塗布液を吐出可能な塗布ノズ
ルとしてのノズル部材１９と、このノズル部材１９のノ
ズル口９を有する前端面２７が傾斜位置となる一方位置
Ｍと、前端面２７が被塗布面と略平行であるか、または
位置Ｍと比べより鉛直に近い傾斜位置となる他方位置Ｎ
（２点鎖線で示す）との間で、ノズル部材１９をその長
手方向を回動軸として回動させるノズル部材回動機構部
２０と、ノズル部材１９のノズル口９と基板２の被塗布
面との水平方向の隙間（ギャップ）を可変させるべく、
ノズル部材１９を基板２に対して接近または離間自在に
駆動するギャップ可変機構部２１とを備えている。この
ノズルユニット１０は、塗布処理される基板２のサイズ
に合った幅寸法のノズル部材１９と付け変え可能に構成
されている。

【００２７】このノズル部材１９は、図４に示すよう
に、塗布液２２を溜める塗布液槽２３が内部後方に配設
されており、この塗布液槽２３は、両端が閉塞され基板
２の幅方向に延在する水平方向に細長い筒状に構成され
ている。この塗布液槽２３の中央部に塗布液２２を供給
する図１の供給チューブ２４が連結されており、ベース
部材７上に載置されたポンプ４３によって供給チューブ
２４を介して外部から塗布液を塗布液槽２３内に供給可
能に構成している。また、基板２の被塗布面２ａと対向
する前面壁部２５に塗布液槽２３内から外部に斜め上向
きに貫通した塗布液流出路としてスリット２６がその幅
方向に形成されている。このスリット２６は、塗布液槽
２３の下部とノズル口９との間で直線状に左上向きに傾
斜した状態で連結しており、スリット２６の下方端が塗
布液槽２３内に開口し、その上方端が水平方向に細長い
ノズル口９となっている。前端面２７の下端２７ａは、
スリット２６の出口であるノズル口９と、その反対側の
塗布液槽２３内への開口との間の高さに位置するよう形
成されている。また、ノズル部材１９の塗布液槽２３に
は、その内部に貯留される塗布液の液面よりも上方部分
において塗布液槽２３内部と連通してその内部を加圧
し、減圧し、または大気開放にするための圧力設定機構
（図示せず）が接続されている。さらに、基板２の被塗
布面２ａと対向する前面壁部２５の前端面２７は、塗布
液の液溜りが形成可能なように、基板２の被塗布面２ａ
に非接触でかつ近接するように配置されている。

【００２８】また、この前端面２７の下端２７ａとスリ
ット２６の塗布液槽２３内への開口上端との高さ範囲Ｂ
内に塗布液槽２３内の塗布液面が位置するように液面を
設定している。また、ノズル口９を有する前端面２７
は、塗布時には上方に開くように傾斜させている。つま
り、基板２の被塗布面２ａと前端面２７との間の隙間３
０は上に行くほど広がるように、ノズル部材回動機構部
２０によってノズル部材１９を回動した状態で固定して
おり、この状態で、塗布液２２が毛細管現象などによっ
てスリット２６さらにノズル口９を介して隙間３０内を
上昇する液面到達高さ位置まで来るようになっている。

【００２９】このように、前端面２７を傾斜させること
で、基板２の被塗布面２ａと前端面２７との間の隙間３
０は、上側に広がることになって、毛細管現象で上昇す
る塗布液は隙間３０の広がりに伴って急激に上昇力を失
い平衡状態になる。また、塗布時の基板２とノズル部材
１９の相対移動によって基板２側に付着した塗布液とノ
ズル部材１９の前端面２７側に付着した塗布液とに、基
板２とノズル部材１９の相対移動速度に応じた張力が生
じる。この張力は、メニスカスカーブＤの上昇方向に働
くことになり、従来のように前端面が傾斜せず基板２の
被塗布面２ａと前端面との間隔が一定で平行な場合に
は、その張力によってメニスカスカーブＤは上昇を続け
てしまうが、本実施形態では前端面２７が基板２の被塗
布面２ａに対して傾斜しており、基板２の被塗布面２ａ
と前端面２７とのギャップが上側ほど広がっているの
で、メニスカスカーブＤは、前端面２７の若干上昇した
高さ位置で、上記相対移動速度に応じた張力による上昇
力が、重力とつり合うことで平衡状態となって上昇しな
くなる。

【００３０】このとき、図５（ａ）に示す前端面２７の
傾斜角θは、塗布液２２の表面張力とノズル走行速度で
ある上記相対移動速度（塗布速度）とに依存しており、
適正値が存在する。例えば上記相対移動速度を５〜５０
ｍｍ／ｓｅｃとした場合の前端面２７の基板２の被塗布
面２ａに対する傾斜角θの適正値について、実験の結果
導かれた値を以下の（表１）に示している。この上記相
対移動速度が早くなるほど、相対移動速度に応じた張力
は大きくなるので、前端面２７の傾斜角θは以下の（表
１）に示す値よりも大きくなる方向に変えることがノズ
ルの小型化の点で望ましい。

【００３１】

【表１】

【００３２】この（表１）から明らかなように、塗布液
２２の粘度が高いほど、前端面２７の傾斜角θの適正値
は大きくなる方向に移行するが、その粘度範囲が５ｃｐ
〜３０ｃｐで適正傾斜角θの範囲は０．３°〜３０°で
ある。また、この場合の最適な傾斜角θの範囲としては
１°〜１５°前後となる。

【００３３】一方、図３のノズル部材回動機構部２０
は、図示しない電磁弁で制御されて、ロッド先端部３１
を伸長位置と収縮位置との間を移動させるノズル回動手
段としてのエアーシリンダ３２が、矢印方向Ｃにシリン
ダ前方部のピン３２ａを回動中心として回動可能に軸支
されている。このロッド先端部３１は、アーム部材３３
の一方端部と回動可能にピン連結されてリンク機構を構
成しており、アーム部材３３の他方端部は駆動軸３４に
その長手方向に直交する方向から回動力を伝達可能に固
定されている。この駆動軸３４は、所定幅で水平方向に
延びたベース部材３５を下方から支持する支持部材３５
ａを横方向から貫通して固定されている。このベース部
材３５の前方端縁上側にはノズル部材１９がそのノズル
口９を基板２の被塗布面２ａ側に向けた状態で、ノズル
部材１９の長手方向と駆動軸３４の軸方向が一致する方
向になるように取り付けられている。図３は、エアーシ
リンダ３２のロッド先端部３１が伸長した場合であり、
このとき、ノズル部材１９のノズル口９を有する前端面
２７は基板２の被塗布面２ａに対して所定角度で傾斜し
た塗布可能な状態である。この場合、エアーシリンダ３
２のロッド先端部３１が伸長する状態で、ノズル部材１
９を載置したベース部材３５がＰ点で当接して停止され
て固定状態となっている。これに対して、エアーシリン
ダ３２のロッド先端部３１が収縮した場合には、ノズル
部材１９のノズル口９を有する前端面２７は基板２の被
塗布面２ａに対して、２点鎖線で示すように上記所定角
度よりも小さい所定角度で傾斜した塗布可能な状態とな
る。このロッド収縮の途中で、ピン３２ａを回動中心と
してエアーシリンダ３２が矢印方向Ｃに揺動しつつロッ
ド先端部３１が収縮されることになる。この場合にも、
エアーシリンダ３２のロッド先端部３１が収縮する状態
で、ノズル部材１９は、図示しない部分で当接して固定
状態となっている。

【００３４】また、ギャップ可変機構部２１は、ステッ
ピングモータやサーボモータなどの接離モータ３６と、
前後の軸受部３７，３８で軸支され、この接離モータ３
６の回転軸に連結部３９を介して連結されたボールねじ
４０と、このボールねじ４０に螺合した移動部材４１
と、移動部材４１の上端が下面で固着されていると共に
ノズル部材回動機構部２０を支持して基板２の被塗布面
２ａに対してノズル部材１９の前端面２７が接近または
離間するようにスライド自在なスライド部材４２とを備
えており、接離モータ３６によるボールねじ４０の回転
で、移動部材４１が、ノズル部材１９およびノズル部材
回動機構部２０を載置した状態で前後に移動自在に構成
されている。

【００３５】ここでは、ギャップ可変機構部２１は中央
部１個所として、基板２の厚さのばらつき範囲内でギャ
ップ寸法を調整するようにしているが、さらに、基板２
の厚さのばらつきだけではなく、基板２の幅方向にテー
パがあって左右両端部での厚さ寸法に差があるような場
合には、ギャップ可変機構部２１をベース部材７の左右
２個所配設することで左右独立にギャップ寸法を調整す
ることができ、ノズルユニット１０の左右に長いノズル
部材１９を、基板２の幅両端部で厚さが異なることによ
る幅方向テーパに合わせて平行に、左右位置で等ギャッ
プ寸法として傾け得るように構成することもできる。

【００３６】図６は、図１の塗布装置の概略制御構成を
示すブロック図である。

【００３７】図６において、操作部５２としては、数字
を入力するテンキー、電源のオン・オフを入力する電源
キー、塗布スタートキー、リニアモータ１１の駆動速度
の基準値を任意に手動で設定する速度設定キーおよび、
接離モータ３６を駆動させて基板２の被塗布面２ａとノ
ズル口９との隙間２８を調整する隙間設定キー、基板サ
イズ、基板厚さ、塗布液粘度および塗布膜厚などを設定
する各種設定キーなどで構成されている。

【００３８】また、この操作部５２が接続される制御部
５３はＲＯＭ５４およびＲＡＭ５５に接続されており、
ＲＯＭ５４内に登録された各制御プログラムで用いる制
御データを操作部５２からＲＡＭ５５内に書き込み可能
である。また、これらの操作部５２、ＲＯＭ５４および
ＲＡＭ５５が接続される制御部５３は、リニアモータ駆
動回路５６を介してリニアモータ１１に接続されてお
り、ＲＯＭ５４内に登録されたリニアモータ駆動制御プ
ログラムと、操作部５２から入力され、リニアモータ駆
動制御プログラムに対応した制御データに基づいて、制
御部５３は、その制御信号をリニアモータ駆動回路５６
に出力し、リニアモータ駆動回路５６がリニアモータ１
１を駆動してベース部材７上のノズルユニット１０を基
板２の被塗布面２ａに対する所定の上下位置に移動自在
である。さらに、これらの操作部５２、ＲＯＭ５４およ
びＲＡＭ５５が接続される制御部５３は、接離モータ駆
動回路５７を介して接離モータ３６に接続されており、
ＲＯＭ５４内に登録された接離モータ駆動制御プログラ
ムと、操作部５２から入力され、接離モータ駆動制御プ
ログラムに対応した制御データに基づいて、制御部５３
は、その制御信号を接離モータ駆動回路５７に出力し、
接離モータ駆動回路５７が接離モータ３６を駆動してベ
ース部材７上のノズルユニット１０を基板２の被塗布面
２ａに対して接近または離間させて所定ギャップ位置に
移動自在である。

【００３９】さらに、操作部５２が接続される制御部５
３はエアーシリンダ３２に接続されており、ノズル部材
１９の前端面２７の傾斜角度θ１と傾斜角度θ２とを選
択的に操作部５２から入力可能であり、その傾斜角度θ
１を操作部５２で選択した場合には、制御部５３は、図
示しない電磁弁などを制御してエアーシリンダ３２のロ
ッドを収縮するように駆動させ、ノズル部材１９をその
長手方向を回転軸として回動させて前端面２７を基板２
の被塗布面２ａに対して所定角度θ１に傾斜させるよう
に制御する。また、その傾斜角度θ２を操作部５２で選
択した場合には、制御部５３は、図示しない電磁弁など
を制御してエアーシリンダ３２のロッドを伸長するよう
に駆動させ、ノズル部材１９を回動させて前端面２７を
基板２の被塗布面２ａに対して所定角度θ２に傾斜させ
るように制御する。このように、本実施形態では、塗布
液２２の粘度や塗布速度に応じて、操作者からの角度選
択入力、または塗布液２２の粘度や塗布速度などの塗布
特性条件の操作部５２からの入力で制御部５３がＲＡＭ
５５内のデータを参照して角度選択をするようにしても
よく、これらの傾斜角度θ１，θ２（ただしθ１＜θ
２）を操作部５２から選択可能に構成している。なお、
本実施形態では２つの傾斜角度θ１，θ２を選択可能に
構成したが、複数の傾斜角度を塗布液２２の粘度や塗布
速度などの塗布条件の操作部５２からの入力に応じて選
択可能に構成することもできる。この場合には、ノズル
回動手段としてのエアーシリンダ３２に代えて、ノズル
回動手段としてのモータおよびボールねじや、ステッピ
ングモータなどの回動駆動機構を用い、制御部５３が上
記回動駆動機構を介して駆動軸３４を回転制御するよう
にして、多段階の傾斜角度θを得るようにしてもよい。

【００４０】上記構成により、以下、その動作を説明す
る。

【００４１】まず、所定の塗布液を塗布処理する基板２
を搬送ロボット（図示せず）などによって搬送後に、基
板２の外周部を吸着ステージ３の複数の吸盤に対応させ
た状態で所定の位置に位置決めして、基板２の被塗布面
を外側に向けた状態で基板２を各吸盤で吸着する。さら
に、各吸盤を吸着ステージ３の凹部３ａ内の所定位置に
引き込んで収納することで基板２を保持する。

【００４２】次に、ノズル部材１９内の塗布液槽２３に
所定量の塗布液２２を、図１のベース部材７上に載置さ
れたポンプ４３にて供給チューブ２４を介して所定量供
給する。この塗布液槽２３への塗布液２２の供給は、ノ
ズルユニット１０の停止中に行う方がよい。これは、塗
布中に塗布液槽２３に塗布液２２の供給を行えば、塗布
液槽２３内の塗布液２２の液面が揺れて、その高さが変
化する液面に応じた波動がノズル口９を介して伝播して
塗布むらとなる虞があるためである。

【００４３】さらに、ノズル部材１９の前端面２７の傾
斜角度θ１と傾斜角度θ２とを選択的に操作部５２から
入力する。その傾斜角度θ１を操作部５２で選択した場
合には、制御部５３は、図示しない電磁弁などを制御し
てエアーシリンダ３２のロッドを収縮するように駆動さ
せ、ノズル部材１９をその長手方向を回転軸として回動
させて前端面２７を基板２の被塗布面２ａに対して所定
角度θ１に傾斜させる。または、傾斜角度θ２を操作部
５２で選択した場合には、制御部５３は、図示しない電
磁弁などを制御してエアーシリンダ３２のロッドを伸長
するように駆動させ、ノズル部材１９を回動させて前端
面２７を基板２の被塗布面２ａに対して所定角度θ２に
傾斜させる。

【００４４】さらに、制御部５３は、基板２の被塗布面
に対する原点位置にノズルユニット１０におけるノズル
部材１９のノズル口９を上方向または下方向に移動する
べく、ノズルユニット１０と共にベース部材７をリニア
モータ１１によって移動させる。このとき、ＲＯＭ５４
内に登録されたリニアモータ駆動制御プログラムとその
制御データに基づいて、制御部５３が、その制御信号を
リニアモータ駆動回路５６に出力することで、リニアモ
ータ駆動回路５６がリニアモータ１１を駆動してベース
部材７上のノズルユニット１０におけるノズル部材１９
を、図７（ａ）に示すように基板２の被塗布面２ａに対
する所定の塗始め高さ位置に原点復帰させることができ
る。この場合の制御データは、基板２の保持位置が精密
な場合には、登録された原点データであり、また、マニ
ュアル的に操作部５２から所定の高さ位置が入力された
データであってもよい。さらに、塗布液２２の塗始め位
置に原点センサ（図示せず）を設けて、その原点センサ
（図示せず）がベース部材７を検知する所定の塗始め位
置で、制御部５３がベース部材７を停止するようにリニ
アモータ駆動回路５６を介してリニアモータ１１を駆動
制御してもよい。

【００４５】さらに、基板２の被塗布面とノズル部材１
９のノズル口９との所定のギャップ寸法に移動するべ
く、接離モータ３６の駆動によるボールねじ４０および
移動部材４１によりノズル部材１９のノズル口９を基板
２の被塗布面に対して接近または離間するように移動さ
せる。このとき、ＲＯＭ５４内に登録された接離モータ
駆動制御プログラムとその制御データに基づいて、制御
部５３が、その出力制御信号を接離モータ駆動回路５７
に出力し、接離モータ駆動回路５７が接離モータ３６を
駆動してベース部材７上のノズルユニット１０における
ノズル部材１９を、図７（ｂ）に示すように基板２の被
塗布面２ａに対する所定のギャップ位置（ディスペンス
位置）に移動させる。この場合の制御データは、塗布液
２２の粘度や必要塗布膜厚、塗布速度、塗布液槽２３内
の液面高さなどの各種塗布条件に応じて設定され登録さ
れたギャップデータであってもよく、また、これらの各
種塗布条件に応じた実験データを参照してマニュアル的
に操作部５２から入力されたギャップデータであっても
よい。この所定のギャップ位置にノズル部材１９を移動
させたとき（図７（ｂ））、前記圧力設定機構を動作さ
せて塗布液槽２３内の圧力を大気圧とするかまたは一時
的に高めるなどにより、基板２の被塗布面２ａとノズル
部材１９の前端面２７との間の隙間３０には、塗布液２
２が毛管現象で塗布液槽２３内からスリット２６を介し
て汲み上げられて液溜りが形成される。

【００４６】さらに、基板２の被塗布面２ａに所定の塗
布膜厚で塗布するべく、前記圧力設定機構を動作させて
塗布液槽２３内の圧力を大気開放とし、操作部５２のス
タートキーを操作すると、ＲＯＭ５４内に登録されたリ
ニアモータ駆動制御プログラムとその制御データとに基
づいて、制御部５３は、その出力制御信号をリニアモー
タ駆動回路５６に出力し、リニアモータ駆動回路５６が
リニアモータ１１を駆動してベース部材７をノズルユニ
ット１０と共に基板２の被塗布面２ａに対して下方向に
移動し始め、その移動開始後にノズル走行速度が一定に
なって、上記相対移動速度に応じた張力によるメニスカ
スカーブＤの上昇力が、広くなるギャップにおけるメニ
スカスカーブＤの毛細管下降力とつり合うように平衡状
態となって、図７（ｃ）に示すようにメニスカスカーブ
Ｄはそれ以上は上昇せず、その後は図７（ｄ）に示すよ
うに安定した塗布状態となって、図７（ｄ）のメニスカ
スカーブＤと同形状の図７（ｅ）に示すメニスカスカー
ブＤで安定に塗布処理が為される。

【００４７】以上のように、本実施形態によれば、ノズ
ル部材１９は吸着ステージ３と平行で且つそのノズル口
９が水平向きとなるように取り付けられているが、基板
２の被塗布面２ａと、細長いノズル口９を有する前端面
２７との隙間３０において、例えば基板２が反っていた
りノズル部材１９の取付けが傾いていたり、また、基板
２の左右両端部で厚さ寸法に差があって基板２の幅方向
にテーパがある場合、具体的には図８の基板２とノズル
部材１９との上面図のように基板２の左右両端部で間隔
Ｇ１１，Ｇ１２が異なるような場合（Ｇ１１＜Ｇ１２）
や、塗始めの位置と塗終わりの高さ位置で間隔差がある
ような場合に、例えば基板２の左右端部および上下端部
などにおいて従来では塗布膜厚に差が生じていたが、本
実施形態では隙間３０が上方ほど広がっているので、基
板とノズル部材１９との間隔が、図９（ａ）に示す隙間
３０の間隔Ｇ１１のように小さくなるほど、隙間３０を
上昇する塗布液２２の液面到達高さ位置も上昇すること
になり、前端面２７の傾斜面で液面が上になるほどその
液面位置におけるギャップ寸法も増えることになる。ま
た同様に、図９（ｂ）に示す隙間３０の間隔Ｇ１２のよ
うに大きくなるほど、隙間３０を上昇する塗布液２２の
液面到達高さ位置はあまり上がらず、前端面２７の傾斜
面で液面が上がらないほどその液面位置におけるギャッ
プ寸法は減少することになる。したがって、例えば左右
方向に細長いノズル口９を有する前端面２７の両端部に
おける間隔Ｇ１１，Ｇ１２に差があっても、液面到達高
さ位置におけるギャップ寸法はギャップ寸法Ｇ１３とし
て同等になって、間隔Ｇ１１，Ｇ１２の差は吸収される
ことになる。つまり、前端面２７における間隔Ｇ１１，
Ｇ１２の差が、ノズル部材１９の取付けや基板寸法のば
らつきなどを含む範囲内において、間隔Ｇ１１となる液
面到達高さ位置におけるギャップ寸法と、間隔Ｇ１２と
なる液面到達高さ位置におけるギャップ寸法とが、同等
（塗布膜厚に影響しない程度の寸法範囲内）のギャップ
寸法Ｇ１３となるように、上記（表１）に示すような前
端面２７の適正傾斜角度θを実験的に求めている。この
ように、メニスカスカーブＤが形成される上昇液面位置
におけるギャップ寸法が塗布膜厚に影響しているため、
図５の隙間２８の寸法が小さくなるほど、上昇液面位置
におけるギャップ寸法は広がることで相殺されて塗布膜
厚差は生じにくくなる。よって、基板２の被塗布面２ａ
に対して常に均一な塗布膜厚を得ることができる。ま
た、ノズル部材１９を所定角度に回動させて前端面２７
を傾斜させるため、塗布液２２の粘度や塗布速度などの
塗布特性条件を変更しても、その変更した塗布特性条件
に最適な前端面２７の傾斜角度となるように設定するこ
とができ、その都度、傾斜角の異なる塗布ノズルへの交
換をすることなく、より均一な塗布膜厚を得ることがで
きる。さらに、ノズル部材１９を回動させることで隙間
３０が上方ほど広がるようにしているため、前端面２７
に傾斜加工を施すことなく平な状態で、前端面２７を傾
斜させることができてその製造が容易である。

【００４８】また、以上のように、前端面２７に適正傾
斜角度θを設けるようにノズル部材１９を回動させたこ
とにより隙間３０が上方ほど広がっているので、塗布中
に、基板２の被塗布面に塗布済の塗布液で基板２側に引
っ張る弱い力によってノズル部材１９における前端面２
７をメニスカスカーブＤが上昇するのを抑えることがで
きる。したがって、ノズル部材１９の前端面２７を必要
以上に上側に高くして大型化する必要はなくなり、ま
た、塗布液によって濡れて汚れる前端面２７の面積も狭
くなって、複数の基板２に対して塗布する場合にも、塗
布液によって濡れた部分が乾くことによるパーティクル
の発生原因や、メニスカスカーブＤの形状に悪影響を与
えることも抑制されて、塗布品質が良好となると共に塗
布膜厚の変化が抑えられることになる。また、塗布液に
よって濡れて汚れた前端面の洗浄範囲も小さく、洗浄が
より容易なものとなる。

【００４９】以上のように、本実施形態によれば、基板
２とノズル部材１９との間のギャップ寸法が図１０に示
す間隔Ｇ１１，Ｇ１２のように変化しても、メニスカス
カーブＤが形成される位置でのギャップ寸法は例えばギ
ャップ寸法Ｇ１３として同等になるため、常に一定の塗
布膜厚を得ることができる。また、前端面２７の傾斜で
塗布時のメニスカスカーブＤの上昇がないことから、前
端面２７を高くする必要はなくコンパクト化が可能で、
また、塗布液によって濡れる前端面２７の面積も狭くな
るので、パーティクルの発生やメニスカスカーブへの悪
影響も抑えることができる。さらに、従来の回転塗布方
式のように基板２を水平に支持せず基板２を立設するた
めに、その設置スペースの縮小を図ることができ、ま
た、従来の回転塗布方式のように基板２を回転させた遠
心力で塗布液を周りに振りきりつつ塗布するのではな
く、立設した基板２に対して、基板２の被塗布面に沿っ
てノズル部材１９をリニアモータ１１で移動させつつ、
毛管現象で供給された塗布液を基板２の被塗布面に塗布
するため、塗布液の節約を図ることができる。

【００５０】なお、上記実施形態では、塗布移動機構と
してリニアモータ１１を用いたが、その他に、ボールね
じによる塗布移動機構、ピニオンとラックによる塗布移
動機構、ワイヤーとプーリおよびモータによる塗布移動
機構などであってもよい。

【００５１】また、上記実施形態では、吸着ステージ３
によって基板２を鉛直姿勢に立設保持し、ノズル部材１
９の前端面２７が、被塗布面との間隔が略平行状態か
ら、上方側が広くなるように回転するように構成した
が、基板の姿勢は必ずしも鉛直姿勢である必要はなく、
若干傾斜を有する立設姿勢であってもよく、例えば基板
２が吸着ステージ３の上側に載るように若干傾斜した立
設姿勢でもよい。かかる場合でも、ノズル部材１９が、
前端面と基板２の被塗布面とのギャップ寸法が上方ほど
拡がるように回転するように構成されていればよい。

【００５２】なお、以上説明した実施形態のノズル部材
１９では、ノズル部材１９を回転させる範囲は、ノズル
部材１９の前端面２７の下端２７ａなどが基板２に対し
て衝突せずにノズル部材１９と基板２との間隔が保てる
範囲にする必要があり、そのため、被塗布面に対するノ
ズル部材１９の前端面２７の傾斜の角度を大きくできる
範囲に制約がある。かかる傾斜の角度を十分に大きくす
るために望ましい実施形態として、図５（ｂ）に示すも
のがあげられる。図５（ｂ）に示すノズル部材１９で
は、前端面２７の下部に対して前端面上部２９が角度θ
３だけ傾いた傾斜面とされている。そして、かかるノズ
ル部材１９をさらに回動させることにより、鉛直姿勢に
立設されている基板２の被塗布面と前端面上部２９との
なす角度θ４を容易に大きな値に設定できる。この場合
も、被塗布面に対する前端面上部２９の傾斜の角度の望
ましい値は表１とほぼ同様と考えてよい。

【００５３】なお、ノズル部材１９を回動させる角度
（図５（ｂ）ではθ４−θ３）の範囲をあまり大きくす
ると、かかる回動に対応してノズル口９に対する塗布液
２２の液面高さに変動が生じ、塗布膜厚の不所望な変動
などを生じるおそれがあるが、この実施形態では、前端
面上部２９の傾斜角度θ３が所望の傾斜角度であるノズ
ル部材１９を用いれば、ノズル部材１９の回動の範囲
を、例えば傾斜角度θ３を若干増加または減少させる調
整程度の比較的小さな範囲にとどめてもよく、液面高さ
の変動を抑制できる。

【００５４】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、塗布ノズ
ルを回動させることで基板と前端面との隙間が上方ほど
広がるようになっているため、基板とノズル部材との間
の間隔が変化しても、メニスカスカーブＤが形成される
位置でのギャップ寸法は同等になって、常に均一な塗布
膜厚を得ることができる。

【００５５】また、塗布液の粘度や塗布速度などの塗布
特性条件に応じて、塗布ノズルを所定角度に回動させる
ため、前端面の傾斜を自由に設定することができて、塗
布液の粘度や塗布速度などの塗布特性条件を変更して
も、その変更した塗布特性条件に最適の前端面の傾斜角
度とすることができ、その都度、傾斜角の異なる塗布ノ
ズルへの交換をすることなく、より均一な塗布膜厚を得
ることができる。

【００５６】さらに、基板と前端面との隙間が上方ほど
広がっているため、メニスカスカーブの上昇が抑えられ
ることでノズル高さ方向のコンパクト化が可能で、ま
た、塗布液によって濡れる前端面の面積も狭くなるた
め、パーティクルの発生やメニスカスカーブへの悪影響
も抑えることができると共に、その洗浄作業も容易であ
る。

【００５７】さらに、従来の回転塗布方式のように基板
を水平に支持せず基板を立設するため、その設置スペー
スを縮小することができ、また、従来の回転塗布方式の
ように基板を回転させた遠心力で塗布液を周りに振りき
りつつ塗布するのではなく、立設した基板に対して、基
板の被塗布面に沿ってノズル部材を移動手段で移動させ
つつ、毛管現象で供給された塗布液を基板の被塗布面に
塗布するため、塗布液を節約することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態における塗布装置の概略構
成を示す斜視図である。

【図２】図１のリニアモータの概略構成を示す一部破断
斜視図である。

【図３】図１のノズルユニットの概略構成図である。

【図４】図１のノズル部材の概略断面構成を示す模式図
である。

【図５】本発明のノズル部材における前端面の傾斜角度
θを示す図である。

【図６】図１の塗布装置の概略制御構成を示すブロック
図である。

【図７】（ａ）〜（ｅ）は図４の基板およびノズル部材
の概略断面構成に対する塗布動作を示す模式図である。

【図８】図４の基板とノズル部材の間隔が両端部で異な
る場合を示す概略上面図である。

【図９】図８における基板およびノズル部材の概略断面
構成を示す模式図であって、（ａ）は間隔が狭い側の一
方端部における断面図、（ｂ）は間隔が広い側の他方端
部における断面図である。

【図１０】基板とノズル部材の間隔に対する塗布膜厚の
関係を示す図である。

【図１１】従来の塗布装置の概略構成を示す正面図であ
る。

【図１２】図１１の塗布装置におけるＡＡ線の断面図で
ある。

【図１３】図１１の基板とノズル部材の間隔が両端部で
異なる場合を示す上面図である。

【図１４】（ａ）および（ｂ）はメニスカスカーブＤの
上昇を説明するための基板とノズル部材の断面構成を模
式的に示す図である。

【符号の説明】

２ 基板 ３ 吸着ステージ ９ ノズル口 １０ ノズルユニット １１ リニアモータ １９ ノズル部材 ２０ ノズル部材回動機構部 ２２ 塗布液 ２３ 塗布液槽 ２５ 前面壁部 ２６ スリット ２７ 前端面 ３０ 隙間 ３２ エアーシリンダ ３６ 接離モータ ４０ ボールねじ ４１ 移動部材 ５２ 操作部 ５３ 制御部 ５４ ＲＯＭ ５５ ＲＡＭ ５６ リニアモータ駆動回路 ５７ 接離モータ駆動回路

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の被塗布面に対して、毛管現象で塗
   布液槽から汲み上げられた塗布液を塗布可能な塗布ノズ
   ルユニットにおいて、 一端が前記塗布液槽に連通し、斜め上方に延びる塗布液
   流出路が前面壁部に配設され、この前面壁部の前端面
   に、前記塗布液流出路の他端が連通された外部流出口が
   配設され、毛管現象で塗布液流出路を介して汲み上げら
   れた塗布液を前記外部流出口から供給して前記基板の被
   塗布面に塗布可能な塗布ノズルと、 対向する前記塗布ノズルの前端面と前記基板の被塗布面
   との間隔が上方ほど広がるように前記塗布ノズルを回動
   させて前記前端面を前記基板の被塗布面に対して所定角
   度に傾斜させるノズル回動手段とを有することを特徴と
   する塗布ノズルユニット。
2. 【請求項２】 基板の被塗布面に対して、毛管現象で塗
   布液槽から汲み上げられた塗布液を塗布可能な塗布ノズ
   ルユニットにおいて、 一端が前記塗布液槽に連通し、斜め上方に延びる塗布液
   流出路が前面壁部に配設され、この前面壁部の前端面
   に、前記塗布液流出路の他端が連通された外部流出口が
   配設され、毛管現象で塗布液流出路を介して汲み上げら
   れた塗布液を前記外部流出口から供給して前記基板の被
   塗布面に塗布可能な塗布ノズルと、 対向する前記塗布ノズルの前端面と前記基板の被塗布面
   との間隔が上方ほど広がるように前記塗布ノズルを回動
   させるノズル回動手段と、 前記塗布液の粘度および塗布速度のうち少なくとも何れ
   かに応じて、前記前端面を前記基板の被塗布面に対して
   所定角度に傾斜させるように前記塗布ノズル回動手段を
   制御するノズル回動制御手段とを有することを特徴とす
   る塗布ノズルユニット。
3. 【請求項３】 立設した基板の被塗布面に対して、毛管
   現象で塗布液槽から汲み上げられた塗布液を塗布する塗
   布装置において、 前記請求項１または２記載の塗布ノズルユニットと、 前記塗布ノズルと基板を被塗布面に沿って相対移動させ
   る移動手段と、 前記塗布ノズルと基板の被塗布面を接近または離間する
   ように移動させる間隔可変手段と、 前記移動手段および間隔可変手段を駆動制御する駆動制
   御手段とを有することを特徴とする塗布装置。